JP4555638B2 - 薄膜蒸着装置 - Google Patents
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Description
(1)蒸着遮蔽板が二以上設置されていて、該二以上の蒸着遮蔽板が互いに独立に回転運動もしくは揺動運動を行なう。
(2)蒸着遮蔽板の回転運動もしくは揺動運動が、基板平面に平行な平面上の回転運動もしくは揺動運動である。
11 基板
12 基板ホルダ
13 真空槽
14a、14b 蒸着遮蔽板
15 基板ホルダ用の回転軸
16a、16b 薄膜形成用の材料
17 蒸発源
17a 電子銃
17b 容器
18 回転テーブル
19 排気口
20a、20b 遮蔽板用の回転軸
21a 発光素子
21b 受光素子
22 金属板
23 ガス導入口
24 透孔
30 薄膜蒸着装置
34a、34b 蒸着遮蔽板
40 薄膜蒸着装置
41a、41b カサ歯車
44a 蒸着遮蔽板
50a 遮蔽板用の回転軸
Claims (3)
- 基板の中心位置の回りを基板平面に沿って回転するように基板を保持することのできる基板ホルダ、一もしくは二以上の蒸着遮蔽板、そして上記基板ホルダの対向位置に配置された蒸発源を内部に備えた真空槽からなり、上記蒸着遮蔽板がない場合には、上記基板の表面にその中心位置における厚みが厚くなり、中心位置から離れるに従い厚みが薄くなるように薄膜が形成される薄膜蒸着装置であって、
上記蒸着遮蔽板が、基板の半径よりも長い長さを有し、基部から先端部にかけて次第にその幅が広くなる細長い形状にあり、かつ基板が保持される領域の外側に設置された支点により、所定の周期にて先端部が基板の中心位置を覆うように移動する該支点を中心にする回転運動もしくは揺動運動が可能なように設置されていることを特徴とする薄膜蒸着装置。 - 蒸着遮蔽板が二以上設置されていて、該二以上の蒸着遮蔽板が互いに独立に回転運動もしくは揺動運動を行なうことを特徴とする請求項1に記載の薄膜蒸着装置。
- 蒸着遮蔽板の回転運動もしくは揺動運動が、基板平面に平行な平面上の回転運動もしくは揺動運動であることを特徴とする請求項1もしくは2に記載の薄膜蒸着装置。
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