JPH07256199A - 粉体薄膜形成方法 - Google Patents

粉体薄膜形成方法

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JPH07256199A
JPH07256199A JP5215694A JP5215694A JPH07256199A JP H07256199 A JPH07256199 A JP H07256199A JP 5215694 A JP5215694 A JP 5215694A JP 5215694 A JP5215694 A JP 5215694A JP H07256199 A JPH07256199 A JP H07256199A
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JP
Japan
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powder
thin film
rotating body
roller
hopper
Prior art date
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Pending
Application number
JP5215694A
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English (en)
Inventor
Junji Sato
順二 佐藤
Shinji Maekawa
慎司 前川
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NGK Insulators Ltd
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 粉体の薄膜被形成体上に均一かつ所要厚さの
薄膜が形成されるようにする。また、回転体の駆動が停
止された場合、ホッパー内の粉体が収容凹部を介して引
き続き供給されることのないようにする。 【構成】 ローラ3は粉体2を貯溜するホッパー1の下
部に回転可能に支持される。粉体2を収容する多数の収
容穴4は、ローラ3の外周面に独立して形成され、ロー
ラ3の回転方向と直交する線上には常に存在する。さら
に収容穴4は、ローラ3の回転方向と直交する線上にお
ける収容容積がローラ3の全周面にわたってほぼ均一で
ある。スクレーパ5は、ローラ3の外周面に近接する位
置に配置され、ホッパー1内の粉体2の落下供給を規制
するとともに、ローラ3の外周の粉体2をすり切る。物
品6は、ローラ3の下方に配置され、収容穴4から離脱
した粉体が金網8を介してその表面に散布される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】 この発明は、例えば焼付塗装ま
たは静電塗装あるいはサンドペーパー等における物品上
に粉末の薄膜層を形成するための粉体薄膜形成方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】 従来、板状の物品上にセラミック粉末
の薄膜層を均一に形成するため、ロール式の散布機が知
られている。すなわち、この散布機は粉体を貯溜するホ
ッパーと、このホッパーの下部に回転可能に支持され、
外周部に粉体を収容する収容溝を有する回転体と、この
回転体の外周面の近接位置に配置されて前記ホッパー内
の粉体の落下供給を規制するスクレーパとからなってい
る。上記収容溝は断面V字状をなし、粉体を収容、排出
できるようにしている。
【0003】そして、上記回転体の下方に粉体薄膜被形
成体が配置され、回転体が回転されると、収容溝内及び
回転体とスクレーパの隙間の粉体はスクレーパを通過
後、自重により落下して薄膜被形成体上に散布される。
その結果、この薄膜被形成体上に粉体の薄膜が形成され
る。
【0004】しかし、この収容溝の形状が断面V字状で
底部が狭く、深いため、この部分の粉体は収容溝内底部
にはりついて目詰まりを起こしやすく、自重によって落
下しにくくなる。そのため、収容溝内底部にはりついて
詰まり状態となった粉体は、その部分に付着したままの
状態で一回転する。従って、その分粉体が薄膜被形成体
上に供給されない。その結果、薄膜被形成体上に薄膜が
均一に形成されなかったり、所要厚さに形成されなかっ
たりするという問題があった。
【0005】そこで、本願出願人は先に、収容溝の断面
形状がほぼ円弧状又は内角が90度以上の多角形状に形
成され、収容溝内の粉体がその自重によって容易に落下
する粉体薄膜形成方法を提案した。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】 ところが、この収容
溝は細長く形成され、ホッパー内と連通しているため、
回転体の回転駆動が停止された場合でも、この溝を介し
てホッパー内の粉体が引き続き落下供給されてしまうと
いう問題があった。
【0007】しかも、この収容溝は格子状に形成されて
いることから、回転体が回転して収容溝内の粉体が落下
するときの落下量は回転体の回転方向と直交する線上に
おける収容溝の容積によって決定される。そのため、溝
の交点では落下量が少なく、それ以外の部分では落下量
が多くなる。従って、粉体が薄膜被形成体上に均一に供
給されないという問題があった。
【0008】この発明はこのような従来技術の問題に着
目してなされたものである。その目的とするところは、
粉体の薄膜被形成体上に均一かつ所要厚さの薄膜を形成
できる粉体薄膜形成方法を提供することにある。また、
他の目的とするところは、回転体の駆動が停止された場
合、ホッパー内の粉体が収容凹部を介して引き続き供給
されるおそれのない粉体薄膜形成方法を提供することに
ある。
【0009】
【課題を解決するための手段】 上記目的を達成するた
めに、請求項1の粉体薄膜形成方法の発明では、回転体
の収容凹部が多数の独立した収容穴により形成されると
ともに、回転体の回転方向と直交する線上には常に収容
穴が存在するようにし、これら収容穴に粉体を収容して
回転体の回転により粉体を収容穴より離脱させて粉体薄
膜被形成体上に粉体薄膜を形成するものである。
【0010】また、請求項2の発明では、請求項1の発
明において、回転体の収容穴を、回転体の回転方向と直
交する線上における収容容積が回転体の全周面にわたっ
てほぼ均一となるようにし、収容穴内の粉体を粉体薄膜
被形成体上に散布してほぼ均一な粉体薄膜を形成するも
のである。
【0011】さらに、請求項3の発明では、請求項1の
発明において、スクレーパと粉体薄膜被形成体との間
に、粉体分散用の網を介在させ、この網により落下する
粉体を分散して粉体薄膜被形成体上に散布するものであ
る。
【0012】
【作用】 請求項1の発明においては、ホッパー内下部
の粉体が回転体の収容凹部に収容され、その状態で回転
体の回転に伴って回転する。そして、回転体周面の粉体
がスクレーパによりすり切られるとともに、収容凹部内
の粉体はその自重によって収容凹部から離脱し粉体薄膜
被形成体上に散布される。このとき、収容凹部はそれぞ
れ独立した収容穴により形成されている。このため、回
転体の駆動が停止された場合、ホッパー内の粉体が収容
穴を介して引き続き供給されるおそれはない。しかも、
回転体の回転方向と直交する線上には常に収容穴が存在
するように構成されているため、収容穴より離脱して落
下される粉体は、粉体薄膜被形成体上に連続的に供給さ
れ、粉体薄膜が形成される。
【0013】また、請求項2の発明では、回転体の回転
方向と直交する線上における収容穴の収容容積が回転体
の全周面にわたってほぼ均一となっているため、粉体薄
膜被形成体上への粉体の散布は、均一に行われる。
【0014】加えて、請求項3の発明においては、スク
レーパと粉体薄膜被形成体との間に、網が介在されてい
る。そのため、収容穴内の粉体が自重によって落下した
とき、網を介して粉体薄膜被形成体上に供給される。こ
のとき、粉体は網目により分散されて粉体薄膜被形成体
上に散布される。従って、被形成体上に形成される粉体
薄膜は、網がない場合に生じる収容凹部形状の転写とい
う現象が生じることなく、ほぼ均一な厚みに形成され
る。
【0015】
【実施例】 以下に、この発明を具体化した一実施例に
ついて図1〜5に従って説明する。図1に示すように、
底部に開口1aを有するホッパー1は、断面ほぼV字状
をなし、セラミックよりなる粉体2を収容している。回
転体としてのローラ3は、ホッパー1の開口1aに対応
する位置に回転可能に支持されている。図2〜4に示す
ように、収容凹部としての多数の収容穴4は、このロー
ラ3の外周面にそれぞれ独立して形成され、ホッパー1
内の粉体2を収容する。
【0016】この収容穴4は、断面円弧状に形成される
とともに、ローラ3の回転方向と直交する線L上には常
に存在するように配置されている。しかも、収容穴4の
収容容積がローラ3の回転方向と直交する線L上におい
て全周面にわたり一定となるように形成されている。
【0017】この収容穴4は、例えば粉体2の粒子径が
50〜150μmの場合には円弧の半径rが5mm、深さ
hが 0.65mm 、収容穴4間の距離dが1〜2mmである。
そして、収容穴4内からの粉体2の離脱のしやすさ、収
容穴4内の粉体2の収容量、粉体2の均一散布などが確
保される。
【0018】図1に示すように、先端が鋭った板状のス
クレーパ5は、ローラ3の近接位置に水平配置され、ホ
ッパー1内の粉体2が下方へ落下しないように規制して
いる。さらに、このスクレーパ5は、ローラ3の外周面
に付着した粉体2を外周面に沿って掻き取り、収容穴4
内の粉体2が一定量になるようにしている。
【0019】粉体薄膜被形成体としての物品6は、図5
(a)に示すような板状をなし、図1に示すように、ロ
ーラ3の下方位置に設けられた搬送ベルト7上に載置さ
れている。金網8は、ローラ3と物品6との間に配置さ
れ、ローラ3の収容穴4より落下した粉体2を分散させ
る。この物品6は、搬送用ベルト7によって散布位置ま
で搬入およびそこより搬出される。
【0020】さて、図1に示すように、ホッパー1内に
セラミックの粉体2が収容されると、粉体2がホッパー
の下端部よりローラ3の各収容穴4内に収容される。こ
の状態で、ローラ3を一定の回転速度、例えば40 rpm
の速度にて図中時計方向へ回転させると、粉体2が収容
された収容穴4はスクレーパ5の先端位置を通過する。
【0021】このとき、ホッパー1内の粉体2は、スク
レーパ5の先端がローラ3に対し近接する位置に配置さ
れているため、下方への落下が規制されるとともに、収
容穴4内の粉体2が一定量となるように掻き取られる。
粉体2が収容された収容穴4はスクレーパ5を通過後さ
らに回転され、その開口部が下方を向くようになると、
粉体2は自重により収容穴4内から離脱して下方へ落下
する。この場合、ローラ3に振動を与えると粉体2の落
下はより完全に行われるので好ましい。
【0022】落下した粉体2は金網8に至り、ここで金
網8の網目によって分散される。分散状態の粉体2は搬
送ベルト7上を所定速度で移動する物品6上に散布され
る。この物品6上に散布された粉体2は、前記収容穴4
が断面円弧状に切欠き形成されているため、この収容穴
4内の全ての粉体2がその自重によって確実に落下す
る。
【0023】この実施例では、収容穴4はそれぞれ独立
して形成されているため、ローラ3の駆動が停止された
場合、ホッパー1内の粉体2が収容穴4を介して引き続
き供給されるおそれはない。しかも、ローラ3の回転方
向と直交する線L上には常に収容穴4が存在しているた
め、収容穴4から落下される粉体2は、物品6上に連続
的に供給される。
【0024】また、ローラ3の回転方向と直交する線L
上における収容穴4の収容容積がローラ3の全周面にわ
たってほぼ均一となっているため、物品6上への粉体2
の供給は、均一に行われる。
【0025】さらに、スクレーパ5と物品6との間に、
金網8が介在されているため、収容穴4内の粉体2が自
重によって落下したとき、金網8を介して物品6上に供
給される。従って、粉体2は金網8の網目により分散さ
れて物品6上に散布される。その結果、物品6上に形成
される粉体薄膜は、金網8がない場合に生じる穴形状の
転写という現象が生じることなく、ほぼ均一な厚みに形
成される。
【0026】このようにして、図5(b)に示すよう
に、板状の物品6上には粉体2の均一な薄膜が形成され
る。そのため、各物品6間における薄膜のばらつきが少
なくなる。
【0027】この発明は上記実施例に限定されるもので
はなく、例えば次のように構成を変更して具体化しても
よい。 (イ)図6(a)に示すように、収容穴4の平面形状を
六角形にしたり、図6(b)に示すように、楕円形にし
たりすること。これらの構成により、収容穴4の位置を
変更したり、平面の面積を変えたりすることができる。 (ロ)収容穴4の断面形状を逆台形状に切欠き形成した
り、六角形状、八角形状などの底面の内角が90度以上
の多角形状に切欠き形成すること。 (ハ)ローラ3と物品6との間に介在される分散用の金
網5を省略すること。これにより、構成を簡単にするこ
とができる。
【0028】上記実施例より把握される請求項以外の技
術的思想について、以下にその効果とともに記載する。 (1)収容凹部は、その断面が円弧状に形成されている
請求項1に記載の粉体薄膜形成方法。この構成により、
収容凹部内の粉体が自重により確実に離脱される。
【0029】
【発明の効果】 以上詳述したように、請求項1に記載
の粉体薄膜形成方法の発明によれば、回転体の駆動が停
止された場合、収容穴内の粉体が引き続き供給されるお
それがない。また、粉体の薄膜被形成体上に所要厚さの
薄膜を連続的に形成することができる。
【0030】また、請求項2に記載の発明によれば、粉
体の薄膜被形成体上に均一かつ所要厚さの薄膜を確実に
形成することができる。加えて、請求項3の発明によれ
ば、粉体の薄膜被形成体上により均一で、しかも所要厚
さの薄膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施例の粉体薄膜形成方法に用い
る装置を示す概略断面図である。
【図2】 回転体としてのローラを示す正面図である。
【図3】 ローラの収容穴を示す展開図である。
【図4】 ローラの収容穴を示す部分拡大断面図であ
る。
【図5】 (a),(b)は各成形工程における物品を
示す斜視図である。
【図6】 (a),(b)はローラ表面の収容穴の別例
を示す部分展開図である。
【符号の説明】
1…ホッパー、2…粉体、3…回転体としてのローラ、
4…収容穴、5…スクレーパ、6…粉体薄膜被形成体と
しての物品、8…金網。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粉体を貯溜するホッパーと、このホッパ
    ーの下部に回転可能に支持され、外周面に粉体を収容す
    る収容凹部を有する回転体と、この回転体の外周面の近
    接位置に配置されて前記ホッパー内の粉体の落下供給を
    規制するとともに、回転体の外周の粉体のすり切りを行
    うスクレーパとを備え、前記回転体の下方に配置され、
    収容凹部内の粉体の落下により粉体薄膜被形成体上に粉
    体薄膜を形成する粉体薄膜形成方法において、 前記回転体の収容凹部が多数の独立した収容穴により形
    成されるとともに、回転体の回転方向と直交する線上に
    は常に収容穴が存在するようにし、これら収容穴に粉体
    を収容して回転体の回転により粉体を収容穴より離脱さ
    せて粉体薄膜被形成体上に粉体薄膜を形成する粉体薄膜
    形成方法。
  2. 【請求項2】 前記回転体の収容穴を、回転体の回転方
    向と直交する線上における収容容積が回転体の全周面に
    わたってほぼ均一となるようにし、収容穴内の粉体を粉
    体薄膜被形成体上に散布してほぼ均一な粉体薄膜を形成
    する請求項1に記載の粉体薄膜形成方法。
  3. 【請求項3】 前記スクレーパと粉体薄膜被形成体との
    間に、粉体分散用の網を介在させ、この網により落下す
    る粉体を分散して粉体薄膜被形成体上に散布する請求項
    1に記載の粉体薄膜形成方法。
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