JPH0730673Y2 - 金属帯の表面処理設備のシールボックス - Google Patents
金属帯の表面処理設備のシールボックスInfo
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- JPH0730673Y2 JPH0730673Y2 JP1988142760U JP14276088U JPH0730673Y2 JP H0730673 Y2 JPH0730673 Y2 JP H0730673Y2 JP 1988142760 U JP1988142760 U JP 1988142760U JP 14276088 U JP14276088 U JP 14276088U JP H0730673 Y2 JPH0730673 Y2 JP H0730673Y2
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- seal box
- box
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Description
【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は金属帯の溶融金属めっきあるいは各種塗料の塗
装に用いられるめっき液及び塗料の余剰分をガスワイピ
ングして付着量即ち塗膜厚さを調整するワイピング装置
に係り、特に溶融金属めっきあるいは塗装用のシールボ
ックスに関するものである。
装に用いられるめっき液及び塗料の余剰分をガスワイピ
ングして付着量即ち塗膜厚さを調整するワイピング装置
に係り、特に溶融金属めっきあるいは塗装用のシールボ
ックスに関するものである。
〈従来の技術〉 従来、溶融金属めっきラインにおいて広く利用されてい
るガスワイピング法では第６図に示すように鋼ストリッ
プ１を挟んでワイピングノズル2,2′を左右に対向配置
し、幅方向に均一なスリットギャップを有し、均一な噴
出ガスを鋼ストリップ１に対して直角あるいはほぼ直角
に吹き付けるワイピングノズル2,2′により鋼ストリッ
プ１上の余剰のめっき液３を払拭する。
るガスワイピング法では第６図に示すように鋼ストリッ
プ１を挟んでワイピングノズル2,2′を左右に対向配置
し、幅方向に均一なスリットギャップを有し、均一な噴
出ガスを鋼ストリップ１に対して直角あるいはほぼ直角
に吹き付けるワイピングノズル2,2′により鋼ストリッ
プ１上の余剰のめっき液３を払拭する。
このようなワイピング装置において従来の技術ではめっ
き液の付着量を少なくする手段として、 （１）鋼ストリップ表面に対するワイピングガスノズル
角度をワイピングガス噴出流の鋼ストリップ表面への到
達点より上方の鋼ストリップ表面とのなす角度で表示し
て、鋭角とする方法。
き液の付着量を少なくする手段として、 （１）鋼ストリップ表面に対するワイピングガスノズル
角度をワイピングガス噴出流の鋼ストリップ表面への到
達点より上方の鋼ストリップ表面とのなす角度で表示し
て、鋭角とする方法。
（２）ワイピングガスの温度を高くして、鋼ストリップ
表面のめっき金属の粘性を低下させる方法。
表面のめっき金属の粘性を低下させる方法。
（３）ワイピングガスの噴出速度を高くする方法。
等がある。
しかしながら、前記（１）の鋼ストリップ表面に対する
ワイピングガスノズルの角度を鋭角とする方法は、溶融
金属のスプラッシュを多くしノズル詰りを多発させる。
（２）のワイピングガス温度を高くして、鋼ストリップ
表面のめっき金属の粘性を低下させる方法は、例えば燃
焼排ガスのような非酸化性雰囲気の下でワイピングが困
難であり、ワイピングガスの昇温に要する熱量の大きさ
の割りには、鋼ストリップ表面のめっき金属の粘性を低
下せしめ得ず、めっき液の付着量制御への効き方が小さ
い。（３）のワイピングガスの噴出速度を高くする方法
は、鋼ストリップ表面のめっき金属の付着量制御におい
て最も効果的であるが、ワイピングガス噴出量の鋼スト
リップ表面への衝突並びに鋼ストリップ側縁部における
ワイピングガス相互の衝突によって高周波音を発する。
さらにめっき金属スプラッシュの多発、ワイピングガス
噴出流による大気の引き込みがあり、その結果鋼ストリ
ップ表面の溶融めっき金属の酸化を生じ、釜歩留りの低
下をもたらす。しかしながら、この（３）の方法はめっ
き処理速度を速くし、かつめっき金属の付着量を少なく
する方法としては最も効果的である。
ワイピングガスノズルの角度を鋭角とする方法は、溶融
金属のスプラッシュを多くしノズル詰りを多発させる。
（２）のワイピングガス温度を高くして、鋼ストリップ
表面のめっき金属の粘性を低下させる方法は、例えば燃
焼排ガスのような非酸化性雰囲気の下でワイピングが困
難であり、ワイピングガスの昇温に要する熱量の大きさ
の割りには、鋼ストリップ表面のめっき金属の粘性を低
下せしめ得ず、めっき液の付着量制御への効き方が小さ
い。（３）のワイピングガスの噴出速度を高くする方法
は、鋼ストリップ表面のめっき金属の付着量制御におい
て最も効果的であるが、ワイピングガス噴出量の鋼スト
リップ表面への衝突並びに鋼ストリップ側縁部における
ワイピングガス相互の衝突によって高周波音を発する。
さらにめっき金属スプラッシュの多発、ワイピングガス
噴出流による大気の引き込みがあり、その結果鋼ストリ
ップ表面の溶融めっき金属の酸化を生じ、釜歩留りの低
下をもたらす。しかしながら、この（３）の方法はめっ
き処理速度を速くし、かつめっき金属の付着量を少なく
する方法としては最も効果的である。
そこで、（３）の方法における問題点を解決するため、
既に鋼ストリップにめっき金属を付着せしめガスワイピ
ングによりその付着量を制御する際、ワイピングノズル
及びその近傍を囲繞するシールボックスを設け、シール
ボックス内を非酸化性雰囲気とする技術が提案されてい
る。
既に鋼ストリップにめっき金属を付着せしめガスワイピ
ングによりその付着量を制御する際、ワイピングノズル
及びその近傍を囲繞するシールボックスを設け、シール
ボックス内を非酸化性雰囲気とする技術が提案されてい
る。
しかしながら鋼ストリップ表面に沿って流れるワイピン
グガス流によって生ずる２次渦流による酸素の侵入を防
止するためには、シールボックスの鋼ストリップが通過
する出口開口部を極端に狭くする必要がある。そのため
鋼ストリップのばたつきあるいは形状の悪い鋼ストリッ
プの通過がある場合、シールボックス開口部と溶融状態
のめっき金属をその表面にもつ鋼ストリップとが接触し
めっき製品をだめにするという問題がある。
グガス流によって生ずる２次渦流による酸素の侵入を防
止するためには、シールボックスの鋼ストリップが通過
する出口開口部を極端に狭くする必要がある。そのため
鋼ストリップのばたつきあるいは形状の悪い鋼ストリッ
プの通過がある場合、シールボックス開口部と溶融状態
のめっき金属をその表面にもつ鋼ストリップとが接触し
めっき製品をだめにするという問題がある。
そこで本考案者等はシールボックス開口部の幅方向両端
部近傍をシールガスが内部から外部に向って流れるよう
にシールガス噴出ノズルを設け、シールボックス開口部
を従来以上に大きくでき、しかもシールボックス内に酸
素の侵入を防止できるシールボックスを特願昭63-21234
4号（特開平2-61048号公報）で提案した。
部近傍をシールガスが内部から外部に向って流れるよう
にシールガス噴出ノズルを設け、シールボックス開口部
を従来以上に大きくでき、しかもシールボックス内に酸
素の侵入を防止できるシールボックスを特願昭63-21234
4号（特開平2-61048号公報）で提案した。
しかしながら、今まで説明してきたようなワイピングノ
ズルのみで払拭できるめっき液は鋼ストリップの幅方向
での付着量の均一性が確保できない。すなわち通常鋼ス
トリップの幅端部近傍が払拭されにくい現象が生じめっ
き液３の付着量が中央部に比べて多くなるため、既に本
考案者等はこの改善方法としてエッジワイピングノズル
付バッフルプレート（以下EWN付バッフルプレート）を
特願昭63-33749号（特開平1-208441号公報）で提案して
いる。
ズルのみで払拭できるめっき液は鋼ストリップの幅方向
での付着量の均一性が確保できない。すなわち通常鋼ス
トリップの幅端部近傍が払拭されにくい現象が生じめっ
き液３の付着量が中央部に比べて多くなるため、既に本
考案者等はこの改善方法としてエッジワイピングノズル
付バッフルプレート（以下EWN付バッフルプレート）を
特願昭63-33749号（特開平1-208441号公報）で提案して
いる。
〈考案が解決しようとする課題〉 本考案の目的は、バッフルプレートを採用したガスワイ
ピング装置を有し、その開口部が十分広い溶融金属めっ
きあるいは塗装用のシールボックスにおいて、前記開口
部や種々のスキマからの酸素の侵入を防止し、シールボ
ックス内を十分な濃度の不活性ガスで満たすことができ
るシールボックスを提供するものである。
ピング装置を有し、その開口部が十分広い溶融金属めっ
きあるいは塗装用のシールボックスにおいて、前記開口
部や種々のスキマからの酸素の侵入を防止し、シールボ
ックス内を十分な濃度の不活性ガスで満たすことができ
るシールボックスを提供するものである。
また別な目的は、ガスワイピングノズルと金属帯間の間
隙を自由に変えることのできるシールボックスを提供す
るものである。
隙を自由に変えることのできるシールボックスを提供す
るものである。
さらに、ストリップ幅方向でのめっき液の付着量の均一
性を確保するのに効果的なEWN付バッフルプレートの配
置が可能なシールボックスを提供するものである。
性を確保するのに効果的なEWN付バッフルプレートの配
置が可能なシールボックスを提供するものである。
〈課題を解決するための手段〉 本考案は、めっきあるいは塗装された金属帯及び該金属
帯のエッジに近接配置されたバッフルプレートに向けて
ガスを噴出するワイピングノズルを一体的に取り付け、
該金属帯との隙間を調整可能な左右の上部シールボック
スと、該左右の上部シールボックスの下部及び側面部を
囲繞し、その下端が溶融金属めっき槽あるいは塗料槽に
浸漬されている下部シールボックスとからなる金属帯の
表面処理設備のシールボックスであって、該下部シール
ボックスの上部でかつ該左右の上部シールボックスの側
面部に対向した位置にシールガス供給ボックスを設け、
該シールガス供給ボックスのバッフルプレートへの対向
面、該上部シールボックスの側面部への対向面及び該上
部シールボックスの上端縁耳部への対向面にシールガス
を噴出するノズルを設けるとともに、 該下部シールボックスには、該左右の上部シールボック
スの開口部の両端部から該金属帯の進行方向下流側に向
けてシールガスを噴出するノズルを設けたことを特徴と
する金属帯の表面処理設備のシールボックスである。
帯のエッジに近接配置されたバッフルプレートに向けて
ガスを噴出するワイピングノズルを一体的に取り付け、
該金属帯との隙間を調整可能な左右の上部シールボック
スと、該左右の上部シールボックスの下部及び側面部を
囲繞し、その下端が溶融金属めっき槽あるいは塗料槽に
浸漬されている下部シールボックスとからなる金属帯の
表面処理設備のシールボックスであって、該下部シール
ボックスの上部でかつ該左右の上部シールボックスの側
面部に対向した位置にシールガス供給ボックスを設け、
該シールガス供給ボックスのバッフルプレートへの対向
面、該上部シールボックスの側面部への対向面及び該上
部シールボックスの上端縁耳部への対向面にシールガス
を噴出するノズルを設けるとともに、 該下部シールボックスには、該左右の上部シールボック
スの開口部の両端部から該金属帯の進行方向下流側に向
けてシールガスを噴出するノズルを設けたことを特徴と
する金属帯の表面処理設備のシールボックスである。
〈作用〉 シールボックス内に侵入する酸素の流入経路を把握する
ため、本考案者らは種々の実験・観察を行った結果、以
下のことがわかった。
ため、本考案者らは種々の実験・観察を行った結果、以
下のことがわかった。
（１）第７図に示すようにめっきされた鋼ストリップ１
の通過する開口部の鋼ストリップ板幅の中央部を除く、
即ちエッジ部近傍より外側の開口部から酸素がシールボ
ックス４内に侵入する。矢印Ａはワイピングノズルより
噴出したガス流れ、Ｂは侵入する酸素の流れを示す。
の通過する開口部の鋼ストリップ板幅の中央部を除く、
即ちエッジ部近傍より外側の開口部から酸素がシールボ
ックス４内に侵入する。矢印Ａはワイピングノズルより
噴出したガス流れ、Ｂは侵入する酸素の流れを示す。
また、第８図に示すようにシールボックス４の側壁を貫
通して、鋼ストリップ幅の延長上に、かつ鋼ストリップ
エッジに近接してEWN8付バッフルプレート６を配置する
と、酸素のシールボックス４内への流入箇所は鋼ストリ
ップ１の通過する開口部の両端部のみにすることができ
る。
通して、鋼ストリップ幅の延長上に、かつ鋼ストリップ
エッジに近接してEWN8付バッフルプレート６を配置する
と、酸素のシールボックス４内への流入箇所は鋼ストリ
ップ１の通過する開口部の両端部のみにすることができ
る。
（２）シールボックス４の側壁を貫通して鋼ストリップ
エッジに近接して配置するEWN8付バッフルプレート６の
通過する開口部から酸素の流入が生ずる。
エッジに近接して配置するEWN8付バッフルプレート６の
通過する開口部から酸素の流入が生ずる。
以上のことから、めっきされた鋼ストリップの通過する
開口部の両端部分に鋼ストリップの進行方向下流側に向
かってシールボックス内からシールガスを噴出するノズ
ル、及びEWN付バッフルプレートの通過する開口部でバ
ッフルプレートに向かってシールガスを噴出するノズル
を有するシールガス供給ボックスを設け、その効果を確
認したところ、鋼ストリップに付着しためっき液を均一
にすることが可能となるばかりでなく、前記開口部から
の酸素のシールボックス内への流入は完全に阻止でき、
シールボックス内はその所望とするところの不活性ガス
で満たされめっき金属の酸化防止及びドロス発生の抑制
に効果的であることを見出した。
開口部の両端部分に鋼ストリップの進行方向下流側に向
かってシールボックス内からシールガスを噴出するノズ
ル、及びEWN付バッフルプレートの通過する開口部でバ
ッフルプレートに向かってシールガスを噴出するノズル
を有するシールガス供給ボックスを設け、その効果を確
認したところ、鋼ストリップに付着しためっき液を均一
にすることが可能となるばかりでなく、前記開口部から
の酸素のシールボックス内への流入は完全に阻止でき、
シールボックス内はその所望とするところの不活性ガス
で満たされめっき金属の酸化防止及びドロス発生の抑制
に効果的であることを見出した。
以上の知見に基づいて本考案は構成されたが、次にさら
に具体的構成について説明する。
に具体的構成について説明する。
一般にめっき処理を施す鋼ストリップ板幅の範囲はかな
り大きく、600〜1800mm程度であり、EWN付バッフルプレ
ートは変動する板幅に対応して配置する必要がある。ま
ためっき液の付着量も種々様々であり、その付着量制御
の方法として鋼ストリップとワイピングノズルの間隔を
変えることはしばしば行われている。このような操業条
件における本考案の構成を以下に図を用いて説明する。
り大きく、600〜1800mm程度であり、EWN付バッフルプレ
ートは変動する板幅に対応して配置する必要がある。ま
ためっき液の付着量も種々様々であり、その付着量制御
の方法として鋼ストリップとワイピングノズルの間隔を
変えることはしばしば行われている。このような操業条
件における本考案の構成を以下に図を用いて説明する。
第１図は本考案のシールボックスを示す、分解斜視図で
ある。ここで10,10′は左右の上部シールボックスであ
り、ワイピングノズル2,2′は左右の上部シールボック
ス10,10′にそれぞれ一体的に取り付けられている。な
お、10−1,10′−１は上部シールボックス10,10′のそ
れぞれ側面部であり、10−2,10′−２は上部シールボッ
クス10,10′のそれぞれ上端縁耳部である。
ある。ここで10,10′は左右の上部シールボックスであ
り、ワイピングノズル2,2′は左右の上部シールボック
ス10,10′にそれぞれ一体的に取り付けられている。な
お、10−1,10′−１は上部シールボックス10,10′のそ
れぞれ側面部であり、10−2,10′−２は上部シールボッ
クス10,10′のそれぞれ上端縁耳部である。
９は下部シールボックスであり、その下端は例えば溶融
金属めっき槽中のめっき液３に浸漬されている。また下
部シールボックス９の上部には、左右の上部シールボッ
クス10,10′に対向した位置にシールガス供給ボックス1
3が設けられており、このシールガス供給ボックス13の
バッフルプレート６への対向面には、シールガスを噴出
するノズル16、または上部シールボックスの側面部10−
1,10′−１への対向面には、シールガスを噴出するノズ
ル15、また上部シールボックスの上端縁耳部10−2,10′
−２への対向面には、シールガスを噴出するノズル14が
設けられている。
金属めっき槽中のめっき液３に浸漬されている。また下
部シールボックス９の上部には、左右の上部シールボッ
クス10,10′に対向した位置にシールガス供給ボックス1
3が設けられており、このシールガス供給ボックス13の
バッフルプレート６への対向面には、シールガスを噴出
するノズル16、または上部シールボックスの側面部10−
1,10′−１への対向面には、シールガスを噴出するノズ
ル15、また上部シールボックスの上端縁耳部10−2,10′
−２への対向面には、シールガスを噴出するノズル14が
設けられている。
なおさらに下部シールボックス９にはシールボックスの
上部開口部の幅方向両端部近傍から鋼ストリップ１の進
行方向下流側に向けてシールガスを噴き出すノズル12が
設けてある。
上部開口部の幅方向両端部近傍から鋼ストリップ１の進
行方向下流側に向けてシールガスを噴き出すノズル12が
設けてある。
第２図は第１図を組み立てたときの側断面図であり、ワ
イピングノズル2,2′を一体的に取り付けた上部シール
ボックス10,10′とその下に位置する下部シールボック
ス９との配置構成を示したものであり、かつワイピング
ノズル2,2′より噴出されたワイピングガスが開口部5,1
1よりシールボックス外に排出される様子を模式的に示
したものである。鋼ストリップに衝突した後のワイピン
グガス流れはめっきされた後の鋼ストリップの通過する
シールボックス開口部（（ア）部）では鋼ストリップに
沿った非常に速い流れであり、一方シールボックス開口
11から排出されるガス流れはかなりゆっくりした流れと
なり、（イ）部は全て正圧に保つことが可能で開口11よ
りの酸素の侵入を防止できる構造である。
イピングノズル2,2′を一体的に取り付けた上部シール
ボックス10,10′とその下に位置する下部シールボック
ス９との配置構成を示したものであり、かつワイピング
ノズル2,2′より噴出されたワイピングガスが開口部5,1
1よりシールボックス外に排出される様子を模式的に示
したものである。鋼ストリップに衝突した後のワイピン
グガス流れはめっきされた後の鋼ストリップの通過する
シールボックス開口部（（ア）部）では鋼ストリップに
沿った非常に速い流れであり、一方シールボックス開口
11から排出されるガス流れはかなりゆっくりした流れと
なり、（イ）部は全て正圧に保つことが可能で開口11よ
りの酸素の侵入を防止できる構造である。
第３図はシールボックスを側面より見たときのものであ
り、第４図はシールボックス正面部分の断面を、第５図
はシールボックス側端部分の平面図である。ここで12の
ノズルはめっきされた鋼ストリップが通過する開口部の
両端部分から酸素が侵入するのを防止するためのシール
ガス噴出用であり、鋼ストリップの進行方向下流側に向
けてシールガスを噴出する。シールガス供給ボックス13
には、上部シールボックス上端縁耳部10−２とシールガ
ス供給ボックス13の隙間Δ１、上部シールボックス10の
側面部10−１とシールガス供給ボックス13の隙間Δ２、
及びEWN付バッフルプレート６とシールガス供給ボック
ス13との隙間Δ３の各部よりシールボックス内に侵入し
ようとする酸素の流れを阻止するためのシールガスを噴
出するノズル14,15,16が設けられている。なおここで矢
印はシールガスの流れ方向を示す。
り、第４図はシールボックス正面部分の断面を、第５図
はシールボックス側端部分の平面図である。ここで12の
ノズルはめっきされた鋼ストリップが通過する開口部の
両端部分から酸素が侵入するのを防止するためのシール
ガス噴出用であり、鋼ストリップの進行方向下流側に向
けてシールガスを噴出する。シールガス供給ボックス13
には、上部シールボックス上端縁耳部10−２とシールガ
ス供給ボックス13の隙間Δ１、上部シールボックス10の
側面部10−１とシールガス供給ボックス13の隙間Δ２、
及びEWN付バッフルプレート６とシールガス供給ボック
ス13との隙間Δ３の各部よりシールボックス内に侵入し
ようとする酸素の流れを阻止するためのシールガスを噴
出するノズル14,15,16が設けられている。なおここで矢
印はシールガスの流れ方向を示す。
このような構造にすることにより、鋼ストリップ１への
めっき液の付着量を均一にできるばかりでなくめっき液
の酸化防止ができ、かつドロスの発生を抑制できる。本
考案の具体的構成例としてEWN付バッフルプレートを用
いたがバッフルプレートのみを使用する場合にも適用で
きることは明らかである。また、鋼ストリップ１とワイ
ピングノズル2,2′の間隙を変えない場合、前記隙間Δ
１およびΔ２を零にした状態でシールボックスを構成す
ることも可能であることはいうまでもない。
めっき液の付着量を均一にできるばかりでなくめっき液
の酸化防止ができ、かつドロスの発生を抑制できる。本
考案の具体的構成例としてEWN付バッフルプレートを用
いたがバッフルプレートのみを使用する場合にも適用で
きることは明らかである。また、鋼ストリップ１とワイ
ピングノズル2,2′の間隙を変えない場合、前記隙間Δ
１およびΔ２を零にした状態でシールボックスを構成す
ることも可能であることはいうまでもない。
次に本考案のシールガス噴出ノズルを具備したシールボ
ックスを用いてシールボックス内の酸素濃度を測定する
ことにより、シールボックスの効果を測定した例を示
す。
ックスを用いてシールボックス内の酸素濃度を測定する
ことにより、シールボックスの効果を測定した例を示
す。
ワイピングガス及びシールガスとしてN2ガスを用いた。
この結果シールボックス内の酸素濃度は となり、シールガス噴出によるシール効果は明らかであ
り、めっき金属の酸化及びドロス発生の抑制に効果的で
ある。
この結果シールボックス内の酸素濃度は となり、シールガス噴出によるシール効果は明らかであ
り、めっき金属の酸化及びドロス発生の抑制に効果的で
ある。
〈考案の効果〉 シールボックス内に侵入する酸素をシールガス噴出ノズ
ルを用いることにより防止でき、シールボックス内を高
濃度の不活性ガスで充満することが可能となり、以下の
効果を得る。
ルを用いることにより防止でき、シールボックス内を高
濃度の不活性ガスで充満することが可能となり、以下の
効果を得る。
ワイピング直後の酸化によるめっき面性状の劣化が
防止できると共にめっき厚みを均一にすることができ、
高品質で美麗なめっき製品を得ることができる。
防止できると共にめっき厚みを均一にすることができ、
高品質で美麗なめっき製品を得ることができる。
めっき金属のドロス発生が少なくなり、亜鉛の歩留
りが向上でき、低コスト化ができる。
りが向上でき、低コスト化ができる。
金属帯とワイピングノズルの間隙を自由に変えられ
るので、極薄の目付が可能である。
るので、極薄の目付が可能である。
第１図は本考案のシールボックスの分解斜視図、第２図
は本考案のシールボックスの側断面図、第３図は本考案
のシールボックスの側面図、第４図は正面の部分断面
図、第５図は本考案のシールボックスの側端部の平面
図、第６図は従来のガスワイピング法の典型例を示す説
明図、第７図は従来のシールボックスにおける酸素の侵
入経路の模式図、第８図はEWNバッフルプレートを用い
たときのシールボックスへの酸素の侵入経路を示す図で
ある。 １……鋼ストリップ、2,2′……ワイピングノズル、３
……めっき液、４……シールボックス、５……めっきさ
れた鋼ストリップの通過する開口部、６……バッフルプ
レート、７……バッフルプレートの通過する開口部、８
……エッジワイピングノズル（EWN）、９……下部シー
ルボックス、10,10′……上部シールボックス、10−1,1
0′−１……上部シールボックスの側面部、10−2,10′
−２……上部シールボックスの上端縁耳部、11……シー
ルボックス開口、12……ノズル、13……シールガス供給
ボックス、14……ノズル、15……ノズル、16……ノズ
ル、
は本考案のシールボックスの側断面図、第３図は本考案
のシールボックスの側面図、第４図は正面の部分断面
図、第５図は本考案のシールボックスの側端部の平面
図、第６図は従来のガスワイピング法の典型例を示す説
明図、第７図は従来のシールボックスにおける酸素の侵
入経路の模式図、第８図はEWNバッフルプレートを用い
たときのシールボックスへの酸素の侵入経路を示す図で
ある。 １……鋼ストリップ、2,2′……ワイピングノズル、３
……めっき液、４……シールボックス、５……めっきさ
れた鋼ストリップの通過する開口部、６……バッフルプ
レート、７……バッフルプレートの通過する開口部、８
……エッジワイピングノズル（EWN）、９……下部シー
ルボックス、10,10′……上部シールボックス、10−1,1
0′−１……上部シールボックスの側面部、10−2,10′
−２……上部シールボックスの上端縁耳部、11……シー
ルボックス開口、12……ノズル、13……シールガス供給
ボックス、14……ノズル、15……ノズル、16……ノズ
ル、
Claims (1)
- 【請求項１】めっきあるいは塗装された金属帯及び該金
属帯のエッジに近接配置されたバッフルプレートに向け
てガスを噴出するワイピングノズルを一体的に取り付
け、該金属帯との隙間を調整可能な左右の上部シールボ
ックスと、 該左右の上部シールボックスの下部及び側面部を囲繞
し、その下端が溶融金属めっき槽あるいは塗料槽に浸漬
されている下部シールボックスとからなる金属帯の表面
処理設備のシールボックスであって、 該下部シールボックスの上部でかつ該左右の上部シール
ボックスの側面部に対向した位置にシールガス供給ボッ
クスを設け、該シールガス供給ボックスのバッフルプレ
ートへの対向面、該上部シールボックスの側面部への対
向面及び該上部シールボックスの上端縁耳部への対向面
にシールガスを噴出するノズルを設けるとともに、 該下部シールボックスには、該左右の上部シールボック
スの開口部の両端部から該金属帯の進行方向下流側に向
けてシールガスを噴出するノズルを設けたことを特徴と
する金属帯の表面処理設備のシールボックス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988142760U JPH0730673Y2 (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 金属帯の表面処理設備のシールボックス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988142760U JPH0730673Y2 (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 金属帯の表面処理設備のシールボックス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0266667U JPH0266667U (ja) | 1990-05-21 |
| JPH0730673Y2 true JPH0730673Y2 (ja) | 1995-07-12 |
Family
ID=31408981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988142760U Expired - Lifetime JPH0730673Y2 (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 金属帯の表面処理設備のシールボックス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0730673Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2596240B2 (ja) * | 1991-03-13 | 1997-04-02 | 住友金属工業株式会社 | 連続溶融金属めっき装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51120321U (ja) * | 1975-03-28 | 1976-09-29 | ||
| JPS53135427U (ja) * | 1977-03-31 | 1978-10-26 | ||
| JPS5465138A (en) * | 1977-11-04 | 1979-05-25 | Nippon Steel Corp | Gas wiping apparatus in hot dipping of beltlike metal |
| JPS55110766A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-26 | Nippon Steel Corp | Wiping device for molten metal plating equipment |
-
1988
- 1988-11-02 JP JP1988142760U patent/JPH0730673Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0266667U (ja) | 1990-05-21 |
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