JPH07308536A

JPH07308536A - 多管式気液接触装置

Info

Publication number: JPH07308536A
Application number: JP6129602A
Authority: JP
Inventors: Takashi Kimura; 隆志木村; Kazushige Kawamura; 和茂川村; Mamoru Iwasaki; 守岩▲崎▼; Ikurou Kuwabara; 育朗桑原
Original assignee: Chiyoda Corp; Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Current assignee: Chiyoda Corp; Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Priority date: 1994-05-19
Filing date: 1994-05-19
Publication date: 1995-11-28

Abstract

(57)【要約】【目的】下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管
を多数静止液体中に垂設した構造の多管式気液接触装置
において、そのガス噴出孔から液体中へのガス噴出に起
因する液槽内のフロス層の大きな動揺の発生を未然に防
止することのできる装置を提供する。【構成】大型液槽内を縦横に仕切って液槽内に複数の
四辺形状の区画Ａを形成させる仕切部材と、該区画Ａ内
に配設された複数のガス導入用構造物を備え、該ガス導
入用構造物は、ガス導入管と、それを包囲する外筒と、
その外筒をガス導入管に支持させる支持体とからなるこ
とを特徴とする多管式気液接触装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、気体と液体（スラリー
液体を含む）とを接触させる多管式気液接触装置、特に
排煙脱硫装置として好適な多管式気液接触装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】大型液槽内に液体を収容させ、その液体
内に下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数
を垂設し、そのガス導入管内に導入させたガスをガス噴
出孔から液体中に噴出させて気液接触を行わせる装置は
広く知られている（特公昭５５−３７２９５号、特公昭
５７−６３７５号、特公昭５９−１１３２２号等）。

【０００３】図１２に、排煙脱硫装置として用いられて
いる従来の気液接触装置の模式図を示す。図１２におい
て、ＳＯ₂を含む排煙は、ガス導管１０１からガス導入
管１０３を通り、そのガス導入管１０３の下部周壁面に
設けたガス噴出口から炭酸カルシウムや水酸化カルシウ
ム等のカルシウム化合物のスラリー液中に噴出される。
この場合のガス導入管１０３は、図１３又は図１４に示
すように、その下部周壁面に配設されたガス噴出孔１０
４を有する。液槽内のカルシウム化合物のスラリー液中
に噴出された排煙は、そのスラリー液と接触し、排煙中
に含まれるＳＯ₂がカルシウム化合物と反応してＣａＳ
Ｏ₃になる。そして、このＣａＳＯ₃は、液槽下部の空気
導入管１０６から液中に導入された空気中酸素と反応し
てＣａＳＯ₄（石こう）になる。なお、１１２はガス中
の液体を捕捉する気液分離器を示し、１０５は攪拌羽根
を示し、１０８は石こうスラリー抜出管を示す。図１２
に示した排煙脱硫装置は、実際には極めて大型の装置で
あり、その液槽１０２の内径は１０ｍ以上、通常２５ｍ
以上もあり、また、そのガス導入管１０３の数も１，０
００本以上という極めて多い数である。

【０００４】このような気液接触装置においては、ガス
導入管のガス噴出孔からガスを液中に噴出させることか
ら、このことが原因となって、液槽内フロス層（泡沫
層）に全体として定常的で周期的な大きな動揺が生じる
場合がある。そして、そのフロス層の動揺により、液槽
内のフロス層上面が大きく変動するようになる。このフ
ロス層の定常的動揺は、液槽が大型のものになるに従っ
て大きなものとなり、気液接触効率悪化の原因となる等
の問題を生じる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、下部周壁面
にガス噴出孔を有するガス導入管を多数静止液体中に垂
設した構造の多管式気液接触装置において、そのガス噴
出孔から液体中へのガス噴出に起因する液槽内のフロス
層の大きな動揺の発生を未然に防止することのできる装
置を提供することをその課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、大型液槽内を縦横に
仕切って液槽内に複数の四辺形状の区画Ａを形成させる
仕切部材と、該区画Ａ内に配設された複数のガス導入用
構造物を備え、該ガス導入用構造物は、ガス導入管と、
それを包囲する外筒と、その外筒をガス導入管に支持さ
せる支持体とからなることを特徴とする多管式気液接触
装置が提供される。

【０００７】本発明で用いる液槽仕切部材の材質は、金
属の他、プラスチックやセラミック等であることができ
る。また、仕切部材は多孔体（金網や多孔質板等）や、
波板等であることができる。

【０００８】図１に、仕切部材により液槽内を縦横に仕
切って、形成した四辺形状の区画Ａの説明図を示す。図
１（ａ）はその説明平面図、図１（ｂ）は、その要部斜
視図を示す。図１において、１０は液槽壁を示し、３は
仕切部材を示し、Ａは仕切部材３によって形成された区
画Ａを示す。液槽仕切部材３は、所定の高さを有する板
体からなるものであり、その全体は一体に形成された格
子状構造物であることができる。その下端から上端まで
の高さは、１５０〜５００ｍｍ、好ましくは２００〜４
００ｍｍであり、その厚さは１００〜３００ｍｍ、好ま
しくは１５０〜２００ｍｍである。四辺形状の区画Ａに
おける縦／横の長さ比（ｎ／ｍ）は、０．５〜２．０、
好ましくは０．７５〜１．５の範囲にするのがよい。ま
た、区画Ａの縦の長さｎと横の長さｍで形成される四辺
形のうちの長い方の辺の長さｍ又はｎは、０．５〜２
ｍ、好ましくは０．７５〜１．５ｍの範囲にするのがよ
い。本発明においては、区画Ａ内には多数のガス導入用
構造物が配設されるが、その区画Ａ内における数は、通
常、１０〜６０個、好ましくは２０〜４０個、より好ま
しくは２５〜３５個である。仕切部材３の下端はガス導
入用構造物のガス導入管のガス噴出孔と同一レベル又は
その近傍（ガス噴出孔のレベルのやや上方又はやや下
方）あるいはそのガス噴出孔より下方に位置させること
ができる。第１仕切部材３の上端は、後記で詳述するフ
ロス層上面の上方又はフロス層上面と同一レベル又はそ
の近傍（フロス層上面のレベルよりやや上方又はやや下
方）あるいはそのフロス層の上面より下方に位置させる
ことができるが、好ましくはフロス層上面の近傍であ
る。

【０００９】本発明で区画Ａ内に配設するガス導入機構
は、ガス導入管と、それを包囲する外筒と、その外筒を
ガス導入管に支持させる支持体とから構成される。ガス
導入用構造物に用いる外筒としては、液体中に垂設する
ガス導入管に支持させることのできる形状であればよ
く、水平断面形状が円形の他、四角形、三角形等の任意
の形状のものを用いることができる。外筒の材質は、金
属の他、プラスチックやセラミック等であることができ
る。また、外筒は、多孔体（金網や多孔質板、繊維板
等）や、波板等で作成されたものであることができる。

【００１０】図２に、本発明で用いるガス導入用構造物
の一例についての説明図を示す。図２（ａ）はその斜視
図を示し、図２（ｂ）はその水平断面図を示す。図３
に、ガス導入用構造物Ｓの使用状態の説明図を示す。こ
れらの図において、１はガス導入管、２はその下部周壁
面に形成されたガス噴出孔、４は外筒、５は支持体、６
は液槽内の静止液面、７は気泡と液体との混合物からな
るフロス層、８はフロス層の上面を示す。Ｂは外筒４の
内周面とガス導入管１の外周面との間に形成された間隙
部（気泡通過区画）を示す。

【００１１】図２に示されたガス導入用構造物は、外筒
４の内部にガス導入管１を挿入し、その外筒４を支持体
５を介してガス導入管１に支持させて形成した例を示す
ものであり、そのガス導入管１の外周面と外筒４の内周
面との間に気泡通過区画Ｂが形成される。

【００１２】外筒４の下端はガス噴出孔２と同一レベル
又はその近傍に設置され、例えば、図２及び図３に示す
ように、ガス導入管１のガス噴出孔２よりやや上方に位
置するように配設してもよいし、ガス噴出孔２と同一レ
ベル又はそれよりやや下方に位置するように配設しても
よい。外筒４の上端の位置は特に制約されないが、ガス
噴出孔２のレベルからの距離が、ガス導入管１の外径
０．５倍以上、好ましくは１．０倍以上、さらに好まし
くは１．５〜３．０倍の範囲になるように規定するのが
よい。一般的には、外筒４の上端と下端との間の距離
は、５０〜２００ｍｍ程度である。

【００１３】本発明で用いるガス導入用構造物におい
て、その外筒４の横方向の寸法は、その横方向断面積
（外筒４の外周壁面で囲まれる空間の横断面積）のガス
導入管の横断面積（ガス導入管の外周壁面で囲まれる空
間の横断面積）に対する面積比が１．５〜１０．０、好
ましくは２．０〜５．０の範囲になるような寸法であ
る。例えば、外筒が、図２に示すように円筒体からなる
場合、外筒４の外径Ｒ₂は、ガス導入管１の外径Ｒ₁に対
する比（Ｒ₂／Ｒ₁）で１．５〜１０、好ましくは２．０
〜５．０の範囲に規定するのがよい。さらに具体的に
は、図２において、Ｒ₁の外径が１００ｍｍのときに
は、外筒の外径Ｒ₂は、１５０〜２５０ｍｍの範囲に規
定するのがよい。

【００１４】ガス導入用構造物としては、各種の形状の
ものの使用が可能であり、それらの例を図４、図５及び
図６に示す。図４に示したものは、外筒４の周面が垂直
ではなく、円錐台形状の傾斜面に形成されている例を示
す。図５に示したものは、外筒４の上面に、多数の開口
部１２を板面に形成した中央部にガス導入管の挿通孔を
有する板体１１を配設するとともに、その板体１１の外
周端部を外筒４の上端部に接合させ、さらにその板体１
１の中央部に設置したガス導入管の挿通孔の周端部をガ
ス導入管の外周面に接合させた構造のものである。この
場合、外筒４は、板体１１が支持体となり、板体１１を
介してガス導入管１に支持させることができる。なお、
板体１１は、必要に応じ、外筒４の下面にも配設するこ
とができる。開口部１２の開口面積は特に制約されず、
充分広くとることもできる。

【００１５】図６に示したものは、外筒４の上面に、周
面に多数の開口１４を有する円錐台形状の短筒１３を配
設するとともに、その短筒１３の下端部を外筒４の上端
部に接合させ、この短筒１３を支持体１５によりガス導
入管１に支持させた構造を有するものである。なお、短
筒１３は、必要に応じ、外筒４の下面にも配設すること
ができる。図６においては、短筒１３の上端開部の内径
はガス導入管１の外径よりも大きくなっているが、この
開口部は、その内径をガス導入管の外径にほぼ等しくし
て、ガス導入管の外周面に直接接合させることもでき
る。

【００１６】本発明で用いるガス導入用構造物におい
て、外筒４をガス導入管１に支持固定化する方法として
は、任意の方法を採用することができ、特に制約されな
い。例えば、図２に示すように、棒状又は板状の支持体
５を介して筒体４をガス導入管１に支持させることがで
きる他、図５に示すように板体１１を支持体として用
い、この板体１１により支持させることもできる。ま
た、図２において、支持体５の配設位置は、外筒４の上
端部の他、外筒４の下端部、外筒４の上端部と下端部と
の間等であることができる。

【００１７】本発明で用いるガス導入用構造物の作用原
理を図３を参照して示すと、ガス導入管１内にガスを導
入し、そのガスをガス導入管１のガス噴出孔２から噴出
させると、そのガス噴出により生じた微細気泡は、その
噴出後、上方に移動し、外筒４の内周面とガス導入管１
の外周面との間に形成された気泡通過区画Ｂ内に入り、
区画Ｂ内を上昇し、その区画Ｂのガス噴出孔２のレベル
からその上方には気泡と液体の混合物からなるフロス層
７が生じる。図３において、６は、ガス導入管１内にガ
スを導入する以前の静止液面を示し、８は、ガス導入管
１内にガスを導入した後に形成されるフロス層の上面
（膨張液面）を示す。液槽内の液体は、外筒４により形
成される区画Ｂの下端開口部からその区画Ｂ内に吸込ま
れ、区画Ｂ内の気泡とともに上昇し、その区画Ｂの上端
開口部から排出される。液槽内に噴出されたガスは、微
細気泡となって区画Ｂ内及び区画Ｂの上方のフロス層を
上昇する間に液体と効率的に接触する。そして、ガス導
入管１のガス噴出孔２から噴出されたガスの気泡は、区
画Ｂ内に集合され、区画Ｂ内を上昇することから、気泡
の上昇に際して起る液体流の運動エネルギーはその区画
Ｂ内に封止され、他の部分へ伝達することが防止され、
その結果、液槽内のフロス層の大きな動揺の発生が防止
される。

【００１８】本発明で用いるガス導入用構造物におい
て、その外筒４の上端をフロス層上面８より下方、特に
静止液面６より下方に位置させることにより（図３参
照）、その液槽内に形成したフロス層の上部を水平方向
に連絡させることができる。フロス層上部をこのように
して水平方向に連絡させることにより、液体の流動をそ
の１つのガス導入用構造物によって形成された気泡通過
区画Ｂ内のみならず、同様にして他のガス導入用構造物
Ｓによって形成された区画Ｂとの間において行わせるこ
とができるので、液槽内に収容させた液体中に含まれる
溶解成分の濃度を全体的に均一化させることができる。
また、このようにして、フロス層上部を水平方向に連絡
させても、ガス噴出孔付近には外筒４が存在し、ガス噴
出孔からガスが噴出する際に起る液体の急激な流動エネ
ルギーの他の部分への伝達が防止されることから、液槽
内におけるフロス層の大きな動揺の発生は防止される。

【００１９】本発明で用いるガス導入用構造物におい
て、ガス導入管１に配設するガス噴出孔２は、図１２に
示すように、通常、円形であるが、四辺形や三角形等の
他の形状であってもよい。本発明で用いるガス導入用構
造物の場合、ガス噴出孔２からのガス噴出に起因するフ
ロス層の大きな動揺の発生は、その外筒の作用により防
止されているので、ガス噴出孔２の全開孔面積は、従来
の場合に比較して、大きくすることもできる。即ち、ガ
ス噴出孔２の全開孔面積ｎＳ（Ｓはガス噴出孔１個の面
積、ｎはガス噴出孔の数）を、ガス導入管１の水平断面
積に対する面積比で、０．８〜５、好ましくは１．５〜
３の範囲にすることができる。従来のガス噴出孔の場
合、ガス導入管の水平断面積に対するそのガス噴出孔の
全開孔面積比は、通常、０．８以下である。本発明の場
合、この面積比は、従来の場合に比べて大きくすること
が可能で、この場合には、ガス導入管の内圧を同一条件
に保持したときに、より多い量のガスが液中に噴出さ
れ、単位時間当りのガス処理量が高められる。しかも、
本発明の場合、このようにガス流量を高めても、前記し
たように、外筒４の配設により、液槽内のフロス層の大
きな動揺の発生が防止されていることから、気液接触効
率の悪化は防止される。

【００２０】本発明における前記ガス導入管の水平断面
積に対するガス噴出孔２の全開孔面積比の上限は、前記
範囲内に保持するのが好ましく、余りにも大きくなる
と、外筒による大きなフロス層の動揺の発生の防止が困
難になる。また、前記面積比が前記範囲内に保持するの
が好ましく、これにより小さくなると、従来の場合に比
して、ガス流量の格別の向上が得られない。ガス導入管
１に対して従来のガス噴出孔２の全開口面積よりも大き
な全開口面積を与えるガス噴出孔を開設する場合、その
ガス噴出孔の面積と数は、ガス導入管の水平断面積に対
するガス噴出孔の全開孔面積比が前記範囲内になるよう
に行えばよい。このための方法としては、（１）従来の
ガス噴出孔と同じ寸法の孔を、ガス導入管の周壁に横方
向に複数列配設する方法、（２）従来のガス噴出孔と同
じ寸法の孔をガス導入管の周壁に横一列に配設する際
に、その孔の数を増加する方法、（３）ガス導入管の周
壁にガス噴出孔を横一列に配設する際に、その１個当り
の孔の面積を増加する方法等の各種の方法を採用するこ
とができる。本発明においては、前記（３）の方法の採
用が好ましく、この場合には、従来の場合のガス噴出孔
の数と同じでありながら、ガス噴出孔の全開孔面積を高
めることができる。図７（ａ）、（ｂ）に、ガス噴出孔
の形状の具体例を示す。図７に示した形状のガス噴出孔
は、いずれも、その孔面積が従来の円形の孔面積に比較
して増加されている非円形状のものである。即ち、孔の
水平方向の最大長さＲを有する孔の面積が、円形の場合
の面積π（０．５Ｒ）²よりも大きくなっている。従っ
て、従来のガス噴出孔の場合と同じ孔数であり、また、
その水平方向の最大長さが同じでありながら、その全開
孔面積は増加されたものとなっている。

【００２１】本発明により区画Ａ内に配設するガス導入
用構造物は、任意の方法で液槽内に支持させることがで
きる。例えば、その液槽内の静止液面上方又は液面下に
支持体を配設し、これに支持させることができる他、液
槽内にガス導入管を支持させるために格子状に配設され
た支持体に支持させることができる。

【００２２】本発明で用いるガス導入用構造物Ｓは、こ
れを図８に示す格子状支持体Ｇに支持させた後、仕切部
材３に支持させることができる。格子状支持体Ｇは、ガ
ス導入管を支持固定化する支持部１６と、この支持部間
を連結する板体部１７とから構成される。図８及び図９
に、ガス導入用構造物Ｓを格子状支持体Ｇを介して仕切
部材３に支持させた場合の説明図を示す。図８は、ガス
導入用構造物Ｓを格子状支持体Ｇを介して仕切部材３に
支持させた場合の説明図である。

【００２３】図１０は区画Ａ内の説明平面図を示すもの
である。図１０における３（１）〜３（４）は液槽第１
仕切部材であるが、この仕切部材としては、従来の気液
接触装置において、図８に示す格子状のガス導入管支持
体Ｇを支持するために液槽内に縦横に配設されているメ
インビーム、マイナービーム及び補助ビームを用いるこ
とができる。例えば、仕切部材３（１）としては、メイ
ンブームを、第１仕切部材３（２）として補助ビーム
を、仕切部材３（３）及び３（４）としてマイナーブー
ムを用いることができる。

【００２４】本発明の気液接触装置の使用状態の説明図
を図１１に示す。図１１（ａ）は平面図、１１（ｂ）は
縦断面図を示す。図１１において、ガス導入用構造物Ｓ
におけるガス導入管１内にガスを導入し、そのガスをガ
ス導入管１のガス噴出孔２から噴出させると、そのガス
噴出により生じた微細気泡は、その噴出後、上方に移動
し、外筒４の内面とガス導入管１の外周面との間に形成
された区画Ｂ内に入り、区画Ｂ内を上昇し、その区画Ｂ
のガス噴出孔２のレベルからその上方には気泡と液体の
混合物からなるフロス層７が生じ、そのフロス層の上面
は静止液面より上方に位置するようになる。図１１にお
いて、６は、ガス導入管１内にガスを導入する以前の静
止液面を示し、８は、ガス導入管１内にガスを導入した
後に形成されるフロス層の上面（膨張液面）を示す。液
槽内の液体は、ガス導入用構造物Ｓの外筒４で形成され
る区画Ｂの下端開口部からその区画Ｂ内に吸込まれ、区
画Ｂ内の気泡とともに上昇し、その区画Ｂの上端開口部
から排出される。液槽内に噴出されたガスは、微細気泡
となって区画Ｂ内及びその区画Ｂの上方を上昇する間に
液体と効率的に接触する。そして、ガス導入管１のガス
噴出孔２から噴出されたガスの気泡は、区画Ｂ内に集合
され、区画Ｂ内を上昇することから、気泡の上昇に際し
て起る液体流の運動エネルギーはその区画Ｂ内に封止さ
れ、他の部分へ伝達することが防止され、その結果、液
槽内のフロス層の大きな動揺の発生が防止される。さら
に、液槽内は仕切部材３により縦横に仕切られ、液槽内
には多数の区画Ａが形成されているため、区画Ｂの外部
へ拡散された液体流の運動エネルギーは、この区画Ａ内
に封止され、他の区画Ａに伝達することが防止される。
即ち、液槽内のフロス層の大きな同様の発生は、この仕
切部材３によっても効果的に防止される。

【００２５】本発明の気液接触装置において、ガス導入
用構造物の外筒４の上端をガス噴出孔２とフロス層上面
８との中間部に位置させるときには、その液槽内のフロ
ス層の上部を水平方向に連絡させることができる。フロ
ス層の上部をこのようにして水平方向に連絡させること
により、フロス層の流動をその１つの区画Ｂ内のみなら
ず、他の区画Ｂとの間において行わせることができるの
で、液槽内に収容させた液体中に含まれる溶解成分の濃
度を全体的に均一化させることができる。また、このよ
うにして、フロス層上部を水平方向に連絡させても、ガ
ス噴出孔付近には外筒４が存在し、ガス噴出孔からガス
が噴出する際に起る液体の急激な流動エネルギーの他の
部分への伝達が防止されることから、液槽内におけるフ
ロス層の大きな動揺の発生は防止される。

【００２６】

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。

【００２７】比較例１排煙脱硫装置として従来一般に用いられている内径９．
８ｍの石灰石こう法多管式排煙脱硫装置において、石炭
燃焼ボイラーより排出される亜硫酸ガス（ＳＯ₂）５５
０ｐｐｍを含有する排煙を処理したところ、出口ＳＯ₂
濃度２６ｐｐｍ（脱硫率９５．２％）が得られたが、こ
の場合には、フロス層に約３．４秒周期の動揺現象が観
察された。

【００２８】実施例１比較例１で示した装置において、本発明の装置を得るた
めに、その仕切部材としてその装置内に配設されている
ビーム（高さ２８０ｍｍ、厚さ１５０ｍｍ）をそのまま
用いた。これにより、装置内には合計３３個の区画Ａが
形成された。次に、この区画Ａ内に、図２に示すガス導
入用構造物Ｓを、図８に示す格子状ガス導入管支持体Ｇ
に支持固定化し、これを図９に示すようにしてビーム３
に支持させた。この場合、図８に示す格子状ガス導入管
支持体Ｇにおける板体部１７の下端から上端までの高さ
は１００ｍｍであった。また、この実施例において用い
たガス導入用構造物Ｓにおいて、その外筒４の内径は２
００ｍｍ、その高さは１５０ｍｍであり、その下端は、
ガス噴出孔２のレベルからの高さで３０ｍｍであった。
ガス導入管１の外径は１００ｍｍであった。このように
して形成された本発明装置を用い、比較例１と同様にし
て排煙を処理したところ、この場合にはフロス層の動揺
の発生は完全に防止され、それとともに、脱硫率も９
７．４％と向上し、出口ＳＯ₂濃度は１４ｐｐｍと減少
した。

【００２９】

【発明の効果】本発明によれば、液槽内を仕切部材３に
より仕切って区画Ａを形成するとともに、その区画Ａ内
にガス導入用構造物Ｓを配設したことから、ガス導入管
のガス噴出孔から液体中にガスを噴出させる際に起る液
体の急激な流動エネルギーは、ガス導入用構造物の外筒
４内及び区画Ａ内に封止され、その液体の流動エネルギ
ーが他の区画に伝達されることが非常に少なくなり、そ
の結果、液槽内での大きなフロス層の動揺の発生が防止
される。従来の気液接触装置においては、各ガス導入管
のガス噴出孔から液体中にガスを噴出させる際に起る液
体の各流動エネルギーは、仕切部材が存在しないことか
ら、相互に干渉しあって、全体として定常的で周期的な
大きなフロス層の動揺を生じさせ、フロス層上面を変動
させて気液接触効率の悪化を生じさせるが、本発明の場
合には、このような問題は一挙に解決される。その上、
ガス導入用構造物における外筒４とガス導入管１との間
区画Ｂにおいては、噴出ガスによるリフト効果が得られ
るため、その区画Ｂ内にはガス導入管の下方に存在する
新鮮な液体が上方にすい込まれ、区画Ｂ内で気泡と混合
されるという利点がある。本発明の気液接触装置は、各
種の気液接触を伴う反応装置として利用され、例えば、
亜硫酸ガスを含む排ガスと炭酸カルシウムや水酸化カル
シウム等のカルシウム化合物のスラリー液等のアルカリ
性液体との接触を行う排煙脱硫装置や、炭酸ガスを含む
排ガスとアルカリ性液体との接触を行う脱炭酸ガス装置
等として好ましく適用される。特に、本発明の装置は、
液槽の直径が１０ｍ以上、特に２０ｍ以上という大型の
排煙脱硫装置として有利に用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】仕切部材により形成される区画Ａの１例につい
ての説明図を示す。ａ：平面図ｂ：要部斜視図

【図２】ガス導入用構造物の１例についての説明図を示
す。ａ：斜視図ｂ：水平断面図

【図３】ガス導入用構造物の使用状態の説明図を示す。

【図４】ガス導入用構造物の変更図を示す。

【図５】ガス導入用構造物の他の変更図を示す。

【図６】ガス導入用構造物のさらに他の変更例を示す。

【図７】ガス噴出孔の形状説明図を示す。

【図８】ガス導入用構造物を支持固定化するための格子
状支持体の斜視図を示す。

【図９】ガス導入用構造物を仕切部材に支持させた場合
の説明図を示す。

【図１０】図９に示した区画Ａ内の説明平面図を示す。

【図１１】本発明の気液接触装置の使用状態の説明図を
示す。ａ：平面図、ｂ：縦断面図

【図１２】排煙脱硫装置として用いられている従来の気
液接触装置の模式図を示す。

【図１３】ガス導入管の１例についての構造説明図を示
す。

【図１４】ガス導入管の他の例についての構造説明図を
示す。

【符号の説明】

１、１０３ガス導入管２、１０４ガス噴出孔３仕切部材４外筒５、１５支持体６静止液面７フロス層８フロス層の上面１０液槽周壁１１板体１２開口部１３短筒１０１ガス導管１０２液槽１０５攪拌羽根１０６空気導入管１０８石こうスラリー抜出管Ｓガス導入用構造物Ｇガス導入用構造物を支持固定化させるための格子状
支持体Ａ仕切部材により形成される区画Ｂガス導入用構造物の外筒の内周面とガス導入管の外
周面との間に形成される区画

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ０１Ｄ 53/77 Ｂ０１Ｊ 10/00 １０４ 8822−4Ｇ (72)発明者岩▲崎▼ 守神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番１号千代田化工建設株式会社内 (72)発明者桑原育朗神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番１号千代田化工建設株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】大型液槽内を縦横に仕切って液槽内に複
数の四辺形状の区画Ａを形成させる仕切部材と、該区画
Ａ内に配設された複数のガス導入用構造物を備え、該ガ
ス導入用構造物は、ガス導入管と、それを包囲する外筒
と、その外筒をガス導入管に支持させる支持体とからな
ることを特徴とする多管式気液接触装置。
【請求項２】仕切部材の上端が液槽内に形成されるフ
ロス層の上面近傍に位置し、その下端がガス導入管のガ
ス噴出孔近傍に位置する請求項１の装置。
【請求項３】仕切部材により形成される区画Ａの縦／
横の長さ比が０．５〜２．０の範囲にある請求項１又は
２の装置。
【請求項４】仕切部材が格子状構造物からなる請求項
１〜３のいずれかの装置。