JPH07170024A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH07170024A
JPH07170024A JP5316606A JP31660693A JPH07170024A JP H07170024 A JPH07170024 A JP H07170024A JP 5316606 A JP5316606 A JP 5316606A JP 31660693 A JP31660693 A JP 31660693A JP H07170024 A JPH07170024 A JP H07170024A
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JP
Japan
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semiconductor laser
cap
stem
semiconductor
fluid material
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JP5316606A
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Takenao Ishihara
武尚 石原
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01S5/02208Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
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    • H01S5/022Mountings; Housings
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Abstract

(57)【要約】 【目的】放熱性にすぐれた小型化が容易な半導体レーザ
装置が、安価に製造される。 【構成】ステム11と一体になったヒートシンク12に
半導体レーザー素子13がマウントされており、ステム
11に取り付けられたキャップ18によって覆われてい
る。キャップ18の上面には開口部18aが設けられて
おり、キャップ18内には流体材料20がこの開口部1
8aから充填されている。開口部18aは、ガラス板1
9によって閉塞されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ装置、固
体撮像素子等の半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザー等の半導体素子は、小さ
くて破壊されやすく、しかも、外気、特に湿気の影響を
受けやすいために、通常、パッケージに収納された状態
で使用されている。
【0003】図4に、現在、量産されているハーメチッ
クシールの半導体レーザ装置の一例を示す。この半導体
レーザ装置50は、円板状をした金属製のステム51と
一体になったヒートシンク52に、半導体レーザー素子
53がマウントされている。また、ステム51上にはモ
ニター用フォトダイオード54がマウントされている。
半導体レーザー素子53およびフォトダイオード54
は、ステム51を貫通する端子55に、ボンディングワ
イヤー56によって電気的に接続されている。
【0004】ステム51上には、半導体レーザー素子5
3等を覆うキャップ58がシーム溶接によって取り付け
られている。キャップ58の上面には、半導体レーザー
素子53から発振されるレーザー光が通過するように、
開口部58aが設けられており、この開口部58aを覆
うように、ガラス板59が低融点ガラス57によってキ
ャップ58内面に取り付けられている。キャップ58内
には、窒素が充填されており、半導体レーザー素子53
等は、窒素雰囲気内に配置されている。
【0005】このような半導体レーザー装置50は、ス
テム51上に半導体レーザー素子53、モニター用フォ
トダイオード54をマウントして、それらをボンディン
グワイヤー56によって各端子55と電気的に接続した
後に、窒素雰囲気中にて、開口部58aがガラス板59
にて閉塞されたキャップ58をステム51上にシーム溶
接によって取り付けられる。
【0006】半導体レーザー素子53から発振されるレ
ーザー光は、ガラス板59を通って所定の方向に照射さ
れる。半導体レーザー素子53およびフォトダイオード
54は、窒素雰囲気内に配置されていることによって、
外気に触れず、耐湿性、熱放散性等の機能を有してい
る。
【0007】図5に光ディスク装置の光ピックアップに
使用されるハーメチックシールの半導体レーザー装置の
一例を示す。この半導体レーザー装置60は、金属製の
ステム61と一体になったヒートシンク62に、半導体
レーザー素子63および信号検出用フォトダイオード6
5がマウントされている。また、ステム61上にはモニ
ター用フォトダイオード64がマウントされている。半
導体レーザー素子63および各フォトダイオード64お
よび65は、ステム61を貫通する端子66に、ボンデ
ィングワイヤー67によって電気的に接続されている。
【0008】ステム61上には、半導体レーザー素子6
3等を覆うキャップ68がシーム溶接によって取り付け
られている。キャップ68の上面には、半導体レーザー
素子63から発振されるレーザー光が通過するように、
開口部68aが設けられており、この開口部68aを覆
うようにキャップ68内面にガラス板69が低融点ガラ
ス71にて取り付けられている。
【0009】キャップ68内には、窒素が充填されてお
り、半導体レーザー素子63等は、窒素雰囲気内に配置
されている。
【0010】キャップ68の上面には、開口部68aを
覆うようにホログラムガラス72が、紫外線硬化樹脂等
の接着剤によって取り付けられている。
【0011】このような半導体レーザー装置60も、半
導体レーザー素子63等が窒素雰囲気中に配置されてい
ることから、外気による悪影響を受けず、素子の劣化が
抑制される。
【0012】図6は、セラミックパッケージの固体撮像
素子を示すものであり、図6(a)が固体撮像素子の平
面図、(b)がその断面図である。この固体撮像素子8
0は、上面中央部に凹部81aが形成されてメタライズ
されたアルミナ基板81と、このアルミナ基板81の凹
部81a内に配置されたCCDチップ82と、CCDチ
ップ82を覆うガラス板86と、このガラス板86を支
持するアルミナキャップ85とを、有している。
【0013】CCDチップ82は、アルミナ基板81に
接着されており、アルミナ基板41表面に設けられたメ
タライズ電極83と、ボンディングワイヤー88によっ
て電気的に接続されている。メタライズ電極83は、端
子84に電気的に接続されている。
【0014】アルミナ基板81上に配置されたアルミナ
キャップ85は、中央部に開口部85aが設けられた枠
状をしており、その開口部85a内に、平板状のガラス
板86が支持されて低融点ガラス87によってシールさ
れている。このガラス板86は、CCDチップ82表面
とは適当な間隔をあけており、その間隙内に窒素が充填
されている。CCDチップ82は、窒素雰囲気内に配置
されており、外気に対して保護されている。
【0015】このような窒素を封入したセラミックパッ
ケージによって半導体素子を保護する方法に替えて、半
導体素子をエポキシ樹脂等によって封止する方法も開発
されている。図7に、樹脂モールドパッケージが適用さ
れた発光ダイオードの製造方法を示す。
【0016】図7(a)に示すように、一体となった一
対の金属製リードフレーム91および92によって発光
ダイオードが製造される。一方のリードフレーム91の
端部には、円板状の台座部91aが設けられており、図
7(b)に示すように、その台座部91aにAgペース
ト94が塗布されて、図7(c)に示すように、発光ダ
イオードチップ93がダイボンドされる。その後、Ag
ペースト94が硬化すると、図7(d)に示すように、
発光ダイオードチップ93と他方のリードフレーム92
とが銅線等のボンディングワイヤー95により電気的に
接続される。
【0017】このような工程は、一体になった一対のリ
ードフレーム91および92毎に行われ、図7(e)に
示すような状態になると、図7(f)に示すように、リ
ードフレーム91および92の端部がモールドケース9
6の凹部96a内に挿入されて、その凹部96a内に透
明樹脂が充填される。そして、凹部96a内に充填され
た透明樹脂が硬化すると、図7(g)に示すように、硬
化した樹脂98がモールドケース96から取り出され
て、図7(h)に示すように、一対のリードフレーム9
1および92ずつにカットされ、図7(i)に示す発光
ダイオード97が製造される。
【0018】半導体レーザー装置も同様の工程によって
製造される。
【0019】このようにして得られる半導体装置は、半
導体素子を覆う樹脂によって半導体素子が保護されてい
る。そして、部品点数が少なく、装置を小型化すること
ができるという利点を有している。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】図4〜図6に示す半導
体装置では、キャップ内に封入された窒素によって半導
体素子の劣化を防止しており、窒素がキャップから漏洩
しないようにする必要がある。このため、キャップは、
ステム等に対してシーム溶接、低融点ガラス等によって
気密状態に取り付けなければならず、生産効率が低下す
るとともに、経済性も損なわれる。また、キャップ内に
封止された窒素によって半導体素子から発せられる熱が
放散されるが、半導体レーザー素子等の発熱量の大きな
半導体素子では、放熱効果を高めるために、キャップ内
の容量を大きくしなければならず、装置を小型化するこ
とに限界がある。
【0021】図7に示すような工程によって得られる発
光ダイオードでは、透明樹脂98を成形するために、モ
ールドケース96の凹部96a内に溶融樹脂を充填する
と、凹部96a内に挿入された発光ダイオードチップ9
3によって溶融樹脂の流れが、乱れた状態になり、成形
される透明樹脂98の屈折率が均一にならないおそれが
ある。
【0022】半導体レーザー装置の場合には、半導体レ
ーザー素子の発熱によって透明樹脂が不均一に加熱され
て応力が生じ、透明樹脂の屈折率が均一にならなくなる
おそれもある。透明樹脂の屈折率が均一でない場合に
は、出射されるレーザー光の波面収差が劣化するという
問題もある。
【0023】さらに、半導体レーザ素子の発熱によって
透明樹脂に応力が生じると、半導体レーザ素子に圧力が
加わって寿命が短くなったり、半導体レーザ素子と透明
樹脂との境界での熱応力により、透明樹脂が剥離して耐
湿性が低下するという問題もある。
【0024】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
であり、その目的は、放熱性に優れているために容易に
小型化することができ、製造も容易であって経済性にも
優れた半導体装置を提供することにある。
【0025】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
基材上に配置された半導体素子と、この半導体素子を覆
うように基材に取り付けられたキャップと、このキャッ
プ内に充填されて封止された流体材料と、を有し、前記
キャップに流体材料の充填のための開口部が設けられて
いることを特徴とするものであり、そのことにより上記
目的が達成される。
【0026】前記半導体素子としては、トランジスタ,
IC、LSI等であってもよいが、特に、半導体レーザ
ー素子、CCDチップ等の光素子が好適である。このよ
うな光素子の場合には、キャップに設けられた開口部が
光学素子によって閉塞され、その光学素子を光が通過す
るようにされる。
【0027】
【作用】本発明の半導体装置では、キャップの開口部か
らキャップ内に充填された流体材料によって半導体素子
が外気から保護されるとともに、半導体素子の放熱が促
進される。また、流体材料は流動するために、流体材料
の温度分布、屈折率が均一化されるとともに、熱応力も
分散される。
【0028】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
【0029】図1(a)は本発明の半導体素子の一例で
ある半導体レーザー装置の断面図、(b)はその半導体
レーザー装置の一部破断斜視図である。この半導体レー
ザー装置10は、円板状をした金属製のステム11と、
このステム11上に一体的に設けられたヒートシンク1
2と、ヒートシンク12の側面にマウントされた半導体
レーザー素子13と、ステム11上にマウントされたモ
ニター用フォトダイオード14とを有している。
【0030】半導体レーザー素子13は、ステム11の
上方に適当な間隔をあけた状態でヒートシンク12の側
面にマウントされている。半導体レーザー素子13のレ
ーザー光出射面は、上方に向けられている。ステム11
にマウントされたフォトダイオード14は、半導体レー
ザー素子14から下方に向けて発振されるレーザー光を
受光し得るようになっている。
【0031】ステム11には、複数の端子15が、それ
ぞれステム11を貫通するように取り付けられている。
2本の端子15は、半導体レーザー素子13およびフォ
トダイオード14にボンディングワイヤー16によって
それぞれ電気的に接続されている。
【0032】ステム11上のヒートシンク12およびフ
ォトダイオード14、ステム11を貫通する各端子15
の端部、ヒートシンク12の側面にマウントされた半導
体レーザー素子13は、キャップ18によって覆われて
いる。このキャップ18は、底面が開放された上面18
aに開口部18bを有する円筒状をしている。上面18
aの中央部に設けられた開口部18bは円形状をしてお
り、開口部18bが円板状の光透過性のガラス板19に
よって閉塞されている。このガラス板19は、紫外線硬
化樹脂等の接着剤17によって周縁部をキャップ18の
上面18aに接着されており、この接着剤17がキャッ
プ18の上面18aとの間を封止している。
【0033】キャップ18の下端部には、外方に水平状
態で延出するフランジ18cが設けられており、このフ
ランジ18cがステム11上に紫外線硬化樹脂等の接着
剤、スポット溶接等によって接着されている。
【0034】キャップ18内には、透明な流体材料20
が充填されて封入されている。この流体材料20は、半
導体レーザー素子13から発振されるレーザー光の波長
を透過させ得る透明度を有しており、ステム11上のフ
ォトダイオード14、各端子15の端部、ヒートシンク
12および半導体レーザー素子13が、流体材料20内
に浸漬されている。
【0035】流体材料20は、半導体レーザー素子13
等を外気から保護するとともに放熱機能を有しており、
耐熱性、耐寒性、耐候性、電気絶縁性に優れ、しかも、
ガス透過性、透湿性の低いシリコーンオイル、フッ素系
不活性液体、鉱油等が使用される。特に、シリコーンオ
イル、フッ素系不活性液体は、鉱油よりも優れた性能を
有している。流体材料20としては、例えば、信越化学
工業株式会社製のシリコンオイルOF−37A(粘度
0.3PaS/25℃)が用いられる。
【0036】このような構成の半導体レーザー装置10
は次のようにして製造される。ステム11と一体となっ
たヒートシンク12の側面に半導体レーザー素子13を
マウントするとともに、ステム11上にフォトダイオー
ド14をマウントし、ステム11に取り付けられた各端
子15と、フォトダイオード14および半導体レーザー
素子13それぞれとを、各ボンディングワイヤー16に
よってそれぞれ電気的に接続する。そして、上面18a
の開口部18bが開放された状態のキャップ18をステ
ム11上に載置して、キャップ18のフランジ18c
を、紫外線硬化樹脂等の接着剤、スポット溶接等によっ
て接着する。
【0037】このような状態で、キャップ18の上面1
8aに設けられた開口部18bから、流体材料20がデ
ィスペンサー等にて充填される。その後に、その開口部
18bが円板状のガラス板19にて閉塞されて、ガラス
板19の周囲が紫外線硬化樹脂等の接着剤17によって
接着される。これにより、図1に示す半導体レーザー装
置10が製造される。
【0038】このような半導体レーザー装置10は、半
導体レーザー素子13から発振されるレーザー光が、流
体材料20およびガラス板19を通って外部に照射され
る。半導体レーザー素子13から発振されるレーザー光
は、フォトダイオード14に照射され、フォトダイオー
ド14の検出結果に基づいて、半導体レーザー素子13
からの発振されるレーザー光の出力が調整される。
【0039】本実施例の半導体レーザ装置では、キャッ
プ18内に流体材料20が封入されており、この流体材
料20内に半導体レーザー素子13が浸漬されているた
めに、半導体レーザー素子13は外部の空気と接触する
おそれがなく保護される。また、半導体レーザー素子1
3からの発熱は、流体材料20による熱伝導、輻射、さ
らには対流によって、効果的に放散される。従って、半
導体レーザー素子13の放熱のための空間を小さくする
ことができ、半導体レーザー装置10全体を小型化する
ことができる。流体材料20の屈折率は1.3〜1.5
と窒素の屈折率1よりも大きいために、半導体レーザー
素子13とガラス板との距離を短くしても、所定のレー
ザー光の光路長を得ることができ、これによっても、半
導体レーザー装置10を小型化することができる。
【0040】また、流体材料20が対流することによっ
て、キャップ18内における流体材料20の温度分布お
よび屈折率の空間的分布が均等化されるため、半導体レ
ーザー素子13から発振されるレーザー光の波面収差の
劣化を抑制できる。
【0041】さらに、流体材料20に発生する熱応力は
流体材料20が流動することによって均等化されるため
に、一個所に集中するおそれがなく、半導体レーザー素
子13に圧力が加わるおそれもなく、寿命に悪影響を及
ぼすおそれがない。
【0042】流体材料20の粘度は、窒素等の気体より
も約1000倍も大きいために、キャップ18とステム
11との間を、気体のように厳密に封止しなくても、流
体材料20の漏出を防止できる。
【0043】図2は、本発明の半導体レーザー装置のさ
らに他の実施例を示すものであり、図2(a)は光ディ
スクの光ピックアップに使用される半導体レーザー装置
の断面図、(b)はその一部破断斜視図である。この半
導体レーザー装置30は、円板状をした金属性ステム3
1上に、このステム31と一体的にヒートシンク32が
設けられている。ヒートシンク32の側面には半導体レ
ーザー素子33が、レーザー発振面を上方に向けてマウ
ントされている。半導体レーザー素子33から上方に向
けて発振されるレーザー光は、図示しない光ディスクに
照射される。
【0044】ステム31上には、半導体レーザー素子3
3から下方に向けて発振されるレーザー光を受光し得る
位置に、モニター用フォトダイオード34がマウントさ
れている。また、ヒートシンク32上には、半導体レー
ザー素子33から照射されて光ディスクにて反射された
レーザー光を受光し得る位置に、信号検出用フォトダイ
オード35がマウントされている。
【0045】ステム31には、複数の端子36が取り付
けられており、ステム31を貫通して、その上面に達し
た各端子36の端部が、半導体レーザー素子33、モニ
ター用フォトダイオード34、および信号検出用フォト
ダイオード35と、ボンディングワイヤー37によっ
て、それぞれ、電気的に接続されている。
【0046】ステム31上のヒートシンク32およびフ
ォトダイオード34、ステム31を貫通する各端子36
の端部、ヒートシンク32の側面にマウントされた半導
体レーザー素子33は、キャップ38によって覆われて
いる。このキャップ38は、底面が開放されて上面38
aに開口部38bが設けられた円筒状をしている。上面
38aの開口部38bは円形状をしており、上面38a
に取り付けられた直方体状のホログラムガラス39によ
って閉塞されている。このホログラムガラス39は、紫
外線硬化樹脂等の接着剤39aによって周縁部をキャッ
プ38の上面38aに接着されており、この接着剤39
aがキャップ38の上面38aとホログラムガラス39
の周縁部との間を封止している。
【0047】キャップ38の下端部には、外方に水平状
態で延出するフランジ38cが設けられており、このフ
ランジ38cが、ステム31上に、紫外線硬化樹脂等の
接着剤、スポット溶接等によって接着されている。
【0048】キャップ38内には、透明な流体材料20
が充填されて封入されている。この流体材料20は、前
述の実施例と同様に、半導体レーザー素子33から発振
されるレーザー光の波長を透過させ得る透明度を有した
シリコーンオイル、フッ素系不活性液体、鉱油等であ
り、ステム31上のモニター用フォトダイオード34、
各端子36の端部、ヒートシンク32、半導体レーザー
素子33、および信号検出用フォトダイオード35が、
流体材料20に浸漬されている。
【0049】このような半導体レーザー装置30は、半
導体レーザー素子33から発振されるレーザー光が、流
体材料20およびホログラムガラス板39を通って、光
ディスクに照射される。半導体レーザー素子33から
は、ステム31上に配置されたモニター用フォトダイオ
ード34にもレーザー光が照射されており、モニター用
フォトダイオード34の検出結果に基づいて、半導体レ
ーザー素子33から発振されるレーザー光の出力が調整
される。
【0050】光ディスクにて反射されたレーザー光は、
ヒートシンク32上に配置された信号検出用フォトダイ
オード35に照射されるようになっており、信号検出用
フォトダイオード35の検出結果に基づいて、光ディス
クに書き込まれた情報が読み出される。
【0051】このような構成の半導体レーザー装置30
は、前述した実施例の半導体レーザー装置10と同様
に、ステム31上に半導体レーザー素子33等をマウン
トして、ワイヤーボンディングした後に、キャップ38
がステム31に取り付けられて、キャップ38の上面3
8aに設けられた開口部38bから流体材料20が充填
され、最後にホログラムガラス39がキャップ38の上
面38aに取り付けられることにより、製造される。
【0052】本実施例の半導体レーザー装置30では、
流体材料20の屈折率が、窒素等の気体の屈折率よりも
大きいために、半導体レーザー素子33および信号検出
用フォトダイオード35とホログラムガラス39との距
離を、窒素等の気体を介在させる場合よりも小さくして
も、所定の光路長を得ることができる。従って、半導体
レーザー装置30全体を小型化することが可能になる。
【0053】また、流体材料20の屈折率を、ホログラ
ムガラス39の屈折率に等しくすると、流体材料20と
ホログラムガラス39との境界面でのレーザー光の反射
がなくなり、レーザー光を効率よく光ディスクに照射す
ることができるとともに、光ディスクからの反射光を効
率よく信号検出用フォトダイオード35に照射すること
ができ、レーザー光の利用効率が向上する。
【0054】図3は、本発明の半導体装置のさらに他の
実施例である固体撮像素子を示すものであり、図3
(a)が固体撮像素子の平面図、(b)がその断面図で
ある。この固体撮像素子40は、上部中央に凹部41a
が形成されてメタライズされたアルミナ基板41と、こ
のアルミナ基板41の凹部41a内に配置されたCCD
チップ42と、CCDチップ42を覆うガラス板46
と、このガラス板46を支持するアルミナキャップ45
とを有している。
【0055】CCDチップ42は、アルミナ基板41に
接着されている。アルミナ基板41における凹部41a
の両側方の表面には、メタライズ電極43がそれぞれ設
けられており、このメタライズ電極43と、アルミナ基
板41の表面および各側面に沿って配置された端子44
とが電気的に接続されている。メタライズ電極43は、
複数のボンディングワイヤー48によって、CCDチッ
プ42に電気的に接続されている。
【0056】アルミナ基板41上には、中央部に開口部
45aが設けられた枠状のアルミナキャップ45が配置
されている。アルミナキャップ45の開口部45aは、
アルミナ基板41の凹部41aよりも広くなっており、
この開口部45a内に、平板状のガラス板46が配置さ
れている。このガラス板45aは、CCDチップ42表
面とは適当な間隔をあけた状態で支持されており、CC
Dチップ42表面全体、およびアルミナ基板41上に配
置されたメタライズ電極43を覆った状態になってい
る。ガラス板45は、側面がアルミナキャップ45の開
口部45a内周面に、紫外線硬化型接着剤47によって
接着されて固定されている。
【0057】アルミナキャップ45の開口部45a内に
おけるガラス板46と下方の領域、および、アルミナ基
板41の凹部41内には、流体材料20が充填されてい
る。この流体材料20は、前述の実施例と同様に、CC
Dチップ42が受光する光の波長を透過させ得る透明度
を有したシリコーンオイル、フッ素系不活性液体、鉱油
等であり、アルミナ基板41の凹部41a内に配置され
たCCDチップ42およびメタライズ電極43がこの流
体材料20内に浸漬されている。
【0058】このような構成の固体撮像素子40は、次
のように製造される。メタライズされたアルミナ基板4
1の凹部41a内にCCDチップ42を配置して接着剤
によって固定し、CCDチップ42とメタライズ電極4
3とをワイヤーボンディング48によって電気的に接続
状態とした後に、開口部45a内にガラス板46が支持
されていない状態のアルミナキャップ45が低融点ガラ
ス等によって接着される。このような状態で、アルミナ
キャップ45の開口部45aから流体材料20がディス
ペンサー等によって充填されて、ガラス板46が開口部
45a内に接着剤47にて接着される。
【0059】固体撮像素子40は、ガラス板46を透過
した光が、流体材料20を通ってCCDチップ42に受
光される。
【0060】本実施例の固体撮像素子40も、CCDチ
ップ42が流体材料20によって保護されており、外気
によって悪影響受けるおそれがない。
【0061】なお、本発明は、上記各実施例の半導体レ
ーザー装置、固体撮像素子に限らず、トランジスタ、I
C、LSI、さらにはセラミックパッケージを使用する
EP−ROM等にも適用できる。この場合には、キャッ
プに小さな開口部が設けられて、流体材料を充填した後
にその開口部が紫外線効果樹脂等の接着剤にて閉塞され
る。
【0062】また、流体材料としては、鉱油、シリコー
ンオイル以外にも、絶縁性および光透過率が高くて粘度
が350CP/25℃以下の液体であれば、使用するこ
とが可能である。
【0063】
【発明の効果】本発明の半導体装置は、このように、キ
ャップに設けられた開口部を通して充填される流体材料
によって、半導体素子が保護されるとともに、半導体素
子が効果的に放熱され、装置全体も容易に小型化するこ
とができる。流体材料は、気体のように厳密に封止する
必要がなく、また、キャップの開口部から充填されるよ
うになっているために容易に製造することができ、製造
コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の半導体装置の一例である半導
体レーザ装置の断面図であり、(b)はその一部破断斜
視図である。
【図2】(a)は本発明の半導体装置の他の例である半
導体レーザ装置の断面図であり、(b)はその一部破断
斜視図である。
【図3】(a)は本発明の半導体装置のさらに他の例で
ある固体撮像素子の平面図であり、(b)はその断面図
である。
【図4】従来の半導体レーザ装置の一例を示す断面図で
ある。
【図5】従来の半導体レーザ装置の他の例を示す断面図
である。
【図6】(a)は従来の固体撮像素子の一例を示す平面
図であり、(b)はその断面図である。
【図7】(a)〜(i)は、それぞれ、従来の発光ダイ
オードの製造工程を示す概略図である。
【符号の説明】
10 半導体レーザ装置 11 ステム 12 ヒートシンク 13 半導体レーザー素子 14 フォトダイオード 18 キャップ 18b 開口部 19 ガラス板 20 流体材料 30 半導体レーザ装置 31 ステム 32 ヒートシンク 33 半導体レーザー素子 34 モニター用フォトダイオード 35 受光用フォトダイオード 38 キャップ 38b 開口部 39 ホログラムガラス 40 固体撮像素子 41 アルミナベース 42 CCDチップ 45 アルミナキャップ 46 ガラス板

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材上に配置された半導体素子と、 この半導体素子を覆うように基材に取り付けられたキャ
    ップと、 このキャップ内に充填されて封止された流体材料と、を
    有し、 前記キャップに流体材料の充填のための開口部が設けら
    れていることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記半導体素子が半導体レーザー素子で
    ある請求項1に記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記半導体素子がCCDチップである請
    求項1に記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記キャップの開口部が光学素子によっ
    て閉塞されている請求項1に記載の半導体装置。
JP5316606A 1993-12-16 1993-12-16 半導体装置 Pending JPH07170024A (ja)

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