JPH0719555Y2 - Fluid dropping supply device - Google Patents
Fluid dropping supply deviceInfo
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- JPH0719555Y2 JPH0719555Y2 JP6508591U JP6508591U JPH0719555Y2 JP H0719555 Y2 JPH0719555 Y2 JP H0719555Y2 JP 6508591 U JP6508591 U JP 6508591U JP 6508591 U JP6508591 U JP 6508591U JP H0719555 Y2 JPH0719555 Y2 JP H0719555Y2
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- pump
- pump chamber
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- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この考案は、半導体ウエハの表面
にフォトレジスト液を滴下供給して薄膜形成を行なうた
めに用いられる流体滴下供給装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fluid dropping supply device used for dropping a photoresist solution onto the surface of a semiconductor wafer to form a thin film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、この半導体ウエハの表面にフォ
トレジスト液の薄膜を形成する場合、回転体上に半導体
ウエハを載置し、この回転する半導体ウエハ上にフォト
レジスト液を滴下供給することにより行なわれている。2. Description of the Related Art Generally, when a thin film of a photoresist solution is formed on the surface of a semiconductor wafer, the semiconductor wafer is placed on a rotating body and the photoresist solution is dropped and supplied onto the rotating semiconductor wafer. Has been done.
【０００３】従来、この種のフォトレジスト液の流体滴
下供給装置、所謂、フォトレジスト・ディスペンサにお
いては、圧送方式のものと、ポンプ方式のものとに大別
されている。Conventionally, a fluid dropping supply device of this type of photoresist liquid, that is, a so-called photoresist dispenser is roughly classified into a pressure type and a pump type.
【０００４】圧送方式のディスペンサは、例えばフォト
レジスト液が収容されたレジストボトル内にチッ素ガス
（Ｎ2ガス）を加えて圧力を高め、フィルタを介して配
管系に送り出されるフォトレジスト液の流量をバルブの
開閉により調整することにより定量吐出させ、滴下供給
が行なわれている。In the pressure-feeding type dispenser, for example, nitrogen gas (N 2 gas) is added to the resist bottle containing the photoresist solution to increase the pressure, and the flow rate of the photoresist solution sent to the piping system through the filter. Is adjusted by opening and closing the valve to discharge a fixed amount, and a drip supply is performed.
【０００５】一方、ポンプ方式のディスペンサには、ダ
イヤフラムを用いてなるものと、ベローズを用いてなる
ものがあり、レジストボトル内に収容されたフォトレジ
スト液を定量ポンプで吸い上げ、フィルタを通して滴下
供給している。On the other hand, pump-type dispensers include those using a diaphragm and those using a bellows. The photoresist solution contained in a resist bottle is sucked up by a metering pump and supplied drop-wise through a filter. ing.
【０００６】[0006]
【考案が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなディスペンス・システムにあっては、フォトレジス
ト液の液性によって気泡が分離・発生することがあり、
運転時に、気泡がポンプ室に混入すると、吐出量が不安
定となるばかりでなく、半導体ウエハ上の薄膜内に気泡
が形成され、断線の原因となるために、製品の品質低下
を招き、不良品となってしまう。However, in such a dispensing system, bubbles may be separated and generated due to the liquid nature of the photoresist liquid.
If bubbles enter the pump chamber during operation, not only will the discharge rate become unstable, but bubbles will also form in the thin film on the semiconductor wafer, causing wire breakage, leading to product quality deterioration and It will be a good product.
【０００７】また、上記した加圧方式のディスペンサで
は、Ｎ2ガスがフォトレジスト液中に混入し易いため
に、吐出量の経時安定性（再現精度）が悪いばかりでな
く、フォトレジスト液の粘度が高くなったり、フィルタ
に目詰まり等が発生した際の吐出量の低下を防止するた
めに、加圧力を上げるにも、レジストボトルの耐久性の
問題から限度がある。Further, in the above-mentioned pressure type dispenser, since N 2 gas easily mixes into the photoresist liquid, not only the stability of the discharge amount with time (reproducibility) is poor, but also the viscosity of the photoresist liquid is increased. There is a limit to the durability of the resist bottle even if the pressure is increased in order to prevent the discharge amount from decreasing when the temperature becomes high or when the filter is clogged.
【０００８】特に、ポンプ室にフィルタのエレメントを
カートリッジ式に交換可能に一体に内蔵したポンプ方式
のディスペンサでは、システム上、初期運転の際やゴミ
等により目詰まりしたフィルタのエレメントの交換後に
おいて、フィルタ内部の網目（メディア部）に付着した
気泡のエア抜きが極めて悪く、エア抜き作業に約４〜５
時間も要し、このエア抜きの間中、フォトレジスト液を
放出し続けるために、これに使用されるフォトレジスト
液の無駄が極めて多く、稼働準備作業における手間や作
業コストの点で問題があった。In particular, in the pump type dispenser in which the filter element is integrally incorporated in the pump chamber in a cartridge type so as to be exchangeable, in the system, at the time of initial operation or after the filter element is clogged due to dust or the like, Air removal of bubbles adhering to the mesh (media part) inside the filter is extremely poor, and it takes about 4-5
It takes time, and since the photoresist solution is continuously discharged during the air bleeding, the photoresist solution used for this is extremely wasteful, which causes problems in labor and work cost in the operation preparation work. It was
【０００９】この考案の目的は、配管系やフォトレジス
ト液中に分散・発生する気泡及びポンプ室に内蔵された
フィルタ内部の気泡のエア抜きを短時間で行ない得るよ
うにし、稼働準備作業の簡便化を図ることができるよう
にした流体滴下供給装置を提供することにある。The object of the present invention is to make it possible to deflate air bubbles dispersed and generated in a piping system or a photoresist solution and air bubbles inside a filter built in a pump chamber in a short time, thereby facilitating operation preparation work. Another object of the present invention is to provide a fluid dropping supply device that can be realized.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ために、この考案は、フォトレジスト液を滴下供給する
ポンプ機構と、このポンプ機構を駆動するアクチュエー
タ機構と、このアクチュエータ機構の駆動による前記ポ
ンプ機構のポンピング作動でフォトレジスト液をポンプ
室に供給するレジスト液供給手段と、前記ポンプ機構の
ポンプ室のエア抜きを自動的に行なう自動エア抜き機構
とを備え、この自動エア抜き機構において、前記ポンプ
室の上部に三方向作動切換弁を介して連通可能に設けた
チャンバと、このチャンバ内を真空にする真空発生手段
とからなり、前記ポンプ室の閉成回路状態において、前
記三方向作動切換弁の開弁によりポンプ室とチャンバと
を連通させて、前記真空発生手段による吸引作用でポン
プ室のフォトレジスト液をチャンバ内の所定のレベル位
置まで導入し、エア抜きを行なうように構成してなるも
のである。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention proposes a pump mechanism for supplying a photoresist solution in drops, an actuator mechanism for driving the pump mechanism, and a drive mechanism for driving the actuator mechanism. A resist liquid supply means for supplying a photoresist liquid to the pump chamber by the pumping operation of the pump mechanism, and an automatic air bleeding mechanism for automatically bleeding the pump chamber of the pump mechanism are provided, and in this automatic air bleeding mechanism, It comprises a chamber provided above the pump chamber so as to be able to communicate with each other via a three-way operation switching valve, and a vacuum generating means for making the inside of the chamber a vacuum, and the three-way operation is performed in a closed circuit state of the pump chamber. By opening the switching valve, the pump chamber and the chamber are made to communicate with each other, and the suction operation of the vacuum generating means causes the photoregistration of the pump chamber. The door was introduced to a predetermined level position in the chamber, is made be configured to perform air bleeding.
【００１１】[0011]
【作用】すなわち、この考案は、ポンプ室の上部に三方
向作動切換弁を介してチャンバを連通可能に設け、この
チャンバ内をポンプ室の閉成回路状態において、三方向
作動切換弁の開弁によりポンプ室とチャンバとを連通さ
せて、真空発生手段による吸引作用でポンプ室のフォト
レジスト液をチャンバ内の所定のレベル位置まで導入
し、エア抜きを行なうようになっているために、配管系
やフォトレジスト液中に分散・発生する気泡及びポンプ
室に内蔵されたフィルタ内部の気泡のエア抜きが短時間
で確実に行なえ、稼働準備作業が迅速に行なえる。That is, according to the present invention, a chamber is provided in the upper part of the pump chamber so as to be able to communicate with each other through the three-way operation switching valve, and the inside of the chamber is opened in a closed circuit state of the pump chamber. The pump chamber and the chamber are communicated with each other, and the photoresist solution in the pump chamber is introduced to a predetermined level position in the chamber by the suction action of the vacuum generating means to bleed air. Air bubbles of air bubbles dispersed and generated in the photoresist solution and air bubbles in the filter built in the pump chamber can be reliably removed in a short time, and the operation preparation work can be performed quickly.
【００１２】[0012]
【実施例】以下、この考案の一実施例を図面を参照しな
がら詳細に説明すると、図１はこの考案に係る流体滴下
供給装置の全体システム構成を概略的に示すもので、図
中１は定量のフォトレジスト液を回転体１００上に載置
された半導体ウエハ２００上に滴下供給するポンプ機
構、２はこのポンプ機構を駆動するアクチュエータ機
構、３は前記ポンプ機構１のポンプ室１１に供給するフ
ォトレジスト液Ｒが収容されたレジスト供給手段として
のレジストボトルである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows the entire system configuration of a fluid dropping supply device according to the present invention. A pump mechanism for supplying a fixed amount of photoresist solution onto the semiconductor wafer 200 mounted on the rotating body 100 in a dropping manner, 2 is an actuator mechanism for driving this pump mechanism, and 3 is a pump chamber 11 of the pump mechanism 1. It is a resist bottle as a resist supply means in which the photoresist liquid R is stored.
【００１３】前記レジストボトル３内に収容されたフォ
トレジスト液Ｒは、第１の配管３１及び第１の一方向電
磁弁３２を介して前記ポンプ機構１のポンプ室１１の最
下部１１ａに設けた流入口となる第１のポート１２から
流入供給されて、その最上部１１ｂに設けた流出口とな
る第２のポート１３から流出させ、第２の配管１４及び
第２の一方向電磁弁１５を介して所定量のフォトレジス
ト液Ｒを、前記回転体１００上に載置された半導体ウエ
ハ２００上に吐出させることにより滴下供給するように
なっている。The photoresist liquid R contained in the resist bottle 3 is provided in the lowermost portion 11a of the pump chamber 11 of the pump mechanism 1 through the first pipe 31 and the first one-way electromagnetic valve 32. It is supplied from the first port 12 that serves as an inflow port, and flows out from the second port 13 that serves as an outflow port that is provided at the uppermost portion 11b of the second pipe 14 and the second one-way solenoid valve 15. A predetermined amount of the photoresist liquid R is dropped and supplied onto the semiconductor wafer 200 mounted on the rotating body 100 via the above.
【００１４】前記ポンプ機構１のポンプ室１１には、カ
ートリッジ式に交換可能にフィルタ１６が一体に内蔵さ
れ、このフィルタ１６は、ハウジング１６ａと、このハ
ウジング１６ａ内に組み込まれたフィルタエレメント１
６ｂからなっている。In the pump chamber 11 of the pump mechanism 1, a filter 16 is integrally housed in a replaceable manner in a cartridge type. The filter 16 includes a housing 16a and a filter element 1 incorporated in the housing 16a.
It consists of 6b.
【００１５】また、図中１７は前記ポンプ機構１のポン
プ室１１の内周側壁面１１ｃとの間に所定の密封間隙１
８を存して張設されて、ポンプ室１１の周側部を区画す
るテフロンまたはゴム等からなる円筒状の可撓性膜で、
この可撓性膜１７とポンプ室内周側壁面１１ｃとの間の
密封間隙１８は、前記アクチュエータ機構２に第３のポ
ート１９を介して連通するとともに、この密封間隙１８
には、可撓性膜１７を往復作動させる作動圧流体として
非圧縮流体である純水Ｗが封入されている。Reference numeral 17 in the drawing denotes a predetermined sealing gap 1 between the inner peripheral side wall surface 11c of the pump chamber 11 of the pump mechanism 1.
A cylindrical flexible film made of Teflon, rubber, or the like that is stretched in the presence of 8 and partitions the peripheral side of the pump chamber 11.
The sealing gap 18 between the flexible membrane 17 and the inner peripheral wall surface 11c of the pump chamber communicates with the actuator mechanism 2 through the third port 19, and the sealing gap 18 is formed.
Pure water W, which is an incompressible fluid, is enclosed as a working pressure fluid for reciprocating the flexible film 17.
【００１６】前記アクチュエータ機構２は、防爆仕様の
点からエア駆動ベローズ型で構成され、シリンダ部２１
内のベローズ２２を圧縮スプリング２３により付勢され
たピストンロッド２４により伸縮作動させるようになっ
ているとともに、このピストンロッド２４の駆動制御
は、そのストローク量が測定可能に一体に組み込まれた
差動トランス２５と、この差動トランス２５で測定され
たストローク量に基づいて電圧信号の変化により供給エ
ア圧力を自動的に変化する電空レギュレータ２６とによ
るエア駆動により行なわれるようになっている。なお、
図中２７は電空レギュレータ２６へのエア源である。The actuator mechanism 2 is an air-driven bellows type in view of explosion-proof specifications, and has a cylinder portion 21.
The bellows 22 in the inside is expanded and contracted by a piston rod 24 biased by a compression spring 23, and the drive control of the piston rod 24 is carried out by a differentially integrated stroke so that its stroke amount can be measured. The air is driven by the transformer 25 and the electropneumatic regulator 26 that automatically changes the supply air pressure by the change of the voltage signal based on the stroke amount measured by the differential transformer 25. In addition,
In the figure, 27 is an air source to the electropneumatic regulator 26.
【００１７】さらに、図中４は前記ポンプ機構１のポン
プ室１１のエア抜きを自動的に行なう自動エア抜き機構
である。Further, reference numeral 4 in the drawing denotes an automatic air bleeding mechanism for automatically bleeding the pump chamber 11 of the pump mechanism 1.
【００１８】この自動エア抜き機構４は、前記ポンプ室
１１の上部に設けた第４のベントポート２０に三方向作
動切換弁を構成する三方向電磁弁４１を介して連通可能
に設けたチャンバ４２と、このチャンバ４２の上部に設
けられてその内部を真空にする真空発生手段５とから構
成されている。The automatic air bleeding mechanism 4 is provided with a chamber 42 which is communicable with a fourth vent port 20 provided in the upper part of the pump chamber 11 via a three-way solenoid valve 41 which constitutes a three-way operation switching valve. And a vacuum generating means 5 which is provided on the upper part of the chamber 42 to make a vacuum inside thereof.
【００１９】この真空発生手段５は、エゼクタ５１によ
る真空力の吸引作用によって、強制的に、迅速かつ確実
にポンプ室１１内のフォトレジスト液をチャンバ４２内
に吸引し導入することにより、自動的にエア抜きを行な
うようになっているものであり、このエゼクタ５１に
は、レギュレータ５２によりエア圧力が設定されたエア
源５３からのエアを電磁弁５４を介して供給されるよう
になっている。The vacuum generating means 5 is automatically operated by sucking and introducing the photoresist liquid in the pump chamber 11 into the chamber 42 forcibly and quickly and reliably by the suction action of the vacuum force by the ejector 51. The ejector 51 is supplied with air from an air source 53 whose air pressure is set by a regulator 52 via an electromagnetic valve 54. .
【００２０】また、図中４３は前記チャンバ４２の上部
に設置した非接触型のレベルセンサで、前記真空発生手
段５によりチャンバ４２内に吸引導入されるフォトレジ
スト液の液面上位を検出して、その検出信号により前記
三方向電磁弁４１を閉弁することにより、フォトレジス
ト液を所定のレベル位置まで導入し、これによって、チ
ャンバ４２内のフォトレジスト液がエゼクタ５１内に導
入されるのを防止している。Reference numeral 43 in the drawing denotes a non-contact type level sensor installed on the upper part of the chamber 42 for detecting the liquid level upper surface of the photoresist liquid sucked and introduced into the chamber 42 by the vacuum generating means 5. The photoresist liquid is introduced to a predetermined level position by closing the three-way solenoid valve 41 according to the detection signal, so that the photoresist liquid in the chamber 42 is introduced into the ejector 51. To prevent.
【００２１】さらに、図中４４は前記三方向電磁弁４１
に接続した排出管で、チャンバ４２内に導入されたフォ
トレジスト液を三方向電磁弁４１の切り替えにより外部
に排出し得るようになっているものである。Further, in the figure, 44 is the three-way solenoid valve 41.
The photoresist liquid introduced into the chamber 42 can be discharged to the outside by switching the three-way electromagnetic valve 41 with the discharge pipe connected to the.
【００２２】一方、図中６は前記レジストボトル３から
供給されるフォトレジスト液Ｒ中の気泡がポンプ室１１
への配管３１内に混入するのを防止する気泡混入防止機
構である。On the other hand, 6 in the figure indicates that the bubbles in the photoresist liquid R supplied from the resist bottle 3 are in the pump chamber 11.
Is a mechanism for preventing air bubbles from entering the inside of the pipe 31.
【００２３】この気泡混入防止機構６は、ポンプ室１１
への配管３１途上に設置した密封チャンバ６１を備え、
このチャンバ６１の上部には、前記レジストボトル３か
らの配管３３が接続され、かつその底部にポンプ室１１
への配管３１が接続されているとともに、前記ポンプ機
構１のポンピング作動により、レジストボトル３内のフ
ォトレジスト液Ｒをチャンバ６１の上部から流入させ、
その底部から流出させるようになっている。The bubble mixing prevention mechanism 6 is provided in the pump chamber 11
A sealed chamber 61 installed on the way to the pipe 31 to
The pipe 33 from the resist bottle 3 is connected to the upper part of the chamber 61, and the pump chamber 11 is connected to the bottom part thereof.
Is connected to the pipe 31 and the pumping operation of the pump mechanism 1 causes the photoresist liquid R in the resist bottle 3 to flow from the upper portion of the chamber 61,
It is designed to drain from the bottom.
【００２４】また、図中６２は前記気泡混入防止機構６
における密封チャンバ６１の下部に設置したレベルセン
サで、密封チャンバ６１内のフォトレジスト液Ｒの液面
が最下位に達する直前のレベル位置を検出し、この検出
信号によって、前記ポンプ機構１のポンピング作動を停
止し、これによって、配管３１への気泡の混入を防止す
るとともに、レジストボトル３内のフォトレジスト液Ｒ
が空になっていることを認識させると同時に、システム
を自動的にインターロック可能にし、空運転を防止して
なるものである。Further, reference numeral 62 in the drawing denotes the bubble inclusion preventing mechanism 6
The level sensor installed under the sealed chamber 61 detects the level position immediately before the liquid level of the photoresist liquid R in the sealed chamber 61 reaches the lowest level, and the pumping operation of the pump mechanism 1 is performed by this detection signal. To prevent air bubbles from being mixed into the pipe 31, and to prevent the photoresist liquid R in the resist bottle 3 from being mixed.
It makes it possible to automatically interlock the system at the same time as recognizing that the vehicle is empty, and prevents idle operation.
【００２５】さらに、図中７は前記した流体滴下供給装
置のシステムを制御するコントローラで、このコントロ
ーラ７は、前記ポンプ機構１を駆動するアクチュエータ
機構２、第１の電磁弁３２、第２の電磁弁１５、自動エ
ア抜き機構４の三方向電磁弁４１、チャンバ４２のレベ
ルセンサ４３、真空発生手段５の電磁弁５４及びレジス
ト供給部における気泡混入防止機構６のレベルセンサ６
２をそれぞれ自動的に制御し得るようになっている。Further, reference numeral 7 in the drawing is a controller for controlling the system of the above-mentioned fluid dripping supply device. This controller 7 comprises an actuator mechanism 2 for driving the pump mechanism 1, a first solenoid valve 32, and a second solenoid valve. The valve 15, the three-way solenoid valve 41 of the automatic air bleeding mechanism 4, the level sensor 43 of the chamber 42, the solenoid valve 54 of the vacuum generating means 5, and the level sensor 6 of the bubble mixing prevention mechanism 6 in the resist supply unit.
Each of the two can be controlled automatically.
【００２６】次に、この考案に係る流体滴下供給装置に
おけるディスペンス動作について説明する。アクチュエ
ータ機構２のベローズ２２が電空レギュレータ２６から
の供給エアによる圧力により圧縮スプリング２３のスプ
リング力に抗する方向に前進すると、その容積変化量だ
けシリンダ部２１内の純水Ｗは、第３のポート１９を介
してポンプ室１１の密封間隙１８に流入し、可撓性膜１
７を径方向に縮少させる。Next, the dispensing operation of the fluid dropping supply device according to the present invention will be described. When the bellows 22 of the actuator mechanism 2 moves forward in the direction against the spring force of the compression spring 23 due to the pressure of the air supplied from the electropneumatic regulator 26, the pure water W in the cylinder portion 21 changes by the volume change amount. It flows into the sealed gap 18 of the pump chamber 11 through the port 19 and the flexible membrane 1
7 is reduced in the radial direction.
【００２７】このとき、前記ポンプ室１１の最下部１１
ａに設けた流入口となる第１のポート１２側の第１の電
磁弁３２は閉弁状態を維持する一方、ポンプ室１１の最
上部１１ｂに設けた流出口となる第２のポート１３側の
第２の電磁弁１５は開弁状態を維持する。At this time, the lowermost portion 11 of the pump chamber 11
While the first solenoid valve 32 on the side of the first port 12 which is the inlet port provided in a maintains the closed state, the side of the second port 13 which is the outlet port provided on the uppermost portion 11b of the pump chamber 11 The second solenoid valve 15 maintains the open state.
【００２８】そして、このような容積変化により、ポン
プ室１１のフォトレジスト液Ｒは図において矢印で示す
ようにフィルタ１６を通り第２のポート１３側から吐出
し、第２の配管１４を介して回転体１００上に載置され
た半導体ウエハ２００の表面に所定量のフォトレジスト
液Ｒを滴下供給する。Due to such a volume change, the photoresist liquid R in the pump chamber 11 is discharged from the second port 13 side through the filter 16 as shown by the arrow in the figure, and then through the second pipe 14. A predetermined amount of photoresist liquid R is dropped and supplied onto the surface of the semiconductor wafer 200 mounted on the rotating body 100.
【００２９】この状態で、アクチュエータ機構２のベロ
ーズ２２が、ピストンロッド２４を介してコントローラ
７にて設定された吐出量に応じたストローク量まで前進
移動して行くと、その位置が差動トランス２５により検
出され、差動トランス２５からの出力信号により電空レ
ギュレータ２６からのエアの供給を停止し、排気状態に
切り替える。In this state, when the bellows 22 of the actuator mechanism 2 moves forward through the piston rod 24 to the stroke amount corresponding to the discharge amount set by the controller 7, the position thereof is changed to the differential transformer 25. The air supply from the electropneumatic regulator 26 is stopped by the output signal from the differential transformer 25, and the exhaust state is switched to.
【００３０】これにより、アクチュエータ機構２のベロ
ーズ２２は、圧縮スプリング２３の圧縮力によって後退
し、その直前に、第１の電磁弁３２を開弁する一方、第
２の電磁弁１５を閉弁するように切り替えておくことに
より、ポンプ室１１の密封間隙１８内の純水Ｗは、第３
のポート１９を介してシリンダ部２１内に流入し、可撓
性膜１７を径方向に膨張させると同時に、その容積変化
量によりレジストボトル３内のフォトレジスト液Ｒは第
１の配管３１を介してポンプ室１１に吸引供給され、こ
のようなポンピング作動により、フォトレジスト液Ｒの
吐出・吸引が行なわれる。As a result, the bellows 22 of the actuator mechanism 2 retracts due to the compression force of the compression spring 23, and immediately before that, the first solenoid valve 32 is opened while the second solenoid valve 15 is closed. By switching in this way, the pure water W in the sealed gap 18 of the pump chamber 11 is
At the same time as the flexible film 17 expands in the radial direction through the port 19 of the flexible film 17 and the volume change thereof, the photoresist liquid R in the resist bottle 3 passes through the first pipe 31. Is sucked and supplied to the pump chamber 11, and the photoresist liquid R is discharged and sucked by such a pumping operation.
【００３１】ところで、このようなシステムの稼働時
に、レジストボトル３内に収容されたフォトレジスト液
Ｒの液性によっては、気泡が分離・発生することがあ
り、この気泡がポンプ室１１内に混入すると、吐出精度
が悪くなる。By the way, during operation of such a system, air bubbles may be separated and generated depending on the liquidity of the photoresist liquid R contained in the resist bottle 3, and these air bubbles are mixed in the pump chamber 11. Then, the ejection accuracy deteriorates.
【００３２】そこで、この考案の気泡混入防止機構６
は、ポンプ室１１への配管３１途上に設置した密封チャ
ンバ６１を備え、前記ポンプ機構１のポンピング作動に
より、レジストボトル３内のフォトレジスト液Ｒ中に気
泡が発生しても、図示のようにチャンバ６１内の上部空
間６１ａに滞留するように分離させるようになってい
る。Therefore, the bubble inclusion preventing mechanism 6 of the present invention
Includes a sealed chamber 61 installed on the way of the pipe 31 to the pump chamber 11, and as shown in the drawing, even if bubbles are generated in the photoresist liquid R in the resist bottle 3 due to the pumping operation of the pump mechanism 1. The chamber 61 is separated so as to stay in the upper space 61a.
【００３３】また、レジストボトル３内のフォトレジス
ト液Ｒが空になると、密封チャンバ６１内の液面レベル
は低下するが、この状態を密封チャンバ６１の下部に設
置したレベルセンサ６２で検出し、この検出信号によっ
て、前記ポンプ機構１のポンピング作動を停止し、これ
によって、配管３１への気泡の混入を防止するととも
に、レジストボトル３の交換時期を示すモニターとなる
と同時に、この信号がコントローラ７に入ると、システ
ムを自動的にインターロックし、空運転が防止される。When the photoresist liquid R in the resist bottle 3 is emptied, the liquid level in the sealed chamber 61 lowers, but this state is detected by the level sensor 62 installed in the lower portion of the sealed chamber 61, By this detection signal, the pumping operation of the pump mechanism 1 is stopped, thereby preventing air bubbles from being mixed in the pipe 31 and providing a monitor indicating the replacement time of the resist bottle 3, and at the same time, this signal is sent to the controller 7. Upon entry, the system automatically interlocks and prevents idle running.
【００３４】そして、初期運転時、あるいはフィルタ交
換後の運転時に、システム内のエア抜きを行なうには、
ポンプ室１１の流入口側の第１の電磁弁３２を開に、流
出口側の第２の電磁弁１５を閉にして、ポンプ室１１を
閉成回路状態にするとともに、三方向電磁弁４１を開に
して、ポンプ室１１とチャンバ４２とが連通状態を維持
するように設定する。To remove air from the system during the initial operation or after the filter replacement,
The first solenoid valve 32 on the inlet side of the pump chamber 11 is opened and the second solenoid valve 15 on the outlet side is closed to put the pump chamber 11 into a closed circuit state, and the three-way solenoid valve 41 Is opened and the pump chamber 11 and the chamber 42 are set so as to maintain the communication state.
【００３５】この状態で、真空発生手段５における電磁
弁５４を開にし、レギュレータ５２にて設定したエア源
５３からのエアをエゼクタ５１に供給すると、エゼクタ
５１には真空力が発生し、この真空力により、レジスト
ボトル３内のフォトレジスト液Ｒは気泡混入防止機構６
の密封チャンバ６１、配管３１を通りポンプ室１１に導
入され、さらに、自動エア抜き機構４のチャンバ４２内
に吸引導入されるとともに、ポンプ室１１に内蔵したフ
ィルタ１６の内部の気泡もチャンバ４２内に吸引され
る。In this state, when the electromagnetic valve 54 in the vacuum generating means 5 is opened and the air from the air source 53 set by the regulator 52 is supplied to the ejector 51, a vacuum force is generated in the ejector 51 and the vacuum is generated. Due to the force, the photoresist liquid R in the resist bottle 3 is mixed with a bubble preventing mechanism 6
Are introduced into the pump chamber 11 through the sealed chamber 61 and the pipe 31 of the automatic air bleeding mechanism 4, and the bubbles inside the filter 16 built in the pump chamber 11 are also introduced into the chamber 42. Is sucked into.
【００３６】このようにして、自動エア抜き機構４のチ
ャンバ４２内に気泡と共に吸引導入されたフォトレジス
ト液Ｒの液面がレベルセンサ４３の位置まで上昇する
と、レベルセンサ４３は、その液面位置を検出し、この
検出信号によって、三方向電磁弁４１を閉に切り替え、
ポンプ室１１とチャンバ４２との連通状態を解除すると
同時に、真空発生手段５における電磁弁５４を閉じ、レ
ギュレータ５２からのエアの供給を停止することによ
り、チャンバ４２内のフォトレジスト液Ｒを排出管４４
から排出し、これによって、システム内のエア抜きが短
時間で確実に行なわれる。In this way, when the liquid level of the photoresist liquid R sucked and introduced into the chamber 42 of the automatic air bleeding mechanism 4 rises up to the position of the level sensor 43, the level sensor 43 detects the liquid level position. Is detected, and the three-way solenoid valve 41 is closed by the detection signal,
At the same time that the communication state between the pump chamber 11 and the chamber 42 is released, the electromagnetic valve 54 in the vacuum generating means 5 is closed and the air supply from the regulator 52 is stopped to discharge the photoresist liquid R in the chamber 42. 44
From the air, which ensures that the air in the system is evacuated in a short time.
【００３７】また、運転中の定期的なシステム内のエア
抜きを行なう場合には、コントローラ７にエア抜きのた
めのダミー信号を入れ、上記の動作と同様に行なうこと
により、エア抜きが完全に自動的に行なえる。Further, in the case where air bleeding in the system is periodically performed during operation, a dummy signal for air bleeding is input to the controller 7 and the same operation as described above is performed to completely bleed air. It can be done automatically.
【００３８】なお、上記の実施例では、自動エア抜き機
構４のチャンバ４２内に気泡と共に吸引導入されたフォ
トレジスト液Ｒを排出管４４から外部に排出するように
したが、レジストボトル３内に収容するようにしても良
い。In the above embodiment, the photoresist liquid R sucked and introduced together with the air bubbles into the chamber 42 of the automatic air bleeding mechanism 4 is discharged from the discharge pipe 44 to the outside. It may be accommodated.
【００３９】また、以上の説明においては、この考案を
フォトレジスト液の流体の滴下供給についてのみ開示し
たが、請求項の記載を含めて、この考案で扱い得る流体
は、これら限らず、同様の問題点を生じる流体、並び
に、技術分野においても適用し得るものであるから、上
記記載の用語に限定されるものではない。Further, in the above description, the present invention is disclosed only for the dropping supply of the fluid of the photoresist liquid, but the fluids that can be handled by the present invention including the description of the claims are not limited to these, and similar fluids can be used. It is not limited to the above-mentioned terms because it can be applied to a fluid causing a problem and a technical field.
【００４０】[0040]
【考案の効果】以上の説明から明らかなように、この考
案は、ポンプ室の上部に三方向電磁弁を介してチャンバ
を連通可能に設け、このチャンバ内をポンプ室の閉成回
路状態において、三方向電磁弁の開弁によりポンプ室と
チャンバとを連通させて、真空発生手段による吸引作用
でポンプ室のフォトレジスト液をチャンバ内の所定のレ
ベル位置まで導入し、エア抜きを行なうようになってい
るために、配管系やフォトレジスト液中に分散・発生す
る気泡及びポンプ室に内蔵されたフィルタ内部の気泡の
エア抜きが短時間で確実に行なえ、稼働準備作業を迅速
に行なうことができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, a chamber is provided in the upper part of the pump chamber so as to be able to communicate with each other via a three-way electromagnetic valve, and the inside of the chamber is in a closed circuit state of the pump chamber. By opening the three-way solenoid valve, the pump chamber and the chamber are communicated with each other, and the photoresist solution in the pump chamber is introduced to a predetermined level position in the chamber by the suction action of the vacuum generating means, and the air is removed. Therefore, it is possible to deflate air bubbles dispersed and generated in the piping system and photoresist liquid and the air bubbles inside the filter built into the pump chamber reliably in a short time, and to quickly perform operation preparation work. .
【図１】この考案に係る流体滴下供給装置の一実施例を
示す全体システム構成の概略的説明図である。FIG. 1 is a schematic explanatory diagram of an entire system configuration showing an embodiment of a fluid dropping supply device according to the present invention.
１・・・ポンプ機構、 １１・・・ポンプ室、 １６・・・フィルタ、 １６ｂ・・・フィルタエレメント、 ２・・・アクチュエータ機構、 ３・・・レジスト供給手段（レジストボトル）、 ３１・・・第１の配管、 ３２・・・第１の電磁弁、 ４・・・自動エア抜き機構、 ４１・・・三方向電磁弁（三方向作動切換弁）、 ４２・・・チャンバ、 ４３・・・レベルセンサ、 ５・・・真空発生手段、 ７・・・コントローラ、 Ｒ・・・フォトレジスト液。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pump mechanism, 11 ... Pump chamber, 16 ... Filter, 16b ... Filter element, 2 ... Actuator mechanism, 3 ... Resist supply means (resist bottle), 31 ... 1st piping, 32 ... 1st solenoid valve, 4 ... Automatic air bleeding mechanism, 41 ... Three-way solenoid valve (three-way operation switching valve), 42 ... Chamber, 43 ... Level sensor, 5 ... Vacuum generating means, 7 ... Controller, R ... Photoresist liquid.
Claims (1)
構と、このポンプ機構を駆動するアクチュエータ機構
と、このアクチュエータ機構の駆動による前記ポンプ機
構のポンピング作動でフォトレジスト液をポンプ室に供
給するレジスト液供給手段と、前記ポンプ機構のポンプ
室のエア抜きを自動的に行なう自動エア抜き機構とを備
え、 この自動エア抜き機構において、前記ポンプ室の上部に
三方向作動切換弁を介して連通可能に設けたチャンバ
と、このチャンバ内を真空にする真空発生手段とからな
り、前記ポンプ室の閉成回路状態において、前記三方向
作動切換弁の開弁によりポンプ室とチャンバとを連通さ
せて、前記真空発生手段による吸引作用でポンプ室のフ
ォトレジスト液をチャンバ内の所定のレベル位置まで導
入し、エア抜きを行なうように構成したことを特徴とす
る流体滴下供給装置。1. A pump mechanism for dripping and supplying a photoresist solution, an actuator mechanism for driving the pump mechanism, and a resist solution for supplying the photoresist solution to a pump chamber by a pumping operation of the pump mechanism by driving the actuator mechanism. A supply means and an automatic air bleeding mechanism that automatically bleeds air from the pump chamber of the pump mechanism are provided, and in this automatic air bleeding mechanism, it is possible to communicate with the upper portion of the pump chamber via a three-way operation switching valve. The chamber includes a chamber provided therein and a vacuum generating means for evacuating the chamber. In the closed circuit state of the pump chamber, the three-way operation switching valve is opened to communicate the pump chamber with the chamber, The photoresist solution in the pump chamber is introduced to a predetermined level in the chamber by the suction action of the vacuum generating means, and the air is removed. A fluid dropping and supplying device characterized by being configured to perform.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6508591U JPH0719555Y2 (en) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | Fluid dropping supply device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6508591U JPH0719555Y2 (en) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | Fluid dropping supply device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH059635U JPH059635U (en) | 1993-02-09 |
| JPH0719555Y2 true JPH0719555Y2 (en) | 1995-05-10 |
Family
ID=13276752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6508591U Expired - Lifetime JPH0719555Y2 (en) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | Fluid dropping supply device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0719555Y2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108580190B (en) * | 2018-05-30 | 2023-08-01 | 江苏一控真空注胶技术有限公司 | Vacuum glue injection box |
| JP7202817B2 (en) * | 2018-09-05 | 2023-01-12 | 東京エレクトロン株式会社 | Liquid delivery system |
-
1991
- 1991-07-22 JP JP6508591U patent/JPH0719555Y2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH059635U (en) | 1993-02-09 |
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