JPH07194929A

JPH07194929A - 多管式気液接触装置

Info

Publication number: JPH07194929A
Application number: JP5354248A
Authority: JP
Inventors: Takashi Kimura; 隆志木村; Kazushige Kawamura; 和茂川村; Mamoru Iwasaki; 守岩▲崎▼
Original assignee: Chiyoda Corp; Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Current assignee: Chiyoda Corp; Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Priority date: 1993-12-31
Filing date: 1993-12-31
Publication date: 1995-08-01

Abstract

(57)【要約】【目的】下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管
を多数静止液体中に垂設した構造の多管式気液接触装置
において、そのガス噴出孔から液体中へのガス噴出に起
因する液槽内フロス層の大きな動揺の発生を未然に防止
することのできる装置を提供する。【構成】大型液槽内に下部周壁面にガス噴出孔を有す
るガス導入管の多数をそのガス噴出孔が液槽内静止液面
より下方に位置する気液接触装置において、液槽内を縦
横に仕切って液槽内に複数の区画Ａを形成させる第１仕
切部材と、その区画Ａ内に存在するガス導入管に支持さ
れ、区画Ａ内に複数の区画Ｂを形成させる第２仕切部材
を備えることを特徴とする多管式気液接触装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、気体と液体（スラリー
液体を含む）とを接触させる多管式気液接触装置、特に
排煙脱硫装置として好適な多管式気液接触装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】大型液槽内に液体を収容させ、その液体
内に下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数
を垂設し、そのガス導入管内に導入させたガスをガス噴
出孔から液体中に噴出させて気液接触を行わせる装置は
広く知られている（特公昭５５−３７２９５号、特公昭
５７−６３７５号、特公昭５９−１１３２２号等）。

【０００３】図９に、排煙脱硫装置として用いられてい
る従来の気液接触装置の模式図を示す。図９において、
ＳＯ₂を含む排煙は、ガス導管１０１からガス導入管１
０３を通り、そのガス導入管１０３の下部周壁面に設け
たガス噴出口から炭酸カルシウムや水酸化カルシウム等
のカルシウム化合物のスラリー液中に噴出される。この
場合のガス導入管１０３は、図１０又は図１１に示すよ
うに、その下部周壁面に配設されたガス噴出孔１０４を
有する。液槽内のカルシウム化合物のスラリー液中に噴
出された排煙は、そのスラリー液と接触し、排煙中に含
まれるＳＯ₂がカルシウム化合物と反応してＣａＳＯ₃に
なる。そして、このＣａＳＯ₃は、液槽下部の空気導入
管１０６から液中に導入された空気中酸素と反応してＣ
ａＳＯ₄（石こう）になる。なお、１１２はガス中の液
体を捕捉する気液分離器を示し、１０５は攪拌羽根を示
し、１０８は石こうスラリー抜出管を示す。図９に示し
た排煙脱硫装置は、実際には極めて大型の装置であり、
その液槽１０２の内径は１０ｍ以上、通常２５ｍ以上も
あり、また、そのガス導入管１０３の数も１，０００本
以上という極めて多い数である。

【０００４】このような気液接触装置においては、ガス
導入管のガス噴出孔からガスを液中に噴出させることか
ら、このことが原因となって、液槽内フロス層（泡沫
層）に全体として定常的で周期的な大きな動揺が生じる
場合がある。そして、そのフロス層の動揺により、液槽
内のフロス層上面が大きく変動するようになる。このフ
ロス層の定常的動揺は、液槽が大型のものになるに従っ
て大きなものとなり、気液接触効率悪化の原因となる等
の問題を生じる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、下部周壁面
にガス噴出孔を有するガス導入管を多数静止液体中に垂
設した構造の多管式気液接触装置において、そのガス噴
出孔から液体中へのガス噴出に起因する液槽内フロス層
の大きな動揺の発生を未然に防止することのできる装置
を提供することをその課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、大型液槽内に下部周
壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数をそのガス
噴出孔が液槽内静止液面より下方に位置する気液接触装
置において、液槽内を縦横に仕切って液槽内に複数の区
画Ａを形成させる第１仕切部材と、その区画Ａ内に存在
するガス導入管に支持され、区画Ａ内に複数の区画Ｂを
形成させる第２仕切部材を備えることを特徴とする多管
式気液接触装置が提供される。

【０００７】本発明で用いる第１及び第２仕切部材の材
質は、金属の他、プラスチックやセラミック等であるこ
とができる。また、仕切部材は多孔体（金網や多孔質板
等）や、波板等であることができる。

【０００８】図１に、第１仕切部材により液槽内を縦横
に仕切って、形成した区画Ａの説明図を示す。図１
（ａ）はその説明平面図、図１（ｂ）は、その要部斜視
図を示す。図１において、１０は液槽壁を示し、３は第
１仕切部材を示し、Ａは仕切部材３によって形成された
区画（区画Ａ）を示す。図１（ｂ）における１はガス導
入管を示し、２はガス噴出孔を示す。第１仕切部材３
は、所定の高さを有する板体からなるものであり、その
全体は一体に形成された格子状構造物であることができ
る。その下端から上端までの高さは、１５０〜５００ｍ
ｍ、好ましくは２００〜４００ｍｍであり、その厚さは
１００〜３００ｍｍ、好ましくは１５０〜２００ｍｍで
ある。四辺形状の区画Ａにおける縦／横の長さ比（ｎ／
ｍ）は、０．５〜２．０、好ましくは０．７５〜１．５
の範囲にするのがよい。また、区画Ａの縦の長さｎと横
の長さｍで形成される四辺形のうちの長い方の辺の長さ
ｍ又はｎは、０．５〜２ｍ、好ましくは０．７５〜１．
５ｍの範囲にするのがよい。区画Ａ内には多数のガス導
入管が存在し、その数は、通常、１０〜６０個、好まし
くは２０〜４０個、より好ましくは２５〜３５個であ
る。第１仕切部材３の下端はガス導入管１のガス噴出孔
２と同一レベル又はその近傍（ガス噴出孔２のレベルの
やや上方又はやや下方）あるいはそのガス噴出孔２より
下方に位置させることができる。第１仕切部材３の上端
は、後記で詳述するフロス層上面の上方又はフロス層上
面と同一レベル又はその近傍（フロス層上面のレベルよ
りやや上方又はやや下方）あるいはそのフロス層の上面
より下方に位置させることができるが、好ましくはフロ
ス層上面の近傍である。

【０００９】第２仕切部材は、図１に示した区画Ａ内
を、それより小さな複数の区画Ｂにさらに仕切るための
ものであり、この第２仕切部材はガス導入管に支持固定
化される。図２に、第２仕切部材により形成される区画
Ａの一例についての説明図を示す。図２（ａ）はその斜
視図を示し、図２（ｂ）はその水平断面図を示す。図３
に、第２仕切部材により形成される区画Ｂの他の例につ
いての説明図を示す。図３（ａ）はその斜視図を示し、
図３（ｂ）はその水平断面図を示す。図４に、第２仕切
部材により形成される区画Ｂのさらに他の例についての
水平断面図を示す。図５に、第２仕切部材を用いて形成
した区画Ｂ内にガス噴出孔２からガスを噴出させてフロ
ス層を形成させた場合の説明状態図を示す。図５（ａ）
はその水平断面図を示し、図５（ｂ）は、図５（ａ）の
Ｂ−Ｂ断面図を示す。

【００１０】これらの図において、１、１’はガス導入
管、２はその下部周壁面に形成されたガス噴出孔、１３
は第２仕切部材、４は液槽内の静止液面、５は液槽内の
フロス層の上面（膨張液面）、６はガス噴出孔２のレベ
ルからその上方に形成されたフロス層を示す。Ｂは第２
仕切部材によって形成された区画Ｂを示す。

【００１１】図２に示された区画Ｂは、板状の第２仕切
部材１３を隣接するガス導入管１の間に配設し、ガス導
入管１に支持させて形成した例を示すものであり、４個
のガス導入管に支持された４個の第２仕切部材１３によ
って１つの区画Ｂが形成される。図３に示された区画Ｂ
は、あらかじめ４枚羽根を有するように作製した第２仕
切部材１３を４個のガス導入管で形成される４辺形の中
心部に配置し、その羽根の先端を隣接するガス導入管１
に支持させて形成した例であり、その４枚の羽根によっ
て１つの区画Ｂが形成される。図４は、第２仕切部材１
３によって包囲される区画Ｂ内に、第２仕切部材が支持
されていない独立したガス導入管１’が存在する例を示
す。

【００１２】第２仕切部材１３は、区画Ａにおける仕切
壁を構成し、図２に示すように板体であることができる
他、図３に示すようにあらかじめ作製された板体構造物
等であることができる。この第２仕切部材１３の下端
は、ガス導入管１のガス噴出孔２と同一レベル又はその
近傍（ガス噴出孔２のレベルよりやや上方又はやや下
方）もしくは下方に位置するように配設する。第２仕切
部材１３の上端の位置はフロス層の上方、フロス層面と
同一レベル又はその近傍、ガス噴出孔２とフロス層との
中間部、即ち、ガス噴出孔２とフロス層上面との間の任
意の位置、例えば、装置運転開始前の静止液面４とフロ
ス層上面５との間、静止液面４の近傍、あるいはガス噴
出孔２と静止液面４との間の中間部（図５参照）、ガス
噴出孔２とフロス層上面５との間の中央部等の位置に配
設することができる。図５に示すように、第２仕切部材
１３の上端をガス噴出孔２と静止液面４との間に配置し
た場合、第２仕切部材１３の上端は、ガス噴出孔２のレ
ベルからの高さが、ガス噴出孔２と静止液面４との間の
距離に対して、２５〜１００％、好ましくは４０〜８５
％になるように位置させるのがよい。一般的には、その
上端は、ガス噴出孔２のレベルからの高さで、５〜５０
ｃｍ、好ましくは１０〜３０ｃｍである。第２仕切部材
１３の下端をガス噴出孔２よりやや上方に位置させる場
合、その下端の位置は、ガス噴出孔２のレベルからの高
さで７．５ｃｍ以下、好ましくは０〜５ｃｍの範囲に規
定するのがよい。区画Ｂの横断面積を小さくすれば、区
画Ｂ内での噴出ガスによるリフト効果が大きくなり、液
体を区画内にすい込み上昇させる効果も大きくなり、液
体の循環もよくなり、液体の攪拌動力の節約にもなる。

【００１３】図４においては、第２仕切部材１３を用い
て形成した区画Ｂ内に第２仕切部材と接続していない独
立したガス導入管の１本を存在させた例を示したが、そ
の区画Ｂ内には独立したガス導入管の複数本を存在させ
ることができる。この種の気液接触装置は大型のもの
で、液槽内に配設されるガス導入管は数千本と極めて多
数である。本発明では、区画Ｂ内には、これらの独立し
たガス導入管１’の複数本、例えば、２〜１６本、好ま
しくは４〜９本を存在させることができる。

【００１４】本発明により区画Ａ内に配設する第２仕切
部材１３は、任意の方法で液槽内に支持させることがで
きる。例えば、その液槽内の静止液面上方又は液面下に
支持体を配設し、これに支持させることができる他、液
槽内にガス導入管を支持させるために格子状に配設され
た支持体に支持させることができる。従来の気液接触装
置においては、液面上方にガス導入管を支持させるため
に配設された格子状の支持体が配設され、この格子状支
持体は図６に示すように、ガス導入管を支持固定化する
ガス導入管支持部１１と、その支持部間を連結する板体
部１２とから構成されている。本発明では、この格子状
のガス導入管支持体をフロス層内下方に配設し、これに
ガス導入管を支持させるときには、その４個の板体部１
２が本発明で用いる第２仕切部材の役割を果たし、本発
明による区画Ｂが形成される。従って、本発明による区
画Ｂは、従来の装置に用いられているガス導入管支持体
をフロス層内下方に配設することによっても形成するこ
とができる。

【００１５】本発明で用いる第２仕切部材１３は、第１
仕切部材３に支持させることができ、これによってガス
導入管も同時に固定化させることができる。図７及び図
８にこの場合の説明図を示す。図７は、第２仕切部材１
３を第１仕切部材３に支持させた場合の説明図である。
この図において、１４は、第２仕切部材１３を第１仕切
部材３に支持固定化させる支持体である。この支持体１
４は、その下端が第２仕切部材１３に接合され、その上
端が、直角に屈曲されており、その屈曲部を第１仕切部
材３の上端面に載置することにより支持体１３を支持さ
せるものである。

【００１６】図８は区画Ａ内の説明平面図を示すもので
ある。図８における３（１）〜３（４）は第１仕切部材
であるが、この第１仕切部材としては、従来の気液接触
装置において、図６に示す格子状のガス導入管支持体を
支持するために液槽内に縦横に配設されているメインビ
ーム、マイナービーム及び補助ビームを用いることがで
きる。例えば、第１仕切部３（１）としては、メインブ
ームを、第１仕切部材３（２）として補助ビームを、第
１仕切部材３（３）及び３（４）としてマイナーブーム
を用いることができる。また、第２仕切部材１３として
は、同じく従来の気液接触装置に配置されている図６に
示す格子状のガス導入管支持体を用いることができる。
この場合、その格子状のガス導入管支持体は、図７に示
すように、その上端がビームからなる第１仕切部材３
（１）〜３（４）の下端と同一レベル又はその近傍ある
いはそれより下方に位置させることが必要であり、従来
のように、ビームの上面に位置させてもフロス層の大き
な動揺の発生を防止することはできない。第２仕切部材
１３は、好ましくは、その下端がガス導入管のガス噴出
孔２と同一レベル又はその近傍に位置するように配設す
ることができる。なお、液槽内に縦横に配設されている
各ビームは、いずれも、それ全体が液槽内に形成される
フロス層内に完全に位置するか、その高さの少なくとも
５０％以上は確実にフロス層内に位置し、本発明におい
て用いる第１仕切部材３としての機能を充分に果たすこ
とが確認されている。

【００１７】本発明の気液接触装置の原理を図５を参照
して示すと、ガス導入管１内にガスを導入し、そのガス
をガス導入管１のガス噴出孔２から噴出させると、その
ガス噴出により生じた微細気泡は、その噴出後、上方に
移動し、第２仕切部材１３で形成された区画Ｂ内に入
り、区画Ｂ内を上昇し、その区画Ｂのガス噴出孔２のレ
ベルからその上方には気泡と液体の混合物からなるフロ
ス層６が生じ、そのフロス層の上面は静止液面より上方
に位置するようになる。図５において、４は、ガス導入
管１内にガスを導入する以前の静止液面を示し、５は、
ガス導入管１内にガスを導入した後に形成されるフロス
層の上面（膨張液面）を示す。液槽内の液体は、第２仕
切部材１３により形成される区画Ｂの下端開口部からそ
の区画Ｂ内に吸込まれ、区画Ｂ内の気泡とともに上昇
し、その区画Ｂの上端開口部から排出される。液槽内に
噴出されたガスは、微細気泡となって区画Ｂ内及びその
区画Ｂの上方を上昇する間に液体と効率的に接触する。
そして、ガス導入管１のガス噴出孔２から噴出されたガ
スの気泡は、区画Ｂ内に集合され、区画Ｂ内を上昇する
ことから、気泡の上昇に際して起る液体流の運動エネル
ギーはその区画Ｂ内に封止され、他の部分へ伝達するこ
とが防止され、その結果、液槽内のフロス層の大きな動
揺の発生が防止される。

【００１８】本発明の気液接触装置において、第２仕切
部材１３の上端をガス噴出孔２とフロス層上面２との中
間部に位置させるときには（図５参照）、その液槽内の
フロス層の上部を水平方向に連絡させることができる。
フロス層の上部をこのようにして水平方向に連絡させる
ことにより、フロス層の流動をその１つの区画Ｂ内のみ
ならず、他の区画Ｂとの間において行わせることができ
るので、液槽内に収容させた液体中に含まれる溶解成分
の濃度を全体的に均一化させることができる。また、こ
のようにして、フロス層上部を水平方向に連絡させて
も、ガス噴出孔付近には仕切部材による仕切壁が存在
し、ガス噴出孔からガスが噴出する際に起る液体の急激
な流動エネルギーの他の部分への伝達が防止されること
から、液槽内におけるフロス層の大きな動揺の発生は防
止される。さらに、本発明においては、第１仕切部材３
により、液槽内にはその複数の区画Ｂを包囲する区画Ａ
が形成されていることから、ガス噴出孔２から噴出され
たガスが微細気泡となって上昇する際に起る液体の急激
な流動エネルギーの他部分への伝達は、その第１仕切部
材３によっても他の部分への伝達が防止される。従っ
て、本発明の場合には、その第１仕切部材３の配設によ
り、液槽内におけるフロス層の大きな動揺の発生はより
一層効果的に防止される。

【００１９】

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。

【００２０】比較例１排煙脱硫装置として従来一般に用いられている内径９．
８ｍの石灰石こう法多管式排煙脱硫装置において、石炭
燃焼ボイラーより排出される亜硫酸ガス（ＳＯ₂）５５
０ｐｐｍを含有する排煙を処理したところ、出口ＳＯ₂
濃度２６ｐｐｍ（脱硫率９５．２％）が得られたが、こ
の場合には、フロス層に約３．４秒周期の動揺現象が観
察された。

【００２１】実施例１比較例１で示した装置において、本発明の装置を得るた
めに、その第１仕切部材としてその装置内に配設されて
いるビーム（高さ２８０ｍｍ、厚さ１５０ｍｍ）をその
まま用いた。これにより、装置内には合計３３個の区画
Ａが形成された。次に、この区画Ａ間に、第２仕切部材
として、その装置内に配設されている図６に示す格子状
ガス導入管支持体を取除し、これをその下端がガス噴出
孔２のレベルより３０ｍｍ上方に位置するように降下さ
せるとともに、この位置において図７に示すようにして
ビームに支持させた。この場合、図６に示す格子状ガス
導入管支持体における板体部１２の下端から上端までの
高さは１００ｍｍであった。このようにして形成された
区画Ａと区画Ｂを有する本発明装置を用い、比較例１と
同様にして排煙を処理したところ、この場合にはフロス
層の動揺の発生は完全に防止され、それとともに、脱硫
率も９７．４％と向上し、出口ＳＯ₂濃度は１４ｐｐｍ
と減少した。

【００２２】

【発明の効果】本発明によれば、液槽を第１仕切部材に
より区画Ａを形成するとともに、その区画Ａ内にさらに
第２仕切部材により区画Ｂを形成したことから、ガス導
入管のガス噴出孔から液体中にガスを噴出させる際に起
る液体の急激な流動エネルギーは、一次的にそれらの区
画Ｂ及び区画Ａ内に封止され、その液体の流動エネルギ
ーが他の区画に伝達されることが非常に少なくなり、そ
の結果、液槽内での大きなフロス層の動揺の発生が防止
される。従来の気液接触装置においては、各ガス導入管
のガス噴出孔から液体中にガスを噴出させる際に起る液
体の各流動エネルギーは、仕切部材が存在しないことか
ら、相互に干渉しあって、全体として定常的で周期的な
大きなフロス層の動揺を生じさせ、フロス層上面を変動
させて気液接触効率の悪化を生じさせるが、本発明の場
合には、前記したように、液槽内に区画Ａ及び区画Ｂを
形成したことから、ガス噴出孔からのガスの噴出によっ
て起る急激な液体の流動エネルギーは、この区画Ａ、区
画Ｂ内に封止され、他の気泡通過区画への伝達が防止さ
れているため、従来の気液接触装置に見られた如き前記
問題は一挙に解決される。その上、区画Ｂにおいては、
噴出ガスによるリフト効果が得られるため、その区画Ｂ
内にはガス導入管の下方に存在する新鮮な液体が上方に
すい込まれ、区画内で気泡と混合されるという利点があ
る。本発明の気液接触装置は、各種の気液接触を伴う反
応装置として利用され、例えば、亜硫酸ガスを含む排ガ
スと炭酸カルシウムや水酸化カルシウム等のカルシウム
化合物のスラリー液等のアルカリ性液体との接触を行う
排煙脱硫装置や、炭酸ガスを含む排ガスとアルカリ性液
体との接触を行う脱炭酸ガス装置等として好ましく適用
される。特に、本発明の装置は、液槽の直径が１０ｍ以
上、特に２０ｍ以上という大型の排煙脱硫装置として有
利に用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１仕切部材により形成される区画Ａの１例に
ついての説明図を示す。ａ：平面図ｂ：要部斜視図

【図２】第２仕切部材により形成される区画Ｂの１例に
ついての説明図を示す。ａ：斜視図ｂ：水平断面図

【図３】第２仕切部材により形成される区画Ｂの他の例
についての説明図を示す。ａ：斜視図ｂ：水平断面図

【図４】第２仕切部材を用いて形成した区画Ｂのさらに
他の例についての平面断面図を示す。

【図５】区画Ｂ内にガス噴出孔からガスを噴出させてフ
ロス層を形成させた場合の説明状態図を示す。ａ：水平断面図ｂ：図５（ａ）のＢ−Ｂ断面図

【図６】従来の装置に配設されているガス導入管を支持
固定化するための格子状支持体の斜視図を示す。

【図７】第２仕切部材を第１仕切部材に支持させた場合
の説明図を示す。

【図８】図７に示した区画Ａ内の説明平面図を示す。

【図９】排煙脱硫装置として用いられている従来の気液
接触装置の模式図を示す。

【図１０】ガス導入管の１例についての構造説明図を示
す。

【図１１】ガス導入管の他の例についての構造説明図を
示す。

【符号の説明】

１、１’、１０３ガス導入管２、１０４ガス噴出孔３第１仕切部材４静止液面５フロス層の上面６フロス層１３第２仕切部材１４支持体１０、１０１ガス導管１０２液槽１０５攪拌羽根１０６空気導入管１０８石こうスラリー抜出管Ａ第１仕切部材により形成される区画Ｂ第２仕切部材により形成される区画

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ０１Ｄ 53/77 Ｂ０１Ｊ 10/00 １０４ 8822−4ＧＢ０１Ｄ 53/34 １２５Ｑ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】大型液槽内に下部周壁面にガス噴出孔を
有するガス導入管の多数をそのガス噴出孔が液槽内静止
液面より下方に位置する気液接触装置において、液槽内
を縦横に仕切って液槽内に複数の区画Ａを形成させる第
１仕切部材と、その区画Ａ内に存在するガス導入管に支
持され、区画Ａ内に複数の区画Ｂを形成させる第２仕切
部材を備えることを特徴とする多管式気液接触装置。
【請求項２】第２仕切部材の下端から上端までの高さ
が、第１仕切部材の下端から上端までの高さよりも低い
請求項１の装置。
【請求項３】第１仕切部材の上端が液槽内に形成され
るフロス層の上面近傍に位置し、その下端がガス導入管
のガス噴出孔近傍に位置し、かつ第２仕切部材の上端が
液槽内に形成されるフロス層の上面とガス導入管のガス
噴出孔との間に位置する請求項１又は２の装置。
【請求項４】第１仕切部材により形成される区画Ａの
縦／横の長さ比が０．５〜２．０の範囲にある請求項１
〜３のいずれかの装置。
【請求項５】第１仕切部材により形成される区画Ａの
縦／横の長さ比が０．７５〜１．５の範囲にある請求項
１〜３のいずれかの装置。
【請求項６】第１仕切部材により形成される四辺形状
の区画Ａのその長辺の長さが０．５〜２ｍの範囲にある
請求項１〜５のいずれかの装置。
【請求項７】第１仕切部材により形成される四辺形状
の区画Ａのその長辺の長さが０．７５〜１．５ｍの範囲
にある請求項１〜５のいずれかの装置。
【請求項８】第１仕切部材が格子状構造物からなる請
求項１〜７のいずれかの装置。
【請求項９】第２仕切部材が隣接するガス導入管に支
持されている請求項１〜８のいずれかの装置。
【請求項１０】第２仕切部材により形成される区画Ｂ
内に、第２仕切部材が支持されていない少なくとも１個
の独立したガス導入管が存在する請求項１〜８のいずれ
かの装置。
【請求項１１】第２仕切部材が、ガス導入管支持部
と、その支持部間を連絡する板体部とから構成されてい
る格子状構造物からなる請求項１〜１０のいずれかの装
置。
【請求項１２】第２仕切部材が、ガス導入管支持部
と、その支持部間を連絡する板体部から構成される格子
状構造物からなり、該構造物が第１仕切部材に支持され
ている請求項１〜１０のいずれかの装置。