JPH072548A - 熱分解によってコーティングを形成する装置および方法 - Google Patents
熱分解によってコーティングを形成する装置および方法Info
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- JPH072548A JPH072548A JP5352265A JP35226593A JPH072548A JP H072548 A JPH072548 A JP H072548A JP 5352265 A JP5352265 A JP 5352265A JP 35226593 A JP35226593 A JP 35226593A JP H072548 A JPH072548 A JP H072548A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45595—Atmospheric CVD gas inlets with no enclosed reaction chamber
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 移動する熱ガラス基板の一表面をガス状処理
剤と接触させることにより熱分解によって該表面上に金
属または金属化合物のコーティングを形成する装置を提
供する。 【構成】 本発明の装置は基板（１６）をコーティング
室（１４）を通じて運ぶ支持手段（２０）を備えてい
る。コーティング室に直接開口しかつ基板の経路を横切
って延びる溝穴の形態の少なくとも一つの処理剤ガスの
入口（１２）がコーティング室に処理剤ガスを供給し散
布するために設けられている。少なくとも一つの排ガス
出口（１８）がコーティング室から排ガスを排出するた
めに設けられている。本発明は、コーティング室の屋根
（３８）に隣接してコーティング室内に配置された移動
式遮へい手段を設けて、コーティング室の屋根上に堆積
物が生成するのを減少させることを特徴とするものであ
る
剤と接触させることにより熱分解によって該表面上に金
属または金属化合物のコーティングを形成する装置を提
供する。 【構成】 本発明の装置は基板（１６）をコーティング
室（１４）を通じて運ぶ支持手段（２０）を備えてい
る。コーティング室に直接開口しかつ基板の経路を横切
って延びる溝穴の形態の少なくとも一つの処理剤ガスの
入口（１２）がコーティング室に処理剤ガスを供給し散
布するために設けられている。少なくとも一つの排ガス
出口（１８）がコーティング室から排ガスを排出するた
めに設けられている。本発明は、コーティング室の屋根
（３８）に隣接してコーティング室内に配置された移動
式遮へい手段を設けて、コーティング室の屋根上に堆積
物が生成するのを減少させることを特徴とするものであ
る
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、移動する熱ガラス基板
の一表面をガス状処理剤に接触させることにより、熱分
解によって前記一表面に金属または金属化合物のコーテ
ィングを形成する装置であって、基板をコーティング室
を通じて運ぶ支持手段、処理剤のガスを供給し散布する
少なくとも一つの処理剤ガスの入口、および排ガスをコ
ーティング室から排出する少なくとも一つの排ガス出口
を備えた装置、ならびにガス相の処理剤の熱分解によっ
て、移動する熱ガラス基板上に金属または金属化合物の
コーティングを形成する方法に関する。
の一表面をガス状処理剤に接触させることにより、熱分
解によって前記一表面に金属または金属化合物のコーテ
ィングを形成する装置であって、基板をコーティング室
を通じて運ぶ支持手段、処理剤のガスを供給し散布する
少なくとも一つの処理剤ガスの入口、および排ガスをコ
ーティング室から排出する少なくとも一つの排ガス出口
を備えた装置、ならびにガス相の処理剤の熱分解によっ
て、移動する熱ガラス基板上に金属または金属化合物の
コーティングを形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】熱ガラス基板上に熱分解によって形成さ
れた金属または金属化合物のコーティングは、ガラスの
見掛けの色を改変するかおよび／または入射放射線につ
いて必要な他の特性、例えば赤外線を反射する特性を与
えるために使用されている。ガラス基板上の単一コーテ
ィングはこれらの目的のために使用できるが多層コーテ
ィングも使用できる。コーティングの例としては、酸化
スズSiO2、フッ素でドープされた酸化スズSnO2、二酸化
チタンTiO2、窒化チタンTiN 、窒化ケイ素Si3N4、シリ
カSiO2もしくはSiOx、アルミナAl2O3 、五酸化バナジウ
ムV2O5もしくは酸化タングステンWO3 または酸化モリブ
デンMoO3および一般に酸化物、硫化物、窒化物または炭
化物のコーティングおよびこれらのコーティングの二つ
以上の重層がある。
れた金属または金属化合物のコーティングは、ガラスの
見掛けの色を改変するかおよび／または入射放射線につ
いて必要な他の特性、例えば赤外線を反射する特性を与
えるために使用されている。ガラス基板上の単一コーテ
ィングはこれらの目的のために使用できるが多層コーテ
ィングも使用できる。コーティングの例としては、酸化
スズSiO2、フッ素でドープされた酸化スズSnO2、二酸化
チタンTiO2、窒化チタンTiN 、窒化ケイ素Si3N4、シリ
カSiO2もしくはSiOx、アルミナAl2O3 、五酸化バナジウ
ムV2O5もしくは酸化タングステンWO3 または酸化モリブ
デンMoO3および一般に酸化物、硫化物、窒化物または炭
化物のコーティングおよびこれらのコーティングの二つ
以上の重層がある。
【０００３】コーティングは、トンネルオーブン中を移
動する１枚のガラス上または製造中のガラスリボン上
に、まだ熱いうちに形成することができる。コーティン
グは、ガラスリボン製造装置に続く徐冷窯内、またはガ
ラスリボンが溶融スズの浴上に浮いているとき、ガラス
リボンの上面の上のフロートタンク内で形成することが
できる。
動する１枚のガラス上または製造中のガラスリボン上
に、まだ熱いうちに形成することができる。コーティン
グは、ガラスリボン製造装置に続く徐冷窯内、またはガ
ラスリボンが溶融スズの浴上に浮いているとき、ガラス
リボンの上面の上のフロートタンク内で形成することが
できる。
【０００４】コーティングを形成させるために、基板
は、コーティング室内で、気体相で一種以上の物質から
なるガス状媒体と接触させる。コーティング室は、一つ
以上の溝穴を通じて処理剤ガスを供給され、その溝穴の
長さはコートされる幅に少なくとも等しく、処理剤ガス
は一つ以上の噴射ノズルを通じて供給される。形成され
るコーティングの種類および使用される物質の反応性に
よって、いくつもの物質を用いなければならない場合
は、これらの物質は、コーティング室の単一の噴射ノズ
ルにより単一の溝穴を通じて混合物の形態で散布するか
またはいくかの噴射ノズルにより別々の溝穴を通じて別
個に散布される。
は、コーティング室内で、気体相で一種以上の物質から
なるガス状媒体と接触させる。コーティング室は、一つ
以上の溝穴を通じて処理剤ガスを供給され、その溝穴の
長さはコートされる幅に少なくとも等しく、処理剤ガス
は一つ以上の噴射ノズルを通じて供給される。形成され
るコーティングの種類および使用される物質の反応性に
よって、いくつもの物質を用いなければならない場合
は、これらの物質は、コーティング室の単一の噴射ノズ
ルにより単一の溝穴を通じて混合物の形態で散布するか
またはいくかの噴射ノズルにより別々の溝穴を通じて別
個に散布される。
【０００５】このようなコーティングを形成する方法と
装置は例えばフランス特許第２３４８１６６号（BFG G
lassgrop）またはフランス特許願第２６４８４５３Ａ１
号（Glaverbel ）に記載されている。これらの方法と装
置によれば有利な光学特性を有する特に強力なコーティ
ングを形成するようになる。
装置は例えばフランス特許第２３４８１６６号（BFG G
lassgrop）またはフランス特許願第２６４８４５３Ａ１
号（Glaverbel ）に記載されている。これらの方法と装
置によれば有利な光学特性を有する特に強力なコーティ
ングを形成するようになる。
【０００６】上記の装置は容認可能な品質のコーティン
グを形成することができるが、いくらかのコーティング
物質がコーティング室に隣接する他の表面、特にその屋
根の上に間違って堆積され、時間の経過とともにこのよ
うな堆積が増大し、コーティング室を通過する処理剤ガ
スの流れを乱して不均一なコーティングをもたらすか、
またはガラスの表面に落下して一層重大な欠陥をもたら
すという欠点がある。
グを形成することができるが、いくらかのコーティング
物質がコーティング室に隣接する他の表面、特にその屋
根の上に間違って堆積され、時間の経過とともにこのよ
うな堆積が増大し、コーティング室を通過する処理剤ガ
スの流れを乱して不均一なコーティングをもたらすか、
またはガラスの表面に落下して一層重大な欠陥をもたら
すという欠点がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の欠点を回避し易い装置と方法を提供することである。
の欠点を回避し易い装置と方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の発明者らは上記
の目的がコーティング室内に移動式遮へい体を設置する
ことによって達成できることを発見したのである。
の目的がコーティング室内に移動式遮へい体を設置する
ことによって達成できることを発見したのである。
【０００９】したがって本発明は、コーティング室を通
って基板を運ぶ支持手段、コーティング室に処理剤ガス
を供給し散布するためのコーティング室中に直接開口し
基板の経路を横切って延びる溝穴の形態の少なくとも１
個の処理剤ガスの入口、およびコーティング室に処理剤
ガスを供給し散布するための少なくとも１個の排ガス出
口からなる、移動する熱ガラス基板の一表面をガス状処
理剤に接触させることにより熱分解によって前記一表面
に金属または金属化合物のコーティングを形成する装置
であって；コーティング室の屋根に隣接してコーティン
グ室内に配置されてコーティング室の屋根上に堆積物が
生成するのを減少させる移動式遮へい手段を備えている
ことを特徴とする装置を提供するものである。
って基板を運ぶ支持手段、コーティング室に処理剤ガス
を供給し散布するためのコーティング室中に直接開口し
基板の経路を横切って延びる溝穴の形態の少なくとも１
個の処理剤ガスの入口、およびコーティング室に処理剤
ガスを供給し散布するための少なくとも１個の排ガス出
口からなる、移動する熱ガラス基板の一表面をガス状処
理剤に接触させることにより熱分解によって前記一表面
に金属または金属化合物のコーティングを形成する装置
であって；コーティング室の屋根に隣接してコーティン
グ室内に配置されてコーティング室の屋根上に堆積物が
生成するのを減少させる移動式遮へい手段を備えている
ことを特徴とする装置を提供するものである。
【００１０】本発明の装置は、コーティング室の屋根の
ファウリング（fouling ）を最少にしてガラスリボンに
コーティングを連続的に堆積させることができる単純な
装置であり、清浄にするのに必要な運転停止時間の面で
利点を提供し、その結果装置の生産性を改善する。コー
ティング室内に移動式遮へい手段を導入してもコーティ
ングが工程を妨げないということは驚くべきことであ
る。このことは、一般にＣＶＤ法による場合のようにコ
ーティング室の屋根がガラス基板に近い場合に特に当て
はまる。
ファウリング（fouling ）を最少にしてガラスリボンに
コーティングを連続的に堆積させることができる単純な
装置であり、清浄にするのに必要な運転停止時間の面で
利点を提供し、その結果装置の生産性を改善する。コー
ティング室内に移動式遮へい手段を導入してもコーティ
ングが工程を妨げないということは驚くべきことであ
る。このことは、一般にＣＶＤ法による場合のようにコ
ーティング室の屋根がガラス基板に近い場合に特に当て
はまる。
【００１１】本発明の装置は好ましくはさらに、遮へい
手段をコーティング室内に移動させおよびコーティング
室から外部へ移動させる手段を備え、その結果遮へい手
段を手動で移動させる必要がない。
手段をコーティング室内に移動させおよびコーティング
室から外部へ移動させる手段を備え、その結果遮へい手
段を手動で移動させる必要がない。
【００１２】本発明の一実施態様では、遮へい手段は、
熱ガラス基板の移動方向を横切りコーティング室を横断
して延びる複数のケーブルで構成されている。複数のケ
ーブルが遮へい手段として用いられる場合、ケーブルの
直径と相互の間隔が、コーティング室の屋根を処理剤ガ
スから連続的にスクリーニングするのに重要な因子であ
る。ケーブルの直径は、コーティング表面とコーティン
グ室の屋根との間の距離（Δ）の２０％〜６０％に相当
しなければならず、かつその間隔がΔの１〜５倍に等し
い距離であることが好ましい。
熱ガラス基板の移動方向を横切りコーティング室を横断
して延びる複数のケーブルで構成されている。複数のケ
ーブルが遮へい手段として用いられる場合、ケーブルの
直径と相互の間隔が、コーティング室の屋根を処理剤ガ
スから連続的にスクリーニングするのに重要な因子であ
る。ケーブルの直径は、コーティング表面とコーティン
グ室の屋根との間の距離（Δ）の２０％〜６０％に相当
しなければならず、かつその間隔がΔの１〜５倍に等し
い距離であることが好ましい。
【００１３】上記実施態様の変形では、遮へい手段が、
コーティング室の幅を横断して延びかつ清浄にするため
にコーティング室内に移動しおよびコーティング室から
外部に移動することができる滑らかなバーで構成されて
いる。滑らかなバーから堆積した物質を除くことはケー
ブルと比べて容易であるが、バーはコーティング室内を
支配している高温条件下でまっすぐな状態を保持するこ
とは一層困難である。
コーティング室の幅を横断して延びかつ清浄にするため
にコーティング室内に移動しおよびコーティング室から
外部に移動することができる滑らかなバーで構成されて
いる。滑らかなバーから堆積した物質を除くことはケー
ブルと比べて容易であるが、バーはコーティング室内を
支配している高温条件下でまっすぐな状態を保持するこ
とは一層困難である。
【００１４】別の変形では、遮へい手段は、熱ガラス基
板の移動方向を横切ってコーティング室を横断して延び
る例えば鋼鉄製のメッシュで製造されたベルトで構成さ
れている。
板の移動方向を横切ってコーティング室を横断して延び
る例えば鋼鉄製のメッシュで製造されたベルトで構成さ
れている。
【００１５】本発明の装置は、好ましくは、コーティン
グ室の外部に配置されて、遮へい手段から堆積物を除去
するための清浄化手段を備えている。したがって、使用
中は、遮へい手段上に形成される散在堆積物は、遮へい
手段を清浄な状態でコーティング室に戻すことができる
清浄化手段によって遮へい手段から除くことができる。
グ室の外部に配置されて、遮へい手段から堆積物を除去
するための清浄化手段を備えている。したがって、使用
中は、遮へい手段上に形成される散在堆積物は、遮へい
手段を清浄な状態でコーティング室に戻すことができる
清浄化手段によって遮へい手段から除くことができる。
【００１６】最も好ましくは、清浄化手段は、冷却室
と、遮へい手段に冷却室を通過させる案内手段を備えて
いる。コーティング室内の温度は例えば約６００℃であ
る。遮へい手段を急速に冷却することによって、与えら
れる熱衝撃は付着したコーティング物質を遮へい手段か
ら除去するのに充分であり、その結果遮へい手段は有効
に清浄になる。この方法は、遮へい手段がケーブルの形
態の場合、特に有利な清浄化方法である。冷却室は、水
ジャケットを備えていてもよくまたは遮へい手段が通過
する水の容器の形態でもよい。
と、遮へい手段に冷却室を通過させる案内手段を備えて
いる。コーティング室内の温度は例えば約６００℃であ
る。遮へい手段を急速に冷却することによって、与えら
れる熱衝撃は付着したコーティング物質を遮へい手段か
ら除去するのに充分であり、その結果遮へい手段は有効
に清浄になる。この方法は、遮へい手段がケーブルの形
態の場合、特に有利な清浄化方法である。冷却室は、水
ジャケットを備えていてもよくまたは遮へい手段が通過
する水の容器の形態でもよい。
【００１７】清浄化の別の方法としては、遮へい手段
を、この手段から堆積物を除くためコーティング室の外
部に配列されたブラシもしくはスクレーパのような清浄
化器具と接触させる方法がある。
を、この手段から堆積物を除くためコーティング室の外
部に配列されたブラシもしくはスクレーパのような清浄
化器具と接触させる方法がある。
【００１８】遮へい手段としてケーブルまたはベルトな
どの可撓性要素を使用すると、遮へい手段は、好ましく
は基板の表面とコーティング室の屋根の両方に平行であ
るまっすぐな予め決められた面内に確実に位置するよう
に引張られる。したがって、本発明の好ましい実施態様
では、遮へい手段は、可撓性要素と、これをコーティン
グ室内で引張る手段を備えている。
どの可撓性要素を使用すると、遮へい手段は、好ましく
は基板の表面とコーティング室の屋根の両方に平行であ
るまっすぐな予め決められた面内に確実に位置するよう
に引張られる。したがって、本発明の好ましい実施態様
では、遮へい手段は、可撓性要素と、これをコーティン
グ室内で引張る手段を備えている。
【００１９】可撓性要素は、コーティング工程が続いて
いるとき常に駆動される連続ループの形態でもよい。
いるとき常に駆動される連続ループの形態でもよい。
【００２０】本発明の装置は、遮へい手段をコーティン
グ室に対して出し入れし、したがってコーティング室の
外部に配置された清浄化手段に対して出し入れする手段
を備えている。ケーブルの場合、電動機駆動プーリがこ
の目的のために設置される。ベルトの場合、電動機駆動
ローラが使用される。
グ室に対して出し入れし、したがってコーティング室の
外部に配置された清浄化手段に対して出し入れする手段
を備えている。ケーブルの場合、電動機駆動プーリがこ
の目的のために設置される。ベルトの場合、電動機駆動
ローラが使用される。
【００２１】別の実施態様では、遮へい手段はコーティ
ング室の屋根に隣接する不活性ガスの移動カーテンで構
成されている。特に、不活性ガスのカーテンは、コーテ
ィング室内の処理剤ガスの流れの方向と同じ方向に流れ
る。
ング室の屋根に隣接する不活性ガスの移動カーテンで構
成されている。特に、不活性ガスのカーテンは、コーテ
ィング室内の処理剤ガスの流れの方向と同じ方向に流れ
る。
【００２２】不活性ガスのカーテンは一般に堆積物の生
成を抑制する。不活性ガスカーテンを使用することは、
移動可能な機械要素を設置する必要がないことが有利で
ある。コーティング室内にガスの流れを付け加えてもコ
ーティング工程の効率が低下しないということは全く予
想外のことである。
成を抑制する。不活性ガスカーテンを使用することは、
移動可能な機械要素を設置する必要がないことが有利で
ある。コーティング室内にガスの流れを付け加えてもコ
ーティング工程の効率が低下しないということは全く予
想外のことである。
【００２３】“不活性ガス”という用語は、本願で用い
る場合、基板の表面での処理剤ガスの反応に実施的に影
響を与えないガスを意味し、通常窒素、二酸化炭素、ア
ルゴンおよびその混合物から選択される。不活性ガスは
乾燥するのが好ましい。というのは、水蒸気が存在する
と、処理剤ガスの性質によっては処理剤ガスと反応する
からである。
る場合、基板の表面での処理剤ガスの反応に実施的に影
響を与えないガスを意味し、通常窒素、二酸化炭素、ア
ルゴンおよびその混合物から選択される。不活性ガスは
乾燥するのが好ましい。というのは、水蒸気が存在する
と、処理剤ガスの性質によっては処理剤ガスと反応する
からである。
【００２４】コーティング室を通過する不活性ガスの流
れは、一般に不活性ガスが有効にカーテンを形成しかつ
処理剤ガスをコーティング室の屋根から遮へいするよう
に、処理剤ガスの流れに平行でなければならず、かつ処
理剤ガスと著しく混合することは回避しなければならな
い。しかしながら、不活性ガスと処理剤ガスのいくらか
の混合は相互の境界で起こることは避けられない。本発
明の発明者らは、不活性ガスが、０．４〜１．５Nm3 ／
cmh 例えば約０．７m3／cm基板の幅１時間の流量で、コ
ーティング室内に入るときに、比較的低温のガスカーテ
ン、例えば約４００℃より低い温度のガスカーテンが有
効であることを見出したのである。
れは、一般に不活性ガスが有効にカーテンを形成しかつ
処理剤ガスをコーティング室の屋根から遮へいするよう
に、処理剤ガスの流れに平行でなければならず、かつ処
理剤ガスと著しく混合することは回避しなければならな
い。しかしながら、不活性ガスと処理剤ガスのいくらか
の混合は相互の境界で起こることは避けられない。本発
明の発明者らは、不活性ガスが、０．４〜１．５Nm3 ／
cmh 例えば約０．７m3／cm基板の幅１時間の流量で、コ
ーティング室内に入るときに、比較的低温のガスカーテ
ン、例えば約４００℃より低い温度のガスカーテンが有
効であることを見出したのである。
【００２５】不活性ガスは、コーティング室の屋根に設
けられた複数の入口通孔によってコーティング室内に噴
射され、排ガス出口を通じてコーティング室から排出さ
れる。このことは、本発明の装置が不活性ガス供給室を
備え、コーティング室の屋根に、不活性ガス供給室と接
続しかつコーティング室に開口している複数の不活性ガ
ス通孔を備えているという本発明の実施態様によって達
成される。入口通孔間の間隔は５〜７０mmが適切である
ことが見出された。この間隔はできるだけ小さくするこ
とが好ましく例えば５mm〜２０mmが好ましい。
けられた複数の入口通孔によってコーティング室内に噴
射され、排ガス出口を通じてコーティング室から排出さ
れる。このことは、本発明の装置が不活性ガス供給室を
備え、コーティング室の屋根に、不活性ガス供給室と接
続しかつコーティング室に開口している複数の不活性ガ
ス通孔を備えているという本発明の実施態様によって達
成される。入口通孔間の間隔は５〜７０mmが適切である
ことが見出された。この間隔はできるだけ小さくするこ
とが好ましく例えば５mm〜２０mmが好ましい。
【００２６】上記の通孔の代わりに、コーティング室
は、不活性ガス供給室からコーティング室を分離する多
孔質の屋根部材を備えていてもよく、この構造は不活性
ガスの均一な注入を達成する特に簡単な方式を提供す
る。
は、不活性ガス供給室からコーティング室を分離する多
孔質の屋根部材を備えていてもよく、この構造は不活性
ガスの均一な注入を達成する特に簡単な方式を提供す
る。
【００２７】コーティング室を通過する不活性ガスの流
量は変速ポンプを使用するかおよび／または不活性ガス
回路中に可変ガス絞り弁を設置することによって制御す
るのが好ましい。
量は変速ポンプを使用するかおよび／または不活性ガス
回路中に可変ガス絞り弁を設置することによって制御す
るのが好ましい。
【００２８】本発明の発明者らは、遮へい手段の異なる
実施態様を組合せること、すなわち移動するケーブル
と、多孔質の屋根部材を通じてコーティング室に供給さ
れる不活性ガスのカーテンとの両方を使用すると特に有
利であることを見出したのである。
実施態様を組合せること、すなわち移動するケーブル
と、多孔質の屋根部材を通じてコーティング室に供給さ
れる不活性ガスのカーテンとの両方を使用すると特に有
利であることを見出したのである。
【００２９】また本発明は、基板をコーティング室を通
じて運び；コーティング室に直接開口しかつ基板の通路
を横切って延びる溝穴の形態の少なくとも１個の処理剤
ガス入口によって処理剤ガスをコーティング室に供給し
て散布し；および排ガスをコーティング室から放出す
る；ことからなる、移動する熱ガラス基板の一表面をガ
ス状処理剤と接触させることにより熱分解によって前記
一表面に金属または金属化合物のコーティングを形成す
る方法であって；コーティング室の屋根に隣接した遮へ
い手段をコーティング室内で移動させてコーティング室
の屋根上に堆積物が生成するのを減少させることを特徴
とする方法を提供するものである。
じて運び；コーティング室に直接開口しかつ基板の通路
を横切って延びる溝穴の形態の少なくとも１個の処理剤
ガス入口によって処理剤ガスをコーティング室に供給し
て散布し；および排ガスをコーティング室から放出す
る；ことからなる、移動する熱ガラス基板の一表面をガ
ス状処理剤と接触させることにより熱分解によって前記
一表面に金属または金属化合物のコーティングを形成す
る方法であって；コーティング室の屋根に隣接した遮へ
い手段をコーティング室内で移動させてコーティング室
の屋根上に堆積物が生成するのを減少させることを特徴
とする方法を提供するものである。
【００３０】処理剤ガスの単一もしくは複数の入口は、
好ましくは、コーティング室に直接開口する溝穴を有す
る噴射ノズルを備え、その溝穴は基板の通路を横切って
延び、前記溝穴の長さは基板のコーティング幅（すなわ
ちコートしたい基板の部分の幅）に少なくともほぼ等し
い。本発明の一実施態様において、その溝穴は立て形の
散布機で構成され、その縦方向の内壁は互いにほぼ平行
で、基板の移動面と２０°〜４０°の角度をなしてい
る。
好ましくは、コーティング室に直接開口する溝穴を有す
る噴射ノズルを備え、その溝穴は基板の通路を横切って
延び、前記溝穴の長さは基板のコーティング幅（すなわ
ちコートしたい基板の部分の幅）に少なくともほぼ等し
い。本発明の一実施態様において、その溝穴は立て形の
散布機で構成され、その縦方向の内壁は互いにほぼ平行
で、基板の移動面と２０°〜４０°の角度をなしてい
る。
【００３１】ノズルの軸方向の面は、基板の移動面に対
して２０°〜４０°の角度をなして傾斜している。ノズ
ルの軸方向の面は好ましくは、混乱を避けるために基板
の移動面に対して実質的に直角である。
して２０°〜４０°の角度をなして傾斜している。ノズ
ルの軸方向の面は好ましくは、混乱を避けるために基板
の移動面に対して実質的に直角である。
【００３２】フロート法（float process ）で製造さ
れる熱ガラスのリボン上に蒸気相の単一もしくは複数の
処理剤を熱分解することによってコーティングを連続的
に直列に生成させる（ＣＶＤ）２種類の装置が開発され
ている。コーティングを堆積させるこの２種類の装置
は、非対称の装置および対称の装置として報告されてい
る。
れる熱ガラスのリボン上に蒸気相の単一もしくは複数の
処理剤を熱分解することによってコーティングを連続的
に直列に生成させる（ＣＶＤ）２種類の装置が開発され
ている。コーティングを堆積させるこの２種類の装置
は、非対称の装置および対称の装置として報告されてい
る。
【００３３】非対称形装置は、英国特許第１５２４３２
６号と同第２０３３３７４号（BFGGlassgroup ）の明細
書にすでに記載されており、一方、対称形装置は英国特
許第２２３４２６４号と同第２２４７６９１号（Glaver
bel ）の明細書に記載されている。
６号と同第２０３３３７４号（BFGGlassgroup ）の明細
書にすでに記載されており、一方、対称形装置は英国特
許第２２３４２６４号と同第２２４７６９１号（Glaver
bel ）の明細書に記載されている。
【００３４】両方の種類の装置は、ガラスリボンがフロ
ートタンクから出た後のガラスリボン上にまたはガラス
リボンがフロートタンク内にある間にガラス上に配置す
ることができる。
ートタンクから出た後のガラスリボン上にまたはガラス
リボンがフロートタンク内にある間にガラス上に配置す
ることができる。
【００３５】これらの装置は、ガラスリボンの全幅例え
ば約３．２０ｍを実質的にカバーすることができる。こ
れらの装置は取外し可能である。したがってこれらの装
置は、所定の位置に配置されてコートされたガラスを製
造し、かつ必要なときはいつでも取外すことができる。
ば約３．２０ｍを実質的にカバーすることができる。こ
れらの装置は取外し可能である。したがってこれらの装
置は、所定の位置に配置されてコートされたガラスを製
造し、かつ必要なときはいつでも取外すことができる。
【００３６】フロートタンク内で層を堆積させる装置
は、フロートタンク内で一般的な高温下でさえも正確な
形態と機能を保証する手段を備えている。コーティング
堆積装置は、固定案内ビームに係合するよう構成された
複数のローラを保持するボギーに連結されている。この
装置は、さらに、ガラス基板の上方のコーティング室の
高さを調節する手段を備えていることが好ましい。した
がって、ガラスとＣＶＤコーティング室の間の距離を、
一般に５０mm未満の（好ましくは３〜３０mmの）距離に
調節することができるラムを設けてもよい。
は、フロートタンク内で一般的な高温下でさえも正確な
形態と機能を保証する手段を備えている。コーティング
堆積装置は、固定案内ビームに係合するよう構成された
複数のローラを保持するボギーに連結されている。この
装置は、さらに、ガラス基板の上方のコーティング室の
高さを調節する手段を備えていることが好ましい。した
がって、ガラスとＣＶＤコーティング室の間の距離を、
一般に５０mm未満の（好ましくは３〜３０mmの）距離に
調節することができるラムを設けてもよい。
【００３７】フロートタンクは、装置がベロー装置によ
って通過する場所でシールすることができる。
って通過する場所でシールすることができる。
【００３８】
【実施例】本発明を添付図面を参照して説明する。図１
と図２は、下記の３主要部品を備えた非対称装置の全体
を示す。 （ｉ）気化処理剤またはガス状処理剤の二つの噴射ノズ
ル１０：各々高さが８５cmで、溝穴１２ａ，１２ｂを備
え各溝穴は１５cmのガス流路を備え、開口の寸法が８cm
で溝穴壁の間隔は４mmである； （ii）コーティング室１４：底部に向かってガラス１６
上に開口するチャネルを形成する平坦なボールト（vaul
t ）で構成されている；および (iii) 使用された蒸気を抜出す溝穴１８；である。
と図２は、下記の３主要部品を備えた非対称装置の全体
を示す。 （ｉ）気化処理剤またはガス状処理剤の二つの噴射ノズ
ル１０：各々高さが８５cmで、溝穴１２ａ，１２ｂを備
え各溝穴は１５cmのガス流路を備え、開口の寸法が８cm
で溝穴壁の間隔は４mmである； （ii）コーティング室１４：底部に向かってガラス１６
上に開口するチャネルを形成する平坦なボールト（vaul
t ）で構成されている；および (iii) 使用された蒸気を抜出す溝穴１８；である。
【００３９】ガラスリボン１６はローラ２０に支持され
矢印Ａの方向に駆動される。コーティング室１４内のガ
ラス１６にそった蒸気の流れは主として吸引によって制
御される。
矢印Ａの方向に駆動される。コーティング室１４内のガ
ラス１６にそった蒸気の流れは主として吸引によって制
御される。
【００４０】熱処理剤がフロートタンクの外側の場所で
ガラス１６と接触させなければならない場合、全設備は
絶縁されていることが好ましい。連続している処理剤供
給溝穴１２ａ，１２ｂの数は形成されるコーティングの
種類によってきまる。これらの溝穴１２ａ，１２ｂはコ
ーティング室１４に対して傾斜している。
ガラス１６と接触させなければならない場合、全設備は
絶縁されていることが好ましい。連続している処理剤供
給溝穴１２ａ，１２ｂの数は形成されるコーティングの
種類によってきまる。これらの溝穴１２ａ，１２ｂはコ
ーティング室１４に対して傾斜している。
【００４１】この装置は、処理剤がリボンの移動方向Ａ
またはその逆方向に流れるようにガラス１６の上方に配
置される。ガス状処理剤の供給手段はノズル１０に至る
アダプタ２６に接続された吐出パイプ２２で構成されて
いる。
またはその逆方向に流れるようにガラス１６の上方に配
置される。ガス状処理剤の供給手段はノズル１０に至る
アダプタ２６に接続された吐出パイプ２２で構成されて
いる。
【００４２】コーティング室１４のボールトすなわち屋
根３８はガラス１６から２０mmの距離（Δ）にある。溝
穴１２ａと１２ｂは各々幅が４mmである。コーティング
室１４の長さは、処理剤がガラス１６と６〜１０秒間接
触したままでいるように選択される。実際には、コーテ
ィング室１４の長さは、最終的に、ガラス１６の最も普
通の走行速度すなわち４mmのガラスについて約１４ｍ／
分に従って選択され、処理剤の濃度は、得られるコーテ
ィングの種類と厚さに従って必要なときはいつでも調節
される。
根３８はガラス１６から２０mmの距離（Δ）にある。溝
穴１２ａと１２ｂは各々幅が４mmである。コーティング
室１４の長さは、処理剤がガラス１６と６〜１０秒間接
触したままでいるように選択される。実際には、コーテ
ィング室１４の長さは、最終的に、ガラス１６の最も普
通の走行速度すなわち４mmのガラスについて約１４ｍ／
分に従って選択され、処理剤の濃度は、得られるコーテ
ィングの種類と厚さに従って必要なときはいつでも調節
される。
【００４３】設備は炭素繊維製の継手によってシールさ
れる（特に設備がフロートタンク内に配置されている場
合）かまたはレフラシル（Refrasil、登録商標）または
セラフェルト（登録商標）のスカートでシールされる。
れる（特に設備がフロートタンク内に配置されている場
合）かまたはレフラシル（Refrasil、登録商標）または
セラフェルト（登録商標）のスカートでシールされる。
【００４４】ガラス１６の上に落下してガラス上に形成
されたコーティングに欠陥を作ることがある散在堆積物
によるコーティング室１４のファウリングを防止するた
め、全装置には、散在堆積物をトラップする装置が設け
られている。多数のステンレス鋼製金属ケーブル４０が
コーティング室１４のボールト３８の下に設置されてい
る。これらのケーブルは、ガラス１６の上方で生成する
固体物質を優先的に収集し、かつガス流をボールトから
離れさせて、ボールトは清浄に保たれる。このケーブル
はガラス１６が走行するにつれて横方向に移動するの
で、堆積物が付着した部分を漸次引出して清浄な部分と
取換えることができる。
されたコーティングに欠陥を作ることがある散在堆積物
によるコーティング室１４のファウリングを防止するた
め、全装置には、散在堆積物をトラップする装置が設け
られている。多数のステンレス鋼製金属ケーブル４０が
コーティング室１４のボールト３８の下に設置されてい
る。これらのケーブルは、ガラス１６の上方で生成する
固体物質を優先的に収集し、かつガス流をボールトから
離れさせて、ボールトは清浄に保たれる。このケーブル
はガラス１６が走行するにつれて横方向に移動するの
で、堆積物が付着した部分を漸次引出して清浄な部分と
取換えることができる。
【００４５】全設備は、熱によるひずみを避けるため、
溶接ではなくてボルトによって互いに固定された焼きな
まし金属ピースで形成されている。
溶接ではなくてボルトによって互いに固定された焼きな
まし金属ピースで形成されている。
【００４６】図２によって、各金属ケーブル４０がコー
ティング室１４の外側に配置された冷却室４２を通過す
ることが分かる。この冷却室４２は上部と下部の冷却コ
イル４４，４６を備え、これらのコイルを通じて常温の
水のような冷却液が流れている。冷却室４２を出て、各
ケーブルは電動機駆動のプーリ４８の上を通過する。番
号５０で示す引張り装置は、ケーブル４０に張力をかけ
て、ケーブル４０が、ガラス基板１６のコーティング面
とコーティング室の屋根３８の両方に平行にコーティン
グ室１４を通るまっすぐな経路を通過することを保証す
る。引張り装置５０はガラスリボンの両側部に設けた釣
合いおもりの形態でもよい。
ティング室１４の外側に配置された冷却室４２を通過す
ることが分かる。この冷却室４２は上部と下部の冷却コ
イル４４，４６を備え、これらのコイルを通じて常温の
水のような冷却液が流れている。冷却室４２を出て、各
ケーブルは電動機駆動のプーリ４８の上を通過する。番
号５０で示す引張り装置は、ケーブル４０に張力をかけ
て、ケーブル４０が、ガラス基板１６のコーティング面
とコーティング室の屋根３８の両方に平行にコーティン
グ室１４を通るまっすぐな経路を通過することを保証す
る。引張り装置５０はガラスリボンの両側部に設けた釣
合いおもりの形態でもよい。
【００４７】図２には示していないが、類似の冷却室と
引張り装置をコーティング室１４の他方の側にも設け
て、ケーブルをまずコーティング室を通って一方向に移
動させ次に逆の方向に移動させることができ、各方向へ
の移動の程度は、コーティング室を通過する全ケーブル
が続いて一つの冷却室もしくは両方の冷却室を通過する
のを保証するのに充分な移動の程度である。しかし、閉
ループのケーブルを使用することが好ましい。その結果
ケーブルは一方向にのみ移動することができ、各ケーブ
ルについて一台の電動機駆動プーリと引張り装置しか必
要でない。
引張り装置をコーティング室１４の他方の側にも設け
て、ケーブルをまずコーティング室を通って一方向に移
動させ次に逆の方向に移動させることができ、各方向へ
の移動の程度は、コーティング室を通過する全ケーブル
が続いて一つの冷却室もしくは両方の冷却室を通過する
のを保証するのに充分な移動の程度である。しかし、閉
ループのケーブルを使用することが好ましい。その結果
ケーブルは一方向にのみ移動することができ、各ケーブ
ルについて一台の電動機駆動プーリと引張り装置しか必
要でない。
【００４８】冷却室４２の代わりに、ケーブル４０は水
浴を通過してもよい。水浴中で水と直接接触することに
よって、堆積した物質を除去するのに必要な熱衝撃が発
生する。
浴を通過してもよい。水浴中で水と直接接触することに
よって、堆積した物質を除去するのに必要な熱衝撃が発
生する。
【００４９】図１と図２に示す構造の代わりに、ケーブ
ル４０は、エンドレスの鋼鉄製のメッシュもしくは鋼鉄
製バンドベルトまたは平滑な鋼鉄製バーと取替えてもよ
い。
ル４０は、エンドレスの鋼鉄製のメッシュもしくは鋼鉄
製バンドベルトまたは平滑な鋼鉄製バーと取替えてもよ
い。
【００５０】図３に示す実施態様では、ガラスリボン２
１６はローラ２２０に支持され、その装置は、コーティ
ング室の屋根に隣接する窒素の移動カーテンで構成され
た遮へい手段を備えている。コーティング室２１４の屋
根２３８には、窒素供給室２４１から通じる複数の窒素
入口通孔２４３が形成されている。これら通孔２４３は
各々開孔寸法が２mmであり、互いの間隔は２cmである。
この通孔は、処理剤がス入口ノズル２１２からコーティ
ング室２１４を通る処理剤ガスの流れの方向に傾斜して
いる。したがって通孔２４３を通過する窒素は処理剤ガ
スと同じ方向にコーティング室２１４を流れるようにな
る。窒素は、室温にて約０．７Nm3 ／cm基板の幅／時間
の流量で供給室２４１へ供給される。装置は高温下にあ
るので、窒素の温度は、コーティング室２１４に入る時
は約３００℃まで上昇している。とはいっても、窒素は
コーティング室２１４内では処理剤ガスの温度より低い
温度である。この窒素は、処理剤ガスをコーティング室
２１４の屋根２３８から分離するカーテン２４０を形成
する。処理剤ガスと窒素はともに、排ガス出口２１８を
通ってコーティング室から出る。
１６はローラ２２０に支持され、その装置は、コーティ
ング室の屋根に隣接する窒素の移動カーテンで構成され
た遮へい手段を備えている。コーティング室２１４の屋
根２３８には、窒素供給室２４１から通じる複数の窒素
入口通孔２４３が形成されている。これら通孔２４３は
各々開孔寸法が２mmであり、互いの間隔は２cmである。
この通孔は、処理剤がス入口ノズル２１２からコーティ
ング室２１４を通る処理剤ガスの流れの方向に傾斜して
いる。したがって通孔２４３を通過する窒素は処理剤ガ
スと同じ方向にコーティング室２１４を流れるようにな
る。窒素は、室温にて約０．７Nm3 ／cm基板の幅／時間
の流量で供給室２４１へ供給される。装置は高温下にあ
るので、窒素の温度は、コーティング室２１４に入る時
は約３００℃まで上昇している。とはいっても、窒素は
コーティング室２１４内では処理剤ガスの温度より低い
温度である。この窒素は、処理剤ガスをコーティング室
２１４の屋根２３８から分離するカーテン２４０を形成
する。処理剤ガスと窒素はともに、排ガス出口２１８を
通ってコーティング室から出る。
【００５１】別の実施態様として、通孔２４３はコーテ
ィング室の多孔質金属屋根部材で代替してもよい。本発
明の発明者らは、図１と図２の特徴を組合わせること、
すなわち移動式ケーブルと、コーティング室に多孔質屋
根部材を通じて供給される窒素のカーテンとの両方を使
用することが特に有利であることを見出したのである。
ィング室の多孔質金属屋根部材で代替してもよい。本発
明の発明者らは、図１と図２の特徴を組合わせること、
すなわち移動式ケーブルと、コーティング室に多孔質屋
根部材を通じて供給される窒素のカーテンとの両方を使
用することが特に有利であることを見出したのである。
【００５２】下記の実施例では、図１と図２について述
べたような非対称形装置の使用について説明する。この
装置は、例えば酸化スズ SnO2 、フッ素でドープされた
酸化スズ SnO2 、二酸化チタンTiO2、窒化チタンTiN 、
窒化ケイ素Si3N4 および一般名称でいえば酸化物、硫化
物、窒化物または炭化物のコーティングを堆積させるこ
とができる。
べたような非対称形装置の使用について説明する。この
装置は、例えば酸化スズ SnO2 、フッ素でドープされた
酸化スズ SnO2 、二酸化チタンTiO2、窒化チタンTiN 、
窒化ケイ素Si3N4 および一般名称でいえば酸化物、硫化
物、窒化物または炭化物のコーティングを堆積させるこ
とができる。
【００５３】酸化スズ SnO2 または二酸化チタンTiO2の
コーティングを形成するには、二つの連続溝穴１２ａ，
１２ｂが使用される。金属（SnまたはTi）を保持する処
理剤（第一溝穴１２ａで送込まれる）は、常温下では液
体の四塩化物であり、約６００℃のキャリヤの無水窒素
ガスの流れで気化される。気化はこれらの処理剤をキャ
リヤガス中に噴霧することによって容易に行うことがで
きる。
コーティングを形成するには、二つの連続溝穴１２ａ，
１２ｂが使用される。金属（SnまたはTi）を保持する処
理剤（第一溝穴１２ａで送込まれる）は、常温下では液
体の四塩化物であり、約６００℃のキャリヤの無水窒素
ガスの流れで気化される。気化はこれらの処理剤をキャ
リヤガス中に噴霧することによって容易に行うことがで
きる。
【００５４】酸化物を生成するために、四塩化物の分子
は第二溝穴１２ｂに導入された水蒸気の存在下に置かれ
る。この水蒸気は約６００℃に過熱され、約６００℃に
加熱された空気であるキャリヤガス中に噴射される。Sn
O2は、例えば英国特許第２０２６４５４号（ Glaverbe
l）明細書に記載されているSnCl4 とH2O の比率を用い
て形成することができる。
は第二溝穴１２ｂに導入された水蒸気の存在下に置かれ
る。この水蒸気は約６００℃に過熱され、約６００℃に
加熱された空気であるキャリヤガス中に噴射される。Sn
O2は、例えば英国特許第２０２６４５４号（ Glaverbe
l）明細書に記載されているSnCl4 とH2O の比率を用い
て形成することができる。
【００５５】導電性酸化スズ SnO2 を形成する場合、ド
ーパントはフッ素である。すなわちHFが水蒸気に添加さ
れる。HFの分圧はpHF ＝０．２pSnCl4である。他のドー
パントも導入することができる。すなわち液体の塩化ア
ンチモンSbCl5 は塩化スズSnCl4 と直接混合され、塩化
スズといずれの比率でも混和可能である。塩化アンチモ
ンSbCl5 が存在すると、酸化スズSnO2のコーティングを
着色することができる。すなわちいくらかの太陽近赤外
線を吸収（および反射）することができる。
ーパントはフッ素である。すなわちHFが水蒸気に添加さ
れる。HFの分圧はpHF ＝０．２pSnCl4である。他のドー
パントも導入することができる。すなわち液体の塩化ア
ンチモンSbCl5 は塩化スズSnCl4 と直接混合され、塩化
スズといずれの比率でも混和可能である。塩化アンチモ
ンSbCl5 が存在すると、酸化スズSnO2のコーティングを
着色することができる。すなわちいくらかの太陽近赤外
線を吸収（および反射）することができる。
【００５６】各溝穴１２のガス（キャリヤガス＋処理
剤）の流量は操作温度下で１ｍ3 ／cm溝穴／時間であ
る。酸化スズSnO2または二酸化チタンTiO2のコーティン
グを堆積させるために、Inconel ６００または任意に一
層耐火性の合金（Hastalloy ）が塩化スズSnCl4 または
塩化チタンTiCl4 と接触する装置の部品用に選択され、
またMonel ２２０が水蒸気とHFの溝穴用に選択される。
剤）の流量は操作温度下で１ｍ3 ／cm溝穴／時間であ
る。酸化スズSnO2または二酸化チタンTiO2のコーティン
グを堆積させるために、Inconel ６００または任意に一
層耐火性の合金（Hastalloy ）が塩化スズSnCl4 または
塩化チタンTiCl4 と接触する装置の部品用に選択され、
またMonel ２２０が水蒸気とHFの溝穴用に選択される。
【００５７】ケーブル４０は直径が８mmで、互いに平行
に５００mmの間隔で設置されている。これらのケーブル
はコーティング室１４の屋根３８の近くに配置され、ま
っすぐで平行な配置を保証するため、両側に一つずつの
１５Kg重量の二つの釣合いおもりの張力を受けている。
ケーブルの表面に堆積した物質が外れるとガラス上に形
成されたコーティングに欠陥を生じることになるのでこ
れを回避するため、ケーブルが移動中はケーブルに対す
る衝撃を避ける予防策を取ることが推奨される。ケーブ
ルは１ｍ／秒の速度でコーティング室を通じて駆動さ
れ、一方基板は１０ｍ／分の速度で移動する。
に５００mmの間隔で設置されている。これらのケーブル
はコーティング室１４の屋根３８の近くに配置され、ま
っすぐで平行な配置を保証するため、両側に一つずつの
１５Kg重量の二つの釣合いおもりの張力を受けている。
ケーブルの表面に堆積した物質が外れるとガラス上に形
成されたコーティングに欠陥を生じることになるのでこ
れを回避するため、ケーブルが移動中はケーブルに対す
る衝撃を避ける予防策を取ることが推奨される。ケーブ
ルは１ｍ／秒の速度でコーティング室を通じて駆動さ
れ、一方基板は１０ｍ／分の速度で移動する。
【００５８】この装置は操作中コーティング室の屋根の
ファウリングが少ないので、清浄にするために装置を停
止する必要性が少なくなる。
ファウリングが少ないので、清浄にするために装置を停
止する必要性が少なくなる。
【図１】本発明の非対称装置の縦断面図である。
【図２】図１の直線Ｉ−Ｉに沿った断面線図である。
【図３】本発明の別の非対称装置の部分縦断面図であ
る。
る。
１０ 噴射ノズル １２ａ，１２ｂ，２１２ 処理剤供給溝穴 １４，２１４ コーティング室 １６，２１６ ガラス基板 １８，２１８ 排ガス出口 ２０，２２０ ローラ ３８，２３８ コーティング室の屋根 ４０ 金属ケーブル ４２ 冷却室 ４８ プーリ ５０ 引張り装置 ２４０ 不活性ガスカーテン ２４１ 不活性ガス供給室 ２４３ 不活性ガス入口通孔
Claims (24)
- 【請求項１】 コーティング室（１４，２１４）を通っ
て基板（１６，２１６）を運ぶ支持手段（２０，２２
０）、コーティング室に処理剤ガスを供給し散布するた
めのコーティング室に直接開口し基板の経路を横切って
延びる溝穴（１２，２１２）の形態の少なくとも１個の
処理剤ガスの入口、およびコーティング室から排ガスを
排出するための少なくとも１個の排ガス出口（１８，２
１８）からなる、移動する熱ガラス基板の一表面をガス
状処理剤に接触させることにより熱分解によって前記一
表面上に金属または金属化合物のコーティングを形成す
る装置であって；コーティング室の屋根（３８，２３
８）に隣接してコーティング室内に配置されてコーティ
ング室の屋根上に堆積が生成するのを減少させる移動式
遮へい手段（４０，２４０）を備えていることを特徴と
する装置。 - 【請求項２】 さらに、遮へい手段を、コーティング室
内に移動させおよびコーティング室から外部に移動させ
る手段（４８）を備えている請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 遮へい手段が、可撓性要素（４０）と、
これをコーティング室内で引張る手段（５０）を備えて
いる請求項１または２記載の装置。 - 【請求項４】 遮へい手段が、熱ガラス基板の移動方向
を横切りコーティング室を横断して延びる少なくとも一
つのケーブル（４０）で構成されている請求項３記載の
装置。 - 【請求項５】 遮へい手段が、熱ガラス基板の移動方向
を横切りコーティング室を横断して延びるベルトで構成
されている請求項１〜４のいずれか一つに記載の装置。 - 【請求項６】 さらに、遮へい手段から堆積物を除くた
めにコーティング室の外側に配置された清浄化手段（４
２）を備えている請求項１〜５のいずれか一つに記載の
装置。 - 【請求項７】 清浄化手段が、遮へい手段を通過させる
冷却室（４２）と案内手段（４８）を備えている請求項
６記載の装置。 - 【請求項８】 清浄化手段が、遮へい手段と接触する清
浄化器具を備えている請求項６または７に記載の装置。 - 【請求項９】 清浄化器具がブラシまたはスクレーパか
らなる請求項８記載の装置。 - 【請求項１０】 遮へい手段が、コーティング室の屋根
に隣接する不活性ガスの移動カーテン（２４０）によっ
て構成されている請求項１〜９のいずれか一つに記載の
装置。 - 【請求項１１】 不活性ガスのカーテン（２４０）がコ
ーティング室内の処理剤ガスの流れと同じ方向に流れる
請求項１０記載の装置。 - 【請求項１２】 不活性ガス供給室（２４１）を備え、
コーティング室の屋根に、不活性ガス供給室に接続しか
つコーティング室に開口している複数の不活性ガス通孔
（２４３）が設けられている請求項１０または１１に記
載の装置。 - 【請求項１３】 不活性ガス供給室を備え、コーティン
グ室に、コーティング室を不活性ガス供給室から分離す
る多孔質屋根部材を備えている請求項１０または１１に
記載の装置。 - 【請求項１４】 コーティング室の屋根（３８，２３
８）が、被覆される熱ガラス基板（１６，２１６）の面
から５０mm未満の距離で配置されている請求項１〜１３
のいずれか一つに記載の装置。 - 【請求項１５】 コーティング室の屋根（３８，２３
８）が、被覆される熱ガラス基板（１６，２１６）の面
から３〜３０mmの距離で配置されている請求項１４記載
の装置。 - 【請求項１６】 基板をコーティング室を通じて運び；
コーティング室に直接開口しかつ基板の通路を横切って
延びる溝穴の形態の少なくとも１個の処理剤ガス入口に
よって処理剤ガスをコーティング室に供給して散布し；
および排ガスをコーティング室から放出する；ことから
なる、移動する熱ガラス基板の一表面をガス状処理剤と
接触させることにより熱分解によって前記一表面に金属
または金属化合物のコーティングを形成する方法であっ
て；コーティング室の屋根に隣接した遮へい手段をコー
ティング室内で移動させてコーティング室の屋根上に堆
積物が生成するのを減少させることを特徴とする方法。 - 【請求項１７】さらに、遮へい手段を、コーティング室
内に移動させおよびコーティング室から外部に移動させ
ることからなる請求項１６記載の方法。 - 【請求項１８】 さらに、コーティング室の外部に配置
された清浄化手段を使用することからなる請求項１６ま
たは１７に記載の方法。 - 【請求項１９】 遮へい手段を、冷却手段からなる清浄
化手段を通過させる請求項１８記載の方法。 - 【請求項２０】 遮へい手段を、清浄化手段に接触させ
て遮へい手段から堆積物を除く請求項１８または１９に
記載の方法。 - 【請求項２１】 コーティング室の屋根に隣接する不活
性ガスのカーテンを移動させてコーティング室の屋根上
に堆積物が生成するのを減少させる請求項１６〜２０の
いずれか一つに記載の方法。 - 【請求項２２】 不活性ガスのカーテンを、コーティン
グ室内の処理剤ガスの流れと同じ方向に流動させる請求
項２１記載の方法。 - 【請求項２３】 コーティング室の屋根が、被覆される
熱ガラス基板の面から５０mm未満の距離で配置されてい
る請求項１６〜２２のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項２４】 コーティング室の屋根が、被覆される
熱ガラス基板の面から３〜３０mmの距離で配置されてい
る請求項２３記載の方法。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6722159B2 (en) | 1997-03-14 | 2004-04-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| US7886333B2 (en) | 2003-03-19 | 2011-02-08 | Panasonic Corporation | In-vehicle recording/reproduction device, recording/reproduction device, recording/reproduction system, and recording/reproduction method |
| WO2013094232A1 (ja) * | 2011-12-20 | 2013-06-27 | シャープ株式会社 | 薄膜成膜装置、薄膜成膜方法および薄膜太陽電池の製造方法 |
| WO2017068624A1 (ja) * | 2015-10-19 | 2017-04-27 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 成膜装置 |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6200389B1 (en) | 1994-07-18 | 2001-03-13 | Silicon Valley Group Thermal Systems Llc | Single body injector and deposition chamber |
| US6022414A (en) * | 1994-07-18 | 2000-02-08 | Semiconductor Equipment Group, Llc | Single body injector and method for delivering gases to a surface |
| US6231971B1 (en) * | 1995-06-09 | 2001-05-15 | Glaverbel | Glazing panel having solar screening properties |
| US5882368A (en) * | 1997-02-07 | 1999-03-16 | Vidrio Piiano De Mexico, S.A. De C.V. | Method for coating glass substrates by ultrasonic nebulization of solutions |
| US7096692B2 (en) * | 1997-03-14 | 2006-08-29 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same |
| US6103015A (en) * | 1998-01-19 | 2000-08-15 | Libbey-Owens-Ford Co. | Symmetrical CVD coater with lower upstream exhaust toe |
| DE19923591A1 (de) * | 1999-05-21 | 2000-11-23 | Fleissner Maschf Gmbh Co | Vorrichtung mit einem Düsenbalken zur Erzeugung von Flüssigkeitsstrahlen zur Strahlbeaufschlagung der Fasern einer Warenbahn |
| US6413579B1 (en) | 2000-01-27 | 2002-07-02 | Libbey-Owens-Ford Co. | Temperature control of CVD method for reduced haze |
| US6808741B1 (en) * | 2001-10-26 | 2004-10-26 | Seagate Technology Llc | In-line, pass-by method for vapor lubrication |
| CN100358234C (zh) * | 2002-07-31 | 2007-12-26 | E.On瑞典股份公司 | 电机 |
| JP4124046B2 (ja) * | 2003-07-10 | 2008-07-23 | 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
| US9017480B2 (en) * | 2006-04-06 | 2015-04-28 | First Solar, Inc. | System and method for transport |
| KR20110014653A (ko) * | 2008-05-19 | 2011-02-11 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 전자 소자에서 증기 코팅 장치 및 방법 |
| EP2123793A1 (en) * | 2008-05-20 | 2009-11-25 | Helianthos B.V. | Vapour deposition process |
| US8557328B2 (en) * | 2009-10-02 | 2013-10-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Non-orthogonal coater geometry for improved coatings on a substrate |
| FI9160U1 (fi) * | 2010-01-04 | 2011-04-14 | Beneq Oy | Pinnoituslaite |
| FI20106088A0 (fi) * | 2010-10-21 | 2010-10-21 | Beneq Oy | Pinnankäsittelylaite ja -menetelmä |
| KR101806916B1 (ko) * | 2011-03-17 | 2017-12-12 | 한화테크윈 주식회사 | 그래핀 필름 제조 장치 및 그래핀 필름 제조 방법 |
| US20130130597A1 (en) * | 2011-11-21 | 2013-05-23 | James William Brown | Glass treatment apparatus and methods of treating glass |
| MX2014013233A (es) * | 2014-10-30 | 2016-05-02 | Ct Investig Materiales Avanzados Sc | Tobera de inyeccion de aerosoles y su metodo de utilizacion para depositar diferentes recubrimientos mediante deposito quimico de vapor asistido por aerosol. |
| US20160186320A1 (en) * | 2014-12-26 | 2016-06-30 | Metal Industries Research And Development Centre | Apparatus for continuously forming a film through chemical vapor deposition |
| WO2019239192A1 (en) * | 2018-06-15 | 2019-12-19 | Arcelormittal | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3597178A (en) * | 1969-04-17 | 1971-08-03 | Ppg Industries Inc | Process and apparatus for removing atmospheric contaminants in a float glass operation |
| US3837832A (en) * | 1971-04-29 | 1974-09-24 | Ppg Industries Inc | Apparatus for making float glass |
| US3888649A (en) * | 1972-12-15 | 1975-06-10 | Ppg Industries Inc | Nozzle for chemical vapor deposition of coatings |
| GB1507465A (en) * | 1974-06-14 | 1978-04-12 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
| JPS51126209A (en) * | 1975-04-25 | 1976-11-04 | Central Glass Co Ltd | Method and apparatus for production of which reflects heat rays |
| GB1507996A (en) * | 1975-06-11 | 1978-04-19 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
| GB1524326A (en) * | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
| US4092953A (en) * | 1976-12-09 | 1978-06-06 | The D. L. Auld Company | Apparatus for coating glass containers |
| EP0007147A1 (en) * | 1978-07-12 | 1980-01-23 | Imperial Chemical Industries Plc | Liquid dispenser and process for dispensing liquid reaction mixtures onto web or sheet material |
| CA1138725A (en) * | 1978-07-20 | 1983-01-04 | Robert Terneu | Glass coating |
| BE879189A (fr) * | 1978-10-19 | 1980-04-04 | Bfg Glassgroup | Procede de formation d'un revetement d'oxyde d'etain sur un support de verre chaud et produits ainsi obtenus |
| CH628600A5 (fr) * | 1979-02-14 | 1982-03-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
| CH643469A5 (fr) * | 1981-12-22 | 1984-06-15 | Siv Soc Italiana Vetro | Installation pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide. |
| US4595634A (en) * | 1983-08-01 | 1986-06-17 | Gordon Roy G | Coating process for making non-iridescent glass |
| GB8408118D0 (en) * | 1984-03-29 | 1984-05-10 | Pilkington Brothers Plc | Coating glass |
| US4900110A (en) * | 1984-07-30 | 1990-02-13 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of a reflective film on the bottom surface of a float glass ribbon |
| US5122394A (en) * | 1985-12-23 | 1992-06-16 | Atochem North America, Inc. | Apparatus for coating a substrate |
| US4761171A (en) * | 1987-02-09 | 1988-08-02 | Libbey-Owens-Ford Co. | Apparatus for coating glass |
| US4793282A (en) * | 1987-05-18 | 1988-12-27 | Libbey-Owens-Ford Co. | Distributor beam for chemical vapor deposition on glass |
| GB2209176A (en) * | 1987-08-28 | 1989-05-04 | Pilkington Plc | Coating glass |
| GB8824102D0 (en) * | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Apparatus for coating glass |
| GB8914047D0 (en) * | 1989-06-19 | 1989-08-09 | Glaverbel | Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate |
| DE69113994T2 (de) * | 1990-02-22 | 1996-05-02 | Roy Gerald Gordon | Titannitrid- oder zinnoxidauflage auf der oberfläche einer beschichtungsanlage. |
| GB2247691B (en) * | 1990-08-31 | 1994-11-23 | Glaverbel | Method of coating glass |
| FR2672518B1 (fr) * | 1991-02-13 | 1995-05-05 | Saint Gobain Vitrage Int | Buse a alimentation dissymetrique pour la formation d'une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux. |
| FR2677639B1 (fr) * | 1991-06-14 | 1994-02-25 | Saint Gobain Vitrage Internal | Technique de formation par pyrolyse en voie gazeuse d'un revetement essentiellement a base d'oxygene et de silicium. |
-
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- 1994-01-11 NL NL9400042A patent/NL9400042A/nl active Search and Examination
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-
1995
- 1995-11-02 US US08/552,048 patent/US5709726A/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-06-25 US US08/882,379 patent/US6112554A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6722159B2 (en) | 1997-03-14 | 2004-04-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Photocatalytically-activated self-cleaning article and method of making same |
| US7886333B2 (en) | 2003-03-19 | 2011-02-08 | Panasonic Corporation | In-vehicle recording/reproduction device, recording/reproduction device, recording/reproduction system, and recording/reproduction method |
| WO2013094232A1 (ja) * | 2011-12-20 | 2013-06-27 | シャープ株式会社 | 薄膜成膜装置、薄膜成膜方法および薄膜太陽電池の製造方法 |
| JP2013129867A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Sharp Corp | 薄膜成膜装置、薄膜成膜方法および薄膜太陽電池の製造方法 |
| WO2017068624A1 (ja) * | 2015-10-19 | 2017-04-27 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 成膜装置 |
| JPWO2017068624A1 (ja) * | 2015-10-19 | 2018-03-01 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 成膜装置 |
| CN108138320A (zh) * | 2015-10-19 | 2018-06-08 | 东芝三菱电机产业***株式会社 | 成膜装置 |
| US11124877B2 (en) | 2015-10-19 | 2021-09-21 | Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation | Film forming device including a detachable bottom plate for forming a film on a substrate |
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