JPH073331B2 - 非球面形状測定装置 - Google Patents
非球面形状測定装置Info
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- JPH073331B2 JPH073331B2 JP63074521A JP7452188A JPH073331B2 JP H073331 B2 JPH073331 B2 JP H073331B2 JP 63074521 A JP63074521 A JP 63074521A JP 7452188 A JP7452188 A JP 7452188A JP H073331 B2 JPH073331 B2 JP H073331B2
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- stage
- output
- displacement sensor
- center
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、凹レンズ,凸レンズ,型等の表面形状検査工
程等で利用する非球面形状測定装置に係わり、特に光変
位センサを用いて被測定物表面の球面および非球面形状
を非接触で測定する非球面形状測定装置の改良に関す
る。
程等で利用する非球面形状測定装置に係わり、特に光変
位センサを用いて被測定物表面の球面および非球面形状
を非接触で測定する非球面形状測定装置の改良に関す
る。
(従来の技術および発明が解決しようとする課題) 従来、レンズ等被測定物の球面または非球面形状を測定
する手段として、干渉計測法、シャリング干渉法と
フリンジスキャニング干渉法とを組合せた測定法、被
測定物からの反射光と参照面からの反射光との干渉を利
用する測定法、光の直進性と反射の法則を利用する測
定法等がある。
する手段として、干渉計測法、シャリング干渉法と
フリンジスキャニング干渉法とを組合せた測定法、被
測定物からの反射光と参照面からの反射光との干渉を利
用する測定法、光の直進性と反射の法則を利用する測
定法等がある。
前記の干渉測定法は、光源からの光を原器および被測
定物へ照射し、そのときの原器の参照面からの反射光波
と被測定物の被測定面からの反射光波を干渉させて得ら
れる干渉縞を解析することにより、被測定面の形状を測
定する方法である。
定物へ照射し、そのときの原器の参照面からの反射光波
と被測定物の被測定面からの反射光波を干渉させて得ら
れる干渉縞を解析することにより、被測定面の形状を測
定する方法である。
次に、前記のシャリング干渉法とフリンジスキャニン
グ干渉法とを組合せたもので、そのうちシャリング干渉
法は被測定面を2分割し、一方の波面を光軸に対して横
ずらしさせ、他方の波面と干渉させる方法である。一
方、フリンジスキャニング干渉法は参照ミラーにピエゾ
素子を取付け、被測定面の光波を用いて参照ミラーの参
照光波の位相を変化させる方法である。前記の測定法
は上記2つの測定法から被測定面の形状を測定するもの
である。
グ干渉法とを組合せたもので、そのうちシャリング干渉
法は被測定面を2分割し、一方の波面を光軸に対して横
ずらしさせ、他方の波面と干渉させる方法である。一
方、フリンジスキャニング干渉法は参照ミラーにピエゾ
素子を取付け、被測定面の光波を用いて参照ミラーの参
照光波の位相を変化させる方法である。前記の測定法
は上記2つの測定法から被測定面の形状を測定するもの
である。
また、前記の測定法は、レーザビームを2分割し、一
方を被測定面に照射し、他方を参照面に照射して、それ
ぞれの反射光を干渉させることにより、被測定面の形状
を測定する方法である。
方を被測定面に照射し、他方を参照面に照射して、それ
ぞれの反射光を干渉させることにより、被測定面の形状
を測定する方法である。
さらに、の光の直進性と反射の法則を利用する方法
は、光ビームの鏡面反射の性質を利用したもので、光ビ
ームを被測定面に入射し、入射方向と入射点における被
測定面の法線方向が一致した場合、反射光ビームは入射
光ビームと同一の光路を戻る性質に基づいた測定法であ
る。すなわち、入射光ビームと反射光ビームとが同一光
路になるように被測定面を移動させその移動量を検出す
ることにより、被測定面の形状を測定するものである。
は、光ビームの鏡面反射の性質を利用したもので、光ビ
ームを被測定面に入射し、入射方向と入射点における被
測定面の法線方向が一致した場合、反射光ビームは入射
光ビームと同一の光路を戻る性質に基づいた測定法であ
る。すなわち、入射光ビームと反射光ビームとが同一光
路になるように被測定面を移動させその移動量を検出す
ることにより、被測定面の形状を測定するものである。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記各測定法のうち、の干渉計測法は
参照面となる原器が必要であるばかりでなく、現実には
非球面形状の参照面を高精度で製作することは非常に難
しく、コスト的にも高いものとなる。また、参照面から
生じる波面と被測定面から生じる波面との偏差が大きく
なると多数の干渉縞を生じ形状解析が困難となる。その
他,鏡面しか測定できず、光学的な粗面の測定は不可能
である。
参照面となる原器が必要であるばかりでなく、現実には
非球面形状の参照面を高精度で製作することは非常に難
しく、コスト的にも高いものとなる。また、参照面から
生じる波面と被測定面から生じる波面との偏差が大きく
なると多数の干渉縞を生じ形状解析が困難となる。その
他,鏡面しか測定できず、光学的な粗面の測定は不可能
である。
その点,上記の測定法は参照面となる原器を必要
としないが、原理的に高い精度が望めないにも拘らず高
精度な移動機構やアライメント機構が必要となり、か
つ、装置全体の光学系が複雑,高価なものとなる。
としないが、原理的に高い精度が望めないにも拘らず高
精度な移動機構やアライメント機構が必要となり、か
つ、装置全体の光学系が複雑,高価なものとなる。
また、被測定面が光学的に粗な場合、上記の測定法
では干渉縞が得られないために測定できない問題があ
り、前記の測定法では入射点で光ビームが散乱するた
めに高精度の測定が不可能である。
では干渉縞が得られないために測定できない問題があ
り、前記の測定法では入射点で光ビームが散乱するた
めに高精度の測定が不可能である。
本発明は以上のような問題点を解決するためになされた
もので、簡素な測定法で球面および非球面形状の高精
度,高速測定を可能とし、かつ、被測定面が粗面状態で
も容易に形状を測定しうる非球面形状測定装置を提供す
ることにある。
もので、簡素な測定法で球面および非球面形状の高精
度,高速測定を可能とし、かつ、被測定面が粗面状態で
も容易に形状を測定しうる非球面形状測定装置を提供す
ることにある。
また、本発明の他の目的は、被測定物を保持して回転す
るθステージの回転軸心が回転角度に依存して周期的に
変動する場合でもその軸心の周期的変動の影響を除去し
て被測定物の形状を正確に測定しうる非球面形状測定装
置を提供することにある。
るθステージの回転軸心が回転角度に依存して周期的に
変動する場合でもその軸心の周期的変動の影響を除去し
て被測定物の形状を正確に測定しうる非球面形状測定装
置を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明による非球面形状測定装置は、上記目的を達成す
るために、原器または被測定物を選択的に装着し、これ
ら原器の参照面および被測定物の被測定面中央部の曲率
中心を回転中心として回転するθステージと、このθス
テージの回転角度を検出する角度検出手段と、前記原器
の参照面又は被測定物の被測定面と対向して配置され原
器又は被測定物の回転に伴って現われる凹凸を検出する
光変位センサと、この光変位センサを前記原器の参照面
又は被測定物の被測定面と対向する回転軸に垂直な方向
に移動させるxステージと、このxステージの移動量を
検出する移動量検出手段と、前記θステージに原器を装
着したときの前記角度検出手段の出力,前記光変位セン
サの出力および前記移動量検出手段の出力からθステー
ジの回転軸心の周期的変動量を取得する回転軸心変動量
検出手段と、前記θステージに被測定物を装着したとき
の前記角度検出手段の出力,前記光変位センサの出力お
よび前記移動量検出手段の出力から被測定物測定面の変
位量を取得する測定面変位量取得手段と、前記回転軸心
変動量検出手段で得られた回転軸心変動量を用いて前記
測定面変位量取得手段で得られた測定面変位量を補正す
る回転軸心変動量補正手段とを備え、前記被測定物の被
測定面の形状を求めるものである。
るために、原器または被測定物を選択的に装着し、これ
ら原器の参照面および被測定物の被測定面中央部の曲率
中心を回転中心として回転するθステージと、このθス
テージの回転角度を検出する角度検出手段と、前記原器
の参照面又は被測定物の被測定面と対向して配置され原
器又は被測定物の回転に伴って現われる凹凸を検出する
光変位センサと、この光変位センサを前記原器の参照面
又は被測定物の被測定面と対向する回転軸に垂直な方向
に移動させるxステージと、このxステージの移動量を
検出する移動量検出手段と、前記θステージに原器を装
着したときの前記角度検出手段の出力,前記光変位セン
サの出力および前記移動量検出手段の出力からθステー
ジの回転軸心の周期的変動量を取得する回転軸心変動量
検出手段と、前記θステージに被測定物を装着したとき
の前記角度検出手段の出力,前記光変位センサの出力お
よび前記移動量検出手段の出力から被測定物測定面の変
位量を取得する測定面変位量取得手段と、前記回転軸心
変動量検出手段で得られた回転軸心変動量を用いて前記
測定面変位量取得手段で得られた測定面変位量を補正す
る回転軸心変動量補正手段とを備え、前記被測定物の被
測定面の形状を求めるものである。
(作用) 従って、本発明装置は、以上のような手段とすることに
より、θステージ上に被測定物を保持した後、基準角度
位置から回転ステージを介して被測定面を回転させなが
ら角度検出手段により回転角度を順次検出する。一方、
光変位センサから被測定面の凹凸信号を取出すと共に前
記移動量検出手段からのセンサの位置信号を取り出す。
そして、前記角度検出手段によって得られた回転角度に
基づいて前記光変位センサの出力および移動量検出手段
の出力を組込んで被測定面の形状を求めるものである。
より、θステージ上に被測定物を保持した後、基準角度
位置から回転ステージを介して被測定面を回転させなが
ら角度検出手段により回転角度を順次検出する。一方、
光変位センサから被測定面の凹凸信号を取出すと共に前
記移動量検出手段からのセンサの位置信号を取り出す。
そして、前記角度検出手段によって得られた回転角度に
基づいて前記光変位センサの出力および移動量検出手段
の出力を組込んで被測定面の形状を求めるものである。
また、本装置は、θステージの回転軸心に回転角度に依
存した周期的な変動がある場合、θステージで原器を保
持して各回転角度に対する光変位センサの出力と移動量
検出手段の出力とを取込んでメモリテーブルに記憶して
補正値とし、引き続き、被測定物の測定データを補正す
ることにより、θステージの回転軸心の変動量の影響を
除去する。
存した周期的な変動がある場合、θステージで原器を保
持して各回転角度に対する光変位センサの出力と移動量
検出手段の出力とを取込んでメモリテーブルに記憶して
補正値とし、引き続き、被測定物の測定データを補正す
ることにより、θステージの回転軸心の変動量の影響を
除去する。
(実施例) 以下、本発明装置の一実施例について第1図ないし第5
図を参照して説明する。第1図は機構部分を模式的に表
わした非球面形状測定装置の全体構成図、第2図は被測
定物の保持機構を示す断面図、第3図(a)は装置の機
構部分をより具体的に示した正面図、同図(b)はその
上面図、第4図は被測定面の変化と光変位置センサの受
光位置との関係図、第5図は光変位センサと移動量検出
手段との関係を説明する図である。
図を参照して説明する。第1図は機構部分を模式的に表
わした非球面形状測定装置の全体構成図、第2図は被測
定物の保持機構を示す断面図、第3図(a)は装置の機
構部分をより具体的に示した正面図、同図(b)はその
上面図、第4図は被測定面の変化と光変位置センサの受
光位置との関係図、第5図は光変位センサと移動量検出
手段との関係を説明する図である。
これらの図において10はフレーム11上に回転可能に載置
されたエアベアリング内蔵式のθステージである。この
θステージ10は、フレーム11の下部に取付けられたパル
スモータ12が回転すると、パルスモータ11の回転軸に直
結されたプーリ13からベルト等の回転伝達部材14を通
り、前記θステージ10よりフレーム11内を貫通してフレ
ーム下側に伸びる回転軸15に直結されたプーリ16に伝達
されて所定角度ずつ、あるいは連続的に回転する構成と
なっている。前記回転軸15にはカップリング17を介して
回転角度検出手段の一部を構成するロータリエンコーダ
18が設けられている。19はθステージ10の出力軸系であ
る。
されたエアベアリング内蔵式のθステージである。この
θステージ10は、フレーム11の下部に取付けられたパル
スモータ12が回転すると、パルスモータ11の回転軸に直
結されたプーリ13からベルト等の回転伝達部材14を通
り、前記θステージ10よりフレーム11内を貫通してフレ
ーム下側に伸びる回転軸15に直結されたプーリ16に伝達
されて所定角度ずつ、あるいは連続的に回転する構成と
なっている。前記回転軸15にはカップリング17を介して
回転角度検出手段の一部を構成するロータリエンコーダ
18が設けられている。19はθステージ10の出力軸系であ
る。
20はθステージ10の出力軸系19に被測定物21を装着する
ための被測定物保持機構である。すなわち、この被測定
物21は、θステージ10の回転時、保持機構20により被測
定面中央部の曲率中心を回転中心として回転するように
保持機構20に保持されている。この保持機構20は、例え
ば第2図に示すように出力軸系19の一側部に被螺子部22
aを外周に設けた保持基体22が取付けられている。この
保持基体22の前面側には被測定物21の外周縁部を挟持し
てなる互いに論理関係にある一対のマウント23,24が配
置され、そのうち内側に位置するマウント23と係合状態
にある環状外体25を前記保持基体22の被螺子部22′へ螺
合させることにより、被測定物21を出力軸系19に所定の
位置関係をもって固定している。なお、保持基体22,マ
ウント23,24の形状,大きさ等は被測定物21の外径およ
び大きさ等に応じて種々変更して用いる。
ための被測定物保持機構である。すなわち、この被測定
物21は、θステージ10の回転時、保持機構20により被測
定面中央部の曲率中心を回転中心として回転するように
保持機構20に保持されている。この保持機構20は、例え
ば第2図に示すように出力軸系19の一側部に被螺子部22
aを外周に設けた保持基体22が取付けられている。この
保持基体22の前面側には被測定物21の外周縁部を挟持し
てなる互いに論理関係にある一対のマウント23,24が配
置され、そのうち内側に位置するマウント23と係合状態
にある環状外体25を前記保持基体22の被螺子部22′へ螺
合させることにより、被測定物21を出力軸系19に所定の
位置関係をもって固定している。なお、保持基体22,マ
ウント23,24の形状,大きさ等は被測定物21の外径およ
び大きさ等に応じて種々変更して用いる。
30は前記フレーム11上にあって前記被測定物21の被測定
面と対向する方向に移動するxステージであって、この
xステージ30上には被測定面と対向する様に光変位セン
サ31が設置されている。32はxステージ30を移動させる
モータである。
面と対向する方向に移動するxステージであって、この
xステージ30上には被測定面と対向する様に光変位セン
サ31が設置されている。32はxステージ30を移動させる
モータである。
前記光変位センサ31は第3図(a)に示すようにその前
面側が上下方向にV字面を形成しており、そのV字面の
一方面部31aからレーザ光を照射し、被測定物21の被測
定面からの反射光および散乱光を他方面部31bで受光す
る例えばレーザ光をプローブとする非接触センサであっ
て、第4図に示すように三角測量法の原理に基づいて被
測定面21aの凹凸状態に伴う距離を検出する機能を持っ
ている。すなわち、光変位センサ31は被測定面21aと光
変位センサ31端面との基準距離が所定距離l0のとき例え
ば出力を零とすると、被測定面21aが図示点線の如く距
離+l〜−lだけ位置を変えたとき、それに応じてリニ
アに+M〜−Mを出力する機能を持っている。
面側が上下方向にV字面を形成しており、そのV字面の
一方面部31aからレーザ光を照射し、被測定物21の被測
定面からの反射光および散乱光を他方面部31bで受光す
る例えばレーザ光をプローブとする非接触センサであっ
て、第4図に示すように三角測量法の原理に基づいて被
測定面21aの凹凸状態に伴う距離を検出する機能を持っ
ている。すなわち、光変位センサ31は被測定面21aと光
変位センサ31端面との基準距離が所定距離l0のとき例え
ば出力を零とすると、被測定面21aが図示点線の如く距
離+l〜−lだけ位置を変えたとき、それに応じてリニ
アに+M〜−Mを出力する機能を持っている。
33はxステージ30のX方向移動量を検出する移動量検出
手段であって、これはXステージ30上に固定されその一
側面に例えば距離の意味をもつバーを所定間隔ごとに表
示するx方向移動信号発生体33aと、Xステージ30とは
別体的に設けられx方向の移動量を検出するx方向移動
量検出体33bとで構成されている。
手段であって、これはXステージ30上に固定されその一
側面に例えば距離の意味をもつバーを所定間隔ごとに表
示するx方向移動信号発生体33aと、Xステージ30とは
別体的に設けられx方向の移動量を検出するx方向移動
量検出体33bとで構成されている。
なお、光変位センサ31と移動量検出手段33の位置関係は
次のようになっている。光変位センサ31のレーザ光の照
射光軸と受光軸とで作る平面上にθステージ10の出力軸
系19が位置する様に配置され、光変位センサ31が基準距
離l0にあって出力変位が零となる点a0の軌跡は出力軸系
19(z)に対して直角方向に移動する。また、z軸19と
点a0との間に距離lmがあるので、この距離相当分を移動
距離として予め移動量検出手段33側にセットしておけ
ば、光変位センサ31の出力と移動量検出手段33の出力と
を加算すれば、被測定物21の形状を表現することができ
る。
次のようになっている。光変位センサ31のレーザ光の照
射光軸と受光軸とで作る平面上にθステージ10の出力軸
系19が位置する様に配置され、光変位センサ31が基準距
離l0にあって出力変位が零となる点a0の軌跡は出力軸系
19(z)に対して直角方向に移動する。また、z軸19と
点a0との間に距離lmがあるので、この距離相当分を移動
距離として予め移動量検出手段33側にセットしておけ
ば、光変位センサ31の出力と移動量検出手段33の出力と
を加算すれば、被測定物21の形状を表現することができ
る。
なお、第1図において41はコントローラ、42はコントロ
ーラ41から駆動指令を受けてパルスモータ12を駆動する
ドライバ、43はロータリエンコーダ18の出力を所要とす
る角度信号に変換する角度検出回路、44は手動操作また
は外部からの信号を受けてドライバ45を介してx方向移
動用モータ32を駆動するコントローラである。46は信号
処理手段であって、角度検出回路43の出力,光変位セン
サ31の出力l1およびx方向移動量検出体33bの出力l2と
を同時に取込み、回転角度ごとに(l1+l2)の演算処理
を行い、かつ、この演算処理結果と曲率半径Rとから形
状偏差を求める演算処理等を行い、この演算処理された
形状偏差は出力装置に出力される。
ーラ41から駆動指令を受けてパルスモータ12を駆動する
ドライバ、43はロータリエンコーダ18の出力を所要とす
る角度信号に変換する角度検出回路、44は手動操作また
は外部からの信号を受けてドライバ45を介してx方向移
動用モータ32を駆動するコントローラである。46は信号
処理手段であって、角度検出回路43の出力,光変位セン
サ31の出力l1およびx方向移動量検出体33bの出力l2と
を同時に取込み、回転角度ごとに(l1+l2)の演算処理
を行い、かつ、この演算処理結果と曲率半径Rとから形
状偏差を求める演算処理等を行い、この演算処理された
形状偏差は出力装置に出力される。
次に、以上のように構成された装置の動作について説明
する。先ず、θステージ10の出力軸系19に保持基体22を
固定させた後、この保持基体22にマウント23,24および
外体25等で保持された被測定物21を保持する。このと
き、被測定面21aの曲率中心がθステージ10の回転中心
に一致するように被測定物21が取付けられる。
する。先ず、θステージ10の出力軸系19に保持基体22を
固定させた後、この保持基体22にマウント23,24および
外体25等で保持された被測定物21を保持する。このと
き、被測定面21aの曲率中心がθステージ10の回転中心
に一致するように被測定物21が取付けられる。
引続き、コントローラ44から駆動指令を出力してx方向
移動用モータ32に駆動することにより、xステージ30を
x方向に移動する。このxステージ30のx方向移動によ
って光変位センサ31の出力が零となる点a0,つまり光変
位センサ31を基準位置に設定する。
移動用モータ32に駆動することにより、xステージ30を
x方向に移動する。このxステージ30のx方向移動によ
って光変位センサ31の出力が零となる点a0,つまり光変
位センサ31を基準位置に設定する。
しかる後、コントローラ41から駆動指令を出力してパル
スモータ12を駆動することにより、基準角度位置からθ
ステージ10を介して被測定物21の被測定面21aを回転す
る。このとき、光変位センサ31のV字面部の一方つまり
照射面部31a側からレーザ光が被測定面21aに照射され、
このときの被測定面21aからの反射光または散乱光を他
方の受光面部31b側で受光する。
スモータ12を駆動することにより、基準角度位置からθ
ステージ10を介して被測定物21の被測定面21aを回転す
る。このとき、光変位センサ31のV字面部の一方つまり
照射面部31a側からレーザ光が被測定面21aに照射され、
このときの被測定面21aからの反射光または散乱光を他
方の受光面部31b側で受光する。
このθステージ10の回転時、信号処理手段46は、ロータ
リエンコーダ18および角度検出回路43から成る回転角度
検出手段からθステージ10の現在位置θr、光変位セン
サ31の出力l1およびx方向移動量検出体33bの出力l1s
を同時に受領してメモリ(図示せず)に記憶し、この一
連の処理をθステージ10が所定角度回転する迄続けられ
る。そして、この信号処理手段46においてθステージ10
の各回転角度θrごとに(l1+l2)の演算を行って被測
定面21aの形状データを得る。しかる後、各位置θrご
との(l1+l2)と曲率半径(基準値)Rごとに基づいて
形状偏差を求めて出力装置へ出力する。
リエンコーダ18および角度検出回路43から成る回転角度
検出手段からθステージ10の現在位置θr、光変位セン
サ31の出力l1およびx方向移動量検出体33bの出力l1s
を同時に受領してメモリ(図示せず)に記憶し、この一
連の処理をθステージ10が所定角度回転する迄続けられ
る。そして、この信号処理手段46においてθステージ10
の各回転角度θrごとに(l1+l2)の演算を行って被測
定面21aの形状データを得る。しかる後、各位置θrご
との(l1+l2)と曲率半径(基準値)Rごとに基づいて
形状偏差を求めて出力装置へ出力する。
従って、以上のような実施例の構成によれば、θステー
ジ10上の保持機構20に保持する被測定物21を、被測定面
21aの曲率中心がθステージ10の回転中心に一致するよ
うに設定し、かつ、光変位センサ31を基準位置に設定
し、この状態でθステージ10を回転させながら、その回
転角度および光変位センサ31の出力およびx方向移動量
検出手段の出力を同時に取込むようにしたので、これら
の信号から被測定面21aの形状を容易に測定でき、しか
も原器なしで測定できる。また、光変位センサ31等の出
力をそのまま用いて被測定面21aの形状を得ることがで
き、信号処理が非常に簡単になる。また、動体的な機構
はθステージ10およびxステージ30のみであり、かつ、
光学的要素が少ないので、従来の原器無しの装置に比べ
て機構および光学系が非常に簡単化できる。また、被測
定面21aを回転させつつ光変位センサ31を用いて三角測
量の原理を用いて測定するので、凸レンズだけでなく、
凹レンズであっても全周の形状を測定でき、かつ、被測
定物21が凹凸形状体であってもその散乱光を受光して容
易に形状を測定できる。
ジ10上の保持機構20に保持する被測定物21を、被測定面
21aの曲率中心がθステージ10の回転中心に一致するよ
うに設定し、かつ、光変位センサ31を基準位置に設定
し、この状態でθステージ10を回転させながら、その回
転角度および光変位センサ31の出力およびx方向移動量
検出手段の出力を同時に取込むようにしたので、これら
の信号から被測定面21aの形状を容易に測定でき、しか
も原器なしで測定できる。また、光変位センサ31等の出
力をそのまま用いて被測定面21aの形状を得ることがで
き、信号処理が非常に簡単になる。また、動体的な機構
はθステージ10およびxステージ30のみであり、かつ、
光学的要素が少ないので、従来の原器無しの装置に比べ
て機構および光学系が非常に簡単化できる。また、被測
定面21aを回転させつつ光変位センサ31を用いて三角測
量の原理を用いて測定するので、凸レンズだけでなく、
凹レンズであっても全周の形状を測定でき、かつ、被測
定物21が凹凸形状体であってもその散乱光を受光して容
易に形状を測定できる。
なお、上記実施例においては、θステージ10上の出力軸
系19に被測定物21を保持する保持機構20を設けたが、例
えば被測定物21の形状,大きさ等によっては被測定物21
の曲率中心とθステージ10の回転中心とが一致しない場
合がある。かかる場合には第6図に示すようにθステー
ジ10上に光変位センサ31と対向する方向x′に移動する
x′ステージ40を設け、このx′ステージ40上に出力軸
系19′を載置する構成とすれば上記曲率中心と回転中心
を一致させることができる。具体的には、θステージ10
上に中間部材41を介して長尺の凹状部材42が載置され、
この凹状部材42の両片に掛け渡されたねじ体43にブロッ
ク44を噛合させる。さらに、このブロック44上に出力軸
系19が設置されている。
系19に被測定物21を保持する保持機構20を設けたが、例
えば被測定物21の形状,大きさ等によっては被測定物21
の曲率中心とθステージ10の回転中心とが一致しない場
合がある。かかる場合には第6図に示すようにθステー
ジ10上に光変位センサ31と対向する方向x′に移動する
x′ステージ40を設け、このx′ステージ40上に出力軸
系19′を載置する構成とすれば上記曲率中心と回転中心
を一致させることができる。具体的には、θステージ10
上に中間部材41を介して長尺の凹状部材42が載置され、
この凹状部材42の両片に掛け渡されたねじ体43にブロッ
ク44を噛合させる。さらに、このブロック44上に出力軸
系19が設置されている。
従って、このような構成にすれば、人為的または外部か
らモータ等によりねじ体43を時計方向または反時計方向
に回転すれば、ブロック44を介して出力軸系19がx′方
向に移動するので、被測定物21の形状,大きさ等が変化
してもその被測定物21の曲率中心とθステージ10の回転
中心とを一致させることが可能である。
らモータ等によりねじ体43を時計方向または反時計方向
に回転すれば、ブロック44を介して出力軸系19がx′方
向に移動するので、被測定物21の形状,大きさ等が変化
してもその被測定物21の曲率中心とθステージ10の回転
中心とを一致させることが可能である。
また、θステージ10上にx′ステージ40を設けて被測定
物21をx′方向に移動させるようにしたが、例えば第6
図に示すように出力軸系19と保持機構20との間にαステ
ージ50を設け、被測定物21の曲率中心と被測定物21の中
心とを結ぶ線を回転中心として被測定物21を回転させれ
ば、第7図(a)の図示矢印方向の駆動に対して同図
(b)のような走査線で被測定面21aを走査することが
可能であり、それだけ測定範囲を拡大できる。
物21をx′方向に移動させるようにしたが、例えば第6
図に示すように出力軸系19と保持機構20との間にαステ
ージ50を設け、被測定物21の曲率中心と被測定物21の中
心とを結ぶ線を回転中心として被測定物21を回転させれ
ば、第7図(a)の図示矢印方向の駆動に対して同図
(b)のような走査線で被測定面21aを走査することが
可能であり、それだけ測定範囲を拡大できる。
更に、他の実施例として、ロータリエンコーダ18,角度
検出回路43から成る角度検出手段を用いてθステージ10
が所定の回転角度に達したときに、第7図の実施例に基
づいてαステージ50を回転させるようにすれば、第8図
のような走査線で被測定物21を走査することができ、第
7図の実施例と同様に被測定物21の走査範囲を拡大でき
る。なお、このとき、αステージ50の回転角度を回転検
出器51で検出し、この角度検出信号を前記信号処理手段
46に送出する必要がある。
検出回路43から成る角度検出手段を用いてθステージ10
が所定の回転角度に達したときに、第7図の実施例に基
づいてαステージ50を回転させるようにすれば、第8図
のような走査線で被測定物21を走査することができ、第
7図の実施例と同様に被測定物21の走査範囲を拡大でき
る。なお、このとき、αステージ50の回転角度を回転検
出器51で検出し、この角度検出信号を前記信号処理手段
46に送出する必要がある。
次に、同じく他の実施例としてオートフォーカスの機能
を設けた例について述べる。一般に、被測定物21の表面
形状が第9図に示すように比較的真円に近く、かつ、被
測定物21の曲率半径とθステージ10の回転中心とが一致
している場合、θステージ10を回転させても被測定物21
の変動が少ないので、オートフォーカスは不要である。
を設けた例について述べる。一般に、被測定物21の表面
形状が第9図に示すように比較的真円に近く、かつ、被
測定物21の曲率半径とθステージ10の回転中心とが一致
している場合、θステージ10を回転させても被測定物21
の変動が少ないので、オートフォーカスは不要である。
しかし、被測定物21の表面形状が設計値に対して大幅に
ずれて凹凸に変化する場合や被測定面の曲率中心とθス
テージの回転中心とがずれてセットされている場合、第
10図の如く測定ポイントの位置が円周方向にずれ、また
高感度の変位センサの測定範囲が飛び出す。
ずれて凹凸に変化する場合や被測定面の曲率中心とθス
テージの回転中心とがずれてセットされている場合、第
10図の如く測定ポイントの位置が円周方向にずれ、また
高感度の変位センサの測定範囲が飛び出す。
そこで、かかる被測定物21の形状測定に際してはオート
フォーカスの機能が必要であり、以下,第11図および第
12図を参照して説明する。なお、第12図において第1図
と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略
する。すなわち、このオートフォーカス手段は、光変位
センサ31の出力側とコントローラ44との間にオートフォ
ーカス回路60を設け、被測定物21の表面形状が第11図の
実線から点線に変化したとき、光変位センサ31の出力と
予め定めた設定値SVとを比較し、この偏差信号をコント
ローラ44へ送出し、xステージ30を後退させて第11図の
点線位置にレーザ光を照射させてセンサ出力を設定値SV
に合せることにより、測定ポイントの位置ずれを無くす
る構成である。
フォーカスの機能が必要であり、以下,第11図および第
12図を参照して説明する。なお、第12図において第1図
と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略
する。すなわち、このオートフォーカス手段は、光変位
センサ31の出力側とコントローラ44との間にオートフォ
ーカス回路60を設け、被測定物21の表面形状が第11図の
実線から点線に変化したとき、光変位センサ31の出力と
予め定めた設定値SVとを比較し、この偏差信号をコント
ローラ44へ送出し、xステージ30を後退させて第11図の
点線位置にレーザ光を照射させてセンサ出力を設定値SV
に合せることにより、測定ポイントの位置ずれを無くす
る構成である。
従って、かかる実施例の構成によれば、オートフォーカ
ス回路60を設け、光変位センサ31の出力を常に所定の値
になるようにxステージ30を移動制御することにより、
光変位センサ31を被測定面21aから常に所定の位置にセ
ットして被測定面21aの状態を測定でき、特に表面形状
の凹凸の変化が大きい場合や被測定物の曲率中心とθス
テージの回転中心がずれている場合でも正確に被測定物
21の形状を測定できる。
ス回路60を設け、光変位センサ31の出力を常に所定の値
になるようにxステージ30を移動制御することにより、
光変位センサ31を被測定面21aから常に所定の位置にセ
ットして被測定面21aの状態を測定でき、特に表面形状
の凹凸の変化が大きい場合や被測定物の曲率中心とθス
テージの回転中心がずれている場合でも正確に被測定物
21の形状を測定できる。
次に、同じく本発明の他の実施例について第12図ないし
第15図を参照して説明する。通常,θステージ10の回転
軸心の回転角度に依存した周期的な変動は、一般に被測
定物21の取付け高さHが低い場合は無視できる値となる
が、Hが高くなるにしたがってその変動量dが大きくな
り、いわゆるゴマスリ現象が発生し、現実のユーザーの
要望としてサブミクロン単位の精度を必要としている場
合にはそのゴマスリ現象が無視できない。
第15図を参照して説明する。通常,θステージ10の回転
軸心の回転角度に依存した周期的な変動は、一般に被測
定物21の取付け高さHが低い場合は無視できる値となる
が、Hが高くなるにしたがってその変動量dが大きくな
り、いわゆるゴマスリ現象が発生し、現実のユーザーの
要望としてサブミクロン単位の精度を必要としている場
合にはそのゴマスリ現象が無視できない。
そこで、本実施例では、θステージ10の出力軸系19に真
円度のでている原器70を取付け可能とし、また信号処理
手段46には原器70を取付けたときの収集データを格納す
るためのメモリテーブル71が接続され、かつ、信号処理
手段46には機能的にはθステージ10に原器70を装着した
ときの前記角度検出手段の出力,前記光変位センサ31の
出力および前記x方向移動量検出体33bの出力を取込ん
でメモリテーブル71に格納する回転軸心変動量検出手段
72と、θステージ10に被測定物21を装着し同様に所要と
する信号を取得する測定面変位量取得手段73と、メモリ
テーブル71の格納データを用いて変動量を補正する回転
軸心変動量補正手段75とを持ったものである。
円度のでている原器70を取付け可能とし、また信号処理
手段46には原器70を取付けたときの収集データを格納す
るためのメモリテーブル71が接続され、かつ、信号処理
手段46には機能的にはθステージ10に原器70を装着した
ときの前記角度検出手段の出力,前記光変位センサ31の
出力および前記x方向移動量検出体33bの出力を取込ん
でメモリテーブル71に格納する回転軸心変動量検出手段
72と、θステージ10に被測定物21を装着し同様に所要と
する信号を取得する測定面変位量取得手段73と、メモリ
テーブル71の格納データを用いて変動量を補正する回転
軸心変動量補正手段75とを持ったものである。
従って、以上のような構成にすれば、先ず、θステージ
10の出力軸系19に原器70を取付けた後、前述同様にθス
テージ10を回転させ、そのときの回転角度をロータリエ
ンコーダ18を介して角度検出回路43で所要の角度信号に
変換した後信号処理手段46へ送出する。一方、光変位セ
ンサ31から原器70の参照面にレーザ光を照射し、その参
照面からの反射光をセンサ受光面で受光する。そして、
信号処理手段46の回転軸心変動量検出手段72において角
度検出手段から出力される回転角度信号,光変位センサ
31の出力およびx方向移動量検出体33bの出力を同時に
取込んで順次メモリテーブル71に格納していく。その結
果、メモリテーブル71にはθステージ10の回転角度θに
対して第15図のような変動量d=f(θ)が得られる。
10の出力軸系19に原器70を取付けた後、前述同様にθス
テージ10を回転させ、そのときの回転角度をロータリエ
ンコーダ18を介して角度検出回路43で所要の角度信号に
変換した後信号処理手段46へ送出する。一方、光変位セ
ンサ31から原器70の参照面にレーザ光を照射し、その参
照面からの反射光をセンサ受光面で受光する。そして、
信号処理手段46の回転軸心変動量検出手段72において角
度検出手段から出力される回転角度信号,光変位センサ
31の出力およびx方向移動量検出体33bの出力を同時に
取込んで順次メモリテーブル71に格納していく。その結
果、メモリテーブル71にはθステージ10の回転角度θに
対して第15図のような変動量d=f(θ)が得られる。
しかる後、θステージ10から原器70を取外し、θステー
ジ10の出力軸系19に保持機構20を介して被測定物21を取
付ける。しかる後、測定面変位量取得手段73において前
述同様にθステージ10の回転角度,光変位センサ31の出
力およびx方向移動量検出体33bの出力を同時に取込
み、この処理を各回転角度ごとに順次繰返しながら所要
とする信号を収集していく。そして、各回転角度ごとに
(l1+l2)なる演算を行う。その後、回転軸心変動量補
正手段74においてその演算結果のデータからメモリテー
ブル71に格納されている原器70のデータを減算しθステ
ージ10の回転軸心の変動量を除去した後、被測定物21の
曲率半径Rから形状偏差を求め、被測定物21の被測定面
21aの形状を得るものである。
ジ10の出力軸系19に保持機構20を介して被測定物21を取
付ける。しかる後、測定面変位量取得手段73において前
述同様にθステージ10の回転角度,光変位センサ31の出
力およびx方向移動量検出体33bの出力を同時に取込
み、この処理を各回転角度ごとに順次繰返しながら所要
とする信号を収集していく。そして、各回転角度ごとに
(l1+l2)なる演算を行う。その後、回転軸心変動量補
正手段74においてその演算結果のデータからメモリテー
ブル71に格納されている原器70のデータを減算しθステ
ージ10の回転軸心の変動量を除去した後、被測定物21の
曲率半径Rから形状偏差を求め、被測定物21の被測定面
21aの形状を得るものである。
従って、この実施例の構成によれば、θステージ10の回
転軸心に変動が生じていても、その軸心の変動の影響を
除去して被測定物21の被測定面21aの形状を正確に測定
できる。
転軸心に変動が生じていても、その軸心の変動の影響を
除去して被測定物21の被測定面21aの形状を正確に測定
できる。
また、θステージ上に被測定物対向側に移動するx′ス
テージを介して被測定物を載置したので、被測定物の形
状,大きさ等に応じて被測定物の曲率中心が変化して
も、この曲率中心とθステージの回転中心を一致させる
ことが可能であり、適宜な形状および大きさの被測定物
の被測定面の形状を測定できる。
テージを介して被測定物を載置したので、被測定物の形
状,大きさ等に応じて被測定物の曲率中心が変化して
も、この曲率中心とθステージの回転中心を一致させる
ことが可能であり、適宜な形状および大きさの被測定物
の被測定面の形状を測定できる。
また、θステージとは別にこのθステージの回転方向と
直交する方向に被測定物を回転することにより、種々の
走査角度で被測定物の被測定面を走査して測定できる。
また、光変位センサの出力が所定値となるように光変位
センサを所定方向に移動させるオートフォーカス手段を
設けたので、被測定面が大きく凹凸に変化している場合
や被測定物の曲率中心とθステージの回転中心がずれて
いる場合でも常に測定ポイントの位置ずれを生じること
なく被測定面の形状を正確に測定できる。
直交する方向に被測定物を回転することにより、種々の
走査角度で被測定物の被測定面を走査して測定できる。
また、光変位センサの出力が所定値となるように光変位
センサを所定方向に移動させるオートフォーカス手段を
設けたので、被測定面が大きく凹凸に変化している場合
や被測定物の曲率中心とθステージの回転中心がずれて
いる場合でも常に測定ポイントの位置ずれを生じること
なく被測定面の形状を正確に測定できる。
なお、本実施例においては必要に応じて上述した種々の
他の実施例例えばθステージ10上にx′ステージ40を設
け、被測定物21の形状,大きさに応じて被測定物21の曲
率中心とθステージ10の回転中心とを一致させるように
x′ステージ40を移動させる構成としてもよい。その
他、本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して
実施できる。
他の実施例例えばθステージ10上にx′ステージ40を設
け、被測定物21の形状,大きさに応じて被測定物21の曲
率中心とθステージ10の回転中心とを一致させるように
x′ステージ40を移動させる構成としてもよい。その
他、本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して
実施できる。
(発明の効果) 以上詳記したように本発明によれば、被測定物を保持し
て被測定面中央部の曲率中心を回転中心としてθステー
ジを回転させながら、そのときの回転角度信号,光変位
センサの出力およびx方向移動量検出手段の出力を取込
んで被測定面の形状を測定するので、複雑な機構および
光学系を必要とせず、かつ、原器を用いることなく被測
定物の被測定面の形状を測定でき、かつ、被測定面が粗
面であっても正確に形状を測定できる。
て被測定面中央部の曲率中心を回転中心としてθステー
ジを回転させながら、そのときの回転角度信号,光変位
センサの出力およびx方向移動量検出手段の出力を取込
んで被測定面の形状を測定するので、複雑な機構および
光学系を必要とせず、かつ、原器を用いることなく被測
定物の被測定面の形状を測定でき、かつ、被測定面が粗
面であっても正確に形状を測定できる。
また、θステージに原器を取付けて所要とするデータを
取得した後、θステージに被測定物を取付けて同様に所
要とするデータを取得する。その後、被測定物設置のデ
ータから原器設置のデータを減算して被測定面の形状を
得るようにしたので、θステージの回転軸心に変動が生
じていれもその影響を受けることなく被測定面の形状を
測定できる。
取得した後、θステージに被測定物を取付けて同様に所
要とするデータを取得する。その後、被測定物設置のデ
ータから原器設置のデータを減算して被測定面の形状を
得るようにしたので、θステージの回転軸心に変動が生
じていれもその影響を受けることなく被測定面の形状を
測定できる。
第1図ないし第5図は本発明に係わる非球面形状測定装
置の一実施例を説明するために示したもので、第1図は
機構部分を模式的に表わした本発明装置の全体構成図、
第2図は被測定物を保持する保持機構の断面図、第3図
(a),(b)は装置の機構部分をより具体的に示す正
面図および上面図、第4図は被測定面の変化と光変位セ
ンサの受光位置関係を説明する図、第5図は光変位セン
サと移動量検出手段との関係を説明する図、第6図は本
発明装置の他の実施例としての被測定物の駆動機構図、
第7図および第8図は同じく本発明装置の他の実施例を
説明する被測定面の走査例を説明する図、第9図ないし
第11図は同じく本発明装置の他の実施例としてのオート
フォーカス手段を説明する図、第12図は本発明装置のさ
らに別の装置全体を示す構成図、第13図ないし第15図は
本発明装置の他の実施例としてのθステージの回転軸心
の変動量を除去するための説明図である。 10…θステージ、12…θステージ回転用モータ、18…ロ
ータリエンコーダ、19…出力軸系、20…保持機構、21…
被測定物、21a…被測定面、30…xステージ、31…光変
位センサ、32…x方向移動用モータ、33…x方向移動量
検出手段、33a…x方向移動信号発生体、33b…x方向移
動量検出体、40…x′ステージ、43…ねじ体、44…コン
トローラ、46…信号処理手段、60…オートフォーカス回
路、70…原器、71…メモリテーブル、72…回転軸心変動
量検出手段、73…測定面変位量取得手段、74…回転軸心
変動量補正手段。
置の一実施例を説明するために示したもので、第1図は
機構部分を模式的に表わした本発明装置の全体構成図、
第2図は被測定物を保持する保持機構の断面図、第3図
(a),(b)は装置の機構部分をより具体的に示す正
面図および上面図、第4図は被測定面の変化と光変位セ
ンサの受光位置関係を説明する図、第5図は光変位セン
サと移動量検出手段との関係を説明する図、第6図は本
発明装置の他の実施例としての被測定物の駆動機構図、
第7図および第8図は同じく本発明装置の他の実施例を
説明する被測定面の走査例を説明する図、第9図ないし
第11図は同じく本発明装置の他の実施例としてのオート
フォーカス手段を説明する図、第12図は本発明装置のさ
らに別の装置全体を示す構成図、第13図ないし第15図は
本発明装置の他の実施例としてのθステージの回転軸心
の変動量を除去するための説明図である。 10…θステージ、12…θステージ回転用モータ、18…ロ
ータリエンコーダ、19…出力軸系、20…保持機構、21…
被測定物、21a…被測定面、30…xステージ、31…光変
位センサ、32…x方向移動用モータ、33…x方向移動量
検出手段、33a…x方向移動信号発生体、33b…x方向移
動量検出体、40…x′ステージ、43…ねじ体、44…コン
トローラ、46…信号処理手段、60…オートフォーカス回
路、70…原器、71…メモリテーブル、72…回転軸心変動
量検出手段、73…測定面変位量取得手段、74…回転軸心
変動量補正手段。
Claims (1)
- 【請求項1】原器(70)または被測定物(21)を選択的
に装着し、これら原器の参照面または被測定物の被測定
面中央部の曲率中心を回転中心として回転するθステー
ジ(10)と、このθステージの回転角度を検出する角度
検出手段(18)と、前記原器の参照面又は被測定物の被
測定面と対向して配置され原器又は被測定物の回転に伴
って現われる凹凸を検出する光変位センサ(31)と、こ
の光変位センサを前記原器の参照面又は被測定物の被測
定面と対向する回転軸に垂直な方向に移動させるxステ
ージ(32)と、このxステージの移動量を検出する移動
量検出手段(33)と、前記角度検出手段の出力,前記光
変位センサの出力および前記移動量検出手段の出力に基
づいて、前記θステージに原器を装着したときの当該θ
ステージの回転軸心の周期的変動量を取得する回転軸心
変動量検出手段(72)と、前記角度検出手段の出力,前
記光変位センサの出力および前記移動量検出手段の出力
に基づいて、前記θステージに被測定物を装着したとき
の当該被測定物測定面の変位量を取得する測定面変位量
取得手段(73)と、前記回転軸心変動量検出手段で得ら
れた回転軸心変動量を用いて前記測定面変位量取得手段
で得られた測定面変位量を補正する回転軸心変動量補正
手段(74)とを備え、前記被測定物の被測定面の形状を
求めることを特徴とする非球面形状測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63074521A JPH073331B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 非球面形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63074521A JPH073331B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 非球面形状測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01250008A JPH01250008A (ja) | 1989-10-05 |
JPH073331B2 true JPH073331B2 (ja) | 1995-01-18 |
Family
ID=13549708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63074521A Expired - Lifetime JPH073331B2 (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 | 非球面形状測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH073331B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7411887B2 (ja) * | 2020-01-28 | 2024-01-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レーザー加工装置、及びレーザー加工装置の焦点制御方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3747219A (en) * | 1971-01-18 | 1973-07-24 | Atomic Energy Commission | Gauging system |
JPH0629714B2 (ja) * | 1985-12-28 | 1994-04-20 | キヤノン株式会社 | 三次元形状測定装置 |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP63074521A patent/JPH073331B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01250008A (ja) | 1989-10-05 |
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