JPH07252280A

JPH07252280A - ビス（ジアリールアルキル）ホスフィン類及びその製造方法

Info

Publication number: JPH07252280A
Application number: JP6277598A
Authority: JP
Inventors: Dieter Regnat; デイーター・レグナート; Hans-Jerg Dr Kleiner; ハンス−イエルク・クライナー
Original assignee: Hoechst AG
Current assignee: Hoechst AG
Priority date: 1993-11-13
Filing date: 1994-11-11
Publication date: 1995-10-03
Also published as: DE4433294A1; US5600006A; DE59409141D1; EP0653432B1; EP0653432A1

Abstract

(57)【要約】【構成】式【化１】［式中、Ar¹はフェニルまたはナフチル残基であり、Ar
²はフェニルまたはナフチル残基であり、R 及びR ′は
互いに独立して H、アルキル、アルコキシ、アリールオ
キシ残基、ジアルキルアミノ残基、F 、ClまたはBrであ
り、m は１〜４の整数であり、n は１〜５の整数であ
り、そしてX はアルキレン基である]で表されるビス
(ジアリールアルキル) ホスフィン類を製造する方法と
この方法から得られる新規化合物に関する。【効果】所望のビス( ジアリールアルキル) ホスフィ
ン類を作業安全性を損なうことなくしかも高収率で製造
することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビス (ジアリールアル
キル) ホスフィン類の製造方法及びそれにより製造され
る新規化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】分子中に２つのホスフィノ基を有する化
合物 (二座ホスフィン配位子) は、遷移金属錯体が触媒
として使用される多くのプロセスにおいて重要な役割を
持つ [A.Miyashita 等のTetrahedron Lett. 34巻、(199
3 年度版) 、2351頁及びJ.Am.Chem. Soc. 102 巻、(198
0 年度版) 、7932頁に掲載されている報告、R.Noyori等
のTetrahedron, 40 巻、(1984 年度版) 、1245頁に掲載
されている報告、並びにH.TakayaのTetrahedron Lett,
34巻、(1993 年度版) 、1615頁に掲載されている報告参
照] 。このプロセスの例は水素添加反応、ヒドロホルミ
ル化反応及びカルボニル化反応または芳香族類のアルキ
ル化及びアリール化を包含する。

【０００３】ビス (ジアリールアルキル) ホスフィン類
を製造するための１つの方法は、対応するビス (ジアリ
ールアルキル) ホスフィン酸化物類を還元する方法であ
る。例えば、ビス (ジアリールホスフィニルアルキル)-
1,1 ′- ビナフチル類を溶媒中でトリクロロシランを用
いて還元してビス (ジアリールホスフィノアルキル)-1,
1 ′- ビナフチル類を得る方法が知られている。しか
し、その収率は非常に低く、例えば8,8 ′- ビス (ジフ
ェニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの場合
は、たった30% である [M.Widhalm, C.Kratky, Monats
h. f. Chemie 124 ,103 (1993)] 。2,2 ′- ビス (ジフ
ェニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造で
も、たった30% の収率しか得られない [M.Kumada. JP 7
939,059, CA91 (1979) 91764v]。

【０００４】更に別の欠点は、トリクロロシランの取り
扱いには、その引火点温度が185 〜200 ℃であることか
ら危険性が伴う。更に、ホスフィン酸化物とトリクロロ
シランとの反応は昇華物の生成を導く。これらの昇華物
はおそらく、反応中にトリクロロシランから発生するシ
ロキサンによるものと思われる。昇華物は、それらがラ
イン、アダプター及び弁中に障害物及び閉塞物を形成さ
せてしまうので非常に望ましくない。このため、それら
はこの方法の作業安全性を著しく低減させる。ホスフィ
ン酸化物とトリクロロシランとの反応により生じた反応
混合物は、酸素不含の20〜30% 濃度の水酸化ナトリウム
水溶液で加水分解される。その際、個体の形で生じたシ
ロキサンが反応混合物から溶解抽出され、その後ビス
(ジアリールアルキル) ホスフィンを含有する、シロキ
サン不含の有機相を水性相から分離することができる。
ビス (ジアリールアルキル) ホスフィンは粗生成物とし
て有機相から単離され、溶媒を留去した後、次いで結晶
化することによって更に精製される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】それ故、上記の欠点を
回避する方法を開発することは価値ある課題である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この課題は、式

【０００７】

【化６】

【０００８】[式中、Ar¹はフェニルまたはナフチル残
基であり、Ar²はフェニルまたはナフチル残基であり、
R 及びR ′はそれぞれの場合に互いに独立していて、同
一であるかまたは異なっていて、H 、１〜８個の炭素原
子を有するアルキル、アルコキシ、アリールオキシ残
基、２〜８個の炭素原子を有するジアルキルアミノ残
基、F 、ClまたはBrであり、m は１〜４の整数であり、
n は１〜５の整数であり、そしてX は１〜３個の炭素原
子を有するアルキレン基である]で表されるビス (ジア
リールアルキル) ホスフィン類を製造する下記の方法に
よって達成される。この方法は、式

【０００９】

【化７】

【００１０】[式中、Ar¹、Ar²、R 、R ′、m 、n 及
びX は上記の意味を有する]で表されるビス (ジアリー
ルアルキル) ホスフィン酸化物を、式

【００１１】

【化８】

【００１２】[式中、R ″は１〜６個の炭素原子を有す
るアルキルまたはアルキレン残基であるかまたは６〜10
個の炭素原子を有する芳香族残基であり、そしてk は１
〜３の整数である]で表される有機ジクロロシランと、
総数６〜24個の炭素原子を有する第三アミンの存在下、
及び所望ならば溶媒の存在下に、80〜220 ℃の温度で反
応させることから成る。

【００１３】本発明の方法は、有機ジクロロシランの高
い引火点温度に起因して、トリクロロシランを使用した
場合と比較して、危険性がより低くそれ故より少ない安
全対策しか必要としない。例えば、トリクロロシランと
比較すると、メチルジクロロシランは230 ℃というより
高い引火点温度を有する。更に、トリクロロシランが空
気中で発火してしまうのに対し、メチルジクロロシラン
は空気中で安定に存在する。

【００１４】更に驚くべきことに、式(II)で表されるビ
ス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物と有機ジク
ロロシランとの反応においては昇華物は生成しない。そ
れ故、本方法の作業安全性を減ずる、望ましくないライ
ン、アダプター及び弁の閉塞が発生するという危険性も
ない。加えて、本発明の方法は所望の価値ある生成物を
高収率 (通常80% 以上) で与える。

【００１５】反応後に得られる反応混合物は、以前に先
行技術で説明されている方法によって後処理することが
できる。しかし、驚くべきことに、複雑なこの種の後処
理なしで行うこと及び加水分解を行う必要なしに簡単な
方法で価値ある生成物を回収することもできる。

【００１６】上述した通り、本発明の方法は、式(II)で
表されるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化
物、特に式(II)中、Ar¹がナフチル残基であり及び/ ま
たはAr ²がフェニル残基である式(II)で表される該化合
物を反応させるのに適している。

【００１７】限定されることはないが、ビス (ジアリー
ルアルキル) ホスフィン酸化物の一覧は以下の化合物を
含み得る: 2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル、2,3 ′- ビス (ジフェニルホスフィニル
メチル)-1,1 ′- ビナフチル、4,4 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィニルメチル)-1,1 ′- ビナフチル、8,8 ′-
ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′- ビナフ
チル、2,2 ′- ビス[(ビス-1- ナフチルホスフィニル)
メチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス[2-(ジフェ
ニルホスフィニル) エチル]-1,1 ′- ビナフチル及び2,
2 ′- ビス[3-(ジフェニルホスフィニル) プロピル]-1,
1 ′- ビナフチル特に適当な出発化合物は、式(II)中、R 及びR ′がそれ
ぞれの場合に互いに独立して、同一かまたは異なってい
て、H 、F 、それぞれ１〜８個、特に１〜４個の炭素原
子を有するアルキル残基、アルコキシ残基、特にH 、F
またはアルキル残基、好ましくはH である式(II)で表さ
れるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物であ
る。冒頭で述べた通り、X は１〜３個の炭素原子を有す
るアルキレン残基、特にメチレン、ジメチレンまたはト
リメチレン基、好ましくはメチレンまたはジメチレン基
である。

【００１８】使用する還元剤は式(III) で表される有機
ジクロロシラン、特に式(III) 中、k が１である式(II
I) で表される有機ジクロロシランである。選択される
適当な有機ジクロロシランの例を以下に挙げる:メチル
ジクロロシラン、エチルジクロロシラン、1-プロピルジ
クロロシラン、2-プロピルジクロロシラン、1-ブチルジ
クロロシラン、1-ヘキシルジクロロシラン、1,4-ブチレ
ンビス (ジクロロシラン) 、フェニルジクロロシラン及
び1,4-フェニレンビス (ジクロロシラン) 通常使用される有機ジクロロシランは、式(III) 中、R
″が１〜６個、特に１〜４個の炭素原子を有するアル
キル残基、あるいは置換または非置換- フェニル残基で
ある式(III) で表される有機ジクロロシランの内の一つ
である。特に適当な還元剤はメチルジクロロシラン、エ
チルジクロロシランまたはフェニルジクロロシラン、特
にメチルジクロロシランである。

【００１９】上述した通り、反応は第三アミンの存在下
で行われる。適当な第三アミンの例は、トリ-n- プロピ
ルアミン、トリ- イソプロピルアミン、n-ブチル- ジ-n
- プロピルアミン、ジ-n- ブチル-n- プロピルアミン、
トリ-n- ブチルアミン、トリ- イソブチルアミン、ジ-n
- ブチル- エチルアミン、n-プロピル-n- ブチル-n- ペ
ンチルアミン、ジ-n- プロピル-n- ペンチルアミン、ジ
-n- ペンチル-n- プロピルアミン、トリ-n- ペンチルア
ミン、トリ-n- ヘキシルアミンである。

【００２０】多くの場合、第三アミンとして、総数６〜
24個、特に９〜15個の炭素原子を有するトリアルキルア
ミン、特にトリ-n- プロピル- 、トリ-i- プロピル- 、
トリ-i- ブチル- 、トリ-n- ブチル- 及び/ またはトリ
-n- ペンチルアミンを使用することが好適であることが
証明されている。

【００２１】反応が行われ得る反応温度は、使用する反
応体の種類と反応性にもある程度左右される。普通、90
〜180 ℃、特に100 〜160 ℃で反応を行えば充分であ
る。該反応は溶媒の存在下または不存在下で行うことが
できる。溶媒を使用する場合は、使用する溶媒が非プロ
トン性溶媒であることが推奨される。適当な非プロトン
性溶媒は、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシ
レン、キシレン異性体の工業等級混合物、メシチレン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、エチルベンゼン、
ジオキサン、アセトニトリル、特にトルエン、キシレ
ン、キシレン異性体の工業等級混合物、メシチレン、ク
ロロベンゼン、エチルベンゼン、好ましくはトルエン、
キシレンまたはキシレン異性体の工業等級の混合物であ
る。所望ならば、これらの溶媒の混合物を使用すること
もできる。

【００２２】ビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸
化物と有機ジクロロシランは通常、1:2 〜1 :10 、特に
1:4〜1:6 のモル比で使用する。一般的に、有機ジクロ
ロシランと第三アミンは、１:0.5〜１:1.5、特に１：１
〜１:1.2のモル比で使用する。

【００２３】該反応は、大気圧下または加圧下、特にそ
れぞれの場合に達した反応圧下で行うことができる。上
述した通り、先行技術に説明された複雑な後処理は避け
ることができ、そして所望の価値ある生成物を簡単な方
法で反応混合物から回収できる。この最後に、反応後に
生じた反応混合物から溶媒を直接留去し、そしてビス
(ジアリールアルキル) ホスフィンを第三アミン中に溶
解している残留反応混合物から結晶化させる。この方法
を様々な態様で行うことを望む場合は、使用する溶媒の
沸点よりもかなり高い沸点を有する第三アミンを選択す
ることが推奨される。トルエン、キシレンまたはエチル
ベンゼンを使用した場合、トリ-n- ブチルアミンが特に
有用な第三アミンであることが証明されている。

【００２４】本発明の方法は、式(Ia)

【００２５】

【化９】

【００２６】[式中、Ar²はフェニル残基であり、R ′
は１〜６個の炭素原子を有するアルキル残基、CF₃、フ
ッ素、塩素または臭素、特にメチル、CF₃またはフッ素
であり、そしてn は１または２である]で表される新規
化合物を、適当な2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニ
ルメチル)-1,1 ′- ビナフチル類 [式(II)中、(R) _m-A
r¹-Ar¹-(R)_mが1,1-ビナフチル残基である式(II)で表さ
れるホスフィン酸化物] を式(III) で表される有機シラ
ンと反応させることによる驚くほど簡単な方法で提供す
る。

【００２７】この定義に包含される新規化合物は例えば
特に、2,2 ′- ビス [ビス(2- フルオルフェニル) ホス
フィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビ
ス(3- フルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′-
ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(4- フルオルフェニ
ル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′-
ビス [ビス(2- メチルフェニル) ホスフィノメチル]-1,
1 ′- ビナフチル、2,2′- ビス [ビス(4- メチルフェ
ニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′
- ビス [ビス(2- トリフルオルメチルフェニル) ホスフ
ィノメチル]-1,1′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス
(4- トリフルオルメチルフェニル) ホスフィノメチル]-
1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(2,3- ジフル
オルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチ
ル、2,2 ′- ビス [ビス(2,4- ジフルオルフェニル) ホ
スフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス
[ビス(3,5- ジフルオルフェニル) ホスフィノメチル]-
1,1 ′- ビナフチルである化合物である。

【００２８】以下の実施例は本発明を説明するが、これ
は本発明を限定しない。

【００２９】

【実施例】

実験部分実施例１: メチルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル409.7g(0.6mol)をキシレン1.5Lとトリ-n-
ブチルアミン715ml(3.0mol) から成る液中に空気及び湿
気の不存在下で懸濁させ、そしてメチルジクロロシラン
345.1g(3.0mol）を撹拌しながら滴下する。次いでこの
混合物を12時間環流して透明溶液を得る。キシレンを大
気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷却す
る。これによって2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィノ
メチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体として生じ、
これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセトン
200ml で洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結晶378g
(97%) が得られる。実施例２: エチルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン80mlとトリ
-n- ブチルアミン39.3ml(0.165mol)から成る液中に空気
及び湿気の不存在下で懸濁させ、そしてエチルジクロロ
シラン19.4g(0.15mol)を撹拌しながら滴下する。次いで
この混合物を13時間環流して透明な溶液を得る。キシレ
ンを大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷
却する。その結果、2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィ
ノメチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体として生
じ、これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセ
トン20mlで洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結晶1
8.5g(95%)が得られる。実施例３: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス (ジフェ
ニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方
法:2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1
′- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン80mlと
トリ-n- ブチルアミン30.6g(0.165mol) から成る液中に
空気と湿気の不存在下で懸濁させ、そしてフェニルジク
ロロシラン26.57g(0.15mol) を撹拌しながら滴下する。
次いでこの混合物を13時間環流して透明な溶液を得る。
キシレンを大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しな
がら冷却する。この結果、2,2 ′- ビス (ジフェニルホ
スフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体とし
て生じ、これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスした
アセトン20mlで洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結
晶18.5g(95%)が得られる。実施例４: メチルジクロロシランを用いた8,8 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
8,8 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン75mlとトリ
-n- ブチルアミン36ml(0.15mol) から成る液中に空気と
湿気の不存在下で懸濁させ、そしてメチルジクロロシラ
ン16.57g(0.144mol)を撹拌しながら滴下する。次いでこ
の混合物を14時間環流して透明な溶液を得る。キシレン
を大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷却
する。この結果、8,8 ′- ビス (ジフェニルホスフィノ
メチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の固体として生じ、
これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセトン
20mlで洗浄する。融点168 〜170 ℃の無色の結晶16.7g
(87%)が得られる。実施例５: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(3
- フルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナ
フチルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(3- フルオルフ
ェニル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル7.6g
(0.01mol) を、o-キシレン50mlとトリブチルアミン8.4m
l(33mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン5.3g(30mmol)を撹
拌しながら滴下する。次いでこの混合物を５時間環流し
て透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去し、
そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これによっ
て無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別しそし
て脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶5.7g
(79%) を得る。融点: 143 〜144 ℃³¹ P NMR: δ (CDCl₃) = -11.6ppm 実施例６: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(4
- フルオルフェニル) ホスフィノメチル］-1,1′- ビナ
フチルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(4- フルオルフ
ェニル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル7.6g
(0.01mol) を、o-キシレン50mlとトリブチルアミン8.4m
l(33mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン5.3g(30mmol)を撹
拌しながら滴下する。次いでこの混合物を５時間環流し
て透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去し、
そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これによっ
て無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別しそし
て脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶5.9g
(82%) を得る。³¹ P NMR: δ (CDCl₃) = -14.4ppm 実施例７: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(2
- メチルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフ
チルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(2- メチルフェニ
ル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル18.0g(0.
0244mol)を、o-キシレン150ml とトリブチルアミン21.7
ml(85mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン13.3g(73mmol) を
撹拌しながら滴下する。次いでこの混合物を24時間環流
して透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去
し、そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これに
よって無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別し
そして脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶
12.6g(73%)を得る。融点: 105 〜107 ℃³¹ P NMR: δ (CDCl₃) = -35.6ppm

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式【化１】［式中、Ar¹はフェニルまたはナフチル残基であり、Ar
²はフェニルまたはナフチル残基であり、R 及びR ′は
それぞれの場合に互いに独立していて、同一かまたは異
なっており、H 、１〜８個の炭素原子を有するアルキ
ル、アルコキシ、アリールオキシ残基、２〜８個の炭素
原子を有するジアルキルアミノ残基、 F 、ClまたはBrであり、m は１〜４の整数であり、n は
１〜５の整数であり、そしてX は１〜３個の炭素原子を有するアルキレン基で
ある]で表されるビス (ジアリールアルキル) ホスフィ
ン類を製造する方法であって、式【化２】 [式中、Ar¹、Ar²、R 、R ′、m 、n 及びX は上記の
意味を有する]で表されるビス (ジアリールアルキル)
ホスフィン酸化物を、式【化３】 [式中、R ″は１〜６個の炭素原子を有するアルキルま
たはアルキレン残基であるか、あるいは６〜10個の炭素
原子を有する芳香族残基であり、そしてk は１〜３の整
数である]で表される有機ジクロロシランと、総数６〜2
4個の炭素原子を有する第三アミンの存在下、及び所望
ならば溶媒の存在下に、80〜220 ℃の温度で反応させる
ことから成る上記方法。
【請求項２】式(II)中、Ar¹が置換または非置換- ナ
フチル残基である式(II)で表されるビス (ジアリールア
ルキル) ホスフィン酸化物を使用する請求項１の方法。
【請求項３】式(II)中、R 及びR ′がそれぞれの場合
に互いに独立して、同一かまたは異なっており、H 、F
、それぞれ１〜８個、特に１〜４個の炭素原子を有す
るアルキルまたはアルコキシ残基である式(II)で表され
るビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物を使用
する請求項１または２の方法。
【請求項４】式(II)中、R 及びR ′がそれぞれの場合
に互いに独立して、同一かまたは異なっており、H 、F
またはアルキル残基、特にH である式(II)で表されるビ
ス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物を使用する
請求項１〜３のいずれか１つの方法。
【請求項５】式(III) 中、R ″が１〜６個、特に１〜
４個の炭素原子を有するアルキル残基であるか、または
フェニル残基である式(III) で表される有機ジクロロシ
ランを使用する請求項１〜４のいずれか１つの方法。
【請求項６】使用する有機ジクロロシランがメチルジ
クロロシラン、エチルジクロロシランまたはフェニルジ
クロロシランである請求項１〜５のいずれか１つの方
法。
【請求項７】使用する第三アミンが総数６〜24個、特
に９〜15個の炭素原子を有するトリアルキルアミンであ
る請求項１〜６のいずれか１つの方法。
【請求項８】使用する第三アミンがトリ-n- プロピル
- 、トリ-i- プロピル- 、トリ-i- ブチル- 、トリ-n-
ブチル- 、トリ-n- ペンチルアミンである請求項１〜７
のいずれか１つの方法。
【請求項９】反応を90〜180 ℃、特に100 〜160 ℃で
行う請求項１〜８のいずれか１つの方法。
【請求項１０】使用する溶媒が非プロトン性溶媒であ
る請求項１〜９のいずれか１つの方法。
【請求項１１】使用する溶媒が、トルエン、キシレ
ン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
エチルベンゼン、ジオキサン、アセトニトリル、特にキ
シレン、メシチレン、クロロベンゼン及び/ またはエチ
ルベンゼンである請求項１〜10のいずれか１つの方法。
【請求項１２】ビス (ジアリールアルキル) ホスフィ
ン酸化物と有機ジクロロシランを、 1 :2 〜 1:10 、特
に 1:4〜1:6 のモル比で使用する請求項１〜11のいずれ
か１つの方法。
【請求項１３】有機ジクロロシランと第三アミンを、
1:0.5〜 1:1.5、特に 1:1 〜 1:1.2のモル比で使用す
る請求項１〜12のいずれか１つの方法。
【請求項１４】反応を大気圧下または加圧下で行う請
求項１〜13のいずれか１つの方法。
【請求項１５】反応後、溶媒を留去し、そして第三ア
ミン中に溶解している残留反応混合物からビス (ジアリ
ールアルキル) ホスフィンを晶出させる請求項１〜14の
いずれか１つの方法。
【請求項１６】式【化４】 [式中、Ar²はフェニル残基であり、R ′は１〜４個の
炭素原子を有するアルキル残基、CF₃、フッ素、塩素ま
たは臭素であり、そしてn は１または２である]で表さ
れる化合物。
【請求項１７】式【化５】 [式中、Ar²はフェニルであり、R ′はメチル、CF₃ま
たはフッ素であり、そしてn は１または２である]で表
される請求項16の化合物。
【請求項１８】 2,2 ′- ビス [ビス(2- フルオルフェ
ニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′
- ビス [ビス(3- フルオルフェニル) ホスフィノメチ
ル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(4- フル
オルフェニル)ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチ
ル、2,2 ′- ビス [ビス(2- メチルフェニル) ホスフィ
ノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(4
- メチルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフ
チル、2,2 ′- ビス [ビス(2- トリフルオルメチルフェ
ニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′
- ビス [ビス(4- トリフルオルメチルフェニル) ホスフ
ィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス
(2,3- ジフルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1′-
ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(2,4- ジフルオルフ
ェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル及び2,
2 ′- ビス [ビス(3,5- ジフルオルフェニル)ホスフィ
ノメチル]-1,1 ′- ビナフチルである請求項16の化合
物。