JPH07252280A - ビス (ジアリールアルキル) ホスフィン類及びその製造方法 - Google Patents
ビス (ジアリールアルキル) ホスフィン類及びその製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 10
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 title description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 30
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 11
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 13
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 10
- -1 [bis (3,5-difluorophenyl) phosphinomethyl] -1,1'-binaphthyl Chemical group 0.000 claims description 9
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethyl)silicon Chemical compound CC[Si](Cl)Cl PFMKUUJQLUQKHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- JDKKDNJUTQOKRD-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis(2-methylphenyl)phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis(2-methylphenyl)phosphane Chemical group CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C JDKKDNJUTQOKRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CKNJQNNDMNYTAT-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis(3-fluorophenyl)phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis(3-fluorophenyl)phosphane Chemical group FC1=CC=CC(P(CC=2C(=C3C=CC=CC3=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2CP(C=2C=C(F)C=CC=2)C=2C=C(F)C=CC=2)C=2C=C(F)C=CC=2)=C1 CKNJQNNDMNYTAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NKLUDGRFIMNYRG-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis(4-fluorophenyl)phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis(4-fluorophenyl)phosphane Chemical group C1=CC(F)=CC=C1P(C=1C=CC(F)=CC=1)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(C=1C=CC(F)=CC=1)C1=CC=C(F)C=C1 NKLUDGRFIMNYRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 claims description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NDWSJPSLEMWJBK-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis(2,3-difluorophenyl)phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis(2,3-difluorophenyl)phosphane Chemical group FC1=CC=CC(P(CC=2C(=C3C=CC=CC3=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2CP(C=2C(=C(F)C=CC=2)F)C=2C(=C(F)C=CC=2)F)C=2C(=C(F)C=CC=2)F)=C1F NDWSJPSLEMWJBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LHKYJRDFPHZYRM-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis(2-fluorophenyl)phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis(2-fluorophenyl)phosphane Chemical group FC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)F)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(C=1C(=CC=CC=1)F)C1=CC=CC=C1F LHKYJRDFPHZYRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NCBBLCFVVBNAMJ-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis(4-methylphenyl)phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis(4-methylphenyl)phosphane Chemical group C1=CC(C)=CC=C1P(C=1C=CC(C)=CC=1)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 NCBBLCFVVBNAMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DVVXPCLLMYRDPN-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis[2-(trifluoromethyl)phenyl]phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis[2-(trifluoromethyl)phenyl]phosphane Chemical group FC(F)(F)C1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C(F)(F)F)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(C=1C(=CC=CC=1)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F DVVXPCLLMYRDPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RMFVNEFBBCMBSR-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis[4-(trifluoromethyl)phenyl]phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis[4-(trifluoromethyl)phenyl]phosphane Chemical group C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1P(C=1C=CC(=CC=1)C(F)(F)F)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(C=1C=CC(=CC=1)C(F)(F)F)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 RMFVNEFBBCMBSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 claims description 2
- LDORULGTWCCHJC-UHFFFAOYSA-N [1-[2-[bis(2,4-difluorophenyl)phosphanylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-bis(2,4-difluorophenyl)phosphane Chemical group FC1=CC(F)=CC=C1P(C=1C(=CC(F)=CC=1)F)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(C=1C(=CC(F)=CC=1)F)C1=CC=C(F)C=C1F LDORULGTWCCHJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- CHJGSWQVODBDHR-UHFFFAOYSA-N 2-(diphenylphosphorylmethyl)-1-[2-(diphenylphosphorylmethyl)naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)CC1=CC=C2C=CC=CC2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CHJGSWQVODBDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 150000001369 organodichlorosilanes Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CMIHWILCIPLTFO-UHFFFAOYSA-N [1-[2-(diphenylphosphanylmethyl)naphthalen-1-yl]naphthalen-2-yl]methyl-diphenylphosphane Chemical group C=1C=C2C=CC=CC2=C(C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2CP(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=1CP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CMIHWILCIPLTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 7
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 7
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylnaphthalene Chemical group C1=CC=C2C(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RJWRHQPSKZCUNL-UHFFFAOYSA-N [8-[8-(diphenylphosphanylmethyl)naphthalen-1-yl]naphthalen-1-yl]methyl-diphenylphosphane Chemical group C=1C=CC2=CC=CC(C=3C4=C(CP(C=5C=CC=CC=5)C=5C=CC=CC=5)C=CC=C4C=CC=3)=C2C=1CP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RJWRHQPSKZCUNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 3
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- XZJISSGFUIHSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(diphenylphosphorylmethyl)-4-[4-(diphenylphosphorylmethyl)naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)CC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=CC=C1CP(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 XZJISSGFUIHSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOMIGEJTUVHTMY-UHFFFAOYSA-N 1-(diphenylphosphorylmethyl)-8-[8-(diphenylphosphorylmethyl)naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)CC(C=12)=CC=CC2=CC=CC=1C(C=12)=CC=CC2=CC=CC=1CP(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NOMIGEJTUVHTMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHAZOFEGXFXCK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-diphenylphosphorylethyl)-1-[2-(2-diphenylphosphorylethyl)naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)CCC1=CC=C2C=CC=CC2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CCP(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PWHAZOFEGXFXCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSJINVUGRLERKL-UHFFFAOYSA-N 2-(dinaphthalen-1-ylphosphorylmethyl)-1-[2-(dinaphthalen-1-ylphosphorylmethyl)naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group C1=CC=C2C(P(CC=3C(=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3CP(=O)(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=O)=CC=CC2=C1 XSJINVUGRLERKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWBIYJPQYDUBHT-UHFFFAOYSA-N 2-(diphenylphosphorylmethyl)-1-[3-(diphenylphosphorylmethyl)naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)CC(C=C1C=CC=CC1=1)=CC=1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BWBIYJPQYDUBHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXVLWVFGMMGXRQ-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-methylphenyl)phosphorylmethyl]-1-[2-[bis(2-methylphenyl)phosphorylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group CC1=CC=CC=C1P(=O)(C=1C(=CC=CC=1)C)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(=O)(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C JXVLWVFGMMGXRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYNKWLNQHWPGCS-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(3-fluorophenyl)phosphorylmethyl]-1-[2-[bis(3-fluorophenyl)phosphorylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group FC1=CC=CC(P(=O)(CC=2C(=C3C=CC=CC3=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2CP(=O)(C=2C=C(F)C=CC=2)C=2C=C(F)C=CC=2)C=2C=C(F)C=CC=2)=C1 ZYNKWLNQHWPGCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYDZXDBZPUHBJB-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(4-fluorophenyl)phosphorylmethyl]-1-[2-[bis(4-fluorophenyl)phosphorylmethyl]naphthalen-1-yl]naphthalene Chemical group C1=CC(F)=CC=C1P(=O)(C=1C=CC(F)=CC=1)CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1C(C1=CC=CC=C1C=C1)=C1CP(=O)(C=1C=CC(F)=CC=1)C1=CC=C(F)C=C1 OYDZXDBZPUHBJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIFFFBSAXDNJHX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n,n-bis(2-methylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CC(C)CN(CC(C)C)CC(C)C IIFFFBSAXDNJHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004211 3,5-difluorophenyl group Chemical group [H]C1=C(F)C([H])=C(*)C([H])=C1F 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 238000006254 arylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- DBKNQKMXXOSIOX-UHFFFAOYSA-N butyl(dichloro)silane Chemical compound CCCC[SiH](Cl)Cl DBKNQKMXXOSIOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005810 carbonylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- NYKYPUSQZAJABL-UHFFFAOYSA-N dichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[SiH](Cl)Cl NYKYPUSQZAJABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAKOAQCVDUCPTM-UHFFFAOYSA-N dichloro(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[SiH](Cl)Cl HAKOAQCVDUCPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJTARAZFCVDEIM-UHFFFAOYSA-N dichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH](Cl)Cl SJTARAZFCVDEIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVWVTTUYCNEFGO-UHFFFAOYSA-N dichloro-(4-dichlorosilylphenyl)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)C1=CC=C([SiH](Cl)Cl)C=C1 GVWVTTUYCNEFGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 238000007037 hydroformylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJIRBKSBSKOOLV-UHFFFAOYSA-N n,n-dipropylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CCC)CCC VJIRBKSBSKOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHCAESRELTRNA-UHFFFAOYSA-N n,n-dipropylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCC)CCC CQHCAESRELTRNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CC)CCCC BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEBPYKMCKZTFPJ-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-propylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CCC)CCCC VEBPYKMCKZTFPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUDHGBLSKBREHI-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-propylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCC)CCCC UUDHGBLSKBREHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/5027—Polyphosphines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/505—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation
- C07F9/509—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation by reduction of pentavalent phosphorus derivatives, e.g. -P=X with X = O, S, Se or -P-Hal2
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 式
【化1】
[式中、Ar1 はフェニルまたはナフチル残基であり、Ar
2 はフェニルまたはナフチル残基であり、R 及びR ′は
互いに独立して H、アルキル、アルコキシ、アリールオ
キシ残基、ジアルキルアミノ残基、F 、ClまたはBrであ
り、m は1〜4の整数であり、n は1〜5の整数であ
り、そしてX はアルキレン基である]で表されるビス
(ジアリールアルキル) ホスフィン類を製造する方法と
この方法から得られる新規化合物に関する。 【効果】 所望のビス( ジアリールアルキル) ホスフィ
ン類を作業安全性を損なうことなくしかも高収率で製造
することができる。
2 はフェニルまたはナフチル残基であり、R 及びR ′は
互いに独立して H、アルキル、アルコキシ、アリールオ
キシ残基、ジアルキルアミノ残基、F 、ClまたはBrであ
り、m は1〜4の整数であり、n は1〜5の整数であ
り、そしてX はアルキレン基である]で表されるビス
(ジアリールアルキル) ホスフィン類を製造する方法と
この方法から得られる新規化合物に関する。 【効果】 所望のビス( ジアリールアルキル) ホスフィ
ン類を作業安全性を損なうことなくしかも高収率で製造
することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ビス (ジアリールアル
キル) ホスフィン類の製造方法及びそれにより製造され
る新規化合物に関する。
キル) ホスフィン類の製造方法及びそれにより製造され
る新規化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】分子中に2つのホスフィノ基を有する化
合物 (二座ホスフィン配位子) は、遷移金属錯体が触媒
として使用される多くのプロセスにおいて重要な役割を
持つ [A.Miyashita 等のTetrahedron Lett. 34巻、(199
3 年度版) 、2351頁及びJ.Am.Chem. Soc. 102 巻、(198
0 年度版) 、7932頁に掲載されている報告、R.Noyori等
のTetrahedron, 40 巻、(1984 年度版) 、1245頁に掲載
されている報告、並びにH.TakayaのTetrahedron Lett,
34巻、(1993 年度版) 、1615頁に掲載されている報告参
照] 。このプロセスの例は水素添加反応、ヒドロホルミ
ル化反応及びカルボニル化反応または芳香族類のアルキ
ル化及びアリール化を包含する。
合物 (二座ホスフィン配位子) は、遷移金属錯体が触媒
として使用される多くのプロセスにおいて重要な役割を
持つ [A.Miyashita 等のTetrahedron Lett. 34巻、(199
3 年度版) 、2351頁及びJ.Am.Chem. Soc. 102 巻、(198
0 年度版) 、7932頁に掲載されている報告、R.Noyori等
のTetrahedron, 40 巻、(1984 年度版) 、1245頁に掲載
されている報告、並びにH.TakayaのTetrahedron Lett,
34巻、(1993 年度版) 、1615頁に掲載されている報告参
照] 。このプロセスの例は水素添加反応、ヒドロホルミ
ル化反応及びカルボニル化反応または芳香族類のアルキ
ル化及びアリール化を包含する。
【0003】ビス (ジアリールアルキル) ホスフィン類
を製造するための1つの方法は、対応するビス (ジアリ
ールアルキル) ホスフィン酸化物類を還元する方法であ
る。例えば、ビス (ジアリールホスフィニルアルキル)-
1,1 ′- ビナフチル類を溶媒中でトリクロロシランを用
いて還元してビス (ジアリールホスフィノアルキル)-1,
1 ′- ビナフチル類を得る方法が知られている。しか
し、その収率は非常に低く、例えば8,8 ′- ビス (ジフ
ェニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの場合
は、たった30% である [M.Widhalm, C.Kratky, Monats
h. f. Chemie 124 ,103 (1993)] 。2,2 ′- ビス (ジフ
ェニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造で
も、たった30% の収率しか得られない [M.Kumada. JP 7
939,059, CA91 (1979) 91764v]。
を製造するための1つの方法は、対応するビス (ジアリ
ールアルキル) ホスフィン酸化物類を還元する方法であ
る。例えば、ビス (ジアリールホスフィニルアルキル)-
1,1 ′- ビナフチル類を溶媒中でトリクロロシランを用
いて還元してビス (ジアリールホスフィノアルキル)-1,
1 ′- ビナフチル類を得る方法が知られている。しか
し、その収率は非常に低く、例えば8,8 ′- ビス (ジフ
ェニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの場合
は、たった30% である [M.Widhalm, C.Kratky, Monats
h. f. Chemie 124 ,103 (1993)] 。2,2 ′- ビス (ジフ
ェニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造で
も、たった30% の収率しか得られない [M.Kumada. JP 7
939,059, CA91 (1979) 91764v]。
【0004】更に別の欠点は、トリクロロシランの取り
扱いには、その引火点温度が185 〜200 ℃であることか
ら危険性が伴う。更に、ホスフィン酸化物とトリクロロ
シランとの反応は昇華物の生成を導く。これらの昇華物
はおそらく、反応中にトリクロロシランから発生するシ
ロキサンによるものと思われる。昇華物は、それらがラ
イン、アダプター及び弁中に障害物及び閉塞物を形成さ
せてしまうので非常に望ましくない。このため、それら
はこの方法の作業安全性を著しく低減させる。ホスフィ
ン酸化物とトリクロロシランとの反応により生じた反応
混合物は、酸素不含の20〜30% 濃度の水酸化ナトリウム
水溶液で加水分解される。その際、個体の形で生じたシ
ロキサンが反応混合物から溶解抽出され、その後ビス
(ジアリールアルキル) ホスフィンを含有する、シロキ
サン不含の有機相を水性相から分離することができる。
ビス (ジアリールアルキル) ホスフィンは粗生成物とし
て有機相から単離され、溶媒を留去した後、次いで結晶
化することによって更に精製される。
扱いには、その引火点温度が185 〜200 ℃であることか
ら危険性が伴う。更に、ホスフィン酸化物とトリクロロ
シランとの反応は昇華物の生成を導く。これらの昇華物
はおそらく、反応中にトリクロロシランから発生するシ
ロキサンによるものと思われる。昇華物は、それらがラ
イン、アダプター及び弁中に障害物及び閉塞物を形成さ
せてしまうので非常に望ましくない。このため、それら
はこの方法の作業安全性を著しく低減させる。ホスフィ
ン酸化物とトリクロロシランとの反応により生じた反応
混合物は、酸素不含の20〜30% 濃度の水酸化ナトリウム
水溶液で加水分解される。その際、個体の形で生じたシ
ロキサンが反応混合物から溶解抽出され、その後ビス
(ジアリールアルキル) ホスフィンを含有する、シロキ
サン不含の有機相を水性相から分離することができる。
ビス (ジアリールアルキル) ホスフィンは粗生成物とし
て有機相から単離され、溶媒を留去した後、次いで結晶
化することによって更に精製される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】それ故、上記の欠点を
回避する方法を開発することは価値ある課題である。
回避する方法を開発することは価値ある課題である。
【0006】
【課題を解決するための手段】この課題は、式
【0007】
【化6】
【0008】[式中、Ar1 はフェニルまたはナフチル残
基であり、Ar2 はフェニルまたはナフチル残基であり、
R 及びR ′はそれぞれの場合に互いに独立していて、同
一であるかまたは異なっていて、H 、1〜8個の炭素原
子を有するアルキル、アルコキシ、アリールオキシ残
基、2〜8個の炭素原子を有するジアルキルアミノ残
基、F 、ClまたはBrであり、m は1〜4の整数であり、
n は1〜5の整数であり、そしてX は1〜3個の炭素原
子を有するアルキレン基である]で表されるビス (ジア
リールアルキル) ホスフィン類を製造する下記の方法に
よって達成される。この方法は、式
基であり、Ar2 はフェニルまたはナフチル残基であり、
R 及びR ′はそれぞれの場合に互いに独立していて、同
一であるかまたは異なっていて、H 、1〜8個の炭素原
子を有するアルキル、アルコキシ、アリールオキシ残
基、2〜8個の炭素原子を有するジアルキルアミノ残
基、F 、ClまたはBrであり、m は1〜4の整数であり、
n は1〜5の整数であり、そしてX は1〜3個の炭素原
子を有するアルキレン基である]で表されるビス (ジア
リールアルキル) ホスフィン類を製造する下記の方法に
よって達成される。この方法は、式
【0009】
【化7】
【0010】[式中、Ar1 、Ar2 、R 、R ′、m 、n 及
びX は上記の意味を有する]で表されるビス (ジアリー
ルアルキル) ホスフィン酸化物を、式
びX は上記の意味を有する]で表されるビス (ジアリー
ルアルキル) ホスフィン酸化物を、式
【0011】
【化8】
【0012】[式中、R ″は1〜6個の炭素原子を有す
るアルキルまたはアルキレン残基であるかまたは6〜10
個の炭素原子を有する芳香族残基であり、そしてk は1
〜3の整数である]で表される有機ジクロロシランと、
総数6〜24個の炭素原子を有する第三アミンの存在下、
及び所望ならば溶媒の存在下に、80〜220 ℃の温度で反
応させることから成る。
るアルキルまたはアルキレン残基であるかまたは6〜10
個の炭素原子を有する芳香族残基であり、そしてk は1
〜3の整数である]で表される有機ジクロロシランと、
総数6〜24個の炭素原子を有する第三アミンの存在下、
及び所望ならば溶媒の存在下に、80〜220 ℃の温度で反
応させることから成る。
【0013】本発明の方法は、有機ジクロロシランの高
い引火点温度に起因して、トリクロロシランを使用した
場合と比較して、危険性がより低くそれ故より少ない安
全対策しか必要としない。例えば、トリクロロシランと
比較すると、メチルジクロロシランは230 ℃というより
高い引火点温度を有する。更に、トリクロロシランが空
気中で発火してしまうのに対し、メチルジクロロシラン
は空気中で安定に存在する。
い引火点温度に起因して、トリクロロシランを使用した
場合と比較して、危険性がより低くそれ故より少ない安
全対策しか必要としない。例えば、トリクロロシランと
比較すると、メチルジクロロシランは230 ℃というより
高い引火点温度を有する。更に、トリクロロシランが空
気中で発火してしまうのに対し、メチルジクロロシラン
は空気中で安定に存在する。
【0014】更に驚くべきことに、式(II)で表されるビ
ス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物と有機ジク
ロロシランとの反応においては昇華物は生成しない。そ
れ故、本方法の作業安全性を減ずる、望ましくないライ
ン、アダプター及び弁の閉塞が発生するという危険性も
ない。加えて、本発明の方法は所望の価値ある生成物を
高収率 (通常80% 以上) で与える。
ス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物と有機ジク
ロロシランとの反応においては昇華物は生成しない。そ
れ故、本方法の作業安全性を減ずる、望ましくないライ
ン、アダプター及び弁の閉塞が発生するという危険性も
ない。加えて、本発明の方法は所望の価値ある生成物を
高収率 (通常80% 以上) で与える。
【0015】反応後に得られる反応混合物は、以前に先
行技術で説明されている方法によって後処理することが
できる。しかし、驚くべきことに、複雑なこの種の後処
理なしで行うこと及び加水分解を行う必要なしに簡単な
方法で価値ある生成物を回収することもできる。
行技術で説明されている方法によって後処理することが
できる。しかし、驚くべきことに、複雑なこの種の後処
理なしで行うこと及び加水分解を行う必要なしに簡単な
方法で価値ある生成物を回収することもできる。
【0016】上述した通り、本発明の方法は、式(II)で
表されるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化
物、特に式(II)中、Ar1 がナフチル残基であり及び/ ま
たはAr 2 がフェニル残基である式(II)で表される該化合
物を反応させるのに適している。
表されるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化
物、特に式(II)中、Ar1 がナフチル残基であり及び/ ま
たはAr 2 がフェニル残基である式(II)で表される該化合
物を反応させるのに適している。
【0017】限定されることはないが、ビス (ジアリー
ルアルキル) ホスフィン酸化物の一覧は以下の化合物を
含み得る: 2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル、2,3 ′- ビス (ジフェニルホスフィニル
メチル)-1,1 ′- ビナフチル、4,4 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィニルメチル)-1,1 ′- ビナフチル、8,8 ′-
ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′- ビナフ
チル、2,2 ′- ビス[(ビス-1- ナフチルホスフィニル)
メチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス[2-(ジフェ
ニルホスフィニル) エチル]-1,1 ′- ビナフチル及び2,
2 ′- ビス[3-(ジフェニルホスフィニル) プロピル]-1,
1 ′- ビナフチル 特に適当な出発化合物は、式(II)中、R 及びR ′がそれ
ぞれの場合に互いに独立して、同一かまたは異なってい
て、H 、F 、それぞれ1〜8個、特に1〜4個の炭素原
子を有するアルキル残基、アルコキシ残基、特にH 、F
またはアルキル残基、好ましくはH である式(II)で表さ
れるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物であ
る。冒頭で述べた通り、X は1〜3個の炭素原子を有す
るアルキレン残基、特にメチレン、ジメチレンまたはト
リメチレン基、好ましくはメチレンまたはジメチレン基
である。
ルアルキル) ホスフィン酸化物の一覧は以下の化合物を
含み得る: 2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル、2,3 ′- ビス (ジフェニルホスフィニル
メチル)-1,1 ′- ビナフチル、4,4 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィニルメチル)-1,1 ′- ビナフチル、8,8 ′-
ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′- ビナフ
チル、2,2 ′- ビス[(ビス-1- ナフチルホスフィニル)
メチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス[2-(ジフェ
ニルホスフィニル) エチル]-1,1 ′- ビナフチル及び2,
2 ′- ビス[3-(ジフェニルホスフィニル) プロピル]-1,
1 ′- ビナフチル 特に適当な出発化合物は、式(II)中、R 及びR ′がそれ
ぞれの場合に互いに独立して、同一かまたは異なってい
て、H 、F 、それぞれ1〜8個、特に1〜4個の炭素原
子を有するアルキル残基、アルコキシ残基、特にH 、F
またはアルキル残基、好ましくはH である式(II)で表さ
れるビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物であ
る。冒頭で述べた通り、X は1〜3個の炭素原子を有す
るアルキレン残基、特にメチレン、ジメチレンまたはト
リメチレン基、好ましくはメチレンまたはジメチレン基
である。
【0018】使用する還元剤は式(III) で表される有機
ジクロロシラン、特に式(III) 中、k が1である式(II
I) で表される有機ジクロロシランである。選択される
適当な有機ジクロロシランの例を以下に挙げる:メチル
ジクロロシラン、エチルジクロロシラン、1-プロピルジ
クロロシラン、2-プロピルジクロロシラン、1-ブチルジ
クロロシラン、1-ヘキシルジクロロシラン、1,4-ブチレ
ンビス (ジクロロシラン) 、フェニルジクロロシラン及
び1,4-フェニレンビス (ジクロロシラン) 通常使用される有機ジクロロシランは、式(III) 中、R
″が1〜6個、特に1〜4個の炭素原子を有するアル
キル残基、あるいは置換または非置換- フェニル残基で
ある式(III) で表される有機ジクロロシランの内の一つ
である。特に適当な還元剤はメチルジクロロシラン、エ
チルジクロロシランまたはフェニルジクロロシラン、特
にメチルジクロロシランである。
ジクロロシラン、特に式(III) 中、k が1である式(II
I) で表される有機ジクロロシランである。選択される
適当な有機ジクロロシランの例を以下に挙げる:メチル
ジクロロシラン、エチルジクロロシラン、1-プロピルジ
クロロシラン、2-プロピルジクロロシラン、1-ブチルジ
クロロシラン、1-ヘキシルジクロロシラン、1,4-ブチレ
ンビス (ジクロロシラン) 、フェニルジクロロシラン及
び1,4-フェニレンビス (ジクロロシラン) 通常使用される有機ジクロロシランは、式(III) 中、R
″が1〜6個、特に1〜4個の炭素原子を有するアル
キル残基、あるいは置換または非置換- フェニル残基で
ある式(III) で表される有機ジクロロシランの内の一つ
である。特に適当な還元剤はメチルジクロロシラン、エ
チルジクロロシランまたはフェニルジクロロシラン、特
にメチルジクロロシランである。
【0019】上述した通り、反応は第三アミンの存在下
で行われる。適当な第三アミンの例は、トリ-n- プロピ
ルアミン、トリ- イソプロピルアミン、n-ブチル- ジ-n
- プロピルアミン、ジ-n- ブチル-n- プロピルアミン、
トリ-n- ブチルアミン、トリ- イソブチルアミン、ジ-n
- ブチル- エチルアミン、n-プロピル-n- ブチル-n- ペ
ンチルアミン、ジ-n- プロピル-n- ペンチルアミン、ジ
-n- ペンチル-n- プロピルアミン、トリ-n- ペンチルア
ミン、トリ-n- ヘキシルアミンである。
で行われる。適当な第三アミンの例は、トリ-n- プロピ
ルアミン、トリ- イソプロピルアミン、n-ブチル- ジ-n
- プロピルアミン、ジ-n- ブチル-n- プロピルアミン、
トリ-n- ブチルアミン、トリ- イソブチルアミン、ジ-n
- ブチル- エチルアミン、n-プロピル-n- ブチル-n- ペ
ンチルアミン、ジ-n- プロピル-n- ペンチルアミン、ジ
-n- ペンチル-n- プロピルアミン、トリ-n- ペンチルア
ミン、トリ-n- ヘキシルアミンである。
【0020】多くの場合、第三アミンとして、総数6〜
24個、特に9〜15個の炭素原子を有するトリアルキルア
ミン、特にトリ-n- プロピル- 、トリ-i- プロピル- 、
トリ-i- ブチル- 、トリ-n- ブチル- 及び/ またはトリ
-n- ペンチルアミンを使用することが好適であることが
証明されている。
24個、特に9〜15個の炭素原子を有するトリアルキルア
ミン、特にトリ-n- プロピル- 、トリ-i- プロピル- 、
トリ-i- ブチル- 、トリ-n- ブチル- 及び/ またはトリ
-n- ペンチルアミンを使用することが好適であることが
証明されている。
【0021】反応が行われ得る反応温度は、使用する反
応体の種類と反応性にもある程度左右される。普通、90
〜180 ℃、特に100 〜160 ℃で反応を行えば充分であ
る。該反応は溶媒の存在下または不存在下で行うことが
できる。溶媒を使用する場合は、使用する溶媒が非プロ
トン性溶媒であることが推奨される。適当な非プロトン
性溶媒は、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシ
レン、キシレン異性体の工業等級混合物、メシチレン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、エチルベンゼン、
ジオキサン、アセトニトリル、特にトルエン、キシレ
ン、キシレン異性体の工業等級混合物、メシチレン、ク
ロロベンゼン、エチルベンゼン、好ましくはトルエン、
キシレンまたはキシレン異性体の工業等級の混合物であ
る。所望ならば、これらの溶媒の混合物を使用すること
もできる。
応体の種類と反応性にもある程度左右される。普通、90
〜180 ℃、特に100 〜160 ℃で反応を行えば充分であ
る。該反応は溶媒の存在下または不存在下で行うことが
できる。溶媒を使用する場合は、使用する溶媒が非プロ
トン性溶媒であることが推奨される。適当な非プロトン
性溶媒は、トルエン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシ
レン、キシレン異性体の工業等級混合物、メシチレン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、エチルベンゼン、
ジオキサン、アセトニトリル、特にトルエン、キシレ
ン、キシレン異性体の工業等級混合物、メシチレン、ク
ロロベンゼン、エチルベンゼン、好ましくはトルエン、
キシレンまたはキシレン異性体の工業等級の混合物であ
る。所望ならば、これらの溶媒の混合物を使用すること
もできる。
【0022】ビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸
化物と有機ジクロロシランは通常、1:2 〜1 :10 、特に
1:4〜1:6 のモル比で使用する。一般的に、有機ジクロ
ロシランと第三アミンは、1:0.5〜1:1.5、特に1:1
〜1:1.2のモル比で使用する。
化物と有機ジクロロシランは通常、1:2 〜1 :10 、特に
1:4〜1:6 のモル比で使用する。一般的に、有機ジクロ
ロシランと第三アミンは、1:0.5〜1:1.5、特に1:1
〜1:1.2のモル比で使用する。
【0023】該反応は、大気圧下または加圧下、特にそ
れぞれの場合に達した反応圧下で行うことができる。上
述した通り、先行技術に説明された複雑な後処理は避け
ることができ、そして所望の価値ある生成物を簡単な方
法で反応混合物から回収できる。この最後に、反応後に
生じた反応混合物から溶媒を直接留去し、そしてビス
(ジアリールアルキル) ホスフィンを第三アミン中に溶
解している残留反応混合物から結晶化させる。この方法
を様々な態様で行うことを望む場合は、使用する溶媒の
沸点よりもかなり高い沸点を有する第三アミンを選択す
ることが推奨される。トルエン、キシレンまたはエチル
ベンゼンを使用した場合、トリ-n- ブチルアミンが特に
有用な第三アミンであることが証明されている。
れぞれの場合に達した反応圧下で行うことができる。上
述した通り、先行技術に説明された複雑な後処理は避け
ることができ、そして所望の価値ある生成物を簡単な方
法で反応混合物から回収できる。この最後に、反応後に
生じた反応混合物から溶媒を直接留去し、そしてビス
(ジアリールアルキル) ホスフィンを第三アミン中に溶
解している残留反応混合物から結晶化させる。この方法
を様々な態様で行うことを望む場合は、使用する溶媒の
沸点よりもかなり高い沸点を有する第三アミンを選択す
ることが推奨される。トルエン、キシレンまたはエチル
ベンゼンを使用した場合、トリ-n- ブチルアミンが特に
有用な第三アミンであることが証明されている。
【0024】本発明の方法は、式(Ia)
【0025】
【化9】
【0026】[式中、Ar2 はフェニル残基であり、R ′
は1〜6個の炭素原子を有するアルキル残基、CF3 、フ
ッ素、塩素または臭素、特にメチル、CF3 またはフッ素
であり、そしてn は1または2である]で表される新規
化合物を、適当な2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニ
ルメチル)-1,1 ′- ビナフチル類 [式(II)中、(R) m -A
r1-Ar1-(R) mが1,1-ビナフチル残基である式(II)で表さ
れるホスフィン酸化物] を式(III) で表される有機シラ
ンと反応させることによる驚くほど簡単な方法で提供す
る。
は1〜6個の炭素原子を有するアルキル残基、CF3 、フ
ッ素、塩素または臭素、特にメチル、CF3 またはフッ素
であり、そしてn は1または2である]で表される新規
化合物を、適当な2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニ
ルメチル)-1,1 ′- ビナフチル類 [式(II)中、(R) m -A
r1-Ar1-(R) mが1,1-ビナフチル残基である式(II)で表さ
れるホスフィン酸化物] を式(III) で表される有機シラ
ンと反応させることによる驚くほど簡単な方法で提供す
る。
【0027】この定義に包含される新規化合物は例えば
特に、2,2 ′- ビス [ビス(2- フルオルフェニル) ホス
フィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビ
ス(3- フルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′-
ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(4- フルオルフェニ
ル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′-
ビス [ビス(2- メチルフェニル) ホスフィノメチル]-1,
1 ′- ビナフチル、2,2′- ビス [ビス(4- メチルフェ
ニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′
- ビス [ビス(2- トリフルオルメチルフェニル) ホスフ
ィノメチル]-1,1′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス
(4- トリフルオルメチルフェニル) ホスフィノメチル]-
1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(2,3- ジフル
オルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチ
ル、2,2 ′- ビス [ビス(2,4- ジフルオルフェニル) ホ
スフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス
[ビス(3,5- ジフルオルフェニル) ホスフィノメチル]-
1,1 ′- ビナフチルである化合物である。
特に、2,2 ′- ビス [ビス(2- フルオルフェニル) ホス
フィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビ
ス(3- フルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′-
ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(4- フルオルフェニ
ル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′-
ビス [ビス(2- メチルフェニル) ホスフィノメチル]-1,
1 ′- ビナフチル、2,2′- ビス [ビス(4- メチルフェ
ニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′
- ビス [ビス(2- トリフルオルメチルフェニル) ホスフ
ィノメチル]-1,1′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス
(4- トリフルオルメチルフェニル) ホスフィノメチル]-
1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(2,3- ジフル
オルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチ
ル、2,2 ′- ビス [ビス(2,4- ジフルオルフェニル) ホ
スフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス
[ビス(3,5- ジフルオルフェニル) ホスフィノメチル]-
1,1 ′- ビナフチルである化合物である。
【0028】以下の実施例は本発明を説明するが、これ
は本発明を限定しない。
は本発明を限定しない。
【0029】
実験部分 実施例1: メチルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル409.7g(0.6mol)をキシレン1.5Lとトリ-n-
ブチルアミン715ml(3.0mol) から成る液中に空気及び湿
気の不存在下で懸濁させ、そしてメチルジクロロシラン
345.1g(3.0mol)を撹拌しながら滴下する。次いでこの
混合物を12時間環流して透明溶液を得る。キシレンを大
気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷却す
る。これによって2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィノ
メチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体として生じ、
これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセトン
200ml で洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結晶378g
(97%) が得られる。 実施例2: エチルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン80mlとトリ
-n- ブチルアミン39.3ml(0.165mol)から成る液中に空気
及び湿気の不存在下で懸濁させ、そしてエチルジクロロ
シラン19.4g(0.15mol)を撹拌しながら滴下する。次いで
この混合物を13時間環流して透明な溶液を得る。キシレ
ンを大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷
却する。その結果、2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィ
ノメチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体として生
じ、これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセ
トン20mlで洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結晶1
8.5g(95%)が得られる。 実施例3: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス (ジフェ
ニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方
法:2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1
′- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン80mlと
トリ-n- ブチルアミン30.6g(0.165mol) から成る液中に
空気と湿気の不存在下で懸濁させ、そしてフェニルジク
ロロシラン26.57g(0.15mol) を撹拌しながら滴下する。
次いでこの混合物を13時間環流して透明な溶液を得る。
キシレンを大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しな
がら冷却する。この結果、2,2 ′- ビス (ジフェニルホ
スフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体とし
て生じ、これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスした
アセトン20mlで洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結
晶18.5g(95%)が得られる。 実施例4: メチルジクロロシランを用いた8,8 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
8,8 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン75mlとトリ
-n- ブチルアミン36ml(0.15mol) から成る液中に空気と
湿気の不存在下で懸濁させ、そしてメチルジクロロシラ
ン16.57g(0.144mol)を撹拌しながら滴下する。次いでこ
の混合物を14時間環流して透明な溶液を得る。キシレン
を大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷却
する。この結果、8,8 ′- ビス (ジフェニルホスフィノ
メチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の固体として生じ、
これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセトン
20mlで洗浄する。融点168 〜170 ℃の無色の結晶16.7g
(87%)が得られる。 実施例5: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(3
- フルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナ
フチルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(3- フルオルフ
ェニル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル7.6g
(0.01mol) を、o-キシレン50mlとトリブチルアミン8.4m
l(33mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン5.3g(30mmol)を撹
拌しながら滴下する。次いでこの混合物を5時間環流し
て透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去し、
そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これによっ
て無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別しそし
て脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶5.7g
(79%) を得る。 融点: 143 〜144 ℃31 P NMR: δ (CDCl3) = -11.6ppm 実施例6: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(4
- フルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1′- ビナ
フチルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(4- フルオルフ
ェニル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル7.6g
(0.01mol) を、o-キシレン50mlとトリブチルアミン8.4m
l(33mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン5.3g(30mmol)を撹
拌しながら滴下する。次いでこの混合物を5時間環流し
て透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去し、
そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これによっ
て無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別しそし
て脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶5.9g
(82%) を得る。31 P NMR: δ (CDCl3) = -14.4ppm 実施例7: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(2
- メチルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフ
チルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(2- メチルフェニ
ル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル18.0g(0.
0244mol)を、o-キシレン150ml とトリブチルアミン21.7
ml(85mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン13.3g(73mmol) を
撹拌しながら滴下する。次いでこの混合物を24時間環流
して透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去
し、そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これに
よって無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別し
そして脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶
12.6g(73%)を得る。 融点: 105 〜107 ℃31 P NMR: δ (CDCl3) = -35.6ppm
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル409.7g(0.6mol)をキシレン1.5Lとトリ-n-
ブチルアミン715ml(3.0mol) から成る液中に空気及び湿
気の不存在下で懸濁させ、そしてメチルジクロロシラン
345.1g(3.0mol)を撹拌しながら滴下する。次いでこの
混合物を12時間環流して透明溶液を得る。キシレンを大
気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷却す
る。これによって2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィノ
メチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体として生じ、
これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセトン
200ml で洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結晶378g
(97%) が得られる。 実施例2: エチルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン80mlとトリ
-n- ブチルアミン39.3ml(0.165mol)から成る液中に空気
及び湿気の不存在下で懸濁させ、そしてエチルジクロロ
シラン19.4g(0.15mol)を撹拌しながら滴下する。次いで
この混合物を13時間環流して透明な溶液を得る。キシレ
ンを大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷
却する。その結果、2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィ
ノメチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体として生
じ、これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセ
トン20mlで洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結晶1
8.5g(95%)が得られる。 実施例3: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス (ジフェ
ニルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方
法:2,2 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1
′- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン80mlと
トリ-n- ブチルアミン30.6g(0.165mol) から成る液中に
空気と湿気の不存在下で懸濁させ、そしてフェニルジク
ロロシラン26.57g(0.15mol) を撹拌しながら滴下する。
次いでこの混合物を13時間環流して透明な溶液を得る。
キシレンを大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しな
がら冷却する。この結果、2,2 ′- ビス (ジフェニルホ
スフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の個体とし
て生じ、これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスした
アセトン20mlで洗浄する。融点160 〜161 ℃の無色の結
晶18.5g(95%)が得られる。 実施例4: メチルジクロロシランを用いた8,8 ′- ビス (ジフェニ
ルホスフィノメチル)-1,1 ′- ビナフチルの製造方法:
8,8 ′- ビス (ジフェニルホスフィニルメチル)-1,1 ′
- ビナフチル20.48g(0.03mol) を、キシレン75mlとトリ
-n- ブチルアミン36ml(0.15mol) から成る液中に空気と
湿気の不存在下で懸濁させ、そしてメチルジクロロシラ
ン16.57g(0.144mol)を撹拌しながら滴下する。次いでこ
の混合物を14時間環流して透明な溶液を得る。キシレン
を大気圧下で留去し、そして混合物を撹拌しながら冷却
する。この結果、8,8 ′- ビス (ジフェニルホスフィノ
メチル)-1,1 ′- ビナフチルが無色の固体として生じ、
これを不活性ガス下で濾別しそして脱ガスしたアセトン
20mlで洗浄する。融点168 〜170 ℃の無色の結晶16.7g
(87%)が得られる。 実施例5: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(3
- フルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナ
フチルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(3- フルオルフ
ェニル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル7.6g
(0.01mol) を、o-キシレン50mlとトリブチルアミン8.4m
l(33mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン5.3g(30mmol)を撹
拌しながら滴下する。次いでこの混合物を5時間環流し
て透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去し、
そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これによっ
て無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別しそし
て脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶5.7g
(79%) を得る。 融点: 143 〜144 ℃31 P NMR: δ (CDCl3) = -11.6ppm 実施例6: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(4
- フルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1′- ビナ
フチルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(4- フルオルフ
ェニル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル7.6g
(0.01mol) を、o-キシレン50mlとトリブチルアミン8.4m
l(33mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン5.3g(30mmol)を撹
拌しながら滴下する。次いでこの混合物を5時間環流し
て透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去し、
そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これによっ
て無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別しそし
て脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶5.9g
(82%) を得る。31 P NMR: δ (CDCl3) = -14.4ppm 実施例7: フェニルジクロロシランを用いた2,2 ′- ビス [ビス(2
- メチルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフ
チルの製造方法:2,2 ′- ビス [ビス(2- メチルフェニ
ル) ホスフィニルメチル]-1,1 ′- ビナフチル18.0g(0.
0244mol)を、o-キシレン150ml とトリブチルアミン21.7
ml(85mmol)から成る液中に空気と湿気の不存在下で懸濁
させ、そしてフェニルジクロロシラン13.3g(73mmol) を
撹拌しながら滴下する。次いでこの混合物を24時間環流
して透明な溶液を得る。o-キシレンを大気圧下で留去
し、そして反応混合物を撹拌しながら冷却する。これに
よって無色の個体が生じ、これを不活性ガス下で濾別し
そして脱ガスしたアセトン20mlで洗浄して、無色の結晶
12.6g(73%)を得る。 融点: 105 〜107 ℃31 P NMR: δ (CDCl3) = -35.6ppm
Claims (18)
- 【請求項1】 式 【化1】 [式中、Ar1 はフェニルまたはナフチル残基であり、Ar
2 はフェニルまたはナフチル残基であり、R 及びR ′は
それぞれの場合に互いに独立していて、同一かまたは異
なっており、H 、1〜8個の炭素原子を有するアルキ
ル、アルコキシ、アリールオキシ残基、2〜8個の炭素
原子を有するジアルキルアミノ残基、 F 、ClまたはBrであり、m は1〜4の整数であり、n は
1〜5の整数であり、 そしてX は1〜3個の炭素原子を有するアルキレン基で
ある]で表されるビス (ジアリールアルキル) ホスフィ
ン類を製造する方法であって、式 【化2】 [式中、Ar1 、Ar2 、R 、R ′、m 、n 及びX は上記の
意味を有する]で表されるビス (ジアリールアルキル)
ホスフィン酸化物を、式 【化3】 [式中、R ″は1〜6個の炭素原子を有するアルキルま
たはアルキレン残基であるか、あるいは6〜10個の炭素
原子を有する芳香族残基であり、そしてk は1〜3の整
数である]で表される有機ジクロロシランと、総数6〜2
4個の炭素原子を有する第三アミンの存在下、及び所望
ならば溶媒の存在下に、80〜220 ℃の温度で反応させる
ことから成る上記方法。 - 【請求項2】 式(II)中、Ar1 が置換または非置換- ナ
フチル残基である式(II)で表されるビス (ジアリールア
ルキル) ホスフィン酸化物を使用する請求項1の方法。 - 【請求項3】 式(II)中、R 及びR ′がそれぞれの場合
に互いに独立して、同一かまたは異なっており、H 、F
、それぞれ1〜8個、特に1〜4個の炭素原子を有す
るアルキルまたはアルコキシ残基である式(II)で表され
るビス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物を使用
する請求項1または2の方法。 - 【請求項4】 式(II)中、R 及びR ′がそれぞれの場合
に互いに独立して、同一かまたは異なっており、H 、F
またはアルキル残基、特にH である式(II)で表されるビ
ス (ジアリールアルキル) ホスフィン酸化物を使用する
請求項1〜3のいずれか1つの方法。 - 【請求項5】 式(III) 中、R ″が1〜6個、特に1〜
4個の炭素原子を有するアルキル残基であるか、または
フェニル残基である式(III) で表される有機ジクロロシ
ランを使用する請求項1〜4のいずれか1つの方法。 - 【請求項6】 使用する有機ジクロロシランがメチルジ
クロロシラン、エチルジクロロシランまたはフェニルジ
クロロシランである請求項1〜5のいずれか1つの方
法。 - 【請求項7】 使用する第三アミンが総数6〜24個、特
に9〜15個の炭素原子を有するトリアルキルアミンであ
る請求項1〜6のいずれか1つの方法。 - 【請求項8】 使用する第三アミンがトリ-n- プロピル
- 、トリ-i- プロピル- 、トリ-i- ブチル- 、トリ-n-
ブチル- 、トリ-n- ペンチルアミンである請求項1〜7
のいずれか1つの方法。 - 【請求項9】 反応を90〜180 ℃、特に100 〜160 ℃で
行う請求項1〜8のいずれか1つの方法。 - 【請求項10】 使用する溶媒が非プロトン性溶媒であ
る請求項1〜9のいずれか1つの方法。 - 【請求項11】 使用する溶媒が、トルエン、キシレ
ン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、
エチルベンゼン、ジオキサン、アセトニトリル、特にキ
シレン、メシチレン、クロロベンゼン及び/ またはエチ
ルベンゼンである請求項1〜10のいずれか1つの方法。 - 【請求項12】 ビス (ジアリールアルキル) ホスフィ
ン酸化物と有機ジクロロシランを、 1 :2 〜 1:10 、特
に 1:4〜1:6 のモル比で使用する請求項1〜11のいずれ
か1つの方法。 - 【請求項13】 有機ジクロロシランと第三アミンを、
1:0.5〜 1:1.5、特に 1:1 〜 1:1.2のモル比で使用す
る請求項1〜12のいずれか1つの方法。 - 【請求項14】 反応を大気圧下または加圧下で行う請
求項1〜13のいずれか1つの方法。 - 【請求項15】 反応後、溶媒を留去し、そして第三ア
ミン中に溶解している残留反応混合物からビス (ジアリ
ールアルキル) ホスフィンを晶出させる請求項1〜14の
いずれか1つの方法。 - 【請求項16】 式 【化4】 [式中、Ar2 はフェニル残基であり、R ′は1〜4個の
炭素原子を有するアルキル残基、CF3 、フッ素、塩素ま
たは臭素であり、そしてn は1または2である]で表さ
れる化合物。 - 【請求項17】 式 【化5】 [式中、Ar2 はフェニルであり、R ′はメチル、CF3 ま
たはフッ素であり、そしてn は1または2である]で表
される請求項16の化合物。 - 【請求項18】 2,2 ′- ビス [ビス(2- フルオルフェ
ニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′
- ビス [ビス(3- フルオルフェニル) ホスフィノメチ
ル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(4- フル
オルフェニル)ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチ
ル、2,2 ′- ビス [ビス(2- メチルフェニル) ホスフィ
ノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(4
- メチルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフ
チル、2,2 ′- ビス [ビス(2- トリフルオルメチルフェ
ニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′
- ビス [ビス(4- トリフルオルメチルフェニル) ホスフ
ィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス
(2,3- ジフルオルフェニル) ホスフィノメチル]-1,1′-
ビナフチル、2,2 ′- ビス [ビス(2,4- ジフルオルフ
ェニル) ホスフィノメチル]-1,1 ′- ビナフチル及び2,
2 ′- ビス [ビス(3,5- ジフルオルフェニル)ホスフィ
ノメチル]-1,1 ′- ビナフチルである請求項16の化合
物。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4338827 | 1993-11-13 | ||
DE4433294A DE4433294A1 (de) | 1993-11-13 | 1994-09-19 | Verfahren zur Herstellung von Bis-(diaryl-alkyl)-phoshinen und neue Verbindungen aus dieser Stoffgruppe |
DE4338827:2 | 1994-09-19 | ||
DE4433294:7 | 1994-09-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07252280A true JPH07252280A (ja) | 1995-10-03 |
Family
ID=25931208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6277598A Pending JPH07252280A (ja) | 1993-11-13 | 1994-11-11 | ビス (ジアリールアルキル) ホスフィン類及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5600006A (ja) |
EP (1) | EP0653432B1 (ja) |
JP (1) | JPH07252280A (ja) |
DE (2) | DE4433294A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4434844A1 (de) * | 1994-09-29 | 1996-04-04 | Hoechst Ag | Diphosphane und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE19609336C1 (de) * | 1996-03-11 | 1997-03-13 | Hoechst Ag | Substituierte Diphenyldiphosphane und ein Verfahren zu ihrer Herstellung |
JP3441605B2 (ja) * | 1996-10-30 | 2003-09-02 | 高砂香料工業株式会社 | 新規光学活性ジホスフィン及び該化合物より得られる遷移金属錯体及び該錯体の存在下にて光学活性体を得る方法 |
DE10114868C1 (de) * | 2001-03-26 | 2002-10-31 | Oxeno Olefinchemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Diphosphinen und deren Verwendung |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1203773B (de) * | 1964-05-16 | 1965-10-28 | Shell Int Research | Verfahren zur Herstellung von tertiaeren Phosphinen |
US4694109A (en) * | 1986-06-13 | 1987-09-15 | Eastman Kodak Company | Chelate ligands for low pressure hydroformylation catalyst and process employing same |
US4824977A (en) * | 1987-04-24 | 1989-04-25 | Eastman Kodak Company | Chelating ligands and catalysts and processes employing the same |
US4879008A (en) * | 1987-11-09 | 1989-11-07 | Eastman Kodak Company | Preparation of bidentate ligands |
JPH0733392B2 (ja) * | 1989-06-16 | 1995-04-12 | 高砂香料工業株式会社 | 2,2’―ビス〔ジー(m―トリル)ホスフィノ〕―1,1’―ビナフチル |
-
1994
- 1994-09-19 DE DE4433294A patent/DE4433294A1/de not_active Withdrawn
- 1994-11-03 DE DE59409141T patent/DE59409141D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-03 EP EP94117327A patent/EP0653432B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-10 US US08/337,959 patent/US5600006A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-11 JP JP6277598A patent/JPH07252280A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4433294A1 (de) | 1995-05-18 |
US5600006A (en) | 1997-02-04 |
DE59409141D1 (de) | 2000-03-16 |
EP0653432B1 (de) | 2000-02-09 |
EP0653432A1 (de) | 1995-05-17 |
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