JPH07211849A - リードフレーム - Google Patents

リードフレーム

Info

Publication number
JPH07211849A
JPH07211849A JP1994494A JP1994494A JPH07211849A JP H07211849 A JPH07211849 A JP H07211849A JP 1994494 A JP1994494 A JP 1994494A JP 1994494 A JP1994494 A JP 1994494A JP H07211849 A JPH07211849 A JP H07211849A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bonding
width
lead frame
lead
inner lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1994494A
Other languages
English (en)
Inventor
Mutsumi Nagano
睦 長野
Kenji Osawa
健治 大沢
Makoto Ito
伊藤  誠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP1994494A priority Critical patent/JPH07211849A/ja
Publication of JPH07211849A publication Critical patent/JPH07211849A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 インナーリード1の強度を確保しつつファイ
ンピッチ化を図る。 【構成】 インナーリード1先端部のボンディングされ
る箇所5を、それの基部側よりも幅を狭くする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リードフレーム、特に
強度を確保しつつファインピッチ化を図ることのできる
新規なリードフレームに関する。
【0002】
【従来の技術】リードフレームとして、エッチングスト
ップ層となるアルミニウムからなる中間金属層の両面に
互いに厚さの異なる例えば銅からなる金属層を形成し、
この両面の金属層に対して選択的エッチングをすること
により厚いアウターリードと、薄いインナーリードを形
成し、その後、このアウターリード及びインナーリード
をマスクとしてエッチングによりこの中間金属層の不要
部分を除去することによって製造したもの及びその製造
方法が特開平3−148856号公報あるいは特開平5
−198716号公報等により紹介されている。
【0003】このようなリードフレームは、アウターリ
ードによりリードフレーム全体としての強度を保ちつつ
インナーリードの微細化を図り、ICの多ピン化に対応
することができる。そして、より一層の多ピン化に対応
するため、インナーリードの形成を、インナーリードパ
ターンに対してネガのパターンに形成したレジスト膜を
マスクとしてメッキするという方法で行う技術が開発さ
れている。というのは、金属層を全面的に形成し、これ
をレジスト膜をマスクとしてエッチングするという従前
からの方法によればサイドエッチングが生じファインピ
ッチ化が制約されるが、レジスト膜をマスクとしてメッ
キするという方法にはそのようなサイドエッチングが生
じないからである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のリー
ドフレームには、図4(A)、(B)に示すようにイン
ナーリードの先端部が超音波によるシングルポイントボ
ンディングにより圧潰されて幅広になり、隣接インナー
リード間の短絡事故が発生し易くなるという問題があっ
た。尚、図4(A)はICとそのボンディングパッドに
ボンディングされるあるいはされたインナーリードを示
す平面図、(B)はリードフレームの別の例におけるボ
ンディングを終えた実際のインナーリードを拡大して撮
影したものを拡大筆写した図である。尚、図面におい
て、1はインナーリード、2は圧潰により幅が拡がった
部分、3はIC、4はボンディングパッド、5はボンデ
ィングツールの十字形の先端により生じた傷である。
【0005】かかる問題について具体的に説明すると、
インナーリードの幅、ピッチには種々のものがあるが、
例えば70μmピッチ、40μm幅のものを例に採る
と、隣接インナーリード間の間隔はもともと30μmし
かない。ところが、ボンディングにより圧潰が生じると
各インナーリードの両側片で例えば10μm程度も拡が
る。すると、隣接インナーリード間のボンディング箇所
における間隔は10μm程度に狭くなり、延いてはショ
ート事故が発生し易くなるのである。尤も、インナーリ
ードの幅を狭くすることにより同じピッチでありながら
ボンディング箇所における隣接インナーリード間の間隔
を広くすることはできるが、しかし、そのようにすると
インナーリードの強度が低下するという問題が生じる。
【0006】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、インナーリードの強度を確保しつつ
ファインピッチ化を図ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1のリードフレー
ムは、インナーリード先端部のボンディングされる箇所
を、それの基部側よりも幅を狭くすることを特徴とす
る。請求項2のリードフレームは、請求項1のリードフ
レームにおいて、インナーリードのボンディングされる
箇所よりも先端側を幅広にしたことを特徴とする。
【0008】
【作用】請求項1のリードフレームによれば、ボンディ
ング箇所がボンディングにより圧潰されて拡がってもも
ともと幅が狭く形成されているので、ボンディング箇所
がインナーリード側面から食み出して幅広になることを
回避することができ、延いてはショート事故が発生し易
くなるという問題を回避することができる。請求項2の
リードフレームによれば、ボンディングされる箇所から
先端まで幅を狭くした場合に比較してインナーリードの
メッキがし易くなる。即ち、選択的に形成したレジスト
膜をマスクとして例えば銅等を下地として銅等をメッキ
してインナーリードを形成する場合において、幅が狭い
部分が長いとメッキがつきにくくなるが、ボンディング
される箇所のみを狭くしそれよりも先端側を広くするの
で、幅の狭い部分が短かくて済む。従って、インナーリ
ードのメッキがつきにくくなるという虞れを少なくする
ことができる。
【0009】
【実施例】以下、本発明リードフレームを図示実施例に
従って詳細に説明する。図1は本発明リードフレームの
一つの実施例を示す平面図である。このリードフレーム
のインナーリード1、1、…はボンディングされる箇所
5がその基部側よりも幅が狭くされている。Pはインナ
ーリード1、1、…の配置ピッチで、例えば70μmで
ある。Gは隣接インナーリード間の間隔で、例えば20
μmである。Waはインナーリード1、1、…のボンデ
ィングされる箇所5よりも基部側における幅で、例えば
50μmである。Wbはボンディングされる箇所5にお
ける幅で、例えば20μmである。ボンディングされる
箇所5の幅Wbは、メッキによるインナーリードの形成
に際してマスクとして用いられるレジストを用いたフォ
トリソグラフィの解像度によって決まる範囲内で狭くす
ることができ、現在でもレジスト膜の厚さが20μmの
場合例えば30μmあるいは20μm程度に狭くするこ
とができ、レジストプロセス技術の進歩によってはそれ
よりも更に狭くできることも予想される。
【0010】従って、このようなリードフレームによれ
ば、シングルポイントボンディングによりボンディング
5の幅がWbから拡がってもWaを越えることはない。
従って、ボンディングによりボンディング箇所5が拡が
ってもその拡がった部分6における幅がWaよりも広く
なることはない。依って、ボンディングにより隣接イン
ナーリード1・1間の間隔Gがボンディング箇所付近で
狭くなる虞れはない。しかして、ボンディングされる箇
所5の幅Wbを狭くすることによりインナーリード1
(のボンディングされる箇所より基部側)の幅Waを狭
くしなくてもピッチPを小さくすることができる。即
ち、強度を確保しつつファインピッチ化を図ることがで
きるのである。
【0011】図2は図1に示したリードフレームの変形
例の要部を示す平面図で、このリードフレームの図1に
示したリードフレームとの違いは、ボンディングされる
箇所5と幅がWaの部分との間の部分をテーパー状にし
たことである。即ち、図1に示したリードフレームにお
いては、ボンディングされる箇所5と幅がWaの部分と
の間がボトルネック状に、即ち、図1の7で示す部分に
R(アール)をつけた形状になっているが、図2に示し
たリードフレームにおいてはテーパー状になっているの
である。このように、ボンディングされる箇所5と幅が
Waの部分との間の形状は図1に示すものに限定されな
い。ただ、図2に示すリードフレームにはエッジに応力
が集中するので亀裂が発生する虞れがある。
【0012】図3は本発明リードフレームの他の実施例
の要部を示す平面図である。本リードフレームは、各イ
ンナーリード1のボンディングされる箇所5よりもその
先端側を幅広に形成したものである。このようにするの
は、ボンディングされる箇所5近傍においてメッキがつ
きにくくなるのを回避するためである。即ち、選択的に
形成したレジスト膜をマスクとして例えば銅等を下地と
して例えば銅等をメッキしてインナーリードを形成する
場合において、幅が狭い部分が長いとメッキがつきにく
くなるが、ボンディングされる箇所のみを狭くしそれよ
りも先端側を広くするので、幅の狭い部分が短かくて済
む。従って、インナーリードのメッキがつきにくくなる
という虞れを少なくすることができる。
【0013】
【発明の効果】請求項1のリードフレームは、インナー
リード先端部のボンディングされる箇所を、それの基部
側よりも幅を狭くすることを特徴とするものである。従
って、請求項1のリードフレームによれば、ボンディン
グ箇所がボンディングにより圧潰されて拡がってももと
もと幅が狭く形成されているので、ボンディング箇所が
インナーリード側面から食み出して幅広になることを回
避することができ、延いてはショート事故が発生し易く
なるという問題を回避することができる。
【0014】請求項2のリードフレームは、請求項1の
リードフレームにおいて、インナーリードのボンディン
グされる箇所よりも先端側を幅広にしたことを特徴とす
るものである。従って、請求項2のリードフレームによ
れば、ボンディングされる箇所から先端まで幅を狭くし
た場合に比較してインナーリードのメッキがし易くな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明リードフレームの一つの実施例を示す平
面図である。
【図2】図1のリードフレームの変形例の要部を示す平
面図である。
【図3】本発明リードフレームの他の実施例の要部を示
す平面図である。
【図4】(A)、(B)は発明が解決しようとする問題
点で、(A)はインナーリードの平面図、(B)は別の
種類のインナーリードを撮影したものを拡大して筆写し
た筆写図である。
【符号の説明】
1 インナーリード 5 ボンディングされる箇所

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インナーリード先端部のボンディングさ
    れる箇所がそれの基部側よりも幅を狭くされたことを特
    徴とするリードフレーム
  2. 【請求項2】 インナーリードのボンディングされる箇
    所よりも先端側が幅を広くされたことを特徴とする請求
    項1記載のリードフレーム
JP1994494A 1994-01-19 1994-01-19 リードフレーム Pending JPH07211849A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1994494A JPH07211849A (ja) 1994-01-19 1994-01-19 リードフレーム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1994494A JPH07211849A (ja) 1994-01-19 1994-01-19 リードフレーム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07211849A true JPH07211849A (ja) 1995-08-11

Family

ID=12013323

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1994494A Pending JPH07211849A (ja) 1994-01-19 1994-01-19 リードフレーム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07211849A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015088028A1 (ja) * 2013-12-13 2015-06-18 京セラ株式会社 素子収納用パッケージおよび実装構造体
US11735509B2 (en) * 2019-03-22 2023-08-22 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor device and manufacturing method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015088028A1 (ja) * 2013-12-13 2015-06-18 京セラ株式会社 素子収納用パッケージおよび実装構造体
US11735509B2 (en) * 2019-03-22 2023-08-22 Mitsubishi Electric Corporation Power semiconductor device and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05198716A (ja) リードフレームの製造方法
JPH07211849A (ja) リードフレーム
JPH0823147A (ja) 回路基板の接続構造
JPH0669638A (ja) プリント配線板のランド部構造
JP4088561B2 (ja) フリップチップ実装用基板
JPH06179088A (ja) 金属板の加工方法およびリードフレームの製造方法
JPH02260598A (ja) 立体配線板の製造方法
JPH05283412A (ja) 半導体装置,およびその製造方法
JPH0832012A (ja) リードフレーム及びその製造方法
JPH08316392A (ja) リードフレームの製造方法とリードフレーム
JPH02158160A (ja) リードフレームの製造方法
JPH04354153A (ja) リードフレームの製造方法
JPH0548928B2 (ja)
JPS61255039A (ja) 半導体素子
JP2632464B2 (ja) リードフレームの製造方法
JP2969968B2 (ja) 印刷用メタルマスクの製造方法
JPS60240148A (ja) リ−ドフレ−ムの製造方法
JP2556963B2 (ja) セラミツク基板の半田付方法
JPS5824020B2 (ja) 半導体装置
JPH01241116A (ja) アライメント・マーク
JPH06334085A (ja) リ−ドフレ−ムの製造方法
JPH07335803A (ja) リードフレームの製造方法及びリードフレーム
JPH02114693A (ja) 回路基板および回路基板の製造方法
JPH0287629A (ja) 半導体装置
JPS58202555A (ja) 半導体装置の製造方法