JPH07268363A - 炭化水素質原料の水素化分解のための方法 - Google Patents
炭化水素質原料の水素化分解のための方法Info
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- JPH07268363A JPH07268363A JP7068838A JP6883895A JPH07268363A JP H07268363 A JPH07268363 A JP H07268363A JP 7068838 A JP7068838 A JP 7068838A JP 6883895 A JP6883895 A JP 6883895A JP H07268363 A JPH07268363 A JP H07268363A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C10G—CRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 中間留出物の方へのかなりの選択率及び低い
ガス製造物を示す、炭化水素質原料を転換するための利
用可能な水素分解方法を提供すること。 【構成】５００ｐｐｍｗ未満のＮを含む炭化水素質原料
を、高められた温度及び圧力でそして水素の存在下で、
水素化分解触媒Ａと接触させること、並びにこのように
して得られる生成物の少なくとも一部を、高められた温
度及び圧力でそして水素の存在下で、引き続いて水素化
分解触媒Ｂと接触させることによる、前記原料の水素化
分解のための方法であって、水素化分解触媒Ａ及びＢ
が、ＲＳ＞１及びＲＡ．ＲＶ＜５を有する方法。
ガス製造物を示す、炭化水素質原料を転換するための利
用可能な水素分解方法を提供すること。 【構成】５００ｐｐｍｗ未満のＮを含む炭化水素質原料
を、高められた温度及び圧力でそして水素の存在下で、
水素化分解触媒Ａと接触させること、並びにこのように
して得られる生成物の少なくとも一部を、高められた温
度及び圧力でそして水素の存在下で、引き続いて水素化
分解触媒Ｂと接触させることによる、前記原料の水素化
分解のための方法であって、水素化分解触媒Ａ及びＢ
が、ＲＳ＞１及びＲＡ．ＲＶ＜５を有する方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、比較的少ない量の窒素
を含む炭化水素質原料の水素化分解のための方法に関す
る。
を含む炭化水素質原料の水素化分解のための方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】炭化水素質原料を水素化分解するための
非常に多数の方法、及びこれらの方法において使用され
る多数の触媒が存在する。これらの方法の多くは２つの
段階、即ち水素化処理段階及び水素化分解段階から成
り、そしてこれらの２つの段階は異なるタイプの触媒に
よって操作される。第一段階からの生成物は、第二段階
に移動されるのに先立って、アンモニア、硫化水素及び
その他の軽いガスを除去するために処理しても良く、又
は生成物は、第二段階に直接に移動しても良い。この２
段階又は直列フローの操作の態様においては、水素化分
解段階はしばしば第二段階水素化分解装置と呼ばれる。
水素化分解は、水素の存在下で重い炭化水素を水素化分
解触媒と接触させる、それ自体は十分に確立された方法
である。使用される温度及び圧力は比較的高く、その結
果重い炭化水素は、より低い平均分子量及びより低い沸
点の生成物に分解される。これらの生成物は、ガス状物
質即ちＣ1 〜Ｃ4 炭化水素、ナフサ、並びに中間留出物
留分即ちケロシン留分及びガス油留分を含む。
非常に多数の方法、及びこれらの方法において使用され
る多数の触媒が存在する。これらの方法の多くは２つの
段階、即ち水素化処理段階及び水素化分解段階から成
り、そしてこれらの２つの段階は異なるタイプの触媒に
よって操作される。第一段階からの生成物は、第二段階
に移動されるのに先立って、アンモニア、硫化水素及び
その他の軽いガスを除去するために処理しても良く、又
は生成物は、第二段階に直接に移動しても良い。この２
段階又は直列フローの操作の態様においては、水素化分
解段階はしばしば第二段階水素化分解装置と呼ばれる。
水素化分解は、水素の存在下で重い炭化水素を水素化分
解触媒と接触させる、それ自体は十分に確立された方法
である。使用される温度及び圧力は比較的高く、その結
果重い炭化水素は、より低い平均分子量及びより低い沸
点の生成物に分解される。これらの生成物は、ガス状物
質即ちＣ1 〜Ｃ4 炭化水素、ナフサ、並びに中間留出物
留分即ちケロシン留分及びガス油留分を含む。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ガス状生成物は余り多
くは望まれていないので、そして中間留出物に対しては
増加する需要があるので、中間留出物の方へのかなりの
選択率及び低いガス製造物を示す、炭化水素質原料を転
換するために利用可能な水素化分解方法を持つことがで
きれば有利である。
くは望まれていないので、そして中間留出物に対しては
増加する需要があるので、中間留出物の方へのかなりの
選択率及び低いガス製造物を示す、炭化水素質原料を転
換するために利用可能な水素化分解方法を持つことがで
きれば有利である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】比較的低い量の窒素を含
む炭化水素質原料を特定の順序の水素化分解触媒から成
る触媒システムの上を移動させる場合には、驚くべきほ
ど低いガス製造物及び高い収率の中間留出物を得ること
ができることがここに見い出された。従って、本発明
は、５００ｐｐｍｗ未満のＮを含む炭化水素質原料を、
高められた温度及び圧力でそして水素の存在下で、水素
化分解触媒Ａと接触させること、並びにこのようにして
得られる生成物の少なくとも一部を、高められた温度及
び圧力でそして水素の存在下で、引き続いて水素化分解
触媒Ｂと接触させることによる、前記原料を水素化分解
するための方法であって、水素化分解触媒Ａ及びＢが、
ＲＳ＞１及びＲＡ．ＲＶ＜５を有する方法に関する。本
発明の明細書においては、２つのそれぞれの水素化分解
触媒のＲＳ（選択率の比）は、以下のように定義され
る： ＲＳ＝［選択率 水素化分解触媒Ａ］／［選択率 水素
化分解触媒Ｂ］。 式中、これらの選択率は、水素化分解触媒を特定の（標
準的な）プロセス条件の下で使用する時の、３７０℃-
生成物への転換のための、Ｃ1 〜Ｃ4 炭化水素留分（Ｃ
1 〜Ｃ4 ）の方への選択率として表される。即ち、特定
の触媒容積、温度、圧力、供給物、空間速度、ガス／供
給物比、及び反応器装填方法を使用する。Ｃ1 〜Ｃ4 炭
化水素の方への選択率（Ｓc1-c4 ）は、式：
む炭化水素質原料を特定の順序の水素化分解触媒から成
る触媒システムの上を移動させる場合には、驚くべきほ
ど低いガス製造物及び高い収率の中間留出物を得ること
ができることがここに見い出された。従って、本発明
は、５００ｐｐｍｗ未満のＮを含む炭化水素質原料を、
高められた温度及び圧力でそして水素の存在下で、水素
化分解触媒Ａと接触させること、並びにこのようにして
得られる生成物の少なくとも一部を、高められた温度及
び圧力でそして水素の存在下で、引き続いて水素化分解
触媒Ｂと接触させることによる、前記原料を水素化分解
するための方法であって、水素化分解触媒Ａ及びＢが、
ＲＳ＞１及びＲＡ．ＲＶ＜５を有する方法に関する。本
発明の明細書においては、２つのそれぞれの水素化分解
触媒のＲＳ（選択率の比）は、以下のように定義され
る： ＲＳ＝［選択率 水素化分解触媒Ａ］／［選択率 水素
化分解触媒Ｂ］。 式中、これらの選択率は、水素化分解触媒を特定の（標
準的な）プロセス条件の下で使用する時の、３７０℃-
生成物への転換のための、Ｃ1 〜Ｃ4 炭化水素留分（Ｃ
1 〜Ｃ4 ）の方への選択率として表される。即ち、特定
の触媒容積、温度、圧力、供給物、空間速度、ガス／供
給物比、及び反応器装填方法を使用する。Ｃ1 〜Ｃ4 炭
化水素の方への選択率（Ｓc1-c4 ）は、式：
【０００５】
【数１】 から決定される。
【０００６】本発明の明細書においては、２つのそれぞ
れの水素化分解触媒のＲＡ（活性の比）は、以下のよう
に定義されることが更に観察される： ＲＡ＝［ｋ 水素化分解触媒Ａ］／［ｋ 水素化分解触
媒Ｂ］ 式中、ｋは、特定の（標準的な）プロセス条件の下で使
用される時の、３７０℃- 生成物への転換のための、そ
れぞれ水素化分解触媒の反応速度定数として定義され
る。これは、特定の触媒容積、温度、圧力、供給物、空
間速度、ガス／供給物比、及び反応器装填方法を意味す
る。本発明の明細書においては、ＲＶ（容積の比）は以
下のように定義されることが更に観察される： ＲＶ＝［水素化分解触媒Ａを装填された反応器容積］／
［水素化分解触媒Ｂを装填された反応器容積］。 ここでは、同じ特定の反応器装填方法が両方の水素化分
解触媒のために使用される。ＲＳ及びＲＡは両方とも、
特定の（標準的な）プロセス条件下でこれらの水素化分
解触媒が安定化せしめられた後で決定されるべきであ
る。
れの水素化分解触媒のＲＡ（活性の比）は、以下のよう
に定義されることが更に観察される： ＲＡ＝［ｋ 水素化分解触媒Ａ］／［ｋ 水素化分解触
媒Ｂ］ 式中、ｋは、特定の（標準的な）プロセス条件の下で使
用される時の、３７０℃- 生成物への転換のための、そ
れぞれ水素化分解触媒の反応速度定数として定義され
る。これは、特定の触媒容積、温度、圧力、供給物、空
間速度、ガス／供給物比、及び反応器装填方法を意味す
る。本発明の明細書においては、ＲＶ（容積の比）は以
下のように定義されることが更に観察される： ＲＶ＝［水素化分解触媒Ａを装填された反応器容積］／
［水素化分解触媒Ｂを装填された反応器容積］。 ここでは、同じ特定の反応器装填方法が両方の水素化分
解触媒のために使用される。ＲＳ及びＲＡは両方とも、
特定の（標準的な）プロセス条件下でこれらの水素化分
解触媒が安定化せしめられた後で決定されるべきであ
る。
【０００７】本明細書中で上で述べたような一組の特定
の（標準的な）プロセス条件は、３９０℃の温度、１
２．４ＭＰａ（１２４ｂａｒ）の平均水素分圧、０．６
ｋｇ／ｌ／ｈｒの空間速度、２３ｐｐｍｗのＮを含む水
素化処理され急速蒸発された留出物、２０００Ｎｌ／ｋ
ｇのガス／供給物比及び密な床装填方法を含むことがで
きる。水素化分解触媒Ａ及び水素化分解触媒Ｂの触媒シ
ステムに関しては、ガス製造物及び中間留出物収率は、
それらのそれぞれの活性及び容積によって比較考量され
た触媒の個々の寄与の平均であろうことが予期される。
しかしながら、本発明によれば、驚くべきことに、水素
化分解触媒の順序を、第一水素化分解触媒がより高いガ
ス製造物及びＲＡ．ＲＶ＜５を有するように選ぶことに
よって、予期されるより低いガス製造物及びより高い中
間留出物収率を得ることができる。適切には、水素化分
解触媒Ａ及びＢは、ＲＳ≧１．１であるようなやり方で
選ばれる。適切には、水素化分解触媒Ａ及びＢは、１．
１≦ＲＳ≦４であるようなやり方で選ばれる。好ましく
は、水素化分解触媒Ａ及びＢは、０．１≦ＲＡ．ＲＶ≦
３．５であるようなやり方で選ばれ、最も好ましくは、
それらは、０．２≦ＲＡ．ＲＶ≦２であるように選ばれ
る。適切には、水素化分解触媒Ａ及びＢは、ＲＳ／ＲＡ
＞１であるように選ばれる。適切には、水素化分解触媒
Ａ及びＢは、１＜ＲＳ／ＲＡ＜３であるように選ばれ
る。
の（標準的な）プロセス条件は、３９０℃の温度、１
２．４ＭＰａ（１２４ｂａｒ）の平均水素分圧、０．６
ｋｇ／ｌ／ｈｒの空間速度、２３ｐｐｍｗのＮを含む水
素化処理され急速蒸発された留出物、２０００Ｎｌ／ｋ
ｇのガス／供給物比及び密な床装填方法を含むことがで
きる。水素化分解触媒Ａ及び水素化分解触媒Ｂの触媒シ
ステムに関しては、ガス製造物及び中間留出物収率は、
それらのそれぞれの活性及び容積によって比較考量され
た触媒の個々の寄与の平均であろうことが予期される。
しかしながら、本発明によれば、驚くべきことに、水素
化分解触媒の順序を、第一水素化分解触媒がより高いガ
ス製造物及びＲＡ．ＲＶ＜５を有するように選ぶことに
よって、予期されるより低いガス製造物及びより高い中
間留出物収率を得ることができる。適切には、水素化分
解触媒Ａ及びＢは、ＲＳ≧１．１であるようなやり方で
選ばれる。適切には、水素化分解触媒Ａ及びＢは、１．
１≦ＲＳ≦４であるようなやり方で選ばれる。好ましく
は、水素化分解触媒Ａ及びＢは、０．１≦ＲＡ．ＲＶ≦
３．５であるようなやり方で選ばれ、最も好ましくは、
それらは、０．２≦ＲＡ．ＲＶ≦２であるように選ばれ
る。適切には、水素化分解触媒Ａ及びＢは、ＲＳ／ＲＡ
＞１であるように選ばれる。適切には、水素化分解触媒
Ａ及びＢは、１＜ＲＳ／ＲＡ＜３であるように選ばれ
る。
【０００８】水素化分解触媒Ａ上で得られた生成物の少
なくとも一部を、水素化分解触媒Ｂと接触させる。適切
には、水素化分解触媒Ａ上で得られた生成物の少なくと
も５０容量％を、水素化分解触媒Ｂと接触させる。適切
には、水素化分解触媒Ａ上で得られた生成物の少なくと
も一部を、水素化分解触媒Ａにリサイクルして良い。適
切には、水素化分解触媒Ｂ上で得られた生成物の少なく
とも一部を、水素化分解触媒Ａ及び／又は水素化分解触
媒Ｂにリサイクルして良い。適切には、水素化分解触媒
Ａ上で得られた全部の生成物を、水素化分解触媒Ｂと接
触させる。水素化分解触媒Ａ及びＢは、それぞれ、水素
化分解触媒Ａを有する１以上の床そして水素化分解触媒
Ｂを有する１以上の床に配置することができる。水素化
分解触媒Ａを有する一または複数の床及び水素化分解触
媒Ｂを有する一または複数の床は、１以上の反応器中に
配置することができる。適切には、水素化分解触媒Ａ及
びＢは、積み重ね床形状で使用される。適切には、ＲＶ
≦５、好ましくは０．１〜２の範囲である。適切には、
水素化分解触媒Ａ及びＢは、ＲＡ≦４であるようなやり
方で選ばれる。適切には、それらは、１≦ＲＡ≦４であ
るようなやり方が選ばれる。
なくとも一部を、水素化分解触媒Ｂと接触させる。適切
には、水素化分解触媒Ａ上で得られた生成物の少なくと
も５０容量％を、水素化分解触媒Ｂと接触させる。適切
には、水素化分解触媒Ａ上で得られた生成物の少なくと
も一部を、水素化分解触媒Ａにリサイクルして良い。適
切には、水素化分解触媒Ｂ上で得られた生成物の少なく
とも一部を、水素化分解触媒Ａ及び／又は水素化分解触
媒Ｂにリサイクルして良い。適切には、水素化分解触媒
Ａ上で得られた全部の生成物を、水素化分解触媒Ｂと接
触させる。水素化分解触媒Ａ及びＢは、それぞれ、水素
化分解触媒Ａを有する１以上の床そして水素化分解触媒
Ｂを有する１以上の床に配置することができる。水素化
分解触媒Ａを有する一または複数の床及び水素化分解触
媒Ｂを有する一または複数の床は、１以上の反応器中に
配置することができる。適切には、水素化分解触媒Ａ及
びＢは、積み重ね床形状で使用される。適切には、ＲＶ
≦５、好ましくは０．１〜２の範囲である。適切には、
水素化分解触媒Ａ及びＢは、ＲＡ≦４であるようなやり
方で選ばれる。適切には、それらは、１≦ＲＡ≦４であ
るようなやり方が選ばれる。
【０００９】好ましくは、本発明の方法は、水素化分解
触媒Ａ上で得られる生成物が少なくとも５０重量％の３
７０℃- 生成物を含むようなやり方で実施される。適切
には、本発明の方法は、３７０℃+ 沸点の物質の３０重
量％よりも大きい転化率が確立されるようなやり方で実
施される。好ましくは、４０重量％よりも大きい転化率
が確立される。適切には、製造されるＣ1 〜Ｃ4 炭化水
素の量は、供給物を基にして２０重量％よりも少ない。
水素化分解触媒Ａ及びＢは、ＲＳ及びＲＡ．ＲＶの両方
が本明細書中で上で述べたような要件を満たすという条
件下で、任意の慣用の水素化分解触媒で良い。例えば、
水素化分解触媒Ａ及びＢは、同じ触媒のそれぞれ新鮮な
及び再生された形態で良い。適切には、水素化分解触媒
Ａ及びＢは、大きな細孔のモレキュラーシーブ及びバイ
ンダーから成る支持体を含む。
触媒Ａ上で得られる生成物が少なくとも５０重量％の３
７０℃- 生成物を含むようなやり方で実施される。適切
には、本発明の方法は、３７０℃+ 沸点の物質の３０重
量％よりも大きい転化率が確立されるようなやり方で実
施される。好ましくは、４０重量％よりも大きい転化率
が確立される。適切には、製造されるＣ1 〜Ｃ4 炭化水
素の量は、供給物を基にして２０重量％よりも少ない。
水素化分解触媒Ａ及びＢは、ＲＳ及びＲＡ．ＲＶの両方
が本明細書中で上で述べたような要件を満たすという条
件下で、任意の慣用の水素化分解触媒で良い。例えば、
水素化分解触媒Ａ及びＢは、同じ触媒のそれぞれ新鮮な
及び再生された形態で良い。適切には、水素化分解触媒
Ａ及びＢは、大きな細孔のモレキュラーシーブ及びバイ
ンダーから成る支持体を含む。
【００１０】これらのモレキュラーシーブは、６Åより
も大きい、好ましくは６〜１２Åの細孔を有する。適切
な広い細孔のモレキュラーシーブは、書籍、Ｚｅｏｌｉ
ｔｅＭｏｌｅｃｕｌａｒ Ｓｉｅｖｅｓ ｂｙ Ｄｏｎ
ａｌｄ Ｗ．Ｂｒｅｃｋ，Ｒｏｂｅｒｔ Ｅ．Ｋｒｉｅ
ｇｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｍａｌａｂａ
ｒ，Ｆｌａ．，１９８４中に述べられている。適切な広
い細孔のモレキュラーシーブは、結晶性アルミノシリケ
ート、結晶性アルミノホスフェート、結晶性シリカアル
ミノホスフェート及び結晶性ボロシリケートを含む。結
晶性アルミノシリケート又はゼオライトが好ましい。ゼ
オライトは、好ましくは、フォージャサイト（ｆａｕｊ
ａｓｉｔｅ）−タイプ及びモルデナイト（ｍｏｒｄｅｎ
ｉｔｅ）−タイプのゼオライトから成る群から選ばれ
る。フォージャサイト−タイプのゼオライトの適切な例
は、ゼオライトＹ及びゼオライトＸを含む。その他の広
い細孔のゼオライト例えばゼオライトＬ、β及びωもま
た、単独で又は更に好ましいゼオライトと組み合わせて
使用することができる。
も大きい、好ましくは６〜１２Åの細孔を有する。適切
な広い細孔のモレキュラーシーブは、書籍、Ｚｅｏｌｉ
ｔｅＭｏｌｅｃｕｌａｒ Ｓｉｅｖｅｓ ｂｙ Ｄｏｎ
ａｌｄ Ｗ．Ｂｒｅｃｋ，Ｒｏｂｅｒｔ Ｅ．Ｋｒｉｅ
ｇｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｍａｌａｂａ
ｒ，Ｆｌａ．，１９８４中に述べられている。適切な広
い細孔のモレキュラーシーブは、結晶性アルミノシリケ
ート、結晶性アルミノホスフェート、結晶性シリカアル
ミノホスフェート及び結晶性ボロシリケートを含む。結
晶性アルミノシリケート又はゼオライトが好ましい。ゼ
オライトは、好ましくは、フォージャサイト（ｆａｕｊ
ａｓｉｔｅ）−タイプ及びモルデナイト（ｍｏｒｄｅｎ
ｉｔｅ）−タイプのゼオライトから成る群から選ばれ
る。フォージャサイト−タイプのゼオライトの適切な例
は、ゼオライトＹ及びゼオライトＸを含む。その他の広
い細孔のゼオライト例えばゼオライトＬ、β及びωもま
た、単独で又は更に好ましいゼオライトと組み合わせて
使用することができる。
【００１１】最も好ましい広い細孔のゼオライトは、ゼ
オライトＹ、好ましくは超安定ゼオライトＹ（ゼオライ
トＵＳＹ）から成る。本発明において使用される超安定
ゼオライトは、当業者には良く知られている。それら
は、例えば、米国特許第３，２９３，１９２号及び米国
特許第３，４４９，０７０号中に例示されている。それ
らは、一般に、１以上のアンモニウムイオン交換とそれ
に続くスチーム焼成を使用してナトリウムゼオライトＹ
から製造される。適切には、水素化分解触媒Ａ及びＢ
は、各々、広い細孔のゼオライトから成る。好ましく
は、水素化分解触媒Ａ及びＢの両方が、ゼオライトＹ、
特に２．４４５ｎｍ（２４．４５Å）未満の単位セルサ
イズを有する改質されたゼオライトＹから成る。後者の
場合には、水素化分解触媒Ａは、好ましくは、水素化分
解触媒ＢのゼオライトＹ含量と少なくとも等しいゼオラ
イトＹの含量を有する。言い換えると、水素化分解触媒
Ａ及びＢのゼオライトＹ含量の比（Ｙ１／Ｙ２）は、少
なくとも１である。更に好ましくは、この比は２〜１２
の範囲にある。水素化分解触媒Ａ及びＢは、各々、全支
持体を基にして１〜９５重量％の範囲のゼオライトＹの
量を含むことができる。
オライトＹ、好ましくは超安定ゼオライトＹ（ゼオライ
トＵＳＹ）から成る。本発明において使用される超安定
ゼオライトは、当業者には良く知られている。それら
は、例えば、米国特許第３，２９３，１９２号及び米国
特許第３，４４９，０７０号中に例示されている。それ
らは、一般に、１以上のアンモニウムイオン交換とそれ
に続くスチーム焼成を使用してナトリウムゼオライトＹ
から製造される。適切には、水素化分解触媒Ａ及びＢ
は、各々、広い細孔のゼオライトから成る。好ましく
は、水素化分解触媒Ａ及びＢの両方が、ゼオライトＹ、
特に２．４４５ｎｍ（２４．４５Å）未満の単位セルサ
イズを有する改質されたゼオライトＹから成る。後者の
場合には、水素化分解触媒Ａは、好ましくは、水素化分
解触媒ＢのゼオライトＹ含量と少なくとも等しいゼオラ
イトＹの含量を有する。言い換えると、水素化分解触媒
Ａ及びＢのゼオライトＹ含量の比（Ｙ１／Ｙ２）は、少
なくとも１である。更に好ましくは、この比は２〜１２
の範囲にある。水素化分解触媒Ａ及びＢは、各々、全支
持体を基にして１〜９５重量％の範囲のゼオライトＹの
量を含むことができる。
【００１２】水素化分解触媒Ａ及びＢは、各々更に、Ｖ
Ｉ族金属の少なくとも一種の水素化成分及び／又はＶＩ
ＩＩ族金属の少なくとも一種の水素化成分を含むであろ
う。適切には、本発明による触媒組成物は、ニッケル及
び／若しくはコバルトの一種以上の成分、並びにモリブ
デン及び／若しくはタングステンの一種以上の成分又は
白金及び／若しくはパラジウムの一種以上の成分を含
む。水素化分解触媒中の水素化成分の量は、好ましく
は、１００重量部の全触媒あたり金属として計算して、
０．０５〜１０重量％のＶＩＩＩ族金属成分及び２〜４
０重量％のＶＩ族金属成分の範囲にある。 更に好まし
くは、水素化分解触媒中の水素化成分の量は、１００重
量部の全触媒あたり金属として計算して、０．５〜８重
量％のＶＩＩＩ族金属成分及び１０〜２５重量％のＶＩ
族金属成分の範囲にある。好ましくは、水素化分解触媒
Ａ中の水素化成分の全量は、水素化分解触媒Ｂ中の水素
化成分の全量と等しいか又はそれ未満である。言い換え
ると、水素化分解触媒Ａ及びＢ中の水素化成分の量の比
（ｈＡ／ｈＢ）は精々１である。更に好ましくは、ｈＡ
／ｈＢは０．５〜１の範囲にある。本発明の非常に魅力
ある実施態様においては、ｈＡ／ｈＢは１未満であり、
一方Ｙ１／Ｙ２は１よりも大きい。本発明の好ましい実
施態様においては、ｈＡ／ｈＢは０．５〜１の範囲にあ
り、一方Ｙ１／Ｙ２は２〜１２の範囲にある。
Ｉ族金属の少なくとも一種の水素化成分及び／又はＶＩ
ＩＩ族金属の少なくとも一種の水素化成分を含むであろ
う。適切には、本発明による触媒組成物は、ニッケル及
び／若しくはコバルトの一種以上の成分、並びにモリブ
デン及び／若しくはタングステンの一種以上の成分又は
白金及び／若しくはパラジウムの一種以上の成分を含
む。水素化分解触媒中の水素化成分の量は、好ましく
は、１００重量部の全触媒あたり金属として計算して、
０．０５〜１０重量％のＶＩＩＩ族金属成分及び２〜４
０重量％のＶＩ族金属成分の範囲にある。 更に好まし
くは、水素化分解触媒中の水素化成分の量は、１００重
量部の全触媒あたり金属として計算して、０．５〜８重
量％のＶＩＩＩ族金属成分及び１０〜２５重量％のＶＩ
族金属成分の範囲にある。好ましくは、水素化分解触媒
Ａ中の水素化成分の全量は、水素化分解触媒Ｂ中の水素
化成分の全量と等しいか又はそれ未満である。言い換え
ると、水素化分解触媒Ａ及びＢ中の水素化成分の量の比
（ｈＡ／ｈＢ）は精々１である。更に好ましくは、ｈＡ
／ｈＢは０．５〜１の範囲にある。本発明の非常に魅力
ある実施態様においては、ｈＡ／ｈＢは１未満であり、
一方Ｙ１／Ｙ２は１よりも大きい。本発明の好ましい実
施態様においては、ｈＡ／ｈＢは０．５〜１の範囲にあ
り、一方Ｙ１／Ｙ２は２〜１２の範囲にある。
【００１３】本発明の水素化分解触媒中の水素化成分
は、酸化物の及び／又は硫化物の形で、特に硫化物の形
で良い。少なくともＶＩ族及びＶＩＩＩ族金属成分の組
み合わせが（混合された）酸化物として存在する場合に
は、それは、水素化分解における適切な使用に先立って
硫化物化（ｓｕｌｐｈｉｄｉｎｇ）処理を通常は施され
るであろう。適切には、水素化分解触媒Ａ及びＢの支持
体は、ゼオライトＹ、バインダー、及び／又は、アルミ
ナマトリックス中のシリカ−アルミナの分散体から成る
ことができる。好ましくは、水素化分解触媒Ｂの支持体
は、２５重量％よりも少ないゼオライトＹ、２５重量％
よりも多いバインダー、及び少なくとも３０重量％の前
記分散体を含む。１５重量％よりも少ないゼオライトＹ
を含む水素化分解触媒Ｂの支持体が好ましい。好ましく
は、水素化分解触媒Ｂの支持体は、２〜４０の範囲のバ
インダー／ゼオライトＹ重量比を有する。適切には、水
素化分解触媒Ｂの支持体は、４０〜７０重量％の前記分
散体を含む。適切には、前記アルミナマトリックスは、
過渡的な（ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎａｌ）アルミナマトリ
ックス、好ましくはγ−アルミナマトリックスから成
る。
は、酸化物の及び／又は硫化物の形で、特に硫化物の形
で良い。少なくともＶＩ族及びＶＩＩＩ族金属成分の組
み合わせが（混合された）酸化物として存在する場合に
は、それは、水素化分解における適切な使用に先立って
硫化物化（ｓｕｌｐｈｉｄｉｎｇ）処理を通常は施され
るであろう。適切には、水素化分解触媒Ａ及びＢの支持
体は、ゼオライトＹ、バインダー、及び／又は、アルミ
ナマトリックス中のシリカ−アルミナの分散体から成る
ことができる。好ましくは、水素化分解触媒Ｂの支持体
は、２５重量％よりも少ないゼオライトＹ、２５重量％
よりも多いバインダー、及び少なくとも３０重量％の前
記分散体を含む。１５重量％よりも少ないゼオライトＹ
を含む水素化分解触媒Ｂの支持体が好ましい。好ましく
は、水素化分解触媒Ｂの支持体は、２〜４０の範囲のバ
インダー／ゼオライトＹ重量比を有する。適切には、水
素化分解触媒Ｂの支持体は、４０〜７０重量％の前記分
散体を含む。適切には、前記アルミナマトリックスは、
過渡的な（ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎａｌ）アルミナマトリ
ックス、好ましくはγ−アルミナマトリックスから成
る。
【００１４】本明細書中で上で述べたような水素化分解
触媒Ａ及びＢの支持体中の存在するバインダーは、適切
には、無機酸化物、又は無機酸化物の混合物から成る。
無定形及び結晶性の両方のバインダーを使用することが
できる。適切なバインダーの例は、アルミナ、マグネシ
ア、チタニア及び粘土を含む。所望の場合には、小量の
その他の無機酸化物例えばジルコニア、チタニア、マグ
ネシア及びシリカが存在しても良い。アルミナが好まし
いバインダーである。適切には、水素化分解触媒Ａ及び
Ｂ中で使用されるべきゼオライトＹタイプの結晶性アル
ミノシリケートは、２．４３５ｎｍ（２４．３５Å）未
満の単位セルサイズ、増加するＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モ
ル比において少なくとも保留される結晶化度、改質され
たゼオライトの少なくとも８重量％の水吸着容量（２５
℃及び０．２のｐ／ｐ0 値で）、並びに少なくとも０．
２５ｍｌ／ｇの細孔容積を有し、そして全細孔容積の１
０％〜６０％が、少なくとも８ｎｍの径を有する細孔か
ら構成されている改質されたゼオライトＹから成る。こ
のタイプの改質されたゼオライトＹは、引用によって本
明細書中に組み込まれるＥＰ−Ｂ−２４７６７９中に詳
細に述べられた。好ましくは、改質されたゼオライトＹ
の全細孔容積の１０％〜４０％は、少なくとも８ｎｍの
径を有する細孔から構成されている。適切には、改質さ
れたゼオライトＹは、改質されたゼオライトの８〜１０
重量％の水吸着容量を有する。 好ましくは、改質され
たゼオライトＹは、４〜２５の範囲の、更に好ましくは
８〜１５の範囲のＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比を有す
る。
触媒Ａ及びＢの支持体中の存在するバインダーは、適切
には、無機酸化物、又は無機酸化物の混合物から成る。
無定形及び結晶性の両方のバインダーを使用することが
できる。適切なバインダーの例は、アルミナ、マグネシ
ア、チタニア及び粘土を含む。所望の場合には、小量の
その他の無機酸化物例えばジルコニア、チタニア、マグ
ネシア及びシリカが存在しても良い。アルミナが好まし
いバインダーである。適切には、水素化分解触媒Ａ及び
Ｂ中で使用されるべきゼオライトＹタイプの結晶性アル
ミノシリケートは、２．４３５ｎｍ（２４．３５Å）未
満の単位セルサイズ、増加するＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モ
ル比において少なくとも保留される結晶化度、改質され
たゼオライトの少なくとも８重量％の水吸着容量（２５
℃及び０．２のｐ／ｐ0 値で）、並びに少なくとも０．
２５ｍｌ／ｇの細孔容積を有し、そして全細孔容積の１
０％〜６０％が、少なくとも８ｎｍの径を有する細孔か
ら構成されている改質されたゼオライトＹから成る。こ
のタイプの改質されたゼオライトＹは、引用によって本
明細書中に組み込まれるＥＰ−Ｂ−２４７６７９中に詳
細に述べられた。好ましくは、改質されたゼオライトＹ
の全細孔容積の１０％〜４０％は、少なくとも８ｎｍの
径を有する細孔から構成されている。適切には、改質さ
れたゼオライトＹは、改質されたゼオライトの８〜１０
重量％の水吸着容量を有する。 好ましくは、改質され
たゼオライトＹは、４〜２５の範囲の、更に好ましくは
８〜１５の範囲のＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比を有す
る。
【００１５】本発明の水素化分解方法のための適切なプ
ロセス条件は、２５０〜５００℃の範囲の温度、３０Ｍ
Ｐａ（３００ｂａｒ）までの水素分圧及び１時間あたり
１リットルの触媒あたり０．１〜１０ｋｇの供給物（ｋ
ｇ／ｌ／ｈｒ）の範囲の空間速度から成る。適切には、
１００〜５０００Ｎｌ／ｋｇの範囲のガス／供給物比を
使用することができる。好ましくは、本発明の水素化分
解方法は、３００〜４５０℃の範囲の温度、２．５〜２
０ＭＰａ（２５〜２００ｂａｒ）の範囲の水素分圧及び
１時間あたり１リットルの触媒あたり０．２〜５ｋｇの
供給物の範囲の空間速度で実施される。好ましくは、２
５０〜２５００Ｎｌ／ｋｇの範囲のガス／供給物比が使
用される。
ロセス条件は、２５０〜５００℃の範囲の温度、３０Ｍ
Ｐａ（３００ｂａｒ）までの水素分圧及び１時間あたり
１リットルの触媒あたり０．１〜１０ｋｇの供給物（ｋ
ｇ／ｌ／ｈｒ）の範囲の空間速度から成る。適切には、
１００〜５０００Ｎｌ／ｋｇの範囲のガス／供給物比を
使用することができる。好ましくは、本発明の水素化分
解方法は、３００〜４５０℃の範囲の温度、２．５〜２
０ＭＰａ（２５〜２００ｂａｒ）の範囲の水素分圧及び
１時間あたり１リットルの触媒あたり０．２〜５ｋｇの
供給物の範囲の空間速度で実施される。好ましくは、２
５０〜２５００Ｎｌ／ｋｇの範囲のガス／供給物比が使
用される。
【００１６】本発明による方法において適切に使用する
ことができる原料は、それらが５００ｐｐｍｗ未満のＮ
を含むことという要件を満たす限り、すべての種類の炭
化水素質原料から成る。適切には、この原料は２００ｐ
ｐｍｗ未満のＮを含む。適切には、この原料は、ガス
油、脱アスファルト油、コークス炉ガス油並びに、随時
瀝青砂岩、シェール油、残渣改良プロセス又は生物体又
はこれらの組み合わせから発生する、その他の熱的に又
は接触的に分解されたガス油及び合成粗製物（ｓｙｎｃ
ｒｕｄｅｓ）から成り、それらは水素化分解触媒Ａと接
触させられる前に水素化処理されていて良い。これらの
原料は、水素化分解触媒Ａとの接触に先立って、例えば
適切には水素化処理触媒を含むアルミナと接触させるこ
とができる。一般に、原料は、主な部分、例えば５０重
量％よりも多い部分が約３７０℃よりも高い沸点を有す
るようなものであろう。適切には、このような水素化処
理ステップから得られる全部の生成物が、本発明による
原料として使用される。
ことができる原料は、それらが５００ｐｐｍｗ未満のＮ
を含むことという要件を満たす限り、すべての種類の炭
化水素質原料から成る。適切には、この原料は２００ｐ
ｐｍｗ未満のＮを含む。適切には、この原料は、ガス
油、脱アスファルト油、コークス炉ガス油並びに、随時
瀝青砂岩、シェール油、残渣改良プロセス又は生物体又
はこれらの組み合わせから発生する、その他の熱的に又
は接触的に分解されたガス油及び合成粗製物（ｓｙｎｃ
ｒｕｄｅｓ）から成り、それらは水素化分解触媒Ａと接
触させられる前に水素化処理されていて良い。これらの
原料は、水素化分解触媒Ａとの接触に先立って、例えば
適切には水素化処理触媒を含むアルミナと接触させるこ
とができる。一般に、原料は、主な部分、例えば５０重
量％よりも多い部分が約３７０℃よりも高い沸点を有す
るようなものであろう。適切には、このような水素化処
理ステップから得られる全部の生成物が、本発明による
原料として使用される。
【００１７】本発明の魅力的な実施態様においては、直
列に配置された３つの反応ゾーンが使用され、そこでは
第一反応ゾーンからの全部の流出物が第二反応ゾーンに
移動され、そして第二反応ゾーンからの全部の流出物が
第三反応ゾーンに移動される。第一反応ゾーンは、本明
細書中で前に述べたような無定形水素化処理触媒から成
り、第二反応ゾーンは、ＶＩＢ族の少なくとも一種の金
属及び／又はＶＩＩＩ族の少なくとも一種の金属を含む
第一ゼオライト水素化分解触媒から成り、そして第三反
応ゾーンは、ＶＩＢ族の少なくとも一種の金属及び／又
はＶＩＩＩ族の少なくとも一種の金属を含む第二ゼオラ
イト水素化分解触媒から成る。これらのゼオライト水素
化分解触媒は、本発明によるＲＳ及びＲＡ．ＲＶ要件を
満たす。本明細書中で上で述べたような水素化処理及び
本発明による方法は、適切には、直列の又は積み重ね床
形状の反応器において実施することができる。
列に配置された３つの反応ゾーンが使用され、そこでは
第一反応ゾーンからの全部の流出物が第二反応ゾーンに
移動され、そして第二反応ゾーンからの全部の流出物が
第三反応ゾーンに移動される。第一反応ゾーンは、本明
細書中で前に述べたような無定形水素化処理触媒から成
り、第二反応ゾーンは、ＶＩＢ族の少なくとも一種の金
属及び／又はＶＩＩＩ族の少なくとも一種の金属を含む
第一ゼオライト水素化分解触媒から成り、そして第三反
応ゾーンは、ＶＩＢ族の少なくとも一種の金属及び／又
はＶＩＩＩ族の少なくとも一種の金属を含む第二ゼオラ
イト水素化分解触媒から成る。これらのゼオライト水素
化分解触媒は、本発明によるＲＳ及びＲＡ．ＲＶ要件を
満たす。本明細書中で上で述べたような水素化処理及び
本発明による方法は、適切には、直列の又は積み重ね床
形状の反応器において実施することができる。
【００１８】本発明のもう一つの実施態様においては、
この方法は、２段階態様の水素化分解操作で実施され
る。このタイプの操作においては、無定形水素化処理触
媒を含む第一反応ゾーンから得られる流出物に、ナフサ
及び中間留出物留分を含む気相及び液相を流出物から除
去するために分離処理を施す。残りの流出物に引き続い
て本発明による方法を施し、その際に得られる残留留分
の少なくとも一部は水素化分解触媒Ａにリサイクルす
る。本発明の炭化水素質原料は、水素化分解触媒Ａに対
して上流に配置された１以上の水素化分解段階から得ら
れる流出物で良い。水素化分解触媒Ｂから得られる生成
物は、引き続いて、別の触媒、例えば無定形シリカ−ア
ルミナ含有触媒と接触させることができる。
この方法は、２段階態様の水素化分解操作で実施され
る。このタイプの操作においては、無定形水素化処理触
媒を含む第一反応ゾーンから得られる流出物に、ナフサ
及び中間留出物留分を含む気相及び液相を流出物から除
去するために分離処理を施す。残りの流出物に引き続い
て本発明による方法を施し、その際に得られる残留留分
の少なくとも一部は水素化分解触媒Ａにリサイクルす
る。本発明の炭化水素質原料は、水素化分解触媒Ａに対
して上流に配置された１以上の水素化分解段階から得ら
れる流出物で良い。水素化分解触媒Ｂから得られる生成
物は、引き続いて、別の触媒、例えば無定形シリカ−ア
ルミナ含有触媒と接触させることができる。
【００１９】
【実施例】本発明は、以下の例示の実施例から更に理解
されるであろう。 実施例１ ２．０重量％の硫黄含量（標準試験方法ＡＳＴＭ Ｄ２
６２２に従って測定して）、１０００ｐｐｍｗの窒素含
量（標準試験方法ＡＳＴＭ Ｄ４６２９に従って測定し
て）、３４０℃の初期沸点、４７０℃の５０％沸点及び
５４０℃を越える最終沸点を有する重真空ガス油供給物
を、まずＣ−４２４触媒（Ｃｒｉｔｅｒｉｏｎからの）
の存在下で水素化処理して、窒素含量を２００ｐｐｍｗ
未満に減らす。次に、このようにして得られる水素化処
理された供給物を、４００℃の温度、１０．９ｘ１０5
Ｐａ（１０９ｂａｒ）の水素分圧及び１時間あたり１リ
ットルの触媒あたり１ｋｇの供給物の空間速度（ｋｇ．
ｌ-1．ｈ-1）で、一回通過操作で、積み重ね床反応器中
で、第一床の水素化分解触媒Ｚ−７１３（Ｚｅｏｌｙｓ
ｔ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌからの）（触媒Ａ）
と、そして次に第二床の水素化分解触媒Ｚ−６０３（Ｚ
ｅｏｌｙｓｔ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌからの）
（触媒Ｂ）と接触させる。触媒Ａの選択率対触媒Ｂの選
択率の比（ＲＳ）は５．２／３．１、即ち１．７であ
る。触媒Ａの活性対触媒Ｂの活性の比（ＲＡ）は０．９
５／０．１９、即ち５．０であり、そして触媒Ａ反応器
容積対触媒Ｂ反応器容積の比（ＲＶ）は１２５／１７
５、即ち０．７である。かくして、ＲＡ．ＲＶは５．０
ｘ０．７＝３．５である。９６％転化率での３００℃-
生成物の分布（全供給物を基にした重量％で）は以下の
ようである： Ｃ1 〜Ｃ4 ： ６．４ Ｃ5 〜１５０℃ ：３７．６ １４０℃〜３００℃ ：５３．８
されるであろう。 実施例１ ２．０重量％の硫黄含量（標準試験方法ＡＳＴＭ Ｄ２
６２２に従って測定して）、１０００ｐｐｍｗの窒素含
量（標準試験方法ＡＳＴＭ Ｄ４６２９に従って測定し
て）、３４０℃の初期沸点、４７０℃の５０％沸点及び
５４０℃を越える最終沸点を有する重真空ガス油供給物
を、まずＣ−４２４触媒（Ｃｒｉｔｅｒｉｏｎからの）
の存在下で水素化処理して、窒素含量を２００ｐｐｍｗ
未満に減らす。次に、このようにして得られる水素化処
理された供給物を、４００℃の温度、１０．９ｘ１０5
Ｐａ（１０９ｂａｒ）の水素分圧及び１時間あたり１リ
ットルの触媒あたり１ｋｇの供給物の空間速度（ｋｇ．
ｌ-1．ｈ-1）で、一回通過操作で、積み重ね床反応器中
で、第一床の水素化分解触媒Ｚ−７１３（Ｚｅｏｌｙｓ
ｔ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌからの）（触媒Ａ）
と、そして次に第二床の水素化分解触媒Ｚ−６０３（Ｚ
ｅｏｌｙｓｔ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌからの）
（触媒Ｂ）と接触させる。触媒Ａの選択率対触媒Ｂの選
択率の比（ＲＳ）は５．２／３．１、即ち１．７であ
る。触媒Ａの活性対触媒Ｂの活性の比（ＲＡ）は０．９
５／０．１９、即ち５．０であり、そして触媒Ａ反応器
容積対触媒Ｂ反応器容積の比（ＲＶ）は１２５／１７
５、即ち０．７である。かくして、ＲＡ．ＲＶは５．０
ｘ０．７＝３．５である。９６％転化率での３００℃-
生成物の分布（全供給物を基にした重量％で）は以下の
ようである： Ｃ1 〜Ｃ4 ： ６．４ Ｃ5 〜１５０℃ ：３７．６ １４０℃〜３００℃ ：５３．８
【００２０】比較例 第一触媒床中で水素化分解触媒Ｚ−６０３（触媒Ａ’）
をそして第二触媒床中で水素化分解触媒Ｚ−７１３（触
媒Ｂ’）を使用する以外は実施例１を繰り返す場合に
は、ＲＳは３．１／５．２＝０．６であり、ＲＡは０．
１９／０．９５＝０．２であり、ＲＶは１７５／１２
５、即ち１．４であり、そしてＲＡ．ＲＶは０．２ｘ
１．４＝０．３である。この場合には、９６％転化率で
の３００℃- 生成物の分布（全供給物を基にした重量％
で）は以下のようである： Ｃ1 〜Ｃ4 ： ７．０ Ｃ5 〜１５０℃ ：３７．６ １４０℃〜３００℃ ：５３．２ かくして、上の結果は、ＲＳ＞１でありそしてＲＡ．Ｒ
Ｖ＜５であるように特定の順序の水素化分解触媒を用い
る本発明の方法を使用することによって、ＲＳとＲＡ．
ＲＶ値のどちらか又は両方が上の要件を満たさない方法
と比較して、より少ないガス製造物でより高い収率の中
間留出物を達成することが可能であることを明確に示し
ている。
をそして第二触媒床中で水素化分解触媒Ｚ−７１３（触
媒Ｂ’）を使用する以外は実施例１を繰り返す場合に
は、ＲＳは３．１／５．２＝０．６であり、ＲＡは０．
１９／０．９５＝０．２であり、ＲＶは１７５／１２
５、即ち１．４であり、そしてＲＡ．ＲＶは０．２ｘ
１．４＝０．３である。この場合には、９６％転化率で
の３００℃- 生成物の分布（全供給物を基にした重量％
で）は以下のようである： Ｃ1 〜Ｃ4 ： ７．０ Ｃ5 〜１５０℃ ：３７．６ １４０℃〜３００℃ ：５３．２ かくして、上の結果は、ＲＳ＞１でありそしてＲＡ．Ｒ
Ｖ＜５であるように特定の順序の水素化分解触媒を用い
る本発明の方法を使用することによって、ＲＳとＲＡ．
ＲＶ値のどちらか又は両方が上の要件を満たさない方法
と比較して、より少ないガス製造物でより高い収率の中
間留出物を達成することが可能であることを明確に示し
ている。
Claims (19)
- 【請求項１】 ５００ｐｐｍｗ未満のＮを含む炭化水素
質原料を、高められた温度及び圧力でそして水素の存在
下で、水素化分解触媒Ａと接触させること、並びにこの
ようにして得られる生成物の少なくとも一部を、高めら
れた温度及び圧力でそして水素の存在下で、引き続いて
水素化分解触媒Ｂと接触させることによる、前記原料の
水素化分解のための方法であって、水素化分解触媒Ａ及
びＢが、ＲＳ＞１及びＲＡ．ＲＶ＜５を有する方法。 - 【請求項２】 水素化分解触媒Ａ及びＢが、ＲＳ≧１．
１であるようなやり方で選ばれる、請求項１記載の方
法。 - 【請求項３】 水素化分解触媒が、０．１≦ＲＡ．ＲＶ
≦３．５であるようなやり方で選ばれる、請求項１又は
２記載の方法。 - 【請求項４】 水素化分解触媒Ａ上で得られる生成物の
少なくとも５０容量％が水素化分解触媒Ｂと接触させら
れる、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項５】 水素化分解触媒Ａ上で得られる生成物が
少なくとも５０容量％の３７０℃- 生成物を含む、請求
項１から４のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項６】 水素化分解触媒Ａ及びＢが、各々、広い
細孔のゼオライトを含む、請求項１から５のいずれか一
項に記載の方法。 - 【請求項７】 広い細孔のゼオライトがゼオライトＹで
ある、請求項６記載の方法。 - 【請求項８】 水素化分解触媒Ａ及びＢのゼオライトＹ
含量の比（Ｙ１／Ｙ２）が少なくとも１である、請求項
７記載の方法。 - 【請求項９】 Ｙ１／Ｙ２が２〜１２の範囲にある、請
求項８記載の方法。 - 【請求項１０】 水素化分解触媒Ａ及びＢが、各々更
に、バインダー、並びにＶＩ族及び／又はＶＩＩＩ族金
属の少なくとも一種の水素化成分を含む、請求項６から
９のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１１】 水素化分解触媒Ｂが、１００重量部の
全支持体あたりで計算して、２５重量％よりも少ないゼ
オライトＹ、２５重量％よりも多いバインダー、及び少
なくとも３０重量％の、アルミナマトリックス中のシリ
カ−アルミナの分散体を含む、請求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 ゼオライトＹが、２．４４５ｎｍ（２
４．４５Å）未満の単位セルサイズを有する改質された
ゼオライトＹから成る、請求項７から１１のいずれか一
項に記載の方法。 - 【請求項１３】 ゼオライトＹが、２．４３５ｎｍ（２
４．３５Å）未満の単位セルサイズ、増加するＳｉＯ2
／Ａｌ2 Ｏ3 モル比において少なくとも保留される結晶
化度、改質されたゼオライトの少なくとも８重量％の水
吸着容量（２５℃及び０．２のｐ／ｐ0 値で）、並びに
少なくとも０．２５ｍｌ／ｇの細孔容積を有し、そして
全細孔容積の１０％〜６０％が、少なくとも８ｎｍの径
を有する細孔から構成されている改質されたゼオライト
Ｙから成る、請求項１２記載の方法。 - 【請求項１４】 改質されたゼオライトＹの全細孔容積
の１０％〜４０％が、少なくとも８ｎｍの径を有する細
孔から構成されている、請求項１３記載の方法。 - 【請求項１５】 改質されたゼオライトＹが、改質され
たゼオライトの８〜１０重量％の水吸着容量を有する、
請求項１３又は１４記載の方法。 - 【請求項１６】 改質されたゼオライトＹが、４〜２５
の範囲のＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比を有する、請求項
１２から１５のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１７】 水素化成分が、ニッケル及び／若しく
はコバルトの少なくとも一種の成分、並びにモリブデン
及び／若しくはタングステンの少なくとも一種の成分又
は白金及び／若しくはパラジウムの少なくとも一種の成
分を含む、請求項１０から１６のいずれか一項に記載の
方法。 - 【請求項１８】 水素化成分が、１００重量部の全触媒
あたり金属として計算して、０．５〜１０重量％のニッ
ケル及び２〜４０重量％のタングステンを含む、請求項
１７記載の方法。 - 【請求項１９】 ２５０〜５００℃の範囲の温度、３０
ＭＰａ（３００ｂａｒ）までの水素分圧及び１時間あた
り１リットルの触媒あたり０．１〜１０ｋｇの供給物の
範囲の空間速度で実施される、請求項１から１８のいず
れか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP94200580 | 1994-03-07 | ||
| NL94200580.2 | 1994-03-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07268363A true JPH07268363A (ja) | 1995-10-17 |
Family
ID=8216691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7068838A Pending JPH07268363A (ja) | 1994-03-07 | 1995-03-03 | 炭化水素質原料の水素化分解のための方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07268363A (ja) |
| KR (1) | KR950032589A (ja) |
| AU (1) | AU690186B2 (ja) |
| CA (1) | CA2143893C (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007246663A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Nippon Oil Corp | 水素化処理方法 |
| JP2009540021A (ja) * | 2006-06-02 | 2009-11-19 | エクソンモービル リサーチ アンド エンジニアリング カンパニー | 低硫黄燃料の製造のための改良された水素化分解装置後処理触媒 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2754826B1 (fr) * | 1996-10-22 | 1998-12-11 | Inst Francais Du Petrole | Procede d'hydrocraquage doux de coupes petrolieres avec un catalyseur contenant au moins deux zeolithes y desaluminees |
-
1995
- 1995-03-03 CA CA002143893A patent/CA2143893C/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-03-03 JP JP7068838A patent/JPH07268363A/ja active Pending
- 1995-03-06 KR KR1019950004496A patent/KR950032589A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-03-06 AU AU13645/95A patent/AU690186B2/en not_active Ceased
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007246663A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Nippon Oil Corp | 水素化処理方法 |
| JP2009540021A (ja) * | 2006-06-02 | 2009-11-19 | エクソンモービル リサーチ アンド エンジニアリング カンパニー | 低硫黄燃料の製造のための改良された水素化分解装置後処理触媒 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU690186B2 (en) | 1998-04-23 |
| CA2143893C (en) | 2000-11-14 |
| KR950032589A (ko) | 1995-12-22 |
| CA2143893A1 (en) | 1995-09-08 |
| AU1364595A (en) | 1995-09-14 |
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