JPH07275644A - Harmful gas purifying apparatus - Google Patents
Harmful gas purifying apparatusInfo
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- JPH07275644A JPH07275644A JP6090695A JP9069594A JPH07275644A JP H07275644 A JPH07275644 A JP H07275644A JP 6090695 A JP6090695 A JP 6090695A JP 9069594 A JP9069594 A JP 9069594A JP H07275644 A JPH07275644 A JP H07275644A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は有害ガスの浄化装置に関
し、さらに詳細には、処理対象となる有害ガスに水分を
付与することによって、長時間にわたり優れた浄化能力
を保持しうる有害ガスの浄化装置に関する。近年、半導
体工業やオプトエレクトロニクス工業の発展とともにハ
ロゲン系の酸性ガスやシラン、ジボランなどの水素化物
ガスの種類および使用量が増加している。例えば、酸性
ガスでは三塩化ほう素、塩素、塩化水素、臭化水素、三
ふっ化ほう素、六ふっ化タングステン、四ふっ化けい
素、三ふっ化塩素などハロゲン系のガスが多用されてい
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for purifying harmful gases, and more particularly to a device for purifying harmful gases capable of maintaining excellent purifying ability for a long time by adding moisture to the harmful gas to be treated. Purification device In recent years, with the development of the semiconductor industry and the optoelectronics industry, the types and amounts of halogen-based acidic gases and hydride gases such as silane and diborane are increasing. For example, halogen gases such as boron trichloride, chlorine, hydrogen chloride, hydrogen bromide, boron trifluoride, tungsten hexafluoride, silicon tetrafluoride, and chlorine trifluoride are often used as acidic gases. .
【０００２】これらのガスはシリコン半導体や化合物半
導体製造工業などにおいて、結晶性シリコン、アモルフ
ァスシリコンあるいは酸化シリコン膜の生成用、あるい
は、エッチングガスとして不可欠な物質であるが、いず
れも毒性が高く、人体および環境に悪影響を与えるの
で、これら酸性ガスを含むガスは半導体製造工程などに
使用後大気に放出するに先立って浄化する必要がある。These gases are indispensable substances for producing crystalline silicon, amorphous silicon or silicon oxide film or as an etching gas in the manufacturing industry of silicon semiconductors and compound semiconductors. And, since it adversely affects the environment, it is necessary to purify the gas containing the acidic gas before using it in the semiconductor manufacturing process and before releasing it to the atmosphere.
【０００３】[0003]
【従来の技術】従来、ガス中に含有される有害成分など
を除去するための装置として、アルカリ水溶液などを用
いたスクラバー、スプレー塔、回転式微細気泡発生装置
など湿式の浄化装置、および固形状の吸着剤、浄化剤な
どを浄化筒に充填した乾式の浄化装置などがある。2. Description of the Related Art Conventionally, as a device for removing harmful components contained in a gas, a scrubber using an alkaline aqueous solution, a spray tower, a wet type purifying device such as a rotary fine bubble generator, and a solid state There is a dry type purifying device in which a purifying cylinder is filled with adsorbents and purifying agents.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、湿式の
装置は一般的に後処理に困難性があり、装置が複雑で大
型となるばりでなく、設備、保守ともに費用を要すると
いう問題点がある。一方、乾式の装置については、内部
に充填される吸着剤、浄化剤自体の有害成分に対する除
去能力が重要であり、このため、種々の浄化剤の開発が
試みられている。これらの浄化剤の内、例えばアルカリ
金属やアルカリ土類金属の水酸化物や金属酸化物などを
成分として含むような浄化剤の中には、本来の性能を発
揮するためには水分の存在が極めて有効とされるものが
ある。しかしながら、これらの浄化剤を用いて有害ガス
の浄化をおこなった場合に、ガスの乾燥状態などによっ
ては時間経過とともに浄化能力が次第に失われてゆくと
いう問題点があった。従って、本発明の課題は浄化能力
が低下することがなく、常に浄化剤本来の浄化性能を長
時間にわたって発揮しうる有害ガスの浄化装置を得るこ
とにある。However, the wet type apparatus generally has a problem in post-treatment, and there is a problem in that the apparatus is complicated and large, and equipment and maintenance are expensive. On the other hand, in a dry type device, the ability of the adsorbent filled inside and the purifying agent itself to remove harmful components is important, and therefore various purifying agents have been attempted to be developed. Among these purifiers, for example, in the purifiers containing a hydroxide or metal oxide of an alkali metal or an alkaline earth metal as a component, the presence of water is required for the original performance. Some are extremely effective. However, when the harmful gas is purified by using these purifying agents, there is a problem that the purifying ability is gradually lost with the passage of time depending on the dry state of the gas. Therefore, an object of the present invention is to obtain a toxic gas purifying apparatus that can always exhibit the purifying performance of the purifying agent for a long time without deteriorating the purifying ability.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
課題を解決するべく鋭意研究を続けた結果、浄化能力の
低下が、浄化剤または有害ガス中に含まれる水分の不足
などに起因するものであること、および処理対象となる
有害ガスを適度に加湿することにより、優れた浄化能力
を維持しうることを見い出し、本発明を完成した。すな
わち、本発明は、有害ガスの入口および浄化ガスの出口
を有する浄化筒と、該浄化筒の内部に充填された有害ガ
スの浄化剤と、該浄化筒の入口側に接続された加湿ガス
の発生器とを備えてなることを特徴とする有害ガスの浄
化装置である。The inventors of the present invention have conducted extensive studies to solve these problems, and as a result, the deterioration of the purification capacity is caused by the lack of water contained in the cleaning agent or harmful gas. The present invention has been completed, and it was found that excellent purifying ability can be maintained by appropriately humidifying a harmful gas to be treated. That is, the present invention is directed to a purifying cylinder having an inlet for harmful gas and an outlet for purifying gas, a purifying agent for harmful gas filled in the purifying cylinder, and a humidifying gas connected to the inlet side of the purifying cylinder. A harmful gas purifying device comprising a generator.
【０００６】本発明の有害ガスの浄化装置は、浄化剤が
充填された浄化筒および加湿ガスの発生器を主体に構成
されたものであり、通常は半導体プロセスなどから排出
される有害ガス用の浄化剤であって水分の存在が重要と
される浄化剤を用いる場合の有害ガスの浄化、特に、有
害成分として酸性ガスや水素化物ガスなどを含む有害ガ
スの浄化に適用される。The harmful gas purifying apparatus of the present invention is mainly composed of a purifying cylinder filled with a purifying agent and a humidifying gas generator, and is usually used for a harmful gas discharged from a semiconductor process or the like. The present invention is applied to the purification of harmful gases when using a cleaning agent that is important for the presence of water, and in particular to the purification of harmful gases containing acidic gas, hydride gas, etc. as harmful components.
【０００７】本発明において、浄化筒は一端に有害ガス
の入口、他端に浄化ガスの出口が設けられ、かつ、入口
側に加湿ガスの供給管が接続された筒状、通常は円筒状
の筒内に浄化剤が充填されたものである。浄化筒は加工
が容易で、強度および処理される有害ガスに対する耐蝕
性を有するものであればその材質には特に制限はなく、
ステンレス鋼、合成樹脂、石英ガラスなどであるが、通
常は、ステンレス鋼製のものが用いられる。浄化筒は加
湿ガス発生器と供給管によって接続されるが、浄化筒の
ガス入口側の壁面で接続してもよく、供給管の先端を浄
化筒内の入口側の空間部まで挿入した形で接続してもよ
いが、加湿ガスの分散をよくするためには後者が好まし
い。また、加湿ガスの有害ガス中への分散効率をより高
める目的で供給管の先端開口部を封じ、周囲に多数の吹
き出し孔を設けるか、あるいは供給管の先端開口部に例
えばリング状の管に多数の吹き出し孔を設けたような分
散器などを取付けてもよい。さらには、加湿ガスの吹き
出し孔が、水分と有害ガスとの反応によって生成する結
晶性の物質で閉塞するのを防止する目的で乾燥窒素ガス
などによるシースフローを設けて保護するような公知の
技術を組み合わせてもよい。In the present invention, the purifying cylinder has a cylindrical shape, usually a cylindrical shape, having a harmful gas inlet at one end and a purified gas outlet at the other end, and a humidifying gas supply pipe connected to the inlet side. The cylinder is filled with a purifying agent. There is no particular limitation on the material of the purifying column as long as it is easy to process and has strength and corrosion resistance to the harmful gas to be treated,
Stainless steel, synthetic resin, quartz glass and the like are used, but stainless steel is usually used. The purification column is connected to the humidified gas generator by the supply pipe, but it may be connected by the wall surface on the gas inlet side of the purification column, with the tip of the supply pipe inserted into the space on the inlet side in the purification column. Although they may be connected, the latter is preferable in order to improve the dispersion of the humidified gas. Further, in order to further improve the efficiency of dispersing the humidified gas in the harmful gas, the tip opening portion of the supply pipe is sealed and a large number of blow holes are provided in the periphery, or, for example, a ring-shaped tube is provided at the tip opening portion of the supply pipe. You may attach the disperser etc. which provided many blowing holes. Further, a known technique for protecting the humidified gas blowing holes by providing a sheath flow of dry nitrogen gas or the like for the purpose of preventing the humidified gas blowing holes from being blocked by a crystalline substance generated by the reaction between moisture and harmful gas. May be combined.
【０００８】浄化筒に充填される浄化剤は処理対象とな
る有害ガスの種類などに応じて適宜選択されるが、本発
明の装置の特性に適合する浄化剤としては、適度の水分
の存在によって、浄化能力が向上するような浄化剤が好
適である。例えば、浄化の対象となるガスが窒素、アル
ゴン、ヘリウム、水素および空気中などに、酸性ガスで
ある塩素、塩化水素、ジクロロシラン、四塩化珪素、三
塩化燐、三ふっ化塩素、三塩化ほう素、三ふっ化ほう
素、六ふっ化タングステン、四ふっ化けい素、ふっ素、
ふっ化水素、臭化水素などの酸性ガスあるいはシラン、
ジシラン、ジボランなどの水素化物ガスを含む有害ガス
のような場合には、次のような例えば、浄化剤が用いら
れる。The purifying agent to be filled in the purifying cylinder is appropriately selected according to the kind of harmful gas to be treated, and the purifying agent suitable for the characteristics of the apparatus of the present invention depends on the presence of an appropriate amount of water. A purifying agent that improves the purifying ability is suitable. For example, when the gas to be purified is nitrogen, argon, helium, hydrogen, or in the air, acidic gases such as chlorine, hydrogen chloride, dichlorosilane, silicon tetrachloride, phosphorus trichloride, chlorine trifluoride, and boron trichloride. Element, boron trifluoride, tungsten hexafluoride, silicon tetrafluoride, fluorine,
Acidic gas such as hydrogen fluoride, hydrogen bromide or silane,
In the case of a harmful gas containing a hydride gas such as disilane or diborane, the following purifying agent is used, for example.
【０００９】一般的には、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、重金属の水酸化物、酸化物など、または、これら
に適量の水分を含ませて成型したものなどであり、具体
的には、本発明者らが開発した水酸化ストロンチウム、
四三酸化鉄または両者の混合物を主成分とする組成物
に、好ましくは水を含有せしめ、これにバインダーとし
て水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、けい酸ナトリウ
ム（水ガラス）などを加えて成型した浄化剤などが好適
であるが、これらは新規な浄化剤であるため、主に水酸
化ストロンチウムと四三酸化鉄を併用した浄化剤につい
て、以下詳細に説明する。Generally, hydroxides and oxides of alkali metals, alkaline earth metals, heavy metals, etc., or those formed by adding an appropriate amount of water to these, etc. Strontium hydroxide developed by the inventors,
Purification by molding a composition containing ferrosoferric oxide or a mixture of both as a main component, preferably containing water, and adding sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium silicate (water glass), etc. as a binder to the composition. Agents and the like are preferable, but since these are novel purifying agents, a purifying agent mainly using strontium hydroxide and ferric tetroxide in combination will be described in detail below.
【００１０】水酸化ストロンチウムと四三酸化鉄の混合
割合は、有害ガス中に含まれる酸性ガスの種類および濃
度などによって定められるが、モル比（水酸化ストロン
チウム：四三酸化鉄）で、通常は４０：１〜１：４、好
ましくは、２０：１〜１：２程度とされる。また、浄化
剤に水を含有させる場合の水の量は水酸化ストロンチウ
ムの水和物を構成する水分などを含め、成型、調製後の
浄化剤中の含有量として、通常は６０重量％以下、好ま
しくは、１〜４０重量％になるように混合される。The mixing ratio of strontium hydroxide and ferrosoferric oxide is determined by the kind and concentration of the acidic gas contained in the harmful gas, but is usually a molar ratio (strontium hydroxide: ferric tetroxide), It is set to 40: 1 to 1: 4, preferably about 20: 1 to 1: 2. The amount of water in the case of containing water in the purifying agent is usually 60% by weight or less as the content in the purifying agent after molding and preparation, including water constituting hydrate of strontium hydroxide. Preferably, it is mixed so as to be 1 to 40% by weight.
【００１１】このようにして得られた組成物は成型され
て浄化剤とされるが、成型に際しては成型性および強度
を高めるなどの目的で、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、けい酸ナトリウム（ＪＩＳ Ｋ１４０８）などの
バインダーが組成物１００重量部に対し、通常は０．１
〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部添加混合
される。The composition thus obtained is molded into a purifying agent, but sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium silicate (JIS) are used for the purpose of enhancing moldability and strength during molding. A binder such as K1408) is usually added in an amount of 0.1 per 100 parts by weight of the composition.
.About.20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight.
【００１２】浄化剤の調製は、水酸化ストロンチウムと
四三酸化鉄を所定の割合で予備的に混合したものに水を
加えて混合した組成物に、水酸化ナトリウムなどのバイ
ンダーを加えて混練したスラリー、ケーキなどを押し出
し成型し、適当な長さに切断して得られたペレットを乾
燥機中で所定の水分になるように乾燥して浄化剤とする
方法、または、上記のようなスラリー、ケーキを乾燥し
た後粉砕し、必要に応じてグラファイトなどの滑剤を添
加、混合したものを打錠成型する方法、あるいはケーキ
を造粒機などを用いて、粒状とする方法などがある。ま
た、水酸化ストロンチウム、四三酸化鉄のいずれか単独
を用いて浄化剤を得る場合にも水およびバインダーなど
を使用し、上記の製法に準じて調製することができる。
上記は本発明の浄化装置の好ましい使用対象の１例とし
て酸性の有害ガスに対する浄化剤を例示したものであっ
て、本発明に適用される有害ガスおよび浄化剤の種類は
これに限られるものではない。The purifying agent is prepared by kneading a composition prepared by preliminarily mixing strontium hydroxide and ferrosoferric oxide at a predetermined ratio with water and mixing them with a binder such as sodium hydroxide. Slurry, extruded cake and the like, a method of drying the pellets obtained by cutting into an appropriate length so as to have a predetermined water content in a dryer, or a purifying agent, or a slurry as described above, There is a method in which the cake is dried and then crushed, and a lubricant such as graphite is added if necessary, and the mixture is tablet-molded, or the cake is granulated using a granulator or the like. Further, when the purifying agent is obtained by using either strontium hydroxide or ferrosoferric oxide alone, it can be prepared according to the above-mentioned production method using water and a binder.
The above exemplifies the purifying agent for acidic harmful gas as one example of the preferred use of the purifying apparatus of the present invention, and the kinds of harmful gas and purifying agent applied to the present invention are not limited to this. Absent.
【００１３】浄化筒に充填される浄化剤は、通常は成型
体であり、その大きさおよび形状には特に制限はく、例
えば、球形、円柱状、円筒形および粒状などである。そ
の大きさは球状であれば直径０．５〜１０ｍｍ、ペレッ
ト、タブレットなど円柱状であれば直径０．５〜１０ｍ
ｍ、高さ２〜２０ｍｍ程度とされ、粒状など不定形のも
のであれば、ふるいの目の開きで０．８４〜５．６６ｍ
ｍ程度のものである。The purifying agent filled in the purifying cylinder is usually a molded body, and its size and shape are not particularly limited, and examples thereof include spherical shape, cylindrical shape, cylindrical shape and granular shape. If the size is spherical, the diameter is 0.5 to 10 mm, and if it is cylindrical such as pellets and tablets, the diameter is 0.5 to 10 m.
m, height is about 2 to 20 mm, and if the shape is irregular, such as granular, 0.84 to 5.66 m with a sieve opening
It is about m.
【００１４】本発明において、浄化筒には加湿ガスの発
生器が接続される。発生器は有害ガスに所定の水分を付
与しうる能力を有するものであればその種類、形式には
特に制限はないが、例えば、加湿用のキャリアーガスの
導入管および発生した加湿ガスの浄化筒への供給管、必
要に応じて水の補給管などが設けられた密閉容器に上部
に空間部を残して水が貯留されたものが挙げられる。密
閉容器は通常は、円筒形などであり、その材質はステン
レス鋼、合成樹脂、ガラスなどであるが、一般的にはス
テンレス鋼製のものが用いられる。In the present invention, a humidifying gas generator is connected to the purifying cylinder. The generator is not particularly limited in type and type as long as it has the ability to impart a predetermined amount of moisture to harmful gas, but for example, an inlet pipe for a carrier gas for humidification and a purification cylinder for the generated humidified gas. There is an airtight container provided with a water supply pipe, a water supply pipe, etc., if necessary, in which water is stored leaving a space above. The closed container is usually cylindrical, and the material thereof is stainless steel, synthetic resin, glass or the like, but generally stainless steel is used.
【００１５】また、キャリアーガスの導入管のガスの出
口端は密閉容器の壁に接続してもよく、内部まで挿入し
て上部の空間部で開放してもよく、また水中で開放して
もよいが、有害ガスに浄化剤の能力低下を防止しうる程
度の水分を付与できさへすればよく、通常は上部の空間
に開放された形態とされる。キャリアーガスとしては通
常は、窒素、アルゴン、空気などが用いられるが、浄化
の対象となる有害ガスの一部をキャリヤーガスとして加
湿器に導入するようにすることもできる。Further, the gas outlet end of the carrier gas inlet pipe may be connected to the wall of the closed container, may be inserted to the inside and opened in the upper space, or may be opened in water. It is good, however, as long as it is possible to provide the harmful gas with water to such an extent that the deterioration of the ability of the purifying agent can be prevented, it is usually opened to the upper space. Nitrogen, argon, air, etc. are usually used as the carrier gas, but a part of the harmful gas to be purified may be introduced as a carrier gas into the humidifier.
【００１６】密閉容器は好ましくは恒温の室内、あるい
は恒温槽中などに設置され、所定の温度（通常は常温）
に保たれることによって、密閉容器内に導入されたキャ
リアーガスは所望の水蒸気圧になるように加湿されて浄
化筒に供給され、浄化筒を流れる有害ガスに所定の水分
が付与される。付与される水分は有害ガスの量、浄化剤
の種類などによって異なり一概に特定はできないが、例
えば、前記のような浄化剤で酸性ガス、または、水素化
物ガスを含むような有害ガスを浄化するような場合には
有害ガス中の水分が水蒸気圧で通常は０．０１〜１０ｍ
ｍＨｇ、好ましくは０．１〜５ｍｍＨｇ程度になるよう
に調節される。The closed container is preferably installed in a constant temperature room or in a constant temperature tank, and has a predetermined temperature (usually normal temperature).
The carrier gas introduced into the closed container is humidified so as to have a desired water vapor pressure and is supplied to the purification column, so that the harmful gas flowing through the purification column is provided with predetermined moisture. The amount of water given depends on the amount of harmful gas, the type of purifying agent, etc., and cannot be specified unconditionally. For example, the purifying agent as described above purifies acidic gas or harmful gas containing hydride gas. In such a case, the water content in the harmful gas is usually 0.01 to 10 m in terms of water vapor pressure.
It is adjusted to be mHg, preferably about 0.1 to 5 mmHg.
【００１７】[0017]
【実施例】本発明の１実施例として酸性の有害ガスの浄
化を例に取り、図面によって具体的に説明する。図１は
本発明の有害ガスの浄化装置のフローシートである。上
部に有害ガスの入口管１、下部に浄化ガスの出口管２が
接続された円筒状の浄化筒３の内部に前記の水酸化スト
ロンチウムおよび四三酸化鉄主成分とし、５〜４０重量
％程度の水を含有する成型体である浄化剤４が充填され
ている。一方、流量調節弁５、流量計６が介在するキャ
リアーガスの導入管７、加湿ガスの供給管８および弁９
が介在する水の補給管１０を有し、上部に空間部を残し
て水１１が貯留された円筒形の加湿器１２が恒温槽１３
内に設置され、導入管７のガス出口端は加湿器１２内の
空間で開放されている。浄化筒３と加湿器１２とはガス
の出口端が浄化筒３内の入口側の空間部に挿入された供
給管８によって接続され、全体として有害ガスの浄化装
置を形成している。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As one embodiment of the present invention, the purification of acidic harmful gas will be taken as an example and specifically described with reference to the drawings. FIG. 1 is a flow sheet of the harmful gas purifying apparatus of the present invention. The strontium hydroxide and ferrosoferric oxide as the main components are contained in the cylindrical purifying cylinder 3 in which the harmful gas inlet pipe 1 is connected to the upper part and the purifying gas outlet pipe 2 is connected to the lower part, and about 5 to 40% by weight. The purifying agent 4, which is a molded body containing water, is filled. On the other hand, a flow rate control valve 5, a carrier gas introduction pipe 7 in which a flow meter 6 is interposed, a humidification gas supply pipe 8 and a valve 9
A cylindrical humidifier 12 having a water supply pipe 10 in which water is stored, and a water 11 is stored leaving a space above the thermostatic chamber 13.
The gas outlet end of the introduction pipe 7 is opened inside the humidifier 12. The purifying cylinder 3 and the humidifier 12 are connected at the gas outlet end by a supply pipe 8 inserted into a space on the inlet side in the purifying cylinder 3 to form a harmful gas purifying device as a whole.
【００１８】半導体製造工程から排出され、三塩化ほう
素、塩素、塩化水素、臭化水素、三ふっ化ほう素などの
酸性ガスを含む有害ガスは入口管１から浄化筒３に入
り、ここで浄化剤４と接触して有害成分である酸性ガス
が除去され、浄化されたガスは出口管２から外部に排出
される。一方、加湿器１２では導入管７からキャリアー
ガスが流量調節弁５で調節されながら流量計６を経て加
湿器１２の上部空間に導入され、ここで所定の水蒸気圧
に加湿され、加湿ガスとして供給管８から浄化筒３の入
口側空間に供給され、有害ガスの水蒸気圧が０．０１〜
１０ｍｍＨｇになるように湿分が付与される。これによ
って浄化剤中に含有される水の蒸失が防止され、浄化剤
が劣化することなく、長時間にわたって有害ガスが効率
よく浄化される。Hazardous gas discharged from the semiconductor manufacturing process and containing acidic gases such as boron trichloride, chlorine, hydrogen chloride, hydrogen bromide, boron trifluoride, etc. enters the purifying cylinder 3 through the inlet pipe 1, and The acidic gas, which is a harmful component, is removed by contact with the purifying agent 4, and the purified gas is discharged to the outside from the outlet pipe 2. On the other hand, in the humidifier 12, the carrier gas is introduced from the introduction pipe 7 into the upper space of the humidifier 12 through the flow meter 6 while being adjusted by the flow rate adjusting valve 5, where it is humidified to a predetermined water vapor pressure and supplied as humidified gas. The water vapor pressure of the harmful gas supplied from the pipe 8 to the inlet side space of the purification cylinder 3 is 0.01 to
Moisture is applied so as to be 10 mmHg. As a result, the water contained in the purifying agent is prevented from being evaporated, and the harmful gas is efficiently purified for a long time without deteriorating the purifying agent.
【００１９】本発明の装置が適用される有害ガス中の有
害成分の濃度およびガスの流速には特に制限はないが、
一般に濃度が高いほど流速を小さくすることが望まし
い。除去可能な有害成分の濃度には特に制限はないが、
流量が小さい場合には１０％以上のような高濃度の有害
成分の処理も可能である。The concentration of harmful components in the harmful gas and the flow velocity of the gas to which the device of the present invention is applied are not particularly limited,
Generally, it is desirable to reduce the flow rate as the concentration increases. There is no particular limit to the concentration of harmful components that can be removed,
When the flow rate is small, it is possible to treat harmful components with a high concentration of 10% or more.
【００２０】浄化筒内の浄化剤の充填長はガスの流量お
よび有害成分の濃度などによって異なり一概に特定はで
きないが、実用上通常は、５０〜１５００ｍｍ程度とさ
れ、浄化筒の内径は筒内を流れるガスの空筒線速度（Ｌ
Ｖ）が０．０１〜１５０ｃｍ／ｓｅｃ程度となる大きさ
に設計される。一般的にはこれらは充填層の圧力損失、
ガスの接触効率およびガスの濃度などによって定められ
る。The length of the purifying agent filled in the purifying cylinder depends on the flow rate of the gas and the concentration of harmful components and cannot be specified unconditionally. However, in practice, it is usually about 50 to 1500 mm, and the inner diameter of the purifying cylinder is within the cylinder. Empty cylinder linear velocity (L
V) is designed to have a size of about 0.01 to 150 cm / sec. Generally, these are the pressure losses in the packed bed,
It is determined by the gas contact efficiency and the gas concentration.
【００２１】[0021]
【発明の効果】本発明の有害ガスの浄化装置によって、
有害ガス中に含まれる有害成分、例えば三塩化ほう素、
塩素、塩化水素、臭化水素、三ふっ化ほう素、六ふっ化
タングステン、四ふっ化けい素などの酸性ガスなどを効
率よく、迅速に除去することができるとともに浄化剤の
能力低下がなく、長時間にわたって有害ガスを浄化する
ことが可能となった。By the harmful gas purifying apparatus of the present invention,
Hazardous components contained in harmful gas, such as boron trichloride,
Acid gases such as chlorine, hydrogen chloride, hydrogen bromide, boron trifluoride, tungsten hexafluoride, and silicon tetrafluoride can be efficiently and quickly removed, and the ability of the purifier does not deteriorate. It became possible to purify harmful gas for a long time.
【００２２】[0022]
【図１】 本発明の有害ガスの浄化装置のフローシー
ト。FIG. 1 is a flow sheet of a harmful gas purifying device of the present invention.
１ 入口管 ２ 出口管 ３ 浄化筒 ４ 浄化剤 ５ 流量調節弁 ６ 流量計 ７ 導入管 ８ 供給管 ９ 弁 １０ 補給管 １１ 水 １２ 加湿器 １３ 恒温槽 1 Inlet pipe 2 Outlet pipe 3 Purifying cylinder 4 Purifying agent 5 Flow control valve 6 Flow meter 7 Introducing pipe 8 Supply pipe 9 Valve 10 Supply pipe 11 Water 12 Humidifier 13 Constant temperature bath
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/40 53/77 53/68 Ｂ０１Ｄ 53/34 １１８ Ａ １３４ Ａ １３４ Ｃ (72)発明者 福田 秀樹 神奈川県平塚市田村5181番地 日本パイオ ニクス株式会社平塚研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technical indication location B01D 53/40 53/77 53/68 B01D 53/34 118 A 134 A 134 C (72) Inventor Hideki Fukuda 5181 Tamura, Hiratsuka-shi, Kanagawa Japan Pionix Co., Ltd. Hiratsuka Laboratory
Claims (9)
する浄化筒と、該浄化筒の内部に充填された有害ガスの
浄化剤と、該浄化筒の入口側に接続された加湿ガスの発
生器とを備えてなることを特徴とする有害ガスの浄化装
置。1. A purifying cylinder having an inlet for harmful gas and an outlet for purifying gas, a purifying agent for harmful gas filled in the purifying cylinder, and generation of humidified gas connected to the inlet side of the purifying cylinder. A device for purifying harmful gas, characterized by comprising:
管および加湿ガスの浄化筒への供給管を有し、上部に空
間を残して水が貯留された密閉容器である請求項１に記
載の浄化装置。2. The humidified gas generator has a carrier gas introduction pipe and a humidified gas purification pipe supply pipe, and is a closed container in which water is stored with a space left above. Purification equipment.
密閉容器内の上部空間に導かれた請求項２に記載の浄化
装置。3. The purifying apparatus according to claim 2, wherein the gas outlet end of the carrier gas introducing pipe is guided to the upper space in the closed container.
圧が０．０１〜１０ｍｍＨｇになるように水分を付与し
うる能力を備えたものである請求項１に記載の浄化装
置。4. The purifying apparatus according to claim 1, wherein the humidifier has a capability of supplying water so that the vapor pressure of the harmful gas flowing through the purifying cylinder becomes 0.01 to 10 mmHg.
る請求項１に記載の浄化装置。5. The purifying apparatus according to claim 1, wherein the purifying agent is a molded product of a composition containing water.
ガスであり、浄化剤が酸性ガスの除去能力を有するもの
である請求項１に記載の浄化装置。6. The purifying apparatus according to claim 1, wherein the harmful gas is a gas containing at least an acidic gas, and the purifying agent has a capability of removing the acidic gas.
鉄またはこれらの混合物を主成分とする成型体である請
求項６に記載の浄化装置。7. The purifying apparatus according to claim 6, wherein the purifying agent is a molded body containing strontium hydroxide, ferrosoferric oxide or a mixture thereof as a main component.
素、臭化水素、三ふっ化ほう素、六ふっ化タングステン
および四ふっ化けい素の１種または２種以上である請求
項６に記載の浄化装置。8. The acidic gas is one or more of boron trichloride, chlorine, hydrogen chloride, hydrogen bromide, boron trifluoride, tungsten hexafluoride and silicon tetrafluoride. Purification device according to.
排ガスである請求項１に記載の浄化装置。9. The purifying apparatus according to claim 1, wherein the harmful gas is exhaust gas discharged from a semiconductor manufacturing process.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6090695A JPH07275644A (en) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | Harmful gas purifying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6090695A JPH07275644A (en) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | Harmful gas purifying apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07275644A true JPH07275644A (en) | 1995-10-24 |
Family
ID=14005672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6090695A Pending JPH07275644A (en) | 1994-04-06 | 1994-04-06 | Harmful gas purifying apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07275644A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0705639A1 (en) * | 1994-10-05 | 1996-04-10 | Japan Pionics Co., Ltd. | Process for purifying halogen-containing gas |
-
1994
- 1994-04-06 JP JP6090695A patent/JPH07275644A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0705639A1 (en) * | 1994-10-05 | 1996-04-10 | Japan Pionics Co., Ltd. | Process for purifying halogen-containing gas |
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