JP7202817B2

JP7202817B2 - Liquid delivery system

Info

Publication number: JP7202817B2
Application number: JP2018166003A
Authority: JP
Inventors: 伸明松岡
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2018-09-05
Filing date: 2018-09-05
Publication date: 2023-01-12
Anticipated expiration: 2038-09-05
Also published as: JP2020037086A

Description

本開示は、フィルタ装置及び送液システムに関する。 The present disclosure relates to filter devices and liquid delivery systems.

基板（例えば、半導体基板）の微細加工などを行うにあたり、基板の表面に基板処理のための各種液体を吐出することが一般に行われている。この液体中には、元来パーティクル（微細粒子）等の異物が含まれうる。また、液体が配管を流れる際に、配管から液体中にパーティクル等の異物が混入しうる。そのため、特許文献１は、フィルタを処理液の流路の途中に配置し、ポンプによって液体をノズルに送り出す過程で当該フィルタによってパーティクル等の異物の除去を行っている。 2. Description of the Related Art In microfabrication of a substrate (for example, a semiconductor substrate), it is common practice to discharge various liquids for substrate processing onto the surface of the substrate. This liquid may originally contain foreign matter such as particles (fine particles). Moreover, when the liquid flows through the pipe, foreign matter such as particles may enter the liquid from the pipe. Therefore, in Patent Document 1, a filter is arranged in the middle of the flow path of the processing liquid, and foreign substances such as particles are removed by the filter during the process of pumping the liquid to the nozzle by the pump.

特開２０１２－２２３６６９号公報JP 2012-223669 A

本開示は、小型化を図りつつパーティクルの発生を抑制することが可能なフィルタ装置及び送液システムを説明する。 The present disclosure describes a filter device and a liquid feeding system capable of suppressing the generation of particles while achieving miniaturization.

本開示の一つの観点に係るフィルタ装置は、筒状のフィルタと、可撓性を有するチューブと、上下方向に延びるように同軸状に配置されたフィルタ及びチューブを収容する筐体とを備える。筐体は、フィルタの外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１の開口と、フィルタの内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２の開口と、チューブの内部と連通し且つチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第３の開口とを含む。 A filter device according to one aspect of the present disclosure includes a cylindrical filter, a flexible tube, and a housing that accommodates the filter and the tube that are coaxially arranged so as to extend in the vertical direction. The housing includes a first opening communicating with the outer space of the filter and through which the liquid to be transferred can flow, a second opening communicating with the inner space of the filter and through which the liquid to be transferred can flow, and a tube. and a third opening in communication with the interior and through which a working fluid can flow to inflate and deflate the tube.

本開示に係るフィルタ装置及び送液システムによれば、小型化を図りつつパーティクルの発生を抑制することが可能となる。 According to the filter device and liquid feeding system according to the present disclosure, it is possible to suppress the generation of particles while achieving miniaturization.

図１は、基板処理システムの一例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of a substrate processing system. 図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG. 図３は、処理モジュールを示す上面図である。FIG. 3 is a top view of the processing module. 図４は、液処理用のユニットを示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a unit for liquid processing. 図５は、送液システムの一例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing an example of a liquid transfer system. 図６は、フィルタ装置の一例を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of a filter device. 図７は、チューブの一例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a tube. 図８は、フィルタ装置の動作を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining the operation of the filter device. 図９は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing another example of the filter device. 図１０は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing another example of the filter device. 図１１は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing another example of the filter device. 図１２は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing another example of the filter device. 図１３は、送液システムの他の例を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing another example of the liquid transfer system. 図１４は、フィルタ装置の他の例を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing another example of the filter device.

以下に、本開示に係る実施形態の一例について、図面を参照しつつより詳細に説明する。以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 An example of an embodiment according to the present disclosure will be described below in more detail with reference to the drawings. In the following description, the same reference numerals will be used for the same elements or elements having the same functions, and redundant description will be omitted.

［基板処理システム］
図１に示されるように、基板処理システム１は、塗布現像装置２と、露光装置３と、コントローラ１０（制御部）とを備える。 [Substrate processing system]
As shown in FIG. 1, the substrate processing system 1 includes a coating and developing device 2, an exposure device 3, and a controller 10 (control section).

露光装置３は、ウエハＷ（基板）の表面Ｗａ（図４参照）に形成されたレジスト膜Ｒ（同参照）の露光処理（パターン露光）を行うように構成されている。具体的には、液浸露光等の方法によりレジスト膜の露光対象部分に選択的にエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、例えば、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、ｇ線、ｉ線又は極端紫外線（ＥＵＶ：Extreme Ultraviolet）が挙げられる。 The exposure device 3 is configured to perform exposure processing (pattern exposure) of a resist film R (see FIG. 4) formed on a surface Wa (see FIG. 4) of a wafer W (substrate). Specifically, the exposure target portion of the resist film is selectively irradiated with an energy beam by a method such as liquid immersion exposure. Examples of energy rays include ArF excimer laser, KrF excimer laser, g-line, i-line, and extreme ultraviolet (EUV).

塗布現像装置２は、露光装置３による露光処理の前に、ウエハＷの表面Ｗａにレジスト膜Ｒを形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜Ｒの現像処理を行う。ウエハＷは、円板状を呈してもよいし、円形の一部が切り欠かれていてもよいし、多角形など円形以外の形状を呈していてもよい。ウエハＷは、例えば、半導体基板、ガラス基板、マスク基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）基板その他の各種基板であってもよい。ウエハＷの直径は、例えば２００ｍｍ～４５０ｍｍ程度であってもよい。 The coating and developing apparatus 2 performs processing for forming a resist film R on the surface Wa of the wafer W before exposure processing by the exposure device 3, and performs development processing for the resist film R after the exposure processing. The wafer W may have a disk shape, may have a circular shape with a part cut away, or may have a shape other than a circular shape such as a polygon. The wafer W may be, for example, a semiconductor substrate, a glass substrate, a mask substrate, an FPD (Flat Panel Display) substrate, or other various substrates. The diameter of the wafer W may be, for example, approximately 200 mm to 450 mm.

図１～図３に示されるように、塗布現像装置２は、キャリアブロック４と、処理ブロック５と、インターフェースブロック６とを備える。キャリアブロック４、処理ブロック５及びインターフェースブロック６は、水平方向に並んでいる。 As shown in FIGS. 1 to 3, the coating and developing apparatus 2 includes a carrier block 4, a processing block 5, and an interface block 6. FIG. Carrier block 4, processing block 5 and interface block 6 are arranged horizontally.

キャリアブロック４は、図１及び図３に示されるように、キャリアステーション１２と、搬入搬出部１３とを有する。キャリアステーション１２は複数のキャリア１１を支持する。キャリア１１は、少なくとも一つのウエハＷを密封状態で収容する。キャリア１１の側面１１ａには、ウエハＷを出し入れするための開閉扉（図示せず）が設けられている。キャリア１１は、側面１１ａが搬入搬出部１３側に面するように、キャリアステーション１２上に着脱自在に設置される。 The carrier block 4 has a carrier station 12 and a loading/unloading section 13, as shown in FIGS. A carrier station 12 supports a plurality of carriers 11 . Carrier 11 accommodates at least one wafer W in a sealed state. A side surface 11a of the carrier 11 is provided with an opening/closing door (not shown) for loading and unloading the wafer W. As shown in FIG. The carrier 11 is detachably installed on the carrier station 12 so that the side surface 11a faces the loading/unloading section 13 side.

搬入搬出部１３は、キャリアステーション１２及び処理ブロック５の間に位置している。搬入搬出部１３は、複数の開閉扉１３ａを有する。キャリアステーション１２上にキャリア１１が載置される際には、キャリア１１の開閉扉が開閉扉１３ａに面した状態とされる。開閉扉１３ａ及び側面１１ａの開閉扉を同時に開放することで、キャリア１１内と搬入搬出部１３内とが連通する。搬入搬出部１３は、搬送アームＡ１を内蔵している。搬送アームＡ１は、キャリア１１からウエハＷを取り出して処理ブロック５に渡し、処理ブロック５からウエハＷを受け取ってキャリア１１内に戻すように構成されている。 The loading/unloading section 13 is located between the carrier station 12 and the processing block 5 . The loading/unloading section 13 has a plurality of opening/closing doors 13a. When the carrier 11 is placed on the carrier station 12, the opening/closing door of the carrier 11 faces the opening/closing door 13a. By simultaneously opening the opening/closing door 13a and the opening/closing door on the side surface 11a, the inside of the carrier 11 and the inside of the carrying-in/carrying-out section 13 communicate with each other. The loading/unloading section 13 incorporates a transport arm A1. The transfer arm A<b>1 is configured to take out the wafer W from the carrier 11 , transfer it to the processing block 5 , receive the wafer W from the processing block 5 and return it to the carrier 11 .

処理ブロック５は、図１～図３に示されるように、処理モジュール１４～１７を有する。これらの処理モジュールは、床面側から処理モジュール１７、処理モジュール１４、処理モジュール１５、処理モジュール１６の順に並んでいる。 The processing block 5 comprises processing modules 14-17, as shown in FIGS. 1-3. These processing modules are arranged in the order of processing module 17, processing module 14, processing module 15, and processing module 16 from the floor side.

処理モジュール１４は、ウエハＷの表面Ｗａ上に下層膜を形成するように構成されており、ＢＣＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１４は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ２とを内蔵している。処理モジュール１４のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、下層膜形成用の塗布液をウエハＷの表面Ｗａに塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１４のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１４において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させて下層膜とするための加熱処理が挙げられる。下層膜としては、例えば、反射防止（ＳｉＡＲＣ）膜が挙げられる。 The processing module 14 is configured to form an underlayer film on the surface Wa of the wafer W and is also called a BCT module. The processing module 14, as shown in FIGS. 2 and 3, incorporates a plurality of units U1 and U2 and a transfer arm A2 for transferring wafers W to these units U1 and U2. The unit U1 of the processing module 14 is a unit for liquid processing, and is configured to apply a coating liquid for forming a lower layer film onto the surface Wa of the wafer W to form a coating film. The unit U2 of the processing module 14 is a unit for heat treatment, and is configured to heat the wafer W with, for example, a hot plate and cool the heated wafer W with, for example, a cooling plate to perform heat treatment. A specific example of the heat treatment performed in the treatment module 14 is heat treatment for curing the coating film to form the underlying film. An example of the underlayer film is an antireflection (SiARC) film.

処理モジュール１５は、下層膜上に中間膜（ハードマスク）を形成するように構成されており、ＨＭＣＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１５は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ３とを内蔵している。処理モジュール１５のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、中間膜形成用の塗布液をウエハＷの下層膜上に塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１５のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１５において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させて中間膜とするための加熱処理が挙げられる。中間膜としては、例えば、ＳＯＣ（Spin On Carbon）膜、アモルファスカーボン膜が挙げられる。 The processing module 15 is configured to form an intermediate film (hard mask) on the underlying film and is also called an HMCT module. The processing module 15, as shown in FIGS. 2 and 3, incorporates a plurality of units U1 and U2 and a transfer arm A3 for transferring wafers W to these units U1 and U2. The unit U1 of the processing module 15 is a unit for liquid processing, and is configured to apply a coating liquid for forming an intermediate film onto the lower layer film of the wafer W to form a coating film. The unit U2 of the processing module 15 is a unit for heat treatment, and is configured to heat the wafer W with, for example, a hot plate and cool the heated wafer W with, for example, a cooling plate to perform heat treatment. A specific example of the heat treatment performed in the treatment module 15 is heat treatment for curing the coating film to form an intermediate film. Examples of intermediate films include SOC (Spin On Carbon) films and amorphous carbon films.

処理モジュール１６は、中間膜上に熱硬化性且つ感光性のレジスト膜を形成するように構成されており、ＣＯＴモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１６は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、これらのユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送する搬送アームＡ４とを内蔵している。処理モジュール１６のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、レジスト膜形成用の塗布液（レジスト液）を中間膜の上に塗布して塗布膜を形成するように構成されている。処理モジュール１６のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１６において行われる熱処理の具体例としては、塗布膜を硬化させてレジスト膜Ｒとするための加熱処理（ＰＡＢ：Pre Applied Bake）が挙げられる。 The processing module 16 is configured to form a thermosetting and photosensitive resist film on the intermediate film and is also called a COT module. The processing module 16, as shown in FIGS. 2 and 3, incorporates a plurality of units U1, U2 and a transfer arm A4 for transferring wafers W to these units U1, U2. The unit U1 of the processing module 16 is a unit for liquid processing, and is configured to apply a coating liquid (resist liquid) for forming a resist film onto an intermediate film to form a coating film. The unit U2 of the processing module 16 is a unit for heat treatment, and is configured to heat the wafer W with, for example, a hot plate and cool the heated wafer W with, for example, a cooling plate to perform heat treatment. A specific example of the heat treatment performed in the processing module 16 is a heat treatment (PAB: Pre Applied Bake) for curing the coating film to form the resist film R. FIG.

処理モジュール１７は、露光されたレジスト膜の現像処理を行うように構成されており、ＤＥＶモジュールとも呼ばれる。処理モジュール１７は、図２及び図３に示されるように、複数のユニットＵ１，Ｕ２と、搬送アームＡ５，Ａ６とを内蔵している。搬送アームＡ５は、ユニットＵ１，Ｕ２にウエハＷを搬送するように構成されている。搬送アームＡ６は、ユニットＵ１，Ｕ２を経ずにウエハＷを棚ユニットＵ１１，Ｕ１０（後述する）間において直接搬送するように構成されている。処理モジュール１７のユニットＵ１は、液処理用のユニットであり、レジスト膜Ｒに現像液を供給してレジスト膜Ｒを部分的に除去することにより、レジストパターンを形成するように構成されている。処理モジュール１７のユニットＵ２は、熱処理用のユニットであり、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却して熱処理を行うように構成されている。処理モジュール１７において行われる熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理（ＰＥＢ：post exposure bake）、現像処理後の加熱処理（ＰＢ：post bake）等が挙げられる。 The processing module 17 is configured to develop the exposed resist film, and is also called a DEV module. The processing module 17 incorporates a plurality of units U1, U2 and transfer arms A5, A6, as shown in FIGS. The transfer arm A5 is configured to transfer the wafer W to the units U1 and U2. The transfer arm A6 is configured to transfer the wafer W directly between the shelf units U11 and U10 (to be described later) without going through the units U1 and U2. The unit U1 of the processing module 17 is a unit for liquid processing, and is configured to supply a developer to the resist film R to partially remove the resist film R, thereby forming a resist pattern. The unit U2 of the processing module 17 is a unit for heat treatment, and is configured to heat the wafer W with, for example, a hot plate and cool the heated wafer W with, for example, a cooling plate to perform heat treatment. Specific examples of the heat treatment performed in the processing module 17 include heat treatment before development (PEB: post exposure bake), heat treatment after development (PB: post bake), and the like.

処理ブロック５内におけるキャリアブロック４側には、図２及び図３に示されるように、棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、床面から処理モジュール１５にわたって設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットＵ１０の近傍には搬送アームＡ７が設けられている。搬送アームＡ７は、棚ユニットＵ１０のセル同士の間でウエハＷを昇降させる。 A shelf unit U10 is provided on the side of the carrier block 4 in the processing block 5, as shown in FIGS. The shelf unit U10 extends from the floor surface to the processing module 15, and is partitioned into a plurality of vertically aligned cells. A transfer arm A7 is provided near the shelf unit U10. The transfer arm A7 raises and lowers the wafer W between the cells of the shelf unit U10.

処理ブロック５内におけるインターフェースブロック６側には、棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は床面から処理モジュール１７の上部にわたって設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。 A shelf unit U11 is provided on the interface block 6 side in the processing block 5 . The shelf unit U11 extends from the floor to the upper portion of the processing module 17, and is divided into a plurality of vertically aligned cells.

インターフェースブロック６は、搬送アームＡ８を内蔵しており、露光装置３に接続される。搬送アームＡ８は、棚ユニットＵ１１のウエハＷを取り出して露光装置３に渡し、露光装置３からウエハＷを受け取って棚ユニットＵ１１に戻すように構成されている。 The interface block 6 incorporates a transfer arm A8 and is connected to the exposure device 3. FIG. The transfer arm A8 is configured to take out the wafer W from the shelf unit U11, transfer it to the exposure apparatus 3, receive the wafer W from the exposure apparatus 3, and return it to the shelf unit U11.

コントローラ１０は、基板処理システム１を部分的又は全体的に制御する。コントローラ１０のハードウェアは、例えば一つ又は複数の制御用のコンピュータにより構成されていてもよい。 A controller 10 partially or wholly controls the substrate processing system 1 . The hardware of the controller 10 may be configured by, for example, one or more control computers.

［液処理用のユニットの構成］
続いて、図４を参照して、液処理用のユニットＵ１についてさらに詳しく説明する。ユニットＵ１は、回転保持部２０と、駆動部３０と、送液部１１０と、液源１２０とを備える。 [Configuration of unit for liquid processing]
Next, with reference to FIG. 4, the liquid processing unit U1 will be described in more detail. Unit U<b>1 includes rotation holding section 20 , driving section 30 , liquid feeding section 110 , and liquid source 120 .

回転保持部２０は、回転部２１と、シャフト２２と、保持部２３とを有する。回転部２１は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、シャフト２２を回転させる。回転部２１は、例えば電動モータ等の動力源である。保持部２３は、シャフト２２の先端部に設けられている。保持部２３上にはウエハＷが配置される。保持部２３は、例えば吸着等によりウエハＷを略水平に保持する。すなわち、回転保持部２０は、ウエハＷの姿勢が略水平の状態で、ウエハＷの表面Ｗａに対して垂直な中心軸Ａｘ（回転軸）周りでウエハＷを回転させる。図４の例では、回転保持部２０は、上方から見て時計回りにウエハＷを所定の回転数で回転させる。 The rotation holding portion 20 has a rotating portion 21 , a shaft 22 and a holding portion 23 . The rotating part 21 operates based on an operation signal from the controller 10 to rotate the shaft 22 . The rotating part 21 is, for example, a power source such as an electric motor. The holding portion 23 is provided at the distal end portion of the shaft 22 . A wafer W is placed on the holding portion 23 . The holding unit 23 holds the wafer W substantially horizontally, for example, by suction or the like. That is, the rotation holding unit 20 rotates the wafer W about a central axis Ax (rotational axis) perpendicular to the front surface Wa of the wafer W while the wafer W is substantially horizontal. In the example of FIG. 4, the rotation holding unit 20 rotates the wafer W clockwise at a predetermined number of rotations when viewed from above.

駆動部３０は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、ノズルＮを駆動するように構成されている。駆動部３０は、例えば電動モータ等の動力源（図示せず）である。平面視において、ノズルＮは、処理液（塗布液、現像液を含む。）の吐出時において、ウエハＷの回転軸に直交する直線上をウエハＷの径方向に沿って移動する。ノズルＮは、ウエハＷの上方に位置しており、ウエハＷの表面Ｗａに向けて下方に開口している。 The driving unit 30 is configured to operate based on an operation signal from the controller 10 and drive the nozzles N. As shown in FIG. The drive unit 30 is, for example, a power source (not shown) such as an electric motor. In a plan view, the nozzle N moves along the radial direction of the wafer W on a straight line orthogonal to the rotation axis of the wafer W when the processing liquid (including the coating liquid and the developing liquid) is discharged. The nozzle N is positioned above the wafer W and opens downward toward the front surface Wa of the wafer W. As shown in FIG.

送液部１１０は、コントローラ１０からの動作信号に基づいて動作し、処理液を液源１２０（例えば、後述の液ボトルＢ）からノズルＮに送液し、ノズルＮからウエハＷの表面Ｗａに吐出させる。詳しくは後述するが、送液部１１０、ノズルＮ及び液源１２０は、処理液を目的物（本実施形態ではウエハＷ）に供給するための送液システム１００の要素である。 The liquid sending unit 110 operates based on an operation signal from the controller 10 to send the processing liquid from the liquid source 120 (for example, a liquid bottle B to be described later) to the nozzle N, and from the nozzle N to the surface Wa of the wafer W. Let it spit out. Although details will be described later, the liquid transfer unit 110, the nozzle N, and the liquid source 120 are elements of the liquid transfer system 100 for supplying the processing liquid to the target (wafer W in this embodiment).

［送液システムの構成］
次に、送液システム１００の構成について、図５～図７を参照して説明する。送液システム１００は、図５に示されるように、配管Ｄ１～Ｄ６と、バルブＶ１～Ｖ４と、ノズルＮと、液ボトルＢと、液タンクＴと、フィルタ装置２００と、電空レギュレータＲＥとを備える。 [Configuration of Liquid Transfer System]
Next, the configuration of the liquid transfer system 100 will be described with reference to FIGS. 5 to 7. FIG. As shown in FIG. 5, the liquid delivery system 100 includes pipes D1 to D6, valves V1 to V4, a nozzle N, a liquid bottle B, a liquid tank T, a filter device 200, and an electropneumatic regulator RE. Prepare.

配管Ｄ１（第１の送液ライン）の上流端は、Ｎ_２ガス源に接続されている。配管Ｄ１の下流端は、液ボトルＢの上蓋近傍に位置するように、液ボトルＢの上蓋部分に接続されている。液ボトルＢは、処理液の供給源（液源）として機能する。配管Ｄ１上にはバルブＶ１が設けられている。バルブＶ１は、例えば、空気を利用して弁を開閉（オン／オフ）させるエアオペレートバルブであってもよい。 The upstream end of pipe D1 (first liquid feeding line) is connected to a _N2 gas source. The downstream end of the pipe D1 is connected to the upper lid portion of the liquid bottle B so as to be positioned near the upper lid of the liquid bottle B. As shown in FIG. The liquid bottle B functions as a processing liquid supply source (liquid source). A valve V1 is provided on the pipe D1. The valve V1 may be, for example, an air operated valve that uses air to open and close (on/off) the valve.

配管Ｄ２（第１の送液ライン）の上流端は、液ボトルＢの底面近傍に位置するように、液ボトルＢの上蓋部分に接続されている。配管Ｄ２の下流端は、液タンクＴの上蓋寄りに位置するように、液タンクＴの上蓋部分に接続されている。液タンクＴは、液ボトルＢから排出された処理液を一時的に貯留する貯留部として機能する。 The upstream end of the pipe D2 (first liquid feeding line) is connected to the upper lid portion of the liquid bottle B so as to be positioned near the bottom surface of the liquid bottle B. As shown in FIG. The downstream end of the pipe D2 is connected to the upper lid portion of the liquid tank T so as to be positioned closer to the upper lid of the liquid tank T. As shown in FIG. The liquid tank T functions as a reservoir for temporarily storing the processing liquid discharged from the liquid bottle B. As shown in FIG.

配管Ｄ３（第１の送液ライン）の上流端は、液タンクＴの下底部分に接続されている。配管Ｄ３の下流端は、フィルタ装置２００の入口ＯＰ１（後述する）に接続されている。配管Ｄ３上には、バルブＶ２が設けられている。バルブＶ２は、例えば、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。 The upstream end of the pipe D3 (first liquid feeding line) is connected to the bottom portion of the liquid tank T. As shown in FIG. A downstream end of the pipe D3 is connected to an inlet OP1 (described later) of the filter device 200 . A valve V2 is provided on the pipe D3. Valve V2 may, for example, be an air operated valve similar to valve V1.

配管Ｄ４（第２の送液ライン）の上流端は、フィルタ装置２００の出口ＯＰ２（後述する）に接続されている。配管Ｄ４の下流端は、ノズルＮに接続されている。配管Ｄ４上には、バルブＶ３が設けられている。バルブＶ３は、例えば、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。 The upstream end of the pipe D4 (second liquid-sending line) is connected to an outlet OP2 (described later) of the filter device 200 . A downstream end of the pipe D4 is connected to the nozzle N. A valve V3 is provided on the pipe D4. Valve V3 may be, for example, an air operated valve similar to valve V1.

配管Ｄ５の上流端は、フィルタ装置２００の排液口ＯＰ３（後述する）に接続されている。配管Ｄ５の下流端は、送液システム１００の外部に通じている。配管Ｄ５上には、バルブＶ４（第１のバルブ）が設けられている。バルブＶ４は、例えば、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。 An upstream end of the pipe D5 is connected to a drain port OP3 (described later) of the filter device 200 . A downstream end of the pipe D5 communicates with the outside of the liquid transfer system 100 . A valve V4 (first valve) is provided on the pipe D5. Valve V4 may, for example, be an air operated valve similar to valve V1.

フィルタ装置２００は、処理液に含まれるパーティクルなどの異物を除去する機能を有する。フィルタ装置２００は、図６に示されるように、筒状を呈する筐体２１０と、フィルタ２２０と、チューブ２３０とを含む。 The filter device 200 has a function of removing foreign matter such as particles contained in the processing liquid. The filter device 200 includes a cylindrical housing 210, a filter 220, and a tube 230, as shown in FIG.

筐体２１０は、円筒状の側壁２１１と、側壁２１１の頂部に配置された天壁２１２と、側壁２１１の底部を閉塞する底壁２１３とを含む。天壁１２１には、処理液が導入される入口ＯＰ１（第１の開口）と、フィルタ２２０を通過した処理液が排出される出口ＯＰ２（第２の開口）と、フィルタ２２０を通過しない処理液が外部に排出される排液口ＯＰ３（第５の開口）とが形成されている。底壁２１３には、空気が供給及び排出される出入口ＯＰ４（第３の開口）が形成されている。筐体２１０内の容積は、例えば３リットル以下であってもよい。筐体２１０内のサイズは、例えば、２５０ｍｍ×２００ｍｍ×６０ｍｍ程度であってもよいし、１００ｍｍ×１００ｍｍ×３００ｍｍ程度であってもよい。 The housing 210 includes a cylindrical side wall 211 , a top wall 212 arranged on the top of the side wall 211 , and a bottom wall 213 closing the bottom of the side wall 211 . The ceiling wall 121 has an inlet OP1 (first opening) through which the processing liquid is introduced, an outlet OP2 (second opening) through which the processing liquid that has passed through the filter 220 is discharged, and a processing liquid that does not pass through the filter 220. A drainage port OP3 (fifth opening) through which the liquid is discharged to the outside is formed. The bottom wall 213 is formed with an inlet/outlet OP4 (third opening) through which air is supplied and discharged. The volume within housing 210 may be, for example, 3 liters or less. The size inside the housing 210 may be, for example, about 250 mm×200 mm×60 mm, or about 100 mm×100 mm×300 mm.

フィルタ２２０は、筐体２１０内に保持されている。フィルタ２２０は、フィルタ容器２２１と、フィルタ本体２２２とを有する。フィルタ容器２２１は、円筒形状を呈する外側側壁２２３と、円筒形状を呈する内側側壁２２４と、外側側壁２２３及び内側側壁２２４の一端側に配置された天壁２２５と、外側側壁２２３及び内側側壁２２４の他端側に配置された底壁２２６とで構成されている。 Filter 220 is held within housing 210 . The filter 220 has a filter container 221 and a filter body 222 . The filter container 221 has a cylindrical outer side wall 223, a cylindrical inner side wall 224, a ceiling wall 225 arranged on one end side of the outer side wall 223 and the inner side wall 224, and an outer side wall 223 and the inner side wall 224. and a bottom wall 226 arranged on the other end side.

内側側壁２２４は、外側側壁２２３と略同軸となるように、外側側壁２２３の内側に配置されている。外側側壁２２３及び内側側壁２２４には、多数の貫通孔が形成されており、フィルタ容器２２１の内外において処理液が通過可能とされている。外側側壁２２３と側壁２１１との間の空間Ｓ１（外側空間）は、略円筒状を呈しており、入口ＯＰ１と連通している。 The inner sidewall 224 is positioned inside the outer sidewall 223 so as to be substantially coaxial with the outer sidewall 223 . A large number of through holes are formed in the outer side wall 223 and the inner side wall 224 so that the processing liquid can pass inside and outside the filter container 221 . A space S1 (outer space) between the outer side wall 223 and the side wall 211 has a substantially cylindrical shape and communicates with the inlet OP1.

天壁２２５は、略中央部に位置する貫通孔２２５ａを含む。すなわち、天壁２２５は円環状を呈している。貫通孔２２５ａは、出口ＯＰ２と連通している。底壁２２６は、略中央部に位置する貫通孔２２６ａを含む。すなわち、底壁２２６は円環状を呈している。貫通孔２２６ａは、平面視において貫通孔２２５ａと重なり合っていなくてもよい。 The top wall 225 includes a through-hole 225a positioned substantially in the center. That is, the ceiling wall 225 has an annular shape. The through hole 225a communicates with the outlet OP2. The bottom wall 226 includes a through hole 226a positioned substantially in the center. That is, the bottom wall 226 has an annular shape. The through hole 226a does not have to overlap the through hole 225a in plan view.

フィルタ本体２２２は、円筒形状を呈している。フィルタ本体２２２は、外側側壁２２３、内側側壁２２４、天壁２２５及び底壁２２６で囲まれる空間内に配置されている。フィルタ本体２２２の材質は、例えば、ナイロン、ポリエチレン等であってもよい。フィルタ本体２２２は、例えば０．０５μｍ程度のパーティクルを除去可能な性能を有していてもよい。 The filter body 222 has a cylindrical shape. The filter body 222 is arranged in a space surrounded by an outer side wall 223 , an inner side wall 224 , a top wall 225 and a bottom wall 226 . The material of the filter body 222 may be nylon, polyethylene, or the like, for example. The filter main body 222 may have a performance capable of removing particles of about 0.05 μm, for example.

チューブ２３０は、可撓性及び弾性を有している。すなわち、チューブ２３０は、内側や外側から外力が付与されると、元の形状に戻ろうとする性質を有する。チューブ２３０は、例えばフッ素樹脂によって構成されていてもよい。チューブ２３０の一端は天壁２２５によって閉塞されている。チューブ２３０の他端は貫通孔２２６ａに取り付けられており、出入口ＯＰ４と連通している。すなわち、チューブ２３０は、側壁２１１、外側側壁２２３及び内側側壁２２４と略同軸となるように、内側側壁２２４の内側の空間を延びている。チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２（内側空間）は、略円筒状を呈しており、貫通孔２２５ａを介して出口ＯＰ２と連通している。チューブ２３０内の空間は、出入口ＯＰ４と連通している。 The tube 230 has flexibility and elasticity. That is, the tube 230 has the property of trying to return to its original shape when an external force is applied from the inside or the outside. The tube 230 may be made of, for example, fluororesin. One end of tube 230 is closed by top wall 225 . The other end of the tube 230 is attached to the through hole 226a and communicates with the port OP4. That is, the tube 230 extends through the space inside the inner side wall 224 so as to be substantially coaxial with the side wall 211 , the outer side wall 223 and the inner side wall 224 . A space S2 (inner space) between the tube 230 and the inner side wall 224 has a substantially cylindrical shape and communicates with the outlet OP2 through the through hole 225a. The space inside the tube 230 communicates with the port OP4.

チューブ２３０は、図７に示されるように、凹溝２３１を含んでいる。凹溝２３１は、チューブ２３０の中心軸に沿って延びている。凹溝２３１は、チューブ２３０の中心軸側（チューブ２３０の内側）に向けて窪んでいる。チューブ２３０は、凹溝２３１を複数有していてもよい。図７に示される例では、チューブ２３０は、４つの凹溝２３１を含んでいる。これらの４つの凹溝２３１は、チューブ２３０の周方向において略同一間隔となるように配置されている。すなわち、チューブ２３０は、その周方向において、凹部と凸部とが１つずつ略同一間隔に並んだ形状を呈していてもよい。このような形状であると、チューブ２３０の膨張及び収縮が容易に行われる。 Tube 230 includes a groove 231, as shown in FIG. Groove 231 extends along the central axis of tube 230 . The concave groove 231 is recessed toward the central axis side of the tube 230 (inside the tube 230). Tube 230 may have a plurality of grooves 231 . In the example shown in FIG. 7, tube 230 includes four grooves 231 . These four grooves 231 are arranged at approximately the same intervals in the circumferential direction of the tube 230 . That is, the tube 230 may have a shape in which concave portions and convex portions are arranged at approximately the same intervals in the circumferential direction. Such a shape facilitates expansion and contraction of the tube 230 .

電空レギュレータＲＥ（供給排出部）は、配管Ｄ６（第３の送液ライン）を介して出入口ＯＰ４に接続されている。電空レギュレータＲＥは、コントローラ１０からの制御信号に基づいて開閉動作する電磁弁を有している。電空レギュレータＲＥは、電磁弁の開度に応じて、空気源から空気（作動流体）を吸入し又は外部に空気を排出する。これにより、電空レギュレータＲＥは、チューブ２３０内における空気の圧力（気圧）を調節する。出入口ＯＰ４を介してチューブ２３０内に空気が供給されると、チューブ２３０が外側に向けて（内側側壁２２４に向けて）膨らむ。一方、出入口ＯＰ４を介してチューブ２３０内から空気が排出されると、チューブ２３０が内側に向けて縮む。 The electropneumatic regulator RE (supply/discharge unit) is connected to the inlet/outlet OP4 via a pipe D6 (third liquid transfer line). The electropneumatic regulator RE has an electromagnetic valve that opens and closes based on a control signal from the controller 10 . The electro-pneumatic regulator RE takes in air (working fluid) from an air source or discharges air to the outside according to the opening of the solenoid valve. Thereby, the electro-pneumatic regulator RE adjusts the air pressure (atmospheric pressure) inside the tube 230 . When air is supplied into the tube 230 through the port OP4, the tube 230 expands outward (toward the inner side wall 224). On the other hand, when the air is discharged from the tube 230 through the port OP4, the tube 230 shrinks inward.

［送液システムの動作］
続いて、図８を参照して、送液システム１００の動作について説明する。まず、液タンクＴ内に処理液が存在している状態で、コントローラ１０がバルブＶ２～Ｖ４に指示して、バルブＶ２を開放させると共に、バルブＶ３，Ｖ４を閉鎖させる。この状態で、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内から空気を排出する。これにより、図８（ａ）に示されるように、チューブ２３０が内側に向けて縮んで、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２が負圧となる。そうすると、液タンクＴ内の処理液が筐体２１０内に吸引される。吸引された処理液は、フィルタ本体２２２を通じて濾過されて、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２に至る。 [Operation of liquid delivery system]
Next, the operation of the liquid transfer system 100 will be described with reference to FIG. First, the controller 10 instructs the valves V2 to V4 to open the valve V2 and close the valves V3 and V4 while the processing liquid is present in the liquid tank T. As shown in FIG. In this state, the controller 10 instructs the electropneumatic regulator RE to discharge the air from inside the tube 230 . As a result, as shown in FIG. 8A, the tube 230 contracts inward, and the space S2 between the tube 230 and the inner side wall 224 becomes negative pressure. Then, the processing liquid in the liquid tank T is sucked into the housing 210 . The sucked processing liquid is filtered through the filter body 222 and reaches the space S2 between the tube 230 and the inner side wall 224 .

続いて、コントローラ１０がバルブＶ２～Ｖ４に指示して、バルブＶ２，Ｖ４を閉鎖させると共に、バルブＶ３を開放させる。この状態で、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内に空気を供給する。これにより、図８（ｂ）に示されるように、チューブ２３０が外側に向けて膨らんで、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２に存在する処理液が出口ＯＰ２に向けて押し出される。そうすると、処理液は、配管Ｄ４を通じてノズルＮから吐出される。 Subsequently, the controller 10 instructs the valves V2 to V4 to close the valves V2 and V4 and open the valve V3. In this state, the controller 10 instructs the electropneumatic regulator RE to supply air into the tube 230 . As a result, as shown in FIG. 8(b), the tube 230 expands outward, and the processing liquid existing in the space S2 between the tube 230 and the inner side wall 224 is pushed out toward the outlet OP2. Then, the treatment liquid is discharged from the nozzle N through the pipe D4.

続いて、コントローラ１０がバルブＶ２～Ｖ４に指示して、バルブＶ２を開放させると共に、バルブＶ３，Ｖ４を閉鎖させる。この状態で、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内に空気をさらに供給する。これにより、図８（ｃ）に示されるように、チューブ２３０がさらに外側に向けて膨らんで、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２に存在する処理液がフィルタ本体２２２を通じて入口ＯＰ１に向けて押し出される。そうすると、処理液は、フィルタ本体２２２によって再び濾過されつつ、配管Ｄ３を通じて逆流する。フィルタ本体２２２の上流側にはパーティクルが比較的多く捕集されているので、逆流した当該処理液内には多くのパーティクルが含まれうる。 Subsequently, the controller 10 instructs the valves V2 to V4 to open the valve V2 and close the valves V3 and V4. In this state, the controller 10 instructs the electropneumatic regulator RE to further supply air into the tube 230 . As a result, as shown in FIG. 8C, the tube 230 expands further outward, and the processing liquid present in the space S2 between the tube 230 and the inner side wall 224 flows through the filter body 222 into the inlet OP1. pushed towards. Then, the processing liquid is filtered again by the filter main body 222 and flows back through the pipe D3. Since a relatively large number of particles are collected on the upstream side of the filter main body 222, a large number of particles may be contained in the processing liquid that has flowed back.

続いて、コントローラ１０がバルブＶ２～Ｖ４に指示して、バルブＶ２，Ｖ４を開放させると共に、バルブＶ３を閉鎖させる。この状態で、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内から空気を排出する。これにより、図８（ｄ）に示されるように、チューブ２３０が内側に向けて縮んで、バルブＶ２側に逆流した処理液が再び筐体２１０内に流入する。バルブＶ３は閉鎖されているので、筐体２１０内に流入した当該処理液は、配管Ｄ５を通じて送液システム１００の外に排出される。従って、多くのパーティクルを含みうる処理液が送液システム１００から除去されるので、送液システム１００の清浄度が高まる。 Subsequently, the controller 10 instructs the valves V2 to V4 to open the valves V2 and V4 and close the valve V3. In this state, the controller 10 instructs the electropneumatic regulator RE to discharge the air from inside the tube 230 . As a result, as shown in FIG. 8(d), the tube 230 shrinks inward, and the treatment liquid flowing back to the valve V2 side flows into the housing 210 again. Since the valve V3 is closed, the processing liquid that has flowed into the housing 210 is discharged out of the liquid transfer system 100 through the pipe D5. Therefore, since the processing liquid that may contain many particles is removed from the liquid transfer system 100, the cleanliness of the liquid transfer system 100 is enhanced.

［作用］
以上の実施形態では、チューブ２３０内から空気が排出されてチューブ２３０が収縮することにより、筐体２１０の外部から処理液が吸引され、当該処理液が筐体２１０内に流入する。その後、チューブ２３０内に空気が供給されてチューブ２３０が膨張することにより、筐体２１０内の当該処理液が加圧され、当該処理液が筐体２１０外へと流出する。このように、送液手段（例えば、シリンジ、ダイアフラムなど）が筐体の外側において接続される一般的なフィルタ装置とは異なり、ポンプとして機能するチューブ２３０がフィルタ２２０と同じ筐体内に配置されている。そのため、送液手段をフィルタ装置２００に統合して部品点数を削減でき、フィルタ装置２００を小型化することが可能となる。また、小型化に伴い、従来と同等のスペースにフィルタ装置２００を設置できるので、従来のフィルタ装置との置き換えを容易に行うことが可能となる。加えて、フィルタ２２０とポンプ（チューブ２３０）とを接続する流路が不要となるので、処理液が滞留し難くなり、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。さらには、フィルタ２２０とポンプ（チューブ２３０）とを接続する流路が不要であるので、フィルタ装置２００の洗浄時間を短縮できると共に、洗浄のための処理液の使用量を削減できる。 [Action]
In the above embodiment, air is discharged from the inside of the tube 230 and the tube 230 is contracted, whereby the processing liquid is sucked from the outside of the housing 210 and flows into the housing 210 . After that, air is supplied into the tube 230 to expand the tube 230 , thereby pressurizing the processing liquid in the housing 210 and causing the processing liquid to flow out of the housing 210 . As described above, unlike a general filter device in which a liquid sending means (for example, a syringe, a diaphragm, etc.) is connected outside the housing, the tube 230 functioning as a pump is arranged in the same housing as the filter 220. there is Therefore, it is possible to reduce the number of parts by integrating the liquid sending means into the filter device 200, and to make the filter device 200 smaller. In addition, as the filter device 200 can be installed in the same space as the conventional filter device due to the miniaturization, it is possible to easily replace the conventional filter device. In addition, since a flow path connecting the filter 220 and the pump (tube 230) is not required, it becomes difficult for the processing liquid to stagnate, making it possible to suppress the generation of particles. Furthermore, since a channel connecting the filter 220 and the pump (tube 230) is not required, the cleaning time of the filter device 200 can be shortened, and the amount of processing liquid used for cleaning can be reduced.

以上の実施形態では、チューブ２３０が円筒状のフィルタ２２０の空間Ｓ２に位置しているので、フィルタ装置２００のさらなる小型化が可能となる。 In the above embodiment, since the tube 230 is located in the space S2 of the cylindrical filter 220, the size of the filter device 200 can be further reduced.

以上の実施形態では、チューブ２３０がフィルタ２２０よりも出口ＯＰ２側（下流側）に位置するので、フィルタ２２０を流通する液体の速度が遅くなる傾向にある。そのため、パーティクル等の異物をより効果的にフィルタ２２０で除去することが可能となる。 In the above embodiment, since the tube 230 is located on the outlet OP2 side (downstream side) of the filter 220, the liquid flowing through the filter 220 tends to slow down. Therefore, foreign matter such as particles can be more effectively removed by the filter 220 .

以上の実施形態では、入口ＯＰ１、出口ＯＰ２及び排液口ＯＰ３は筐体２１０の上面（天壁２１２）に設けられており、出入口ＯＰ４が筐体２１０の下面（底壁２１３）に設けられている。そのため、筐体２１０の周面には送液ライン等が接続されないので、上下方向においてフィルタ装置２００の移動が妨げられ難くなる。従って、フィルタ装置２００の交換作業を極めて容易に行うことが可能となる。 In the above embodiment, the inlet OP1, the outlet OP2, and the drainage port OP3 are provided on the upper surface (top wall 212) of the housing 210, and the inlet/outlet OP4 is provided on the lower surface (bottom wall 213) of the housing 210. there is Therefore, since a liquid feed line or the like is not connected to the peripheral surface of the housing 210, movement of the filter device 200 in the vertical direction is less likely to be hindered. Therefore, the replacement work of the filter device 200 can be performed very easily.

以上の実施形態では、処理液が、入口ＯＰ１からフィルタ２２０を介して出口ＯＰ２に向けて流通した後に、出口ＯＰ２からフィルタ２２０を介して入口ＯＰ１に向けて流通する。すなわち、処理液がフィルタ２２０を順方向と逆方向とに流通する。そのため、パーティクル等の異物がフィルタ２２０で捕集されやすくなる。従って、パーティクル等の異物をいっそう効果的にフィルタ２２０で除去することが可能となる。 In the above embodiment, the processing liquid flows from the inlet OP1 through the filter 220 toward the outlet OP2, and then flows from the outlet OP2 through the filter 220 toward the inlet OP1. That is, the processing liquid flows through the filter 220 in forward and reverse directions. Therefore, foreign substances such as particles are easily collected by the filter 220 . Therefore, foreign substances such as particles can be more effectively removed by the filter 220 .

［変形例］
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。 [Modification]
It should be considered that the embodiments disclosed this time are illustrative in all respects and not restrictive. The embodiments described above may be omitted, substituted, or modified in various ways without departing from the scope and spirit of the appended claims.

（１）上記の実施形態では、チューブ２３０内に供給される作動流体として空気が用いられていたが、他の気体が用いられてもよいし、オイル等の液体が用いられてもよい。 (1) In the above embodiment, air was used as the working fluid supplied into the tube 230, but other gas or liquid such as oil may be used.

（２）チューブ２３０内に供給される作動流体が温調されていてもよい。この場合、作動流体の熱によってフィルタ２２０及び処理液も温調される。処理液が所定の温度とされることにより、パーティクル等の異物が処理液内において発生し難くなる。 (2) The temperature of the working fluid supplied into the tube 230 may be controlled. In this case, the temperature of the filter 220 and the processing liquid is also adjusted by the heat of the working fluid. By setting the processing liquid to a predetermined temperature, it becomes difficult for foreign matter such as particles to occur in the processing liquid.

（３）筐体２１０、フィルタ２２０及びチューブ２３０は、いずれも筒状（例えば、円筒状、角筒状など）であってもよい。 (3) The housing 210, the filter 220, and the tube 230 may all be tubular (for example, cylindrical, rectangular tubular, etc.).

（４）上記の実施形態において、入口ＯＰ１が出口として機能し、出口ＯＰ２が入口として機能してもよい。すなわち、処理液は、出口ＯＰ２から筐体２１０内に流入し、フィルタ２２０を介して入口ＯＰ１からノズルＮに向けて排出されてもよい。 (4) In the above embodiment, the inlet OP1 may function as an outlet and the outlet OP2 may function as an inlet. That is, the processing liquid may flow into the housing 210 from the outlet OP2 and be discharged from the inlet OP1 toward the nozzle N via the filter 220. FIG.

（５）フィルタ装置２００は、チューブ２３０の過膨張又は過収縮を防止するための規制部材を含んでいてもよい。例えば、チューブ２３０の外周側に筒状の網状体が規制部材として配置されていてもよい。この場合、移送対象の液体の流通が規制部材によって妨げられることなく、チューブ２３０の膨張が所定の時点で規制部材によって規制される。一方、チューブ２３０の内周側に筒状の網状体が規制部材として配置されていてもよい。この場合、作動流体の流通が規制部材によって妨げられることなく、チューブ２３０の収縮が所定の時点で規制部材によって規制される。 (5) Filter device 200 may include a restricting member for preventing excessive expansion or excessive contraction of tube 230 . For example, a tubular net-like body may be arranged as a restricting member on the outer peripheral side of the tube 230 . In this case, expansion of the tube 230 is regulated by the regulating member at a predetermined time without hindering the flow of the liquid to be transferred. On the other hand, a tubular net-like body may be arranged as a restricting member on the inner peripheral side of the tube 230 . In this case, contraction of the tube 230 is restricted by the restricting member at a predetermined point in time without hindering the flow of the working fluid by the restricting member.

（６）図９に示されるように、チューブ２３０がフィルタ２２０の上流側（入口ＯＰ１側）に取り付けられていてもよい。図９に示される形態について、上記の実施形態との相違点を中心に、以下に説明する。フィルタ２２０は、底壁２２６が底壁２１３と離間するように筐体２１０内に保持されている。底壁２２６には、貫通孔２２６ａが設けられていないが、貫通孔２２６ｂが周縁部に設けられている。チューブ２３０は、側壁２１１の内側で且つフィルタ２２０を外側から取り囲むように配置されている。チューブ２３０の他端（下端）は底壁２２６と接続されている。チューブ２３０と側壁２１１との間の空間は、貫通孔２２６ｂ及び底壁２２６と底壁２１３との間の空間を介して、出入口ＯＰ４と連通している。この場合、チューブ２３０がフィルタ２２０よりも入口ＯＰ１側（上流側）に位置するので、処理液がフィルタ２２０を流通する際に発泡が生じ難い傾向にある。そのため、ノズルＮからの処理液の吐出量をより精度よくコントロールすることが可能となる。 (6) As shown in FIG. 9, the tube 230 may be attached to the upstream side (inlet OP1 side) of the filter 220 . The form shown in FIG. 9 will be described below, focusing on differences from the above embodiment. Filter 220 is held within housing 210 such that bottom wall 226 is spaced apart from bottom wall 213 . The bottom wall 226 is not provided with a through-hole 226a, but is provided with a through-hole 226b in the peripheral portion. The tube 230 is arranged inside the side wall 211 and surrounds the filter 220 from the outside. The other end (lower end) of tube 230 is connected to bottom wall 226 . The space between the tube 230 and the side wall 211 communicates with the inlet/outlet OP4 via the through hole 226b and the space between the bottom wall 226 and the bottom wall 213 . In this case, since the tube 230 is located on the inlet OP1 side (upstream side) of the filter 220, the processing liquid tends to be less likely to foam when flowing through the filter 220. FIG. Therefore, it is possible to control the ejection amount of the treatment liquid from the nozzles N with higher accuracy.

（７）図１０に示されるように、フィルタ装置２００は、筐体２１０内に収容された別のチューブ２４０をさらに備えていてもよい。図１０に示される形態について、上記の実施形態との相違点を中心に、以下に説明する。底壁２１３には、空気が供給及び排出される出入口ＯＰ５（第４の開口）が形成されている。底壁２２６には、貫通孔２２６ａが設けられていないが、貫通孔２２６ｂが周縁部に設けられている。チューブ２４０は、可撓性及び弾性を有している。チューブ２４０は、円筒状を呈しており、側壁２１１の内側で且つフィルタ２２０を外側から取り囲むように配置されている。チューブ２４０の一端（上端）は天壁２２５によって閉塞されている。チューブ２４０の他端（下端）は底壁２２６と接続されている。チューブ２４０と側壁２１１との間の空間は、貫通孔２２６ｂ及び出入口ＯＰ５と連通している。出入口ＯＰ５には、図示しない他の電空レギュレータが配管を介して接続されている。そのため、チューブ２４０は、チューブ２３０とは独立して膨張及び収縮できるように構成されている。図１０の形態によれば、フィルタ２２０の上流側と下流側とにそれぞれチューブ２３０，２３０が存在し、これらのチューブ２３０，２４０が独立してポンプとして動作する。そのため、フィルタ２２０の前後における差圧を任意に設定しうる。従って、フィルタ２２０による処理液の濾過速度をコントロールすることが可能となる。 (7) As shown in FIG. 10 , the filter device 200 may further include another tube 240 housed within the housing 210 . The form shown in FIG. 10 will be described below, focusing on the differences from the above embodiment. The bottom wall 213 is formed with an inlet/outlet OP5 (fourth opening) through which air is supplied and discharged. The bottom wall 226 is not provided with a through-hole 226a, but is provided with a through-hole 226b in the peripheral portion. The tube 240 has flexibility and elasticity. The tube 240 has a cylindrical shape and is arranged inside the side wall 211 and surrounds the filter 220 from the outside. One end (upper end) of the tube 240 is closed by the ceiling wall 225 . The other end (lower end) of tube 240 is connected to bottom wall 226 . A space between the tube 240 and the side wall 211 communicates with the through hole 226b and the port OP5. Another electropneumatic regulator (not shown) is connected to the inlet/outlet OP5 via a pipe. Therefore, tube 240 is configured to be inflated and deflated independently of tube 230 . 10, there are tubes 230, 230 upstream and downstream of filter 220, respectively, and these tubes 230, 240 operate independently as pumps. Therefore, the differential pressure across the filter 220 can be arbitrarily set. Therefore, it is possible to control the filtering speed of the processing liquid by the filter 220 .

（８）上記の実施形態では、フィルタ２２０の外周側に入口ＯＰ１が位置し、フィルタ２２０の内周側に出口ＯＰ２が位置していた。すなわち、フィルタ２２０の外周側が上流側とされ、フィルタ２２０の内周側が下流側とされていた。しかしながら、図１１及び図１２に示されるように、フィルタ２２０の内周側が上流側とされ、フィルタ２２０の外周側が下流側とされていてもよい。 (8) In the above embodiment, the inlet OP1 is located on the outer peripheral side of the filter 220 and the outlet OP2 is located on the inner peripheral side of the filter 220 . That is, the outer peripheral side of the filter 220 is defined as the upstream side, and the inner peripheral side of the filter 220 is defined as the downstream side. However, as shown in FIGS. 11 and 12, the inner peripheral side of the filter 220 may be the upstream side and the outer peripheral side of the filter 220 may be the downstream side.

図１１に示される形態について、上記の実施形態との相違点を中心に、以下に説明する。フィルタ２２０は、底壁２２６が底壁２１３と離間するように筐体２１０内に保持されている。天壁２２５には貫通孔２２５ｂが設けられている。貫通孔２２５ｂは、貫通孔２２５ａよりも内側側壁２２４側に位置しており、出口ＯＰ２と連通している。底壁２２６には、内側側壁２２４の内側で且つ平面視において貫通孔２２５ａと重なり合わない位置に貫通孔２２６ｂが設けられている。フィルタ容器２２１は、貫通孔２２５ａと貫通孔２２６ａとを接続する筒体２２７をさらに含んでいる。筒体２２７内の空間は、貫通孔２２５ａを介して入口ＯＰ１と連通している。筒体２２７内の空間は、貫通孔２２６ｂを介して、底壁２２６と底壁２１３との間の空間及び外側側壁２２３と側壁２１１との間の空間Ｓ１と連通している。チューブ２３０は、内側側壁２２４の内側で且つ筒体２２７を外側から取り囲むように配置されている。チューブ２３０の一端（上端）は天壁２２５によって閉塞されている。チューブ２３０の他端（下端）は底壁２２６と接続されている。チューブ２３０と筒体２２７との間の空間は、貫通孔２２６ａを介して出入口ＯＰ４と連通している。この場合、ポンプとして機能するチューブ２３０がフィルタ２２０よりも出口ＯＰ２側（下流側）に位置するので、フィルタ２２０を流通する液体の速度が遅くなる傾向にある。そのため、パーティクル等の異物をより効果的にフィルタ２２０で除去することが可能となる。 The form shown in FIG. 11 will be described below, focusing on the differences from the above embodiment. Filter 220 is held within housing 210 such that bottom wall 226 is spaced apart from bottom wall 213 . The ceiling wall 225 is provided with a through hole 225b. The through hole 225b is positioned closer to the inner side wall 224 than the through hole 225a and communicates with the outlet OP2. The bottom wall 226 is provided with a through hole 226b inside the inner side wall 224 and at a position not overlapping with the through hole 225a in plan view. The filter container 221 further includes a cylinder 227 connecting the through holes 225a and 226a. The space inside the cylinder 227 communicates with the inlet OP1 through the through hole 225a. The space inside the cylindrical body 227 communicates with the space between the bottom wall 226 and the bottom wall 213 and the space S1 between the outer side wall 223 and the side wall 211 via the through hole 226b. The tube 230 is arranged inside the inner side wall 224 and surrounds the cylindrical body 227 from the outside. One end (upper end) of the tube 230 is closed by the ceiling wall 225 . The other end (lower end) of tube 230 is connected to bottom wall 226 . A space between the tube 230 and the cylindrical body 227 communicates with the inlet/outlet OP4 via the through hole 226a. In this case, since the tube 230 functioning as a pump is located closer to the outlet OP2 (downstream side) than the filter 220, the liquid flowing through the filter 220 tends to slow down. Therefore, foreign matter such as particles can be more effectively removed by the filter 220 .

図１２に示される形態について、上記の実施形態との相違点を中心に、以下に説明する。フィルタ２２０は、底壁２２６が底壁２１３と離間するように筐体２１０内に保持されている。天壁２２５には貫通孔２２５ｂが設けられている。貫通孔２２５ｂは、貫通孔２２５ａよりも内側側壁２２４側に位置しており、出口ＯＰ２と連通している。底壁２２６には、内側側壁２２４の内側で且つ平面視において貫通孔２２５ａと重なり合う位置に貫通孔２２６ｂが設けられている。チューブ２３０は、貫通孔２２５ａと貫通孔２２６ａとを接続している。チューブ２３０内の空間は、貫通孔２２５ａを介して入口ＯＰ１と連通している。チューブ２３０内の空間は、貫通孔２２６ｂを介して、底壁２２６と底壁２１３との間の空間及び外側側壁２２３と側壁２１１との間の空間Ｓ１と連通している。フィルタ容器２２１は、貫通孔２２５ｂ，２２６ａよりも内側で且つチューブ２３０を外側から取り囲むように配置された筒体２２７をさらに含んでいる。筒体２２７の一端（上端）は天壁２２５によって閉塞されている。筒体２２７の他端（下端）は底壁２２６と接続されている。チューブ２３０と筒体２２７との間の空間は、貫通孔２２６ａを介して出入口ＯＰ４と連通している。この場合、ポンプとして機能するチューブ２３０がフィルタ２２０よりも入口ＯＰ１側（上流側）に位置するので、処理液がフィルタ２２０を流通する際に発泡が生じ難い傾向にある。そのため、ノズルＮからの処理液の吐出量をより精度よくコントロールすることが可能となる。 The form shown in FIG. 12 will be described below, focusing on the differences from the above embodiment. Filter 220 is held within housing 210 such that bottom wall 226 is spaced apart from bottom wall 213 . The ceiling wall 225 is provided with a through hole 225b. The through hole 225b is positioned closer to the inner side wall 224 than the through hole 225a and communicates with the outlet OP2. The bottom wall 226 is provided with a through hole 226b inside the inner side wall 224 and at a position overlapping the through hole 225a in plan view. The tube 230 connects the through hole 225a and the through hole 226a. The space inside the tube 230 communicates with the inlet OP1 via the through hole 225a. The space inside the tube 230 communicates with the space between the bottom wall 226 and the bottom wall 213 and the space S1 between the outer side wall 223 and the side wall 211 via the through hole 226b. The filter container 221 further includes a cylindrical body 227 arranged inside the through holes 225b and 226a and surrounding the tube 230 from the outside. One end (upper end) of the cylindrical body 227 is closed by the ceiling wall 225 . The other end (lower end) of cylinder 227 is connected to bottom wall 226 . A space between the tube 230 and the cylindrical body 227 communicates with the inlet/outlet OP4 via the through hole 226a. In this case, since the tube 230 functioning as a pump is positioned on the inlet OP1 side (upstream side) of the filter 220, the processing liquid tends to be less likely to foam when flowing through the filter 220. FIG. Therefore, it is possible to control the ejection amount of the treatment liquid from the nozzles N with higher accuracy.

（９）図１３に示されるように、送液システム１００（送液部１１０）は、配管Ｄ７をさらに含んでいてもよい。配管Ｄ７は、配管Ｄ５のうちバルブＶ４の上流側から分岐して、配管Ｄ３のうちバルブＶ２の上流側に接続されている。すなわち、配管Ｄ７は、配管Ｄ５と共に、処理液を排液口ＯＰ３から入口ＯＰ１側に戻す循環ラインを構成している。この場合、フィルタ２２０を逆方向に流通した後の処理液が、循環ラインを通じて入口ＯＰ１側に戻される。そのため、フィルタ装置２００内において処理液が滞留し難くなる。従って、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。 (9) As shown in FIG. 13, the liquid delivery system 100 (liquid delivery section 110) may further include a pipe D7. The pipe D7 branches off from the pipe D5 upstream of the valve V4 and is connected to the pipe D3 upstream of the valve V2. That is, the pipe D7, together with the pipe D5, constitutes a circulation line for returning the processing liquid from the drain port OP3 to the inlet OP1 side. In this case, the processing liquid that has passed through the filter 220 in the reverse direction is returned to the inlet OP1 side through the circulation line. Therefore, it becomes difficult for the processing liquid to stay in the filter device 200 . Therefore, it is possible to suppress the generation of particles.

（１０）図１４に例示されるように、フィルタ装置２００には排液口ＯＰ６（第２のベント開口）がさらに設けられていてもよい。図１４に示される例では、排液口ＯＰ６は、底壁２１３及び底壁２２２６に形成されているが、天壁２１２及び天壁２２５に形成されていてもよい。排液口ＯＰ６は、チューブ２３０と内側側壁２２４との間の空間Ｓ２と連通している。排液口ＯＰ６は配管Ｄ８と接続されている。配管Ｄ８上にはバルブＶ５（第２のバルブ）が設けられている。バルブＶ５は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブであってもよい。 (10) As illustrated in FIG. 14, the filter device 200 may be further provided with a drainage port OP6 (second vent opening). In the example shown in FIG. 14, the drain port OP6 is formed in the bottom wall 213 and the bottom wall 2226, but may be formed in the top wall 212 and the top wall 225 as well. Drain port OP6 communicates with space S2 between tube 230 and inner side wall 224 . The drain port OP6 is connected to the pipe D8. A valve V5 (second valve) is provided on the pipe D8. Valve V5 may be an air operated valve similar to valve V1.

図１４に例示される形態において、排液口ＯＰ３，ＯＰ６を通じて液体を排液する処理について説明する。空間Ｓ１における液体を排液口ＯＰ３から排液する場合には、まず、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内に空気を供給する。これにより、空間Ｓ２が相対的に高圧となり、空間Ｓ１が相対的に低圧となる。そのため、空間Ｓ１において、液体に溶存している気泡が膨張（発泡）しやすくなる。コントローラ１０は、チューブ２３０内への空気の供給と同時に又はその後にバルブＶ４に指示して、バルブＶ４を開放する。これにより、成長した気泡を含む空間Ｓ１内の液体が、排液口ＯＰ３を通じて外部に排出される。 In the form illustrated in FIG. 14, the process of draining the liquid through the drain ports OP3 and OP6 will be described. When the liquid in the space S1 is to be drained from the drain port OP3, the controller 10 first instructs the electropneumatic regulator RE to supply air into the tube 230 . As a result, the pressure in the space S2 becomes relatively high, and the pressure in the space S1 becomes relatively low. Therefore, in the space S1, the bubbles dissolved in the liquid are likely to expand (foam). Controller 10 directs valve V4 to open simultaneously with or after air is supplied into tube 230 . As a result, the liquid in the space S1 containing the grown bubbles is discharged to the outside through the liquid outlet OP3.

一方、空間Ｓ２における液体を排液口ＯＰ６から排液する場合には、まず、コントローラ１０が電空レギュレータＲＥに指示して、チューブ２３０内の空気を排出する。これにより、空間Ｓ１が相対的に高圧となり、空間Ｓ２が相対的に低圧となる。そのため、空間Ｓ２において、液体に溶存している気泡が膨張（発泡）しやすくなる。コントローラ１０は、チューブ２３０内からの空気の排出と同時に又はその後にバルブＶ５に指示して、バルブＶ５を開放する。これにより、成長した気泡を含む空間Ｓ２内の液体が、排液口ＯＰ６を通じて外部に排出される。 On the other hand, when the liquid in the space S2 is to be drained from the drain port OP6, the controller 10 first instructs the electro-pneumatic regulator RE to drain the air inside the tube 230 . As a result, the pressure in the space S1 becomes relatively high, and the pressure in the space S2 becomes relatively low. Therefore, in the space S2, the bubbles dissolved in the liquid are likely to expand (foam). The controller 10 instructs the valve V5 to open at the same time as or after the air is discharged from the tube 230 . As a result, the liquid in the space S2 containing the grown bubbles is discharged to the outside through the drain port OP6.

図１４に例示される形態では、バルブＶ４，Ｖ５を制御することで、成長した気泡を含む液体が排液口ＯＰ３，ＯＰ６を通じて排液される。したがって、液体に溶存している気泡を効果的に除去することが可能となる。また、成長した気泡を含む液体は、フィルタ２２０を通らずに排液口ＯＰ３，ＯＰ６から排液されるので、気泡によるフィルタ２２０の目詰まりを抑制することが可能となる。 In the form illustrated in FIG. 14, by controlling the valves V4 and V5, the liquid containing the grown bubbles is drained through the drain ports OP3 and OP6. Therefore, it is possible to effectively remove bubbles dissolved in the liquid. In addition, since the liquid containing grown bubbles is discharged from the drain ports OP3 and OP6 without passing through the filter 220, clogging of the filter 220 by bubbles can be suppressed.

空間Ｓ１からの排液と、空間Ｓ２からの排液とが交互に繰り返されてもよい。この場合、液体からより効果的に気泡を除去することが可能となる。空間Ｓ１，Ｓ２内の圧力を相対的に低下させるために、例えば、液源１２０からの処理液の供給圧力を低下させることで空間Ｓ１を相対的に低圧にしてもよいし、液源１２０からの処理液の供給圧力を高めることで空間Ｓ２を相対的に低圧にしてもよい。空間Ｓ１，Ｓ２内の圧力を相対的に低下させるために、例えば、フィルタ装置２００に向かう処理液の流速を上げることで空間Ｓ１を相対的に低圧にしてもよいし、フィルタ装置２００に向かう処理液の流速を下げることで空間Ｓ２を相対的に低圧にしてもよい。 The drainage from the space S1 and the drainage from the space S2 may be alternately repeated. In this case, it is possible to more effectively remove air bubbles from the liquid. In order to relatively reduce the pressures in the spaces S1 and S2, for example, the pressure of the processing liquid supplied from the liquid source 120 may be reduced to make the space S1 relatively low pressure. The pressure in the space S2 may be made relatively low by increasing the supply pressure of the treatment liquid. In order to relatively decrease the pressures in the spaces S1 and S2, for example, the flow velocity of the processing liquid toward the filter device 200 may be increased to make the space S1 have a relatively low pressure. The pressure in the space S2 may be relatively low by reducing the flow velocity of the liquid.

［例示］
例１．本開示の一つの例に係るフィルタ装置は、筒状のフィルタと、可撓性を有するチューブと、上下方向に延びるように同軸状に配置されたフィルタ及びチューブを収容する筐体とを備える。筐体は、フィルタの外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１の開口と、フィルタの内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２の開口と、チューブの内部と連通し且つチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第３の開口とを含む。この場合、チューブ内から作動流体が排出されてチューブが収縮することにより、筐体の外部から移送対象の液体が吸引され、当該液体が筐体内に流入する。その後、チューブ内に作動流体が供給されてチューブが膨張することにより、筐体内の当該液体が加圧され、当該液体が筐体外へと流出する。このように、ポンプとして機能するチューブがフィルタと同じ筐体内に配置されているので、フィルタ装置を小型化することが可能となる。加えて、フィルタとポンプとを接続する流路が不要となるので、液体が滞留し難くなり、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。さらには、フィルタとポンプとを接続する流路が不要であるので、フィルタ装置の洗浄時間を短縮できると共に、洗浄のための液体の使用量を削減できる。 [Example]
Example 1. A filter device according to one example of the present disclosure includes a tubular filter, a flexible tube, and a housing that accommodates the filter and the tube that are coaxially arranged so as to extend in the vertical direction. The housing includes a first opening communicating with the outer space of the filter and through which the liquid to be transferred can flow, a second opening communicating with the inner space of the filter and through which the liquid to be transferred can flow, and a tube. and a third opening in communication with the interior and through which a working fluid can flow to inflate and deflate the tube. In this case, when the working fluid is discharged from the inside of the tube and the tube contracts, the liquid to be transferred is sucked from the outside of the housing, and the liquid flows into the housing. After that, the working fluid is supplied into the tube and the tube expands, thereby pressurizing the liquid in the housing and causing the liquid to flow out of the housing. Since the tube functioning as a pump is arranged in the same housing as the filter in this manner, the size of the filter device can be reduced. In addition, since there is no need for a channel connecting the filter and the pump, it becomes difficult for the liquid to stagnate, making it possible to suppress the generation of particles. Furthermore, since no channel is required to connect the filter and the pump, the cleaning time of the filter device can be shortened, and the amount of liquid used for cleaning can be reduced.

例２．例１の装置において、チューブはフィルタの内側空間に配置されており、第１及び第２の開口のうち一方が入口として機能し、第１及び第２の開口のうち他方が出口として機能してもよい。この場合、チューブがフィルタの内側空間に位置しているので、フィルタ装置のさらなる小型化が可能となる。また、第１の開口が入口として機能し、第２の開口が出口として機能する場合、チューブがフィルタよりも出口側（下流側）に位置するので、フィルタを流通する液体の速度が遅くなる傾向にある。そのため、パーティクル等の異物をより効果的にフィルタで除去することが可能となる。一方、第１の開口が出口として機能し、第２の開口が入口として機能する場合、チューブがフィルタよりも入口側（上流側）に位置するので、液体がフィルタを流通する際に発泡が生じ難い傾向にある。そのため、ノズルからの液体の吐出量をより精度よくコントロールすることが可能となる。 Example 2. In the device of Example 1, the tube is placed in the inner space of the filter, with one of the first and second openings acting as an inlet and the other of the first and second openings acting as an outlet. good too. In this case, since the tube is located in the inner space of the filter, the size of the filter device can be further reduced. In addition, when the first opening functions as an inlet and the second opening functions as an outlet, the tube is located on the outlet side (downstream side) of the filter, so the velocity of the liquid flowing through the filter tends to be slow. It is in. Therefore, foreign matter such as particles can be more effectively removed by the filter. On the other hand, when the first opening functions as an outlet and the second opening functions as an inlet, the tube is located on the inlet side (upstream side) of the filter, so foaming occurs when the liquid flows through the filter. tends to be difficult. Therefore, it is possible to more accurately control the amount of liquid ejected from the nozzles.

例３．例２の装置は、可撓性を有し且つ筐体内に収容された別のチューブをさらに備え、別のチューブはフィルタの外側空間に配置されており、筐体は、別のチューブの外部と連通し且つ別のチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第４の開口をさらに含んでいてもよい。この場合、フィルタの上流側と下流側とにそれぞれチューブが存在し、これらのチューブが独立してポンプとして動作する。そのため、フィルタの前後における差圧を任意に設定しうる。従って、フィルタによる液体の濾過速度をコントロールすることが可能となる。 Example 3. The device of Example 2 further comprises another tube that is flexible and contained within the housing, the another tube being disposed in the outer space of the filter, the housing being in contact with the exterior of the another tube. It may further include a fourth opening through which working fluid can flow to communicate and inflate and deflate another tube. In this case, there are tubes upstream and downstream of the filter, and these tubes operate independently as pumps. Therefore, the differential pressure across the filter can be arbitrarily set. Therefore, it is possible to control the rate of liquid filtration by the filter.

例４．例１の装置において、チューブはフィルタの外側空間に配置されており、第１及び第２の開口のうち一方が入口として機能し、第１及び第２の開口のうち他方が出口として機能してもよい。第１の開口が入口として機能し、第２の開口が出口として機能する場合、チューブがフィルタよりも入口側（上流側）に位置するので、液体がフィルタを流通する際に発泡が生じ難い傾向にある。そのため、ノズルからの液体の吐出量をより精度よくコントロールすることが可能となる。一方、第１の開口が出口として機能し、第２の開口が入口として機能する場合、チューブがフィルタよりも出口側（下流側）に位置するので、フィルタを流通する液体の速度が遅くなる傾向にある。そのため、パーティクル等の異物をより効果的にフィルタで除去することが可能となる。 Example 4. In the device of Example 1, the tube is positioned in the outer space of the filter, with one of the first and second openings serving as the inlet and the other of the first and second openings serving as the outlet. good too. When the first opening functions as an inlet and the second opening functions as an outlet, since the tube is located on the inlet side (upstream side) of the filter, there is a tendency that bubbles are less likely to occur when the liquid flows through the filter. It is in. Therefore, it is possible to more accurately control the amount of liquid ejected from the nozzles. On the other hand, when the first opening functions as an outlet and the second opening functions as an inlet, since the tube is located on the outlet side (downstream side) of the filter, the velocity of the liquid flowing through the filter tends to be low. It is in. Therefore, foreign matter such as particles can be more effectively removed by the filter.

例５．例１～例４のいずれかの装置において、第１及び第２の開口は筐体の上面に設けられており、第３の開口は筐体の下面に設けられていてもよい。この場合、筐体の周面には送液ライン等が接続されないので、上下方向においてフィルタ装置の移動が妨げられ難くなる。そのため、フィルタ装置の交換作業を極めて容易に行うことが可能となる。 Example 5. In the device of any one of Examples 1 to 4, the first and second openings may be provided on the upper surface of the housing, and the third opening may be provided on the lower surface of the housing. In this case, since the peripheral surface of the housing is not connected to a liquid feed line or the like, movement of the filter device in the vertical direction is less likely to be hindered. Therefore, the replacement work of the filter device can be performed very easily.

例６．例１～５のいずれかの装置において、筐体は、外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１のベント開口と、内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２のベント開口とを含んでいてもよい。この場合、第１及び第２のベント開口を介して、外側空間と内側空間とのそれぞれから液体を排液できる。そのため、外側空間と内側空間とのどちらかにおいて液体に気泡が発生したとしても、第１又は第２のベント開口を通じて排液することにより、気泡を含む液体がノズルに向けて流れることを抑制することが可能となる。 Example 6. In the device of any one of Examples 1 to 5, the housing includes a first vent opening that communicates with the outer space and allows the liquid to be transferred to flow, and a first vent opening that communicates with the inner space to allow the liquid to be transferred to flow. and a second vent opening. In this case, liquid can be drained from each of the outer space and the inner space via the first and second vent openings. Therefore, even if bubbles are generated in the liquid in either the outer space or the inner space, the liquid containing the bubbles is suppressed from flowing toward the nozzle by draining the liquid through the first or second vent opening. becomes possible.

例７．例１～例６のいずれかの装置において、筐体の容積は３リットル以下であってもよい。 Example 7. In the device of any of Examples 1-6, the enclosure may have a volume of 3 liters or less.

例８．本開示の他の例に係る送液システムは、例１～例７のいずれかの装置と、第１及び第２の開口の一方と移送対象の液源とを接続する第１の送液ラインと、第１及び第２の開口の他方とノズルとを接続する第２の送液ラインと、第３の開口と作動流体源とを接続する第３の送液ラインとを備える。この場合、例１と同様の作用効果が得られる。 Example 8. A liquid-feeding system according to another example of the present disclosure includes a first liquid-feeding line that connects the device of any one of Examples 1 to 7, one of the first and second openings, and a liquid source to be transferred. , a second liquid feed line connecting the other of the first and second openings and the nozzle, and a third liquid feed line connecting the third opening and a working fluid source. In this case, effects similar to those of Example 1 are obtained.

例９．例８のシステムは、作動流体を介してチューブを膨張及び収縮させるようにチューブを動作させる駆動部と、第１及び第２の開口の一方から他方へと移送対象の液体を送液するように駆動部を制御する処理と、第１及び第２の開口の他方から一方へと移送対象の液体を送液するように駆動部を制御する処理とを実行する制御部とをさらに備えていてもよい。この場合、液体がフィルタを順方向と逆方向とに流通可能となる。このように、液体が順方向と逆方向とで交互にフィルタを流通することにより、パーティクル等の異物がフィルタで捕集されやすくなる。そのため、パーティクル等の異物をいっそう効果的にフィルタで除去することが可能となる。 Example 9. The system of Example 8 includes a drive portion that operates the tube to expand and contract the tube via a working fluid, and a drive portion that moves the liquid to be transferred from one of the first and second openings to the other. A control unit that executes a process of controlling the drive part and a process of controlling the drive part so as to transfer the liquid to be transferred from the other of the first and second openings to one of the first and second openings. good. In this case, liquid can flow through the filter in forward and reverse directions. In this manner, the liquid flows through the filter alternately in the forward direction and the reverse direction, thereby facilitating the collection of foreign matter such as particles by the filter. Therefore, foreign matter such as particles can be more effectively removed by the filter.

例１０．例９のシステムは循環ラインをさらに備え、筐体は、フィルタよりも上流側に配置された第５の開口をさらに含み、循環ラインは第５の開口と第１の送液ラインとを接続していてもよい。この場合、フィルタを逆方向に流通した後の流体が、循環ラインを通じて第１の送液ライン（入口側）に戻される。そのため、フィルタ装置内において液体が滞留し難くなる。従って、パーティクルの発生を抑制することが可能となる。 Example 10. The system of Example 9 further comprises a circulation line, the housing further comprising a fifth opening positioned upstream of the filter, the circulation line connecting the fifth opening and the first liquid feed line. may be In this case, the fluid that has passed through the filter in the reverse direction is returned to the first liquid feeding line (inlet side) through the circulation line. Therefore, it becomes difficult for the liquid to stay in the filter device. Therefore, it is possible to suppress the generation of particles.

例１１．本開示の他の例に係る送液システムは、例６の装置と、第１及び第２の開口の一方と移送対象の液源とを接続する第１の送液ラインと、第１及び第２の開口の他方とノズルとを接続する第２の送液ラインと、第３の開口と作動流体源とを接続する第３の送液ラインと、第１のベント開口に接続された第１のバルブと、第２のベント開口に接続された第２のバルブと、作動流体を介してチューブを膨張及び収縮させるようにチューブを動作させる駆動部と、制御部とを備える。制御部は、外側空間における圧力が相対的に低下した状態で第１のバルブを開放して、第１のベント開口を通じて外側空間の液体を排出するように第１のバルブを制御する第１の処理と、内側空間における圧力が相対的に低下した状態で第２のバルブを開放して、第２のベント開口を通じて内側空間の液体を排出するように第２のバルブを制御する第２の処理とを実行する。この場合、圧力が相対的に低下した側の空間において、液体に溶存している気泡が膨張（発泡）しやすくなる。そのため、この状態で第１及び第２のバルブを制御することで、成長した気泡を含む液体が第１又は第２のベント開口を通じて排液される。したがって、液体に溶存している気泡を効果的に除去することが可能となる。また、成長した気泡を含む液体は、フィルタを通らずに第１又は第２のベント開口から排液されるので、気泡によるフィルタの目詰まりを抑制することが可能となる。 Example 11. A liquid-feeding system according to another example of the present disclosure includes the apparatus of Example 6, a first liquid-feeding line connecting one of the first and second openings and a liquid source to be transferred, and a second liquid feed line connecting the other of the two openings and the nozzle; a third liquid feed line connecting the third opening and the working fluid source; and a first vent opening connected to the first a second valve connected to the second vent opening; a driver for operating the tube to inflate and deflate the tube via the working fluid; and a controller. The controller controls the first valve to open the first valve when the pressure in the outer space is relatively reduced and to discharge the liquid in the outer space through the first vent opening. and a second process of controlling the second valve to open the second valve to drain the liquid in the interior space through the second vent opening while the pressure in the interior space is relatively reduced. and In this case, the bubbles dissolved in the liquid tend to expand (foam) in the space on the side where the pressure is relatively reduced. Therefore, by controlling the first and second valves in this state, the liquid containing the grown bubbles is drained through the first or second vent opening. Therefore, it is possible to effectively remove bubbles dissolved in the liquid. Moreover, since the liquid containing the grown air bubbles is discharged from the first or second vent opening without passing through the filter, clogging of the filter with air bubbles can be suppressed.

１…基板処理システム、２…塗布現像装置、１０…コントローラ（制御部）、１４～１７…処理モジュール、１００…送液システム、１１０…送液部、１２０…液源、２００…フィルタ装置、２１０…筐体、２２０…フィルタ、２２２…フィルタ本体、２３０…チューブ、２４０…チューブ（別のチューブ）、Ｄ１～Ｄ３…配管（第１の送液ライン）、Ｄ４…配管（第２の送液ライン）、Ｄ６…配管（第３の送液ライン）、Ｄ５，Ｄ７…配管（循環ライン）、Ｎ…ノズル、ＯＰ１…入口（第１の開口）、ＯＰ２…出口（第２の開口）、ＯＰ３…排液口（ベント開口、第１のベント開口）、ＯＰ４…出入口（第３の開口）、ＯＰ５…出入口（第４の開口）、ＯＰ６…排液口（第２のベント開口）、Ｓ１…空間（外側空間）、Ｓ２…空間（内側空間）、Ｕ１…ユニット、Ｖ１～Ｖ３…バルブ、Ｖ４…バルブ（第１のバルブ）、Ｖ５…バルブ（第２のバルブ）。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate processing system 2... Coating and developing apparatus 10... Controller (control part) 14-17... Processing module 100... Liquid sending system 110... Liquid sending part 120... Liquid source 200... Filter device 210 ... housing, 220 ... filter, 222 ... filter body, 230 ... tube, 240 ... tube (another tube), D1 to D3 ... piping (first liquid feeding line), D4 ... piping (second liquid feeding line ), D6... Piping (third liquid feeding line), D5, D7... Piping (circulating line), N... Nozzle, OP1... Inlet (first opening), OP2... Outlet (second opening), OP3... Drain port (vent opening, first vent opening), OP4: Doorway (third opening), OP5: Doorway (fourth opening), OP6: Drain port (second vent opening), S1: Space (outer space), S2... space (inner space), U1... unit, V1 to V3... valve, V4... valve (first valve), V5... valve (second valve).

Claims

フィルタ装置と、
第１～第３の送液ラインと、
駆動部と、
制御部とを備え、
前記フィルタ装置は、
筒状のフィルタと、
前記フィルタの内側空間に配置され且つ可撓性を有するチューブと、
上下方向に延びるように同軸状に配置された前記フィルタ及びチューブを収容する筐体とを備え、
前記筐体は、
前記フィルタの外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１の開口と、
前記フィルタの内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２の開口と、
前記チューブの内部と連通し且つ前記チューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第３の開口とを含み、
前記第１の送液ラインは、前記第１及び第２の開口の一方と移送対象の液源とを接続しており、
前記第２の送液ラインは、前記第１及び第２の開口の他方とノズルとを接続しており、
前記第３の送液ラインは、前記第３の開口と作動流体源とを接続しており、
前記駆動部は、作動流体を介して前記チューブを膨張及び収縮させるように前記チューブを動作させ、
前記制御部は、前記第１及び第２の開口の一方から他方へと移送対象の液体を送液するように前記駆動部を制御する処理と、前記第１及び第２の開口の他方から一方へと移送対象の液体を送液するように前記駆動部を制御する処理とを実行する、送液システム。 a filter device;
first to third liquid feed lines;
a drive unit;
and a control unit,
The filter device is
a cylindrical filter;
a flexible tube disposed in the inner space of the filter;
A housing that accommodates the filter and the tube arranged coaxially so as to extend in the vertical direction,
The housing is
a first opening that communicates with the outer space of the filter and allows the liquid to be transferred to flow;
a second opening that communicates with the inner space of the filter and allows the liquid to be transferred to flow;
a third opening communicating with the interior of the tube and through which a working fluid for expanding and contracting the tube can flow;
The first liquid-sending line connects one of the first and second openings and a liquid source to be transferred,
the second liquid feeding line connects the other of the first and second openings and the nozzle,
The third liquid feed line connects the third opening and a working fluid source,
the driver operates the tube to expand and contract the tube via a working fluid;
The control unit controls the driving unit so as to transfer the liquid to be transferred from one of the first and second openings to the other; and a process of controlling the drive unit so as to transfer the liquid to be transferred to the liquid transfer system.

前記第１及び第２の開口のうち一方が入口として機能し、前記第１及び第２の開口のうち他方が出口として機能する、請求項１に記載の送液システム。 2. The liquid delivery system of claim 1, wherein one of said first and second openings functions as an inlet and the other of said first and second openings functions as an outlet.

可撓性を有し且つ前記筐体内に収容された別のチューブをさらに備え、
前記別のチューブは前記フィルタの外側空間に配置されており、
前記筐体は、前記別のチューブの外部と連通し且つ前記別のチューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第４の開口をさらに含む、請求項２に記載の送液システム。 further comprising another tube that is flexible and housed within the housing;
The another tube is arranged in the outer space of the filter,
3. The liquid transfer system according to claim 2, wherein the housing further includes a fourth opening that communicates with the outside of the separate tube and allows a working fluid that expands and contracts the separate tube to flow.

フィルタ装置と、
第１～第３の送液ラインと、
駆動部と、
制御部とを備え、
前記フィルタ装置は、
筒状のフィルタと、
前記フィルタの外側空間に配置され且つ可撓性を有するチューブと、
上下方向に延びるように同軸状に配置された前記フィルタ及びチューブを収容する筐体とを備え、
前記筐体は、
前記フィルタの外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１の開口と、
前記フィルタの内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２の開口と、
前記チューブの外部と連通し且つ前記チューブを膨張及び収縮させる作動流体が流通可能な第３の開口とを含み、
前記第１の送液ラインは、前記第１及び第２の開口の一方と移送対象の液源とを接続しており、
前記第２の送液ラインは、前記第１及び第２の開口の他方とノズルとを接続しており、
前記第３の送液ラインは、前記第３の開口と作動流体源とを接続しており、
前記駆動部は、作動流体を介して前記チューブを膨張及び収縮させるように前記チューブを動作させ、
前記制御部は、前記第１及び第２の開口の一方から他方へと移送対象の液体を送液するように前記駆動部を制御する処理と、前記第１及び第２の開口の他方から一方へと移送対象の液体を送液するように前記駆動部を制御する処理とを実行する、送液システム。 a filter device;
first to third liquid feed lines;
a drive unit;
and a control unit,
The filter device is
a cylindrical filter;
a flexible tube disposed in the outer space of the filter;
A housing that accommodates the filter and the tube arranged coaxially so as to extend in the vertical direction,
The housing is
a first opening that communicates with the outer space of the filter and allows the liquid to be transferred to flow;
a second opening that communicates with the inner space of the filter and allows the liquid to be transferred to flow;
a third opening that communicates with the outside of the tube and allows a working fluid that expands and contracts the tube to flow;
The first liquid-sending line connects one of the first and second openings and a liquid source to be transferred,
the second liquid feeding line connects the other of the first and second openings and the nozzle,
The third liquid feed line connects the third opening and a working fluid source,
the driver operates the tube to expand and contract the tube via a working fluid;
The control unit controls the driving unit so as to transfer the liquid to be transferred from one of the first and second openings to the other; and a process of controlling the drive unit so as to transfer the liquid to be transferred to the liquid transfer system.

前記第１及び第２の開口のうち一方が入口として機能し、前記第１及び第２の開口のうち他方が出口として機能する、請求項４に記載の送液システム。 5. The liquid delivery system according to claim 4, wherein one of said first and second openings functions as an inlet and the other of said first and second openings functions as an outlet.

前記筐体は、
前記外側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第１のベント開口と、
前記内側空間と連通し且つ移送対象の液体が流通可能な第２のベント開口とを含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の送液システム。 The housing is
a first vent opening that communicates with the outer space and allows the liquid to be transferred to flow;
The liquid transfer system according to any one of claims 1 to 5, further comprising a second vent opening that communicates with the inner space and allows the liquid to be transferred to flow.

循環ラインをさらに備え、
前記筐体は、前記フィルタよりも上流側に配置されたベント開口をさらに含み、
前記循環ラインは前記ベント開口と前記第１の送液ラインとを接続している、請求項１～６のいずれか一項に記載のシステム。 Equipped with a circulation line,
the housing further includes a vent opening positioned upstream from the filter;
The system according to any one of claims 1 to 6, wherein the circulation line connects the vent opening and the first liquid feed line.

前記第１のベント開口に接続された第１のバルブと、
前記第２のベント開口に接続された第２のバルブとをさらに備え、
前記制御部は、
前記外側空間における圧力が相対的に低下した状態で前記第１のバルブを開放して、前記第１のベント開口を通じて前記外側空間の液体を排出するように前記第１のバルブを制御する第１の処理と、
前記内側空間における圧力が相対的に低下した状態で前記第２のバルブを開放して、前記第２のベント開口を通じて前記内側空間の液体を排出するように前記第２のバルブを制御する第２の処理とを実行する、請求項６に記載の送液システム。 a first valve connected to the first vent opening;
a second valve connected to the second vent opening;
The control unit
A first controlling the first valve to open the first valve with the pressure in the outer space relatively reduced and to drain the liquid in the outer space through the first vent opening. and the processing of
controlling the second valve to open the second valve in a state in which the pressure in the inner space is relatively reduced to exhaust the liquid in the inner space through the second vent opening; 7. The liquid delivery system according to claim 6, which performs the processing of and.