JPH07316081A - ヘキサフルオロ−c4化合物の製造方法 - Google Patents

ヘキサフルオロ−c4化合物の製造方法

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JPH07316081A
JPH07316081A JP13120895A JP13120895A JPH07316081A JP H07316081 A JPH07316081 A JP H07316081A JP 13120895 A JP13120895 A JP 13120895A JP 13120895 A JP13120895 A JP 13120895A JP H07316081 A JPH07316081 A JP H07316081A
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JP
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compound
metal
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carried out
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Pending
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JP13120895A
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English (en)
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Dietmar Bielefeldt
デイートマー・ビーレフエルト
Albrecht Marhold
アルブレヒト・マルホルト
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Bayer AG
Original Assignee
Bayer AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/26Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
    • C07C17/263Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by condensation reactions
    • C07C17/269Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by condensation reactions of only halogenated hydrocarbons

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ヘキサフルオロ−C4化合物の製造方法。 【構成】 トリフルオロエタン化合物を液相中または気
相中で金属および/または金属化合物と接触させること
によってこれらからヘキサフルオロ−C4化合物を製造
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、液相中または気相中でトリフル
オロエタン化合物の脱ハロゲン化的二量化を行うことに
よってヘキサフルオロ−C4化合物を製造する方法に関
するものである。
【0002】ヘキサフルオロブタン類およびヘキサフル
オロブテン類はCFC代替物として重要であると共に殺
虫剤および殺ダニ剤を製造するための中間体として重要
である(例えばドイツ特許出願公開第3 818 69
2号およびヨーロッパ特許出願公開第481 182号
参照)。
【0003】塩化ブタジエン類に気相フッ素置換を受け
させることによってヘキサフルオロクロロブテンを製造
することができることは知られている(ドイツ特許出願
公開第42 12 084号参照)。この方法では、気
相中でフッ化水素と塩素を取り扱う必要があり、これを
行うのは可能であったとしてもかなり多額の工学費用を
必要とする。
【0004】ヘキサフルオロクロロブテン類はまた、
1,1,1−トリフルオロ−2,2−ジクロロエタンの
熱分解を行うことによっても製造可能である(ドイツ特
許出願公開第42 14 739号参照)。これの欠点
は、この方法を高い温度で実施しなくてはならない点で
ある。塩化水素が生じることから、特に熱分解用反応槽
で耐食性材料を用いる必要がある。従って、かなりの工
学費用が必要となる。
【0005】また、パラジウムおよび/またはニッケル
が含まれている支持触媒を用い、CF3−CHal
(Z)2[ここで、Halは塩素または臭素を表し、そ
してZは、それから独立して、水素、塩素または臭素を
表す]型の化合物と水素とを気相中で反応させることで
ヘキサフルオロブタンを得ることも可能である(ドイツ
特許出願公開第42 12 876号参照)。これの欠
点は、その触媒の使用寿命がそれの定性および定量両方
の組成の影響を受けると共にZの影響を受ける点であ
る。従って、その触媒および/または基質を変化させた
場合、再現性のある条件が得られることを立証するのは
困難である。
【0006】ここに、式(I) CF3−A−CF3 (I) [式中、Aは、−CH2−CH2−または−CX=CX−
を表し、そしてXは、各場合とも互いに独立して、水
素、塩素、臭素またはヨウ素を表す]で表されるヘキサ
フルオロ−C4化合物の製造方法を見い出し、これは、
式(II) CF3CXYZ (II) [式中、Xは、上で定義したのと同じであり、そしてY
およびZは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、臭
素またはヨウ素を表すが、置換基X、YおよびZの少な
くとも1つは水素でない]で表されるトリフルオロエタ
ン化合物を液相もしくは気相中で金属および/または金
属化合物と接触させることを特徴としている。
【0007】使用可能な式(II)で表される化合物の
例は、1,1,1−トリフルオロ−2,2,2−トリク
ロロエタン、1,1,1−トリフルオロ−2−クロロエ
タン、1,1,1−トリフルオロ−2,2−ジクロロエ
タン、1,1,1−トリフルオロ−2−ブロモ−2−ク
ロロエタン、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエ
タン、1,1,1−トリフルオロ−2−ブロモエタンお
よび上記化合物の混合物である。
【0008】1,1,1−トリフルオロ−2,2,2−
トリクロロエタンおよび1,1,1−トリフルオロ−
2,2−ジクロロエタンを用いるのが好適である。
【0009】本発明の方法は、例えば−70℃から+2
00℃の温度の液相中および例えば100℃から120
0℃の気相中で実施可能である。0から200℃の液相
中および400から800℃の気相中で行うのが好適で
ある。
【0010】この圧力は例えば0.1ミリバールから3
00バールであってもよく、これは、その望まれている
相を存在させるようにして選択したものである。100
ミリバールから100バールの圧力の液相中および0.
8から5バールの圧力の気相中で行うのが好適であり、
特に大気圧下で行うのが好適である。例えばオートクレ
ーブを用い、その中で反応混合物を適当な温度にしそし
て/または不活性ガス(例えば窒素または貴ガスなど)
でそのオートクレーブを加圧することによって、加圧を
実現化することができる。
【0011】気相の場合、任意に希釈剤を存在させて反
応を実施することができ、そして液相の場合、任意に溶
媒を存在させて反応を実施することができる。適切な溶
媒は、例えば非水系の極性溶媒、例えばニトリル類およ
びエーテル類などであり、特にアセトニトリル、ジグラ
イムおよびトリグライムである。使用する式(II)で
表される化合物1g当たり例えば0.5から20mLの
量で溶媒を用いることができる。
【0012】多様な金属および金属化合物が適切であ
る。第一遷移族、第二主要族および遷移族の金属および
金属化合物、並びに鉄、コバルトおよびニッケルが好適
である。これらの金属は、例えば個別にか、互いに混合
してか、他の金属と混合してか、互いの合金としてか、
或は他の金属との合金として使用可能である。適切な金
属化合物は、例えばハロゲン化物、特に低酸化状態の上
記金属のハロゲン化物である。これらの金属化合物は例
えばそのままか、或は互いに混合してか、他の金属化合
物および/または金属と混合して使用可能である。
【0013】金属に金属化合物を加えた量は、除去すべ
きハロゲン原子1個を基準にして例えば0.1から10
g原子当量であってもよい。この量は好適には0.5か
ら2g原子当量である。
【0014】粉末または微細形態でこの金属および/ま
たは金属化合物を用いるのが有利である。この金属およ
び/または金属化合物を支持材料に取り付けてもよい。
【0015】本発明の方法は任意に超音波の作用下で実
施可能であり、これは特に、液相中および比較的低い圧
力で行う時有利である。
【0016】本発明の方法はバッチ式もしくは連続的に
実施可能である。
【0017】本発明の反応で生じる反応混合物の処理は
例えば分別蒸留などによって実施可能である。本発明の
反応を気相中で実施した場合、その気体状反応混合物を
凝縮させるのが有利である。
【0018】本発明の方法は、特別な工学費用を必要と
せず実施可能であること、触媒および/または基質を変
えた時でも比較的簡単に再現性のある条件を立証するこ
とができること、並びにこの方法を気相中で実施した時
の処理を簡潔な様式で行うことができることなどの利点
を有している。
【0019】
【実施例】実施例1 0.7リットルのエナメル製オートクレーブの中で、1
27gの銅粉を用いて188gのCF3CCl3を180
℃で15時間反応させたが、その時に生じた最大圧力は
41バールであった。ガスクロと一緒に質量分光法を用
いて、その残渣から留出して来る揮発性反応生成物の分
析を行った。これにより、反応混合物にはCF3−CC
l=CCl−CF3(以後DCHFBと呼ぶ)が83重
量%含まれておりそしてまた未反応の出発材料が6重量
%およびクロロフルオロアルカン類が11重量%含まれ
ていることが示された。
【0020】実施例2 0.7リットルのオートクレーブの中に溶媒として入れ
た150mLのアセトニトリルの中で、44gの鉄粉と
一緒に更にFeCl2を2g存在させて、190gのC
3CCl3を100℃で4時間反応させた。その生じた
最大圧力は7バールであった。ガスクロと一緒に質量分
光法を用いて、その残渣から留出して来る揮発性反応生
成物の分析を行った。この生成混合物にはDCHFBが
9重量%および未反応の出発材料が90重量%含まれて
いた。
【0021】実施例3 3リットルのオートクレーブの中で、180℃のジグラ
イム1000mLの中に入っている350gの鉄粉に2
345gのCF3−CCl3を10時間かけてポンプ輸送
した。10から12バールの範囲の圧力蒸留で、その生
じたDCHFBを同時に留出させた。これにより、ガス
クロで測定した純度が92%のDCHFBが287g得
られた。
【0022】実施例4 0.3リットルのオートクレーブの中に溶媒として入れ
た150mLのジグライムの中で、6gの鉄粉と一緒に
FeCl2を2g存在させて、24gのCF3CH2Cl
を180℃で12時間反応させた。その生じた最大圧力
は7バールであった。その残渣から留出して来る揮発性
反応生成物はCF3−CH2−CH2−CF3を38重量%
含んでいた。
【0023】実施例5から8 垂直に配置した加熱可能な石英管に鋼製ウールを200
mL充填した。計量ポンプを用いてCF3CCl3を供給
した。窒素でフラッシュ洗浄した後、個々に示す温度に
おいてその示す量でCF3Cl3を上記石英管に通した。
この石英管から出て来る反応混合物を−78℃で凝縮さ
せた後、水と混和させると、有機相と水相が生じた。そ
の有機相を分離して取り出し、硫酸ナトリウム上で乾燥
させた後、ガスクロで分析を行った。詳細を表1に示
す。
【0024】
【表1】
【0025】実施例9から12 超音波浴の中に入れたガラス製フラスコの中で、各場合
とも微細金属を20g用いて、窒素流の中に入っている
79gのCF3CCl3を38から42℃で反応させた。
この反応時間は各場合とも4時間であった。その後、そ
の反応混合物の固体成分を濾別し、そしてその液相をガ
スクロで分析した。詳細を表2に示す。
【0026】
【表2】
【0027】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。
【0028】1. 式(I) CF3−A−CF3 (I) [式中、Aは、−CH2−CH2−または−CX=CX−
を表し、そしてXは、各場合とも互いに独立して、水
素、塩素、臭素またはヨウ素を表す]で表されるヘキサ
フルオロ−C4化合物の製造方法において、式(II) CF3CXYZ (II) [式中、Xは、上で定義したのと同じであり、そしてY
およびZは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、臭
素またはヨウ素を表すが、置換基X、YおよびZの少な
くとも1つは水素でない]で表されるトリフルオロエタ
ン化合物を液相もしくは気相中で金属および/または金
属化合物と接触させることを特徴とする方法。
【0029】2. −70℃から+200℃の液相中か
或は100℃から1200℃の気相中で実施することを
特徴とする第1項記載の方法。
【0030】3. 100ミリバールから100バール
の液相中か或は0.8から5バールの気相中で実施する
ことを特徴とする第1項または2項記載の方法。
【0031】4. 溶媒存在下の液相中で実施すること
を特徴とする第1から3項いずれか記載の方法。
【0032】5. 該式(II)で表される化合物を、
第一遷移族、第二主要族および/または遷移族の金属お
よび/または金属化合物および/または鉄、コバルトお
よび/またはニッケルに接触させることを特徴とする第
1から4項いずれか記載の方法。
【0033】6. 除去すべきハロゲン原子1個を基準
にして0.1から10g原子当量の金属および/または
金属化合物を用いることを特徴とする第1から5項いず
れか記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 27/128 X C07C 17/269 19/08 // C07B 61/00 300

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I) CF3−A−CF3 (I) [式中、Aは、−CH2−CH2−または−CX=CX−
    を表し、そしてXは、各場合とも互いに独立して、水
    素、塩素、臭素またはヨウ素を表す]で表されるヘキサ
    フルオロ−C4化合物の製造方法において、式(II) CF3CXYZ (II) [式中、Xは、上で定義したのと同じであり、そしてY
    およびZは、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、臭
    素またはヨウ素を表すが、置換基X、YおよびZの少な
    くとも1つは水素でない]で表されるトリフルオロエタ
    ン化合物を液相もしくは気相中で金属および/または金
    属化合物と接触させることを特徴とする方法。
JP13120895A 1994-05-09 1995-05-02 ヘキサフルオロ−c4化合物の製造方法 Pending JPH07316081A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4416326.6 1994-05-09
DE19944416326 DE4416326A1 (de) 1994-05-09 1994-05-09 Verfahren zur Herstellung von Hexafluor-C¶4¶-Verbindungen

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JPH07316081A true JPH07316081A (ja) 1995-12-05

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ID=6517675

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JP13120895A Pending JPH07316081A (ja) 1994-05-09 1995-05-02 ヘキサフルオロ−c4化合物の製造方法

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EP (1) EP0694512A3 (ja)
JP (1) JPH07316081A (ja)
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DE (1) DE4416326A1 (ja)

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EP0694512A2 (de) 1996-01-31
EP0694512A3 (de) 1997-03-19
DE4416326A1 (de) 1995-11-16
CA2148752A1 (en) 1995-11-10

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