JPH0721559B2 - Ｘ線増感スクリン - Google Patents

Ｘ線増感スクリン

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JPH0721559B2
JPH0721559B2 JP2094204A JP9420490A JPH0721559B2 JP H0721559 B2 JPH0721559 B2 JP H0721559B2 JP 2094204 A JP2094204 A JP 2094204A JP 9420490 A JP9420490 A JP 9420490A JP H0721559 B2 JPH0721559 B2 JP H0721559B2
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screen
ray
film
soluble
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スーザン・ジヨイ・ハンター
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EI Du Pont de Nemours and Co
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    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Radiography Using Non-Light Waves (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はＸ線増感スクリンの分野に関し、詳細には、そ
の上に像を作る写真用のフイルムと組み合わせて用いら
れる、改良されたポリアミドの表面層またはトツプコー
ト層を有するＸ線増感スクリンに関するものである。
発明の背景 各種の溶液で塗布されるトツプコートまたは表面フイル
ムをＸ線増感スクリンの上に配置できることは知られて
いる。これらのトツプコートおよびフイルムはケイ光体
−バインダ（Phoshphor−binder）層を保護し、そして
各種方法でＸ線増感スクリンの処理性を改良することを
意図するものである。像を作るためにフイルムはスクリ
ンに密着して配置される。これを行なうための操作は用
いられる装置により変化する。これらのＸ線増感スクリ
ンの表面はブツク型のカセツトの中で必ずしも長時間の
保護が得られないし、また近代設備の病院の繁忙な放射
線科で現在見られる最新の自動システムで用いられる場
合特に寿命が短い。Ｘ線フイルムのマガジンとスクリン
は病院の関係者により自動変換装置中に装填され、この
時点から作業は白光の下で普通行うことができる。変換
装置の中にある、適切な写真フイルムエレメントとこれ
にマツチしたスクリンは、必要に応じて露光される。つ
いでこの露光されたＸ線フイルムのマガジンはフイルム
処理のために取り出され、システム中には未露光のＸ線
フイルムのマガジンが入れられる。この自動システムに
伴う１つの欠点は、特にＸ線増感スクリンがシステム全
体で高価な部分であるため、スクリン上にかなりの応力
がかかることであり、その表面は自動処理に耐える（例
えば、Ｘ線写真フイルムがスクリン表面、機構部その他
を摩擦する）ために、強靱で耐久性を有することが必要
であり、そして表面に可視的像の欠陥を生じないことも
必要である。これに加え、取り扱い中にスクリンに対し
てフイルムが動く際に、この自動装置に蓄積される静電
気を減少させることも必要である。良く知られているよ
うに、静電気が生じると望ましくないフイルムの露光
と、その後の取り扱い上の問題をひき起こす。そこで、
例えばこの最新の自動変換装置内で多数回の使用に耐え
ることのできる。Ｘ線増感スクリンを開発する緊急な要
望がある。
前記の欠点を克服することができ、そして本発明の無
色、透明で、強靱な、薄い可撓性フイルムを支持体付り
ん光体含有層の表面に結合させることにより改良された
Ｘ線増感スクリンが得られることが判明した。
発明の要点 本発明によれば、その上にケイ光体−バインダ層を有す
る基体と、このケイ光体−バインダ層に接着した重合体
フイルムとからなるＸ線増感スクリンであって、前記ケ
イ光体−バインダ層に結合したフイルムが約15.2μｍよ
りも大きくない厚さを有し、無色、透明、可撓性で、強
靱な、寸法安定性を有するポリアミドフイルムでありそ
して前記Ｘ線増感スクリンがブツク型カセツトまたは自
動変換装置の中で用いられるとき、0.15〜0.25の範囲の
平均動摩擦係数と、60％R.H.において6.0秒以下の静電1
/2減衰時間を有する、Ｘ線増感スクリンが提供される。
発明の具体的説明 第１図はＸ線増感スクリンエレメントの製造で通常用い
られる基体である。代表的なＸ線スクリン基体には紙、
または適当なサイズにした、もしくはバライタを塗布し
た厚紙、例えばポリエチレンテレフタレート（好適）、
セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテ
ートブチレート、ポリ（ビニルクロライドまたはビニル
アセテート）、およびポリアミド、その他のようなフイ
ルム類、同様に薄い金属またはホイルなどが含まれる。
Ｘ線スクリンとして用いるためには、基体はＸ線透過性
でなければならない。これらの基体には厚さ約0.00025
インチ（0.00064cm）〜約0.30インチ（0.76cm）が適当
で、約0.01インチ（0.025cm）の厚さのものが好まし
い。これらの基体はその中に分散されたTiO2のような反
射剤を含有することができる。あるいはまた、反射材料
を別の層として基体に付与することもできる。同じよう
に、吸収性の色素等のような他の補助剤も本発明のスク
リンエレメントの基体に用いることができる。基体に好
ましいのは薄いが強固で、寸法安定性を有するポリエチ
レンテレフタレートの約0.004〜0.012インチ（0.1〜0.3
mm）の厚さのものであるが、他の厚さのものも好適であ
る。
ケイ光体含有層２は適当なバインダに分散されたケイ光
体の粒子を通常含んでいる。このケイ光体材料は通常所
望量を適当な溶剤、例えばｎ−ブチルアセテートとｎ−
プロパノールとの混合物の中に混合し、そしてこの混合
液を適当なバインダ、例えばポリビニルブチラールな
ど、と混合して分散液を生成する。この分散液は前記基
体のいずれかの上に、またはポリアミドフイルム保護層
上に塗布する。多くの慣用のバインダの任意のものへの
ケイ光体の分散はボールミル分散および当業者に良く知
られた、、例えば米国特許第2,648,013号；同第2,819,1
83号；同第2,907,882号；同第3,043,710号；および同第
3,895,157号各明細書に記載の他の方法により行うこと
もできる。なお、参考までに各特許の開示を挙げてお
く。有用なケイ光体は多数あり、これらには例えば鉛に
より賦活されたものを含むカルシウムおよびマグネシウ
ムのタングステン酸塩;Y2O2S:Tbのようなテルビウム賦
活希土類金属のオキシスルフイド型ケイ光体、同様にラ
ンタンおよびツリウムにより賦活されているもの、およ
びGd2O2S型ケイ光体;YPO4:Tbのようなテルビウムで賦活
された希土類リン酸塩ケイ光体、そしてガドリニウムお
よびランタンにより賦活されているもの;LaOBr:Tbのよ
うな希土類オキシハライド型ケイ光体およびツリウムに
より賦活されているもの;BaSO4:Pbのような硫酸バリウ
ム型ケイ光体およびユウロピウムで賦活されているもの
と、またストロンチウムを含有するものなどがあり；同
様に記載されるべきものにはユウロピウム賦活アルカリ
金属リン酸塩型ケイ光体および２価のユウロピウムで賦
活されたアルカリ土類金属フルオロハライド型ケイ光体
があり；ヨーダイド型ケイ光体およびスルフイド型ケイ
光体も知られている。なおこの他のケイ光体組成物には
Patten氏の米国特許第4,387,141号の希土類タンタレー
トとCaWO4との混合ケイ光体、同じくBrixner氏の米国特
許第4,225,653号のタンタレートケイ光体が含まれ、こ
れらを参考までに挙げておく。
保護層３が本発明の改良点である。Ｘ線スクリンエレメ
ントにおける保護層として、ラミネートしたフイルムを
使用することが知られているが、ケイ光体含有層に結合
された、低い動的摩擦係数と低い静電特性とを有する無
色、透明、可撓性の強靱な、寸法安定性を有する（延伸
され、アニール処理されている）薄いポリアミドフイル
ムを用いることは知られていない。これらのポリアミド
フイルムは慣用的に合成されたものであり、約2.5〜15.
2μｍ、好ましく約2.5〜12.7μｍの厚さを有している。
ポリアミドフイルムの例としては結晶型のもの、例えば
ナイロン6,6−〔−NH−（CH2）６−NH−OC−（CH2）４
−CO−〕n;ナイロン６−〔−（CH2）５−CO−NH−〕n;
ナイロン12,12、等；非晶型のもの、例えばセラー PA3
426（デユポン社製）等；およびこれらの混合物などが
ある。ポリアミドフイルムはケイ光体−バインダ層２に
接着性材料により、またはこれを用いないで結合するこ
とができる。例えば、ケイ光体−バインダ層はポリアミ
ドフイルムの表面上に塗布することができるし、あるい
はポリアミドフイルムをケイ光体−バインダ層の表面に
押出成形することもできる。しかしながら、前記の結合
には接着剤を使用するのが有用である。
接着剤を用いる場合には、ケイ光体含有層２の表面に直
接付与することができるが、あるいはラミネートする前
に、ポリアミドのトツプコート３に直接にまたは間接的
に付与して第１図に示したような本発明のＸ線増感スク
リンとすることができる。慣用的に用いられている接着
剤が本発明の範囲内で使用することができる。有用な接
着剤としては水溶性のアクリル系接着剤、溶剤可溶性の
アクリル系接着剤（「カルボセツト」 B.F.グツドリツ
チ社製）、溶剤可溶性ポリエステル系接着剤（ホイツタ
カー社製）、溶剤可溶性のポリエステルポリウレタン、
水溶性の塩化ビニルコポリマなどがある。溶剤はメチレ
ンクロライド、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、
イソプロパノールなどである。本発明においては酢酸エ
チル中の高分子カルボキシル化ポリマ（「カルボセツ
ト」 XPD−1294B.F.グツドリツチ社製）を使用するの
が好ましく、本発明のケイ光体層にラミネートする前
に、ポリアミドフイルムに対しこれを直接または間接に
付与した。この際、画質に及ぼす接着剤の厚さと光吸収
との影響を最小とするための注意を払わねばならない。
接着剤の乾燥厚さの範囲はポリアミドフイルム面で測っ
て約１〜８μｍである。
本発明の実施に際して、ポリアミドの保護層を有するよ
うに作られたＸ線スクリンエレメントは、病院などで用
いられている、例えばブツク型カセツト、自動変換装置
およびその他の自動システム中で良好に作動しなければ
ならない。このような自動変換装置の例としては、別に
これらに限定するものではないがキヤノンフイルム変換
装置モデルCFC−U1、シヨナンダAOTモデルDST−893R、
デユポンCDSコンパクトデイライトシステムモデルWH−2
9、およびデユポンMDSモジユラデイライトシステムモデ
ルＣ−345などがある。もしスクリンの摩擦係数（COF）
が余りにも大きい場合には、前述の自動変換装置と一緒
に使用するとスクリンは大きな摩耗を生ずる。その上、
スクリンはこれと組み合わせた写真用フイルムが不必要
に感光されないように、そして必要な像を処理するため
前述の自動変換装置から容易にとり出せるように、静電
気の蓄積が小さくなければならない。従ってスクリン保
護層面の強靱さと、処理の過程で静電気が蓄積しないよ
うにバランスさせる必要がある。本発明の既知のトツプ
コートフイルムからなるポリアミドフイルムトツプコー
ト層はCOFの減少、望ましくない溝または穴の生成およ
び摩耗に対する強靱さ、および静電気の発生を低下させ
るというこれらデリケートなバランスをとることができ
る。
第２図は医療用Ｘ線装置のCOFを測定する装置を示し、
ここで４はフィルム〔DE「クロネツクス」 医療用Ｘ線
フイルム、４インチ（10.16cm）幅（デユポン社製）〕
の連続ウエブで、図示の方向にローラ５と６により圧板
７の下を搬送されている。フイルムの速度は本発明のテ
ストでは約130インチ（330.2cm）／分に設定した。テス
トされるスクリン（図示せず）をロードスケール８の上
に置く。この秤りは装置９を調整することにより、０〜
21ポンド（０〜9.34×106ダイン）の圧力に調節するこ
とができる。スクリンを１対のローラ12と13により支持
された、テーブル10の上の台11の上にのせた。これには
ワイヤ15によりフリクシヨンスケール14がとり付けられ
ている。フイルム４が11でスクリン面上を通過すると
き、ポンド（ダイン）表示の試験圧がかけられ、摩擦力
対負荷およびスリツプ速度が14により測定される。この
ようにして個々のスクリンについて、色々の摩擦力と負
荷とからCOFが計算でき、その表面に生ずる損傷の量の
測定をすることができる。約0.15〜0.25、好ましく約0.
15〜0.22の平均COF限度を有する本発明のポリアミドフ
イルムは、本発明のスクリンを保護する適切な表面を形
成する。
静電気の発生傾向は、例えばモンロースタテイツクチヤ
ージアナライザ、モデル276A（モンローエレクトロニク
ス社製）を用いて測定することができる。この装置は70
゜F（21℃）、60％R.H.（相対湿度）で平衡にされたス
クリン試料について、その表面の初めの電荷が1/2に達
するまでの時間を測定するのに用いられる。各スクリン
試料の表面はイソプロパノールまたはその他の適当なク
リーナで拭くことにより清浄にし、よく乾かし、平衡に
し、ついでテストする表面はまた帯電防止液〔例えば
「クロネツクス」 スクリンクリーナ（デユポン社
製）〕で拭いた後、乾燥し、平衡にした後でテストし
た。各試料は最高2000Vで10秒間帯電され次いで電荷減
衰時間が記録される。イソプロパノールで清浄にした表
面で、60％R.H.において6.0秒以下の平均静電1/2減衰時
間を有するものが好ましく、60％R.H.において3.0秒以
下の平均1/2減衰時間を有する表面が最も好ましい。
したがって、定義されたような無色、透明で、強靱なそ
して可撓性を有するポリアミドフイルムが、本発明の効
果を発揮することは明らかである。本発明のものに比べ
て、その他のフイルムエレメントは色々の理由で欠点が
ある。多くのものは摩耗から保護するのに必要なCOFと
強靱性を有していないし、また静電防止性も有していな
い。透明でない、あるいは着色した他のトツプコートフ
イルムは薄い層として付与することができず、そのため
Ｘ線増感スクリンの保護層としては不適当である。この
ことは以下に記載の各実施例で示され、実施例４が本発
明の好ましいものであると考えられる。
実施例 以下に実施例を示すが本発明を限定するものではない。
実施例 １ トツプコートフイルムを除いて、第１図に示したような
構造を有する16種類のスクリンを製造した。いずれの場
合もトツプコートフイルムは、現在入手しうる各種の表
面用材料を用いて以下の第１表に従って適用した。ケイ
光体層はポリアクリレートバインダ中に分散させたYTaO
4:Nbケイ光体からなっている。各種の試験は、平均COF
については前述の装置を使用し、そして静電感受性につ
いては前述のようにして各試料について行われた。これ
ら試料の表面は以下の第２表中に示した組成をもつ材料
からなっている。帯電性、厚さおよび透明性のような特
性が以下の第１表のように観察された。
上記結果からわかるように、本発明の要件を満たすポリ
アミドから作られたトツプコートフイルムだけが、良好
なCOF、高い透明性、および低い帯電性を有し、そして
物理的欠点のない高品質のＸ線増感スクリンを与える。
残余はいずれも少なくとも１つの重大な問題を有してい
た。
実施例 ２ この実施例においては、本発明の一般的限定に合致する
ポリアミドトツプコートフイルムを、実施例１のように
して作ったケイ光体層の上に付与した。各種の厚さのナ
イロン６とナイロン6,6フイルムが用いられた。15.2μ
ｍまたはこれ以下の厚さのフイルムだけが、本発明が目
的とする効果を有した。残りは余りに厚すぎ、これによ
り露光される写真エレメントに不良の結果を生じた。
第 ３ 表 試 料 フイルム厚さ（μｍ） 備 考 ナイロン6,6 7.8 最良の解像性 ナイロン6,6 12.2 良好な解像性 ナイロン6,6 15.2 限界的な解像性 ナイロン6,6 25.4 不十分な解像性 ナイロン６ 12.2 良好な解像性 実施例 ３ この実験では各種の先着剤材料がテストされた。これら
はケイ光体層（実施例１参照）の上か、またはナイロン
6,6の7.8μｍ厚さのフイルムであるポリアミド層に直接
付与するかのいずれかによりテストされた。以下の第４
表にポリアミド層に付与した結果を示す： 第 ４ 表 試料 使用接着剤 接 着 性 １ 「ロボンド」 LEC-581) 良 好 ２ 「ロボンド」 PS-602) 良 好 ３ 「カルボセツト」 XPD-11173) 極めて良好 ４ 「カルボセツト」 XPD-12464) 極めて良好 ５ 「カルボセツト」 XPD-12945) 優 良 ６ 「カルボセツト」 5316) 良 好 ７ 「ホイツタカー」 469607) 極めて良好 ８ 「ホイツタカー」 560658) 極めて良好 ９ 「ロープレツクス」 AC2019) 不 良 10 アドヘシブE-206710) 極めて良好 11 「テイセル」 7909/728311) 極めて良好 12 「ゼオン」 5761212) 不 良 １） アクリル系、水溶性、感圧性（ローム・アンド・
ハース社製） ２） アクリル系、水溶性、感圧性（ローム・アンド・
ハース社製） ３） アクリル系、溶剤可溶性（B.F.グツドリツチ社
製） ４） アクリル系、溶剤可溶性、熱硬化性（B.F.グツド
リツチ社製） ５） アクリル系、溶剤可溶性（B.F.グツドリツチ社
製） ６） アクリル系、水溶性、熱硬化性（B.F.グツドリツ
チ社製） ７） ポリエステル系、溶剤可溶性（ホイツタカー社
製） ８） ポリエステル系、溶剤可溶性（ホイツタカー社
製） ９） アクリル系、水溶性、熱可塑性（ローム・アンド
・ハース社製） 10） アクリル系、水担持性、感圧性（ローム・アンド
・ハース社製） 11） 変性脂肪族ポリエステルポリウレタン（ロード社
製） 12） 可塑化塩化ビニルコポリマ（B.F.グツドリツチ社
製） 実施例 ４ この実施例のスクリンを作るための基体１として、反射
性を与えるためのTiO2を含んだ厚さ約0.010インチ（0.2
5mm）の市販の寸法安定性を有するポリエチレンテレフ
タレートフイルムを用いた。アクリル系ポリマバインダ
に分散したYTaO4:Nbケイ光体を0.006インチ（0.15mm）
厚さでこの上に層２として付与した。本発明のトツプコ
ート３としては、7.8μｍ厚さのナイロン6,6フイルムを
用いた。このトツプコートは実施例３記載の「カルボセ
ツト」 XPD−1294接着剤で初め処理され、ついでケイ
光体層２の上にラミネートすることにより付与された
（「リストン」 HRL−24ラミネータを使用、135℃、0.
4m/分）。本発明の代表的なスクリンエレメントは、第
２図に示した装置を用いてまずテストし、そして標準的
な医療用Ｘ線写真フイルムエレメントを露光するために
用いてセンシトメトリを調べた。平均COFは0.20であ
り、また60％R.H.における静電1/2減衰時間は2.0秒であ
り、そしてこれを用いて露光したフイルムの感度と解像
性とは対照に相当するものであり、そしてこのトツプコ
ートが優れた保護性にセンシトメトリについての損失を
全く与えていないことを示している。
実施例 ５ この実施例のスクリンを作るための基体として、反射性
を与えるためのTiO2を含んだ厚さ約0.010インチ（0.25m
m）の市販の、寸法安定性を有するポリエチレンテレフ
タレートフイルムを用いた、アクリル系ポリマバインダ
に分散したYTaO4:Nbケイ光体を、0.006インチ（0.15m
m）厚さでこの上に層として付与した。以下の第５表に
列挙したナイロンフイルムが本発明のトツプコートフイ
ルムとして用いられた。これらの各トツプコートフイル
ムは実施例３のように、まず「カルボセツト」 XPD−1
294接着剤で処理し、ついでケイ光体層上にラミネート
により付与した（「リストン」 HRL−24ラミネータ使
用−空気を用いて−、135℃、0.4m/分）。各スクリンを
第２図に示した装置を用いて試験した。平均COFと各ス
クリンエレメントに関する備考を以下の第５表に示す。
実施例 ６ 以下の点を除いて実施例４をくり返した:YTaO4:Mbケイ
光体のアクリル系ポリマバインダ層をポリアミドフイル
ム上に塗布し、ついで「カルボセツト」 XPD−1294接
着剤で処理したTiO2含有基体にラミネートした。このス
クリンエレメントを実施例４記載のようにしてテストす
ると同等の結果が得られた。
以上、本発明を詳細に説明したが、本発明はさらに次の
実施態様によってこれを要約して示すことができる。
１） その上にケイ光体−バインダ層を有する基体と、
このケイ光体−バインダ層に結合した重合体フイルムと
からなるＸ線増感スクリンであって、前記ケイ光体−バ
インダ層に結合したフイルムが約15.2μｍより大きくな
い厚さを有し、無色、透明、可撓性で、強靱な、寸法安
定性を有するポリアミドフイルムであり、このＸ線増感
スクリンはブツク型カセツトまたは自動変換器中で用い
られる場合、0.15〜0.25の範囲の平均動摩擦係数と、低
い静電感受性とを有することを特徴とする、Ｘ線増感ス
クリン。
２）ポリアミドフイルムが約2.5〜15.2μｍの厚さを有
する、前項１に記載の増感スクリン。
３） 平均動摩擦係数が0.15〜0.22の範囲にある、前項
１に記載の増感スクリン。
４） スクリンの表面が60％R.H.において6.0秒以下の
静電1/2減衰時間を有する、前項１に記載の増感スクリ
ン。
５） ポリアミドフイルムがナイロン6.6、ナイロン
６、無定形ナイロン、および前記ナイロンの混合物から
なる群より選ばれる前項１に記載の増感スクリン。
６） ポリアミド層が水溶性アクリル系、溶剤可溶性ア
クリル系、溶剤可溶性ポリエステル、溶剤可溶性ポリエ
ステルポリウレタン、および水溶性塩化ビニルからなる
群より選ばれた、可溶性の接着剤によってケイ光体−バ
インダ層に粘着的に結合された、前項１記載の増感スク
リン。
７） その上にケイ光体−バインダ層を有する基体と、
このケイ光体−バインダ層に接着された重合体フイルム
層とからなるＸ線増感スクリンであって、前記ケイ光体
−バインダ層に接着剤により付与されたフイルムが約2.
5〜約12.7μｍの厚さを有する、無色、透明、可撓性
で、強靱な、寸法安定性を有するポリアミドフイルムで
あり、そして前記Ｘ線増感スクリンが0.15〜0.22の範囲
の平均動摩擦係数と、60％R.H.において３秒以内の静電
1/2減衰時間とを有する、Ｘ線増感スクリン。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明のＸ線スクリンエレメントの代表的なも
のを示す。 第２図はスクリン/X線フイルムの組み合わせで、Ｘ線増
感スクリンの動摩擦係数（COF）を測定するための装置
を示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】その上にケイ光体−バインダ層を有する基
    体と、このケイ光体−バインダ層に接着された重合体フ
    イルムとからなるＸ線増感スクリンであって、前記ケイ
    光体−バインダ層に結合された重合体フイルムが、15.2
    μｍよりも大きくない厚さを有し、無色、透明、可撓性
    で、強靱な、寸法安定性を有するポリアミドフイルムで
    あり、そして前記Ｘ線増感スクリンがブック型カセット
    または自動変換装置中で用いられる場合、0.15〜0.25の
    範囲の平均動摩擦係数と、60％R.H.において6.0秒以下
    の静電1/2減衰時間を有することを特徴とする、Ｘ線増
    感スクリン。
  2. 【請求項２】ポリアミド層が、水溶性アクリル系、溶剤
    可溶性アクリル系、溶剤可溶性ポリエステル、溶剤可溶
    性ポリエステルポリウレタンおよび水溶性塩化ビニルか
    らなる群より選ばれた、可溶性の接着剤によってケイ光
    体−バインダ層に粘着的に結合された、請求項１記載の
    Ｘ線増感スクリン。
  3. 【請求項３】その上にケイ光体−バインダ層を有する基
    体と、このケイ光体−バインダ層に接着された重合体フ
    イルムとからなるＸ線増感スクリンであって、前記ケイ
    光体−バインダ層に接着剤により付与された重合体フイ
    ルムが、2.5〜12.7μｍの厚さを有し、無色、透明、可
    撓性で、強靱な、寸法安定性を有するポリアミドフイル
    ムであり、そして前記Ｘ線増感スクリンが0.15〜0.22の
    範囲の平均動摩擦係数と、60％R.H.において３秒以下の
    静電1/2減衰時間を有することを特徴とする、請求項１
    記載のＸ線増感スクリン。
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