JPH07157470A - カルボスチリル誘導体 - Google Patents

カルボスチリル誘導体

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JPH07157470A
JPH07157470A JP4822494A JP4822494A JPH07157470A JP H07157470 A JPH07157470 A JP H07157470A JP 4822494 A JP4822494 A JP 4822494A JP 4822494 A JP4822494 A JP 4822494A JP H07157470 A JPH07157470 A JP H07157470A
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JP
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group
compound
reaction
dihydrocarbostyril
reference example
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Pending
Application number
JP4822494A
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English (en)
Inventor
Makoto Sakamoto
誠 坂元
Takeshi Imaoka
武 今岡
Masaaki Motoyama
晶章 本山
Sakahito Yamamoto
栄仁 山本
Hideki Takasu
英樹 高須
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Otsuka Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP4822494A priority Critical patent/JPH07157470A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、細胞外マトリックス金属プロテア
ーゼの作用発現を阻害するカルボスチリル誘導体を提供
することを目的とする。 【構成】 本発明のカルボスチリル誘導体は、一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子等を示す。Ｒ2 は水素原子等を
示す。Ｒ3 は水素原子等を示す。Ｒ4 は水素原子等を示
す。Ｒ5 は水素原子等を示す。Ｒ6 は低級アルキル基等
を示す。ｎは１又は２を示す。〕で表わされるカルボス
チリル誘導体又はその塩である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカルボスチリル誘導体に
関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】細胞外
マトリックス金属プロテアーゼは、哺乳動物細胞等より
分泌され、細胞外マトリックス（コラーゲン、ＩＶ型コ
ラーゲン、ラミニン、プロテオグリカン、フィブロネク
チン、エラスチン並びにゼラチン等）を分解する。細胞
外マトリックス金属プロテアーゼ分泌及び活性が異常亢
進した場合、癌細胞の転移浸潤や増殖、リウマチ様関節
疾患、歯周疾患、角膜潰瘍、骨粗しょう症等の骨吸収疾
患、多発性硬化症等の疾病を引き起こすと考えられる。
細胞外マトリックス金属プロテアーゼの阻害作用を示す
物質としては、ＴＩＭＰ−１、ＴＩＭＰ−２、α2−マ
クログロブリン等の天然産物が知られている。また、特
開昭６２−２３０７５７号公報、ＷＯ−９０５７１６号
明細書及びＷＯ−９２１７４６０号明細書にも、上記阻
害作用を有する化合物が記されている。即ち、特開昭６
２−２３０７５７号公報には、一般式
【０００３】
【化２】
【０００４】〔式中、Ａは基ＨＮ（ＯＨ）−ＣＯ−又は
ＨＣＯ−ＮＯＨ−を示す。ＲA はＣ2〜Ｃ5 のアルキル
基を示す。ＲB は存在するいずれか官能基も保護されて
いてもよく、存在するいずれのアミノ基もアシル化され
ていてもよく、そしてまた存在するいずれのカルボキシ
ル基がアミド化されていてもよい天然のα−アミノ酸の
特性基を示す（但し水素原子又はメチル基を除く）。Ｒ
C は水素原子、アミノ、ヒドロキシ、メルカプト、Ｃ1
〜Ｃ6 アルキル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 〜Ｃ6 ア
ルキルアミノ、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオ又はアリール−
（Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル）基或いはアミノ、ヒドロキシ、
メルカプト又はカルボキシル基が保護されていてもよ
く、アミノ基がアシル化されていてもよく又はカルボキ
シル基がアミド化されていてもよいアミノ−（Ｃ1 〜Ｃ
6 アルキル）、ヒドロキシ−（Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル）、
メルカプト−（Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル）又はカルボキシル
−（Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル）基を示す。ＲD は水素原子又
はメチル基を示す。ＲE 水素原子或いはＣ1 〜Ｃ6 アル
キル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル、ジ
（Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ）−メチレン、カルボキシル、
（Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル）−カルボニル、（Ｃ1 〜Ｃ6 ア
ルコキシ）カルボニル、アリールメトキシカルボニル、
（Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル）アミノカルボニル又はアリール
アミノカルボニル基を示す。ＲF は水素原子又はメチル
基を示す。ＲB 及びＲD は一緒になってｐが４〜１１の
数を示す−（ＣＨ2 ）ｍ−基を示してもよい。またＲD
及びＲF は一緒になってトリメチレン基を示してもよ
い。〕で表わされる化合物が開示されている。
【０００５】ＷＯ−９０５７１６号明細書には、一般式
【０００６】
【化３】
【０００７】〔式中、ＲG は水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 アル
キル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルケニル、フェニル、フェニル（Ｃ
1 〜Ｃ6 ）アルキル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルチオメチル、
フェニルチオメチル、置換フェニルチオメチル、フェニ
ル（Ｃ1 〜Ｃ6 ）アルキルチオメチル又はヘテロサイク
リルチオメチル基を示す。或いはＲG は−ＳＲX を示
し、ＲX は下記基
【０００８】
【化４】
【０００９】を示す。ＲH は水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 アル
キル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルケニル、フェニル（Ｃ1 〜Ｃ6 ）
アルキル、シクロアルキル（Ｃ1 〜Ｃ6 ）アルキル又は
シクロアルケニル（Ｃ1 〜Ｃ6 ）アルキル基を示す。Ｒ
I はアミノ酸側鎖、Ｃ1 〜Ｃ6アルキル、ベンジル、
（Ｃ1 〜Ｃ6 ）アルコキシベンジル、ベンジルオキシ
（Ｃ1 〜Ｃ6 ）アルキル又はベンジルオキシベンジル基
を示す。ＲJ は水素原子又はメチル基を示す。ｑは１〜
６の整数である。Ｂは−ＮＨ2 基、置換非環式アミン又
は複素環式塩基を示す。〕で表わされる化合物が開示さ
れている。
【００１０】またＷＯ−９２１７４６０号明細書には、
一般式
【００１１】
【化５】
【００１２】〔式中ＲK は水素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキ
ル又は−（ＣＨ2 ）ｒ−Ｄ−ＲN 基を示す。ここでｒは
０又は１〜６の整数、Ｄは単結合又は酸素もしくは硫黄
原子、ＲN は置換されていてもよいアリール又は置換さ
れていてもよいヘテロアリール基をそれぞれ示す。ＲL
はＣ3 〜Ｃ6 アルキル基を示す。ＲM は−（ＣＨ2 ）ｓ
−Ｅ−（ＣＨ2 ）ｔ−基を示す。ここでｓは１〜９の整
数、ｔは２〜１０の整数、Ｅは−ＮＲO −基（ＲO は水
素原子、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキル、Ｃ2 〜Ｃ6 アルカノイ
ル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシカルボニル、アリール、アラ
ルキル又はアラルキルオキシカルボニルである。各アリ
ール基は置換基を有していてもよい）をそれぞれ示す。
−（ＣＨ2 ）ｓ−は上記化５で示される一般式における
＊の炭素原子に結合しているものとする。〕で表わされ
る化合物が開示されている。
【００１３】しかしながら、現在低毒性で阻害作用の強
い化合物は未だ見い出されていない。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、細胞外マトリ
ックス金属プロテアーゼ阻害作用に優れ且つ低毒性の新
規化合物を提供することを目的とする。本発明者等は上
記目的を達成すべく鋭意研究を行なった結果、上記文献
より予測不可能な下記一般式（１）
【００１５】
【化６】
【００１６】〔式中、Ｒ1 は水素原子又は基−Ａ−Ｒ1a
（Ａは低級アルキレン基を示し、Ｒ1aは水素原子、アミ
ノ基、フタルイミド基、チエニルチオ基、低級アルカノ
イルチオ基、メルカプト基、置換基としてハロゲン原
子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カル
ボキシ基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキ
レンジオキシ基からなる群より選ばれた基を１〜３個有
することのあるフェニル基、カルボキシ基、低級アルコ
キシカルボニル基、フェニルチオ基又は低級アルキルチ
オ基を示す）を示す。Ｒ2 は水素原子又低級アルキル基
を示す。Ｒ3 は水素原子、水酸基、低級アルコキシ基、
低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級
アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アル
コキシ低級アルコキシ低級アルコキシ基又は基−Ｂ−Ｒ
3a（Ｂは低級アルキレン基、低級アルケニレン基又は低
級アルキニレン基を示し、Ｒ3aは水素原子、水酸基、低
級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、置
換基としてハロゲン原子、シアノ基、水酸基、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基及び低級アル
コキシカルボニル基から選ばれる基を１〜３個有するこ
とのあるフェニル基、置換基としてハロゲン原子を有す
ることのあるチエニル基、フタルイミド基、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基又は基−ＣＯ−Ｎ（Ｒ
3b）−Ｒ3cを示す。ここでＲ3bは水素原子又は低級アル
キル基を示し、Ｒ3cは水素原子、低級アルキル基又は低
級アルコキシ基を示す。また基−Ｎ（Ｒ3b）−Ｒ3cは窒
素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれた
ヘテロ原子を更に１個有することのある５員又は６員の
飽和ヘテロ環を形成してもよい。）を示す。Ｒ4 は水素
原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基又は低級アルキレンジオキシ基を示す。Ｒ5
は水素原子、ベンゾイル基、低級アルカノイル基又はフ
ェニル低級アルキル基を示す。Ｒ6 は炭素数１〜１２の
アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基又はフェニ
ル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ基を有す
ることのあるフェニル低級アルキル基を示す。ｎは１又
は２を示す。〕で表わされるカルボスチリル誘導体及び
その塩が、優れた細胞外マトリックス金属プロテアーゼ
阻害作用、特にマウス結腸癌細胞（Ｃｏｌｏｎ２６細
胞）培養上清より精製したストロメライシンに対する阻
害作用、ヒト線維芽細胞（Ｄｅｔｒｏｉｔ５５１細胞）
培養上清より精製した間質型コラゲナーゼに対する阻害
作用、ヒト肺線維肉腫細胞（ＨＴ−１０８０細胞）培養
上清より精製したＴｙｐｅIVコラゲナーゼに対する阻害
作用等を有し、しかも低毒性で経口吸収も優れていると
いう新たな知見を得て本発明を完成するに至った。
【００１７】本発明の上記一般式（１）で表わされるカ
ルボスチリル誘導体及びその塩は、細胞外マトリックス
金属プロテアーゼ（間質型コラゲナーゼ、ＩＶ型コラゲ
ナーゼ、ストロメライシン等）の関与する疾患や症例、
例えば各種癌細胞の転移浸潤又は増殖、リウマチ様関節
疾患、歯周疾患、角膜潰瘍、骨粗しょう症等の骨吸収疾
患、多発性硬化症、ミエリン退化の治療、血管新生を共
う疾患、皮膚及び胃腸管の潰瘍形成並びに創傷治癒、手
術後の症状、例えばコラゲナーゼレベルが上昇する結腸
吻合、糖尿病と関連して起こるコラーゲン破壊の増加、
アテローム性動脈硬化症、血管縫合時の肥厚、腎炎等に
対する予防及び治療剤として各種臨床分野で有用であ
る。
【００１８】上記一般式（１）で表わされるカルボスチ
リル誘導体及びその塩は、高い阻害活性を示し、低毒性
であり、経口吸収性に優れ、持続時間が長く、安全性が
高く、薬剤の安定性がよい等の特徴を有している。
【００１９】本明細書において示される各基は、それが
独立に存在する場合又は他の基中に存在する場合の如何
を問わず、より具体的にはそれぞれ次の通りである。
【００２０】低級アルキレン基としては、例えばメチレ
ン、メチルメチレン、エチレン、ジメチルメチレン、ト
リメチレン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリ
メチレン、２，２−ジメチルトリメチレン、テトラメチ
レン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン基等の炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を例示できる。
【００２１】チエニルチオ基としては、例えば２−チエ
ニルチオ、３−チエニルチオ基等のチエニルチオ基を例
示できる。
【００２２】低級アルカノイルチオ基としては、例えば
ホルミルチオ、アセチルチオ、プロパノイルチオ、ブタ
ノイルチオ、イソブタノイルチオ、ペンタノイルチオ、
ヘキサノイルチオ基等のアルカノイル部分が炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基であるアルカノイ
ルチオ基を例示できる。
【００２３】低級アルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【００２４】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、第三級ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ
基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を
例示できる。
【００２５】低級アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等のアルコ
キシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ
基であるアルコキシカルボニル基を例示できる。
【００２６】低級アルキレンジオキシ基としては、例え
ばメチレンジオキシ、エチレンジオキシ、トリメチレン
ジオキシ基等の炭素数１〜３のアルキレンジオキシ基を
例示できる。
【００２７】低級アルキルチオ基としては、例えばメチ
ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、第三級ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘ
キシルチオ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
キルチオ基を例示できる。
【００２８】低級アルコキシ低級アルコキシ基として
は、例えばメトキシメトキシ、エトキシメトキシ、プロ
ポキシメトキシ、ヘキシルオキシメトキシ、メトキシエ
トキシ、エトキシエトキシ、プロポキシエトキシ、イソ
プロポキシメトキシ、ブトキシメトキシ、第三級ブトキ
シメトキシ、ペンチルオキシメトキシ、ヘキシルオキシ
メトキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基を有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基を例示できる。
【００２９】低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルコ
キシ基としては、例えばメトキシメトキシメトキシ、エ
トキシメトキシメトキシ、プロポキシメトキシメトキ
シ、ヘキシルオキシメトキシメトキシ、メトキシメトキ
シエトキシ、エトキシメトキシエトキシ、プロポキシメ
トキシエトキシ、ヘキシルオキシメトキシエトキシ、メ
トキシエトキシエトキシ、エトキシエトキシエトキシ、
プロポキシエトキシエトキシ、イソプロポキシメトキシ
エトキシ、ブトキシメトキシエトキシ、メトキシエトキ
シメトキシ、エトキシエトキシメトキシ、プロポキシエ
トキシメトキシ、イソプロポキシメトキシメトキシ、ブ
トキシメトキシメトキシ、第三級ブトキシメトキシメト
キシ、ペンチルオキシメトキシメトキシ、ヘキシルオキ
シメトキシメトキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシ基が置換した炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルコキシ基を有する炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルコキシ基を例示できる。
【００３０】低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルコ
キシ低級アルコキシ基としては、例えばメトキシメトキ
シメトキシメトキシ、エトキシメトキシメトキシメトキ
シ、プロポキシメトキシメトキシメトキシ、ヘキシルオ
キシメトキシメトキシメトキシ、メトキシメトキシメト
キシエトキシ、エトキシメトキシメトキシエトキシ、プ
ロポキシメトキシメトキシエトキシ、ヘキシルオキシメ
トキシメトキシエトキシ、メトキシエトキシエトキシエ
トキシ、エトキシエトキシエトキシエトキシ、プロポキ
シエトキシエトキシメトキシ、イソプロポキシエトキシ
メトキシエトキシ、ブトキシメトキシエトキシメトキ
シ、メトキシエトキシエトキシメトキシ、エトキシエト
キシエトキシメトキシ、プロポキシメトキシエトキシメ
トキシ、イソプロポキシメトキシメトキシエトキシ、ブ
トキシエトキシメトキシメトキシ、第三級ブトキシメト
キシエトキシメトキシ、ペンチルオキシメトキシエトキ
シメトキシ、ヘキシルオキシメトキシエトキシメトキシ
基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基置
換炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基が置換
した炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を有
する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を例
示できる。
【００３１】低級アルケニレン基としては、例えばビニ
レン、アリレン、イソプロペニレン、２−ブテニレン、
３−ペンテニレン、４−ヘキセニレン、２−メチル−２
−ブテニレン基等の炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルケニレン基を例示できる。
【００３２】低級アルキニレン基としては、例えばエチ
ニレン、１−プロピニレン、２−プロピニレン、２−ブ
チニレン、３−ペンチニレン、４−ヘキシニレン、２−
メチル−２−ブチニレン基等の炭素数２〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキニレン基を例示できる。
【００３３】ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、
臭素原子、塩素原子及び沃素原子を例示できる。
【００３４】置換基としてハロゲン原子を有することの
あるチエニル基としては、例えば５−フルオロ−２−チ
エニル、５−ブロモ−２−チエニル、３−ブロモ−２−
チエニル、５−クロロ−２−チエニル、５−クロロ−３
−チエニル、４−クロロ−２−チエニル、４−クロロ−
３−チエニル、５−ヨード−２−チエニル基等の置換基
としてハロゲン原子を有することのあるチエニル基を例
示できる。
【００３５】窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる
群より選ばれたヘテロ原子を更に１個有することのある
５員又は６員の飽和ヘテロ環基としては、例えば１−ピ
ロリジニル、１−ピペリジニル、１−イミダゾリジニ
ル、１−ピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ基
等を例示できる。
【００３６】低級アルカノイル基としては、例えばホル
ミル、アセチル、プロパノイル、ブタノイル、イソブタ
ノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル基等の炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を例示できる。
【００３７】フェニル低級アルキル基としては、例えば
ベンジル、２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、
３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェ
ニルペンチル、６−フェニルヘキシル、２−メチル−３
−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル基等のアル
キル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルキル
基であるフェニル低級アルキル基を例示できる。
【００３８】炭素数１〜１２のアルキル基としては、例
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル基等の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【００３９】低級アルコキシ低級アルキル基としては、
例えばメトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメ
チル、ヘキシルオキシメチル、メトキシエチル、エトキ
シエチル、プロポキシエチル、イソプロポキシメチル、
ブトキシメチル、第三級ブトキシメチル、ペンチルオキ
シエチル、ヘキシルオキシエチル、プロポキシプロピ
ル、ヘキシルオキシヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシ基を有する炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【００４０】フェニル環上に置換基として低級アルキレ
ンジオキシ基を有することのあるフェニル低級アルキル
基としては、例えば上記に例示したフェニル低級アルキ
ル基の他に、２，３−メチレンジオキシベンジル、３，
４−メチレンジオキシベンジル、３，４−エチレンジオ
キシベンジル、３，４−トリメチレンジオキシベンジ
ル、２−（３，４−メチレンジオキシフェニル）エチ
ル、３−（３，４−メチレンジオキシフェニル）プロピ
ル、４−（３，４−メチレンジオキシフェニル）ブチ
ル、５−（３，４−メチレンジオキシフェニル）ペンチ
ル、６−（３，４−メチレンジオキシフェニル）ヘキシ
ル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状のアルキル基であり、フェニル環上に置換基として炭
素数１〜３のアルキレンジオキシ基を有することのある
フェニルアルキル基を例示できる。
【００４１】尚、ｎが２を示す場合は、Ｒ4 は同種の基
又は異種の基を示す。
【００４２】本発明の一般式（１）で表わされる化合物
には、次の化合物が包含される。
【００４３】Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子である上記一
般式（１）の化合物 Ｒ5 がベンゾイル基、低級アルカノイル基又はフェニル
低級アルキル基である上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
ある上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ6 が低級アルコ
キシ低級アルキル基又はフェニル環上に置換基として低
級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェニル低
級アルキル基である上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ1 が水素原子又は基−Ａ−Ｒ1a基であり、Ｒ1a
が水素原子、フタルイミド基、チエニルチオ基、低級ア
ルカノイルチオ基又は置換基としてハロゲン原子、水酸
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキレンジ
オキシ基からなる群より選ばれた基を１〜３個有するこ
とのあるフェニル基である上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ1 が基−Ａ−Ｒ1a基であり、Ｒ1aがアミノ基、
メルカプト基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニ
ル基、フェニルチオ基又は低級アルキルチオ基である上
記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水素原子又は基−Ｂ−Ｒ3aであり、Ｒ3aが
水素原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アル
コキシ基、カルボキシ基又は基−ＣＯ−Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3c
であり、Ｒ3bが水素原子又は低級アルキル基であり、Ｒ
3cが水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で
ある上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水素原子又は基−Ｂ−Ｒ3aであり、Ｒ3aが
水素原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アル
コキシ基、カルボキシ基又は基−ＣＯ−Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3c
であり、Ｒ3bが水素原子又は低級アルキル基であり、Ｒ
3cが水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で
あり、Ｒ1 が水素原子又は基−Ａ−Ｒ1a基であり、Ｒ1a
が水素原子、フタルイミド基、チエニルチオ基、低級ア
ルカノイルチオ基又は置換基としてハロゲン原子、水酸
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキレンジ
オキシ基からなる群より選ばれた基を１〜３個有するこ
とのあるフェニル基である上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水素原子又は基−Ｂ−Ｒ3aであり、Ｒ3aが
低級アルコキシ基又は低級アルコキシ低級アルコキシ基
であり、Ｒ1 が水素原子又は基−Ａ−Ｒ1a基であり、Ｒ
1aが水素原子、フタルイミド基、チエニルチオ基、低級
アルカノイルチオ基又は置換基としてハロゲン原子、水
酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキレンジ
オキシ基からなる群より選ばれた基を１〜３個有するこ
とのあるフェニル基であり、Ｂが低級アルキレン基であ
る上記一般式（１）の化合物 ある上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水素原子又は基−Ｂ−Ｒ3aであり、Ｒ3aが
低級アルコキシ基又は低級アルコキシ低級アルコキシ基
であり、Ｂが低級アルキレン基であり、Ｒ1 が水素原子
又は基−Ａ−Ｒ1a基であり、Ｒ1aが水素原子である上記
一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水素原子又は基−Ｂ−Ｒ3aであり、Ｒ3aが
水素原子、カルボキシ基又は基−ＣＯ−Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3c
であり、Ｒ3bが水素原子又は低級アルキル基であり、Ｒ
3cが水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で
あり、Ｂが低級アルキレン基であり、Ｒ1 が水素原子又
は基−Ａ−Ｒ1a基であり、Ｒ1aが水素原子、フタルイミ
ド基、チエニルチオ基、低級アルカノイルチオ基又は置
換基としてハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボ
ニル基及び低級アルキレンジオキシ基からなる群より選
ばれた基を１〜３個有することのあるフェニル基である
上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水素原子又は基−Ｂ−Ｒ3aであり、Ｒ3aが
水素原子、カルボキシ基又は基−ＣＯ−Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3c
であり、Ｒ3bが水素原子又は低級アルキル基であり、Ｒ
3cが水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で
あり、Ｂが低級アルキレン基であり、Ｒ1 が水素原子又
は基−Ａ−Ｒ1a基であり、Ｒ1aが水素原子である上記一
般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水素原子又は基−Ｂ−Ｒ3aであり、Ｒ3aが
水素原子、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アル
コキシ基、カルボキシ基又は基−ＣＯ−Ｎ（Ｒ3b）Ｒ3c
であり、Ｒ3bが水素原子又は低級アルキル基であり、Ｒ
3cが水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で
あり、Ｂが低級アルケニレン基又は低級アルキニレン基
であり、Ｒ1 が水素原子又は基−Ａ−Ｒ1a基であり、Ｒ
1aが水素原子、フタルイミド基、チエニルチオ基、低級
アルカノイルチオ基又は置換基としてハロゲン原子、水
酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基及び低級アルキレンジ
オキシ基からなる群より選ばれた基を１〜３個有するこ
とのあるフェニル基である上記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水酸基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
シ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ低
級アルコキシ基又は低級アルコキシ低級アルコキシ低級
アルコキシ低級アルコキシ基である上記一般式（１）の
化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水酸基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
シ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ低
級アルコキシ基又は低級アルコキシ低級アルコキシ低級
アルコキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ1 が水素原子又
は基−Ａ−Ｒ1aであり、Ｒ1aが水素原子、フタルイミド
基、チエニルチオ基、低級アルカノイルチオ基又は置換
基としてハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニ
ル基及び低級アルキレンジオキシ基からなる群より選ば
れた基を１〜３個有することのあるフェニル基である上
記一般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が水酸基、低級アルコキシ基、低級アルコキ
シ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ低
級アルコキシ基又は低級アルコキシ低級アルコキシ低級
アルコキシ低級アルコキシ基であり、Ｒ1 が水素原子又
は基−Ａ−Ｒ1aであり、Ｒ1aが水素原子である上記一般
式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が低級アルコキシ基であり、Ｒ1 が水素原子
又は基−Ａ−Ｒ1aであり、Ｒ1aが水素原子である上記一
般式（１）の化合物 Ｒ2 及びＲ5 が共に水素原子であり、Ｒ4 が水素原子、
ハロゲン原子、低級アルコキシ基又は低級アルキレンジ
オキシ基であり、Ｒ6 が炭素数１〜１２のアルキル基で
あり、Ｒ3 が基−Ｂ−Ｒ3aであり、Ｒ3aが水酸基、置換
基としてハロゲン原子、シアノ基、水酸基、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基及び低級アルコ
キシカルボニル基から選ばれる基を１〜３個有すること
のあるフェニル基、置換基としてハロゲン原子を有する
ことのあるチエニル基、フタルイミド基、低級アルコキ
シカルボニル基又は基−ＣＯ−Ｎ（Ｒ3b）−Ｒ3cであ
り、基−Ｎ（Ｒ3b）−Ｒ3cは窒素原子、酸素原子及び硫
黄原子からなる群より選ばれたヘテロ原子を更に１個有
することのある５員又は６員の飽和ヘテロ環を形成する
ものである上記一般式（１）の化合物 一般式（１）で表わされる化合物には立体異性体、光学
異性体、幾何異性体等が全て包含される。
【００４４】本発明の化合物及び原料化合物は種々の方
法で製造することができるが、例えば下記の反応工程式
−１又は反応工程式−２に示す方法により本発明の化合
物を製造することができる。
【００４５】反応工程式−１
【００４６】
【化７】
【００４７】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、
Ｒ6 及びｎは前記に同じ。〕上記反応工程式−１に示す
方法は、一般式（３）のアミン化合物と一般式（２）の
カルボン酸とを、通常のアミド結合生成反応にて反応さ
せる方法である。
【００４８】該アミド結合生成反応には公知のアミド結
合生成反応の条件を容易に適用できる。例えば（イ）混
合酸無水物法、即ちカルボン酸（２）にアルキルハロカ
ルボン酸を反応させて混合酸無水物とし、これにアミン
（３）を反応させる方法、（ロ）活性エステル法、即ち
カルボン酸（２）をｐ−ニトロフェニルエステル、Ｎ−
ヒドロキシコハク酸イミドエステル、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾールエステル等の活性エステルとし、これ
にアミン（３）を反応させる方法、（ハ）カルボジイミ
ド法、即ちカルボン酸（２）にアミン（３）をジシクロ
ヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等
の活性化剤の存在下に縮合反応させる方法、（ニ）その
他の方法、例えばカルボン酸（２）を無水酢酸等の脱水
剤によりカルボン酸無水物とし、これにアミン（３）を
反応させる方法、カルボン酸（２）と低級アルコールと
のエステルにアミン（３）を反応させる方法、カルボン
酸（２）の酸ハロゲン化物、即ちカルボン酸ハライドに
アミン（３）を反応させる方法を挙げることができる。
これらの中で活性エステル法又は混合酸無水物法が好ま
しい。
【００４９】上記混合酸無水物法（イ）において用いら
れる混合酸無水物は、通常のショッテン−バウマン反応
により得られ、これを通常単離することなくアミン
（３）と反応させることにより一般式（１）の化合物が
製造される。上記ショッテン−バウマン反応は塩基性化
合物の存在下に行なわれる。用いられる塩基性化合物と
しては、ショッテン−バウマン反応に慣用の化合物例え
ばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、ジ
メチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジア
ザビシクロ〔４，３，０〕ノネン−５（ＤＢＮ）、１，
８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセン−７（Ｄ
ＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オクタ
ン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の
無機塩基等が挙げられる。該反応は、通常−２０〜１０
０℃程度、好ましくは０〜５０℃程度において行なわ
れ、反応時間は５分〜１０時間程度、好ましくは５分〜
２時間程度である。得られた混合酸無水物とアミン
（３）との反応は通常−２０〜１５０℃程度、好ましく
は１０〜５０℃程度において行なわれ、反応時間は５分
〜１０時間程度、好ましくは５分〜５時間程度である。
混合酸無水物法は一般に溶媒中で行なわれる。用いられ
る溶媒としては混合酸無水物に慣用の溶媒がいずれも使
用可能であり、具体的にはクロロホルム、ジクロロメタ
ン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、
酢酸エチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ヘキサ
メチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒等又
はこれらの混合溶媒等が挙げられる。混合酸無水物法に
おいて使用されるアルキルハロカルボン酸としては例え
ばクロロ蟻酸メチル、ブロモ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エ
チル、ブロモ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブチル等が挙
げられる。該法におけるカルボン酸（２）とアルキルハ
ロカルボン酸（３）の使用割合は、通常等モルずつとす
るのがよいが、アミン（３）に対してアルキルハロカル
ボン酸及びカルボン酸（２）はそれぞれ０．５〜１倍モ
ル量程度の範囲内で使用することができる。
【００５０】また前記その他の方法（ニ）の内、カルボ
ン酸ハライドにアミン（３）を反応させる方法を採用す
る場合、該反応は塩基性化合物の存在下に、適用な溶媒
中で行なわれる。用いられる塩基性化合物としては、公
知のものを広く使用でき、例えば上記ショッテン−バウ
マン反応に用いられる塩基性化合物の他に、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウム等を例示できる。また用いられる溶媒とし
ては、例えば上記混合酸無水物法に用いられる溶媒の他
に、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、３−メトキソ−１−ブタノール、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、ピリジン、ア
セトン、水等を例示できる。アミン（３）とカルボン酸
ハライドとの使用割合としては、特に限定がなく広い範
囲内で適宜選択でき、通常前者に対して後者を少なくと
も等モル量程度、好ましくは０．５〜等モル量程度用い
るのがよい。該反応は通常−２０〜１８０℃程度、好ま
しくは０〜１５０℃程度にて行なわれ、一般に５分〜３
０時間程度で反応は完結する。
【００５１】カルボン酸（２）と低級アルコールとのエ
ステルにアミン（３）を反応させる方法を採用する場
合、該反応は塩基性化合物の存在下に適当な溶媒中で行
なわれる。塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、ナトリウムアルコラート、カリ
ウムアルコラート等が挙げられる。また溶媒としては、
例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチル
ホルムアミド等の極性溶媒等が挙げられる。アミン
（３）とカルボン酸エステルとの使用割合としては、特
に限定がなく広い範囲内から適宜選択できるが、通常後
者に対して前者を少なくとも等モル程度、好ましくは２
〜５倍モル量程度用いるのがよい。塩基性化合物の使用
量はカルボン酸エステルに対し１〜３倍モル程度とする
のがよい。該反応は通常−２０〜１８０℃程度、好まし
くは０〜４０℃程度にて行なわれ、一般に５分〜３０時
間程度で反応は完結する。
【００５２】更に上記反応工程式−１に示すアミド結合
生成反応は、カルボン酸（２）とアミン（３）とを、ト
リフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィニルクロリ
ド、フェニル−Ｎ−フェニルホスホラミドクロリデー
ト、ジエチルクロロホスフェニート、シアノリン酸ジエ
チル、ジフェニルリン酸アジド、ビス（２−オキソ−３
−オキサゾリジニル）ホスフィニッククロリド等のリン
化合物の縮合剤の存在下に反応させる方法によっても実
施できる。
【００５３】該反応は、上記カルボン酸ハライドにアミ
ン（３）を反応させる方法で用いられる溶媒及び塩基性
化合物の存在下に、通常−２０〜１５０℃程度、好まし
くは０〜１００℃程度付近にて行なわれ、一般に５分〜
３０時間程度にて反応は終了する。縮合剤及びカルボン
酸（２）の使用量はアミン（３）に対して夫々少なくと
も等モル量程度、好ましくは等モル〜２倍モル量程度と
するのがよい。
【００５４】反応工程式−２
【００５５】
【化８】
【００５６】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 及
びｎは前記に同じ。Ｒ5'はベンゾイル基、低級アルカノ
イル基又はフェニル低級アルキル基を示す。Ｘはハロゲ
ン原子を示す。〕一般式（１−Ａ）の化合物を一般式
（１−Ｂ）の化合物に変換する反応は、一般式（１−
Ａ）の化合物を通常の還元反応又はケン化反応に付する
ことにより行なわれる。
【００５７】上記還元反応には公知の還元反応の条件を
容易に適用できる。例えば、（イ）接触還元の場合は、
適当な溶媒中、触媒の存在下において行なうことができ
る。溶媒としては通常のものが広く使用でき、例えばメ
タノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコー
ル類、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、酢
酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド等の極性溶媒、水、酢酸又はこれらの混
合溶媒等が挙げられる。還元触媒としてはパラジウム、
パラジウム−黒、パラジウム−炭素、白金、酸化白金、
亜クロム酸銅、ラネーニッケル等が挙げられる。斯かる
触媒の使用量としては、一般式（１−Ａ）の化合物の重
量に対し０．００１〜２倍程度がよい。反応は加圧して
行なってもよいが、常圧で行なう場合には、反応温度と
しては１０〜６０℃程度、好ましくは２０〜４０℃程度
がよく、一般に１時間〜５日間程度で該反応は完了す
る。また（ロ）水素供給源としてシクロヘキセン、シク
ロヘキサジエン、蟻酸、アンモニウムホルメート、イソ
プロピルアルコール等を使用する場合は、適当な溶媒
中、触媒の存在下において行なうことができる。溶媒と
しては、上記（イ）と同様の溶媒を使用できる。触媒と
しては、パラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭
素等を例示できる。触媒の使用量としては、一般式（１
−Ａ）の化合物の重量に対し０．０１〜２倍程度、反応
温度としては１０〜１００℃程度、一般に反応時間は１
分〜３日間程度で該反応は完了する。
【００５８】ケン化反応には、通常のケン化の条件を広
く適用することができる。例えば通常の塩基性化合物を
使用して行なうことができる。塩基性化合物としては水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等の無機塩基が例示できる。斯かる塩基性化
合物の使用量としては、一般式（１−Ａ）の化合物１モ
ルに対して１〜６モル程度がよい。この反応は通常−１
０〜５０℃程度で行なわれ、一般に該反応は３０分〜２
４時間程度で終了する。
【００５９】一般式（１−Ｂ）の化合物を一般式（１−
Ａ）の化合物にする変換反応は、適当な溶媒中、塩基性
化合物の存在下、一般式 Ｒ5'−Ｘ 又は （Ｒ5'）2
Ｏ〔Ｒ5'及びＸは前記に同じ〕で表わされる化合物と一
般式（１−Ｂ）の化合物とを反応させることにより行な
われる。溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
等の極性溶媒、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素
類等を例示できる。また塩基性化合物としては、ピリジ
ン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の有機
塩基が挙げられる。斯かる塩基性化合物の使用量は、一
般式（１−Ｂ）の化合物１モルに対して１〜３倍モル程
度がよい。反応温度としては−１０〜５０℃程度がよ
く、一般に反応は１０分〜２４時間程度で終了する。
【００６０】上記反応工程式−１における出発原料であ
る一般式（２）の化合物は、種々の方法により製造する
ことができるが、例えば下記の反応工程式−４、−６、
−７、−８及び−９に示す方法により製造することがで
きる。
【００６１】反応工程式−３
【００６２】
【化９】
【００６３】〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 及びｎは
前記に同じ。Ｒ9 及びＲ10はそれぞれフェニル低級アル
コキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基等の
選択的に脱離可能なエステル基を示す。〕一般式（５）
の化合物は、一般式（４）の化合物のカルボキシル基の
保護基を脱離することにより製造される。保護基の脱離
には通常のカルボキシル基の保護基を脱離する方法を広
く適用することができ、例えば（イ）酸で処理する方
法、（ロ）接触還元を用いる方法、（ハ）ケン化による
方法等を挙げることができる。
【００６４】酸で処理する方法を採用する場合には、一
般式（５）の化合物は、酸の存在下、適当な溶媒中又は
無溶媒下に一般式（４）の化合物を処理することにより
製造される。酸としては、トリフルオロ酢酸等の有機
酸、フッ化水素、塩化水素等の無機酸が挙げられる。酸
の使用量としては一般式（４）の化合物１モルに対して
大過剰量用いるのがよい。溶媒としては通常のものが広
く使用でき、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素
類、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステ
ル類、酢酸等を例示できる。上記反応は通常−４０〜６
０℃、好ましくは−２０〜４０℃程度で進行し、一般に
１分〜５時間程度で該反応は完了する。
【００６５】接触還元を用いる方法を採用する場合に
は、公知の還元反応の条件を広く適用することができ
る。例えば上記反応工程式−２に示される還元反応と同
様の反応条件下に行なうことができる。
【００６６】ケン化による方法を採用する場合には、通
常のケン化の条件を広く適用することができる。例えば
通常の塩基性化合物を使用して行なうことができる。塩
基性化合物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基が例示
できる。斯かる塩基性化合物の使用量としては、一般式
（４）の化合物１モルに対して１〜３モル程度がよい。
この反応は通常−１０〜５０℃程度で行なわれ、一般に
該反応は３０分〜２４時間程度で終了する。
【００６７】一般式（７）の化合物は、一般式（５）の
化合物と一般式（６）の化合物とを通常のアミド結合生
成反応にて反応させることにより製造される。該アミド
結合生成反応は、上記反応工程式−１の記載の方法と同
様にして行なうことができる。
【００６８】反応工程式−４
【００６９】
【化１０】
【００７０】〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 、Ｒ9 及
びｎは前記に同じ。〕一般式（２−Ａ）の化合物は、適
当な溶媒中で一般式（７）の化合物をカルボキシ保護基
の脱離反応に付した後に、適当な溶媒中で脱離反応後の
反応物を加熱することにより製造される。
【００７１】カルボキシ保護基の脱離反応には公知のカ
ルボキシ保護基の脱離反応の条件を広く適用できる。例
えば該カルボキシ保護基の脱離反応は反応工程式−３に
示されるカルボキシ保護基の脱離反応と同様にして行な
うことができる。
【００７２】カルボキシ保護基の脱離反応後の反応物を
加熱する場合の溶媒としては、トルエン、ベンゼン等の
芳香族炭化水素類が例示できる。反応温度としては５０
〜１２０℃程度がよく、還流して行なうのが好ましい。
一般に反応は１分〜３日間程度で完了する。
【００７３】反応工程式−５
【００７４】
【化１１】
【００７５】〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 、Ｒ9 及
びｎは前記に同じ。〕一般式（９）の化合物は、適当な
溶媒中、一般式（７）の化合物をカルボキシ保護基の脱
離反応に付した後、脱離反応後の反応物を適当な溶媒中
でホルムアルデヒドの存在下で脂肪族第２アミンとマン
ニッヒ反応を行ない、マンニッヒ反応後の反応物を加熱
することにより製造される。
【００７６】上記カルボキシ保護基の脱離反応には公知
のカルボキシ保護基の脱離反応の条件を広く適用でき
る。例えば該脱離反応は反応工程式−３に示されるカル
ボキシ保護基の脱離反応と同様に行なわれる。カルボキ
シ保護基の脱離反応後の反応物をマンニッヒ反応に付す
場合には、溶媒として例えば水、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類等が使用でき、
また脂肪族第２アミンとしては、例えばジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ピペリジン等が使用できる。脂肪
族第２アミンの使用量としては、一般式（７）の化合物
に対して１〜２倍モル程度がよい。ホルムアルデヒドの
使用量としては、一般式（７）の化合物に対して１〜２
倍モル程度がよい。反応温度としては１０〜６０℃、好
ましくは２０〜４０℃程度がよく、一般に上記反応は１
時間〜３日間程度で完了する。
【００７７】マンニッヒ反応後の反応物を加熱する場合
は、マンニッヒ反応の終了した反応液を反応温度５０〜
１２０℃程度で加熱、又は還流するのがよい。一般に該
反応は１分〜１日間程度で完了する。
【００７８】反応工程式−６
【００７９】
【化１２】
【００８０】〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 及びｎは
前記に同じ。Ｒ11はチエニル基、低級アルカノイル基、
フェニル基又は低級アルキル基を示す。〕一般式（２−
Ｂ）の化合物は、一般式（９）の化合物と一般式（１
０）の化合物とを適当な溶媒中又は無溶媒下で反応させ
ることにより製造される。溶媒としてはメタノール、エ
タノール等のアルコール類等を例示できる。一般式（１
０）の化合物の使用量は一般式（９）の化合物１モルに
対して大過剰量又は溶媒量程度とするのがよい。上記反
応は通常１０〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃程
度で行なわれ、一般に該反応は暗所で１時間〜１０日程
度で終了する。
【００８１】尚、一般式（２）の化合物においてＲ1 が
低級アルキル基を示す化合物は、一般式（９）の化合物
を通常の還元反応に付すことにより製造される。この還
元反応には、通常の還元反応の反応条件を広く適用する
ことができ、例えば上記反応工程式−２に示す還元反応
と同様にして行なうことができる。
【００８２】反応工程式−７
【００８３】
【化１３】
【００８４】〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 、Ｘ及び
ｎは前記に同じ。Ｒ12は低級アルカノイル基又は低級ア
ルキル基を示す。〕一般式（２−Ｃ）の化合物から一般
式（２−Ｄ）の化合物を得る反応は、ケン化又は適当な
溶媒中アミンの存在下で行なわれる。ケン化による場合
には、通常のケン化反応の反応条件を広く適用すること
ができ、例えば上記反応工程式−３に示すケン化反応と
同様にして行なうことができる。またアミンの存在下に
行なう場合、用いられる溶媒としては、メタノール、エ
タノール等のアルコール類等を例示できる。アミンとし
てはメチルアミン、エチルアミン等の脂肪族アミン類を
例示できる。斯かるアミンの使用量としては、一般式
（２−Ｃ）の化合物１モルに対して大過剰量用いるのが
よい。上記反応は通常−２０〜１００℃程度で行なわ
れ、一般に該反応は１分〜２４時間程度で終了する。
【００８５】一般式（２−Ｄ）の化合物から一般式（２
−Ｃ）の化合物を得る反応は、適当な溶媒中、塩基性化
合物の存在下、一般式 Ｒ12−Ｘ 又は （Ｒ12）2 Ｏ
〔Ｒ12及びＸは前記に同じ。〕で表わされる化合物と一
般式（２−Ｄ）の化合物とを反応させることにより製造
される。溶媒としてはクロロホルム等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル等のエス
テル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒等
を例示できる。塩基性化合物としては、トリエチルアミ
ン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無
機塩基を例示できる。塩基性化合物の使用量としては、
一般式（２−Ｄ）の化合物１モルに対して２〜５モル程
度がよい。上記反応は通常０〜１００℃程度で行なわ
れ、一般に該反応は１分〜２４時間程度で終了する。
【００８６】反応工程式−８
【００８７】
【化１４】
【００８８】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 、
Ｒ9 、Ｒ10、Ｘ及びｎは前記に同じ。Ｒ13は基−Ａ−Ｒ
1aを示す。Ｒ19は低級アルキル基又はフェニル低級アル
キル基を示す。〕一般式（１４）の化合物は、一般式
（１２）の化合物と一般式（１３）の化合物とを適当な
溶媒中、塩基性化合物の存在下にて反応することにより
製造される。塩基性化合物としては、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、水素化リチウム、ナトリウムメチ
ラート、カリウムエチラート等を例示できる。溶媒とし
てはテトラヒドロフラン等のエーテル類、ジメチルホル
ムアミド等の極性溶媒が例示できる。塩基性化合物の使
用量としては、一般式（１２）の化合物１モルに対して
１〜３倍モル、好ましくは等モルがよい。一般式（１
３）の化合物の使用量としては、一般式（１２）の化合
物１モルに対して１〜３倍モル程度、好ましくは等モル
がよい。反応温度としては、通常０〜１２０℃程度、好
ましくは２０〜６０℃程度がよい。一般に反応は１時間
〜５日間程度で完了する。
【００８９】一般式（１５）の化合物は適当な溶媒中、
一般式（１２）の化合物又は一般式（１４）の化合物を
カルボキシ保護基の脱離反応に付した後、適当な溶媒中
で脱離反応後の反応物を加熱することにより製造され
る。上記カルボキシ保護基の脱離反応には公知のカルボ
キシ保護基の脱離反応の条件を広く適用でき、例えば該
脱離反応は反応行程式−３に示される反応と同様にして
行なわれる。カルボキシ保護基の脱離反応後の反応物の
加熱反応については、反応工程式−４に示される反応と
同様にして行なわれる。
【００９０】一般式（１６）の化合物は一般式（１５）
の化合物と一般式（６）の化合物とを通常のアミド結合
生成反応にて反応させることにより製造される。該アミ
ド結合生成反応は反応工程式−１の記載の方法と同様に
行なうことができる。
【００９１】一般式（２−Ｅ）の化合物は適当な溶媒
中、一般式（１６）の化合物のカルボキシ保護基の脱離
反応に付すことにより製造される。この反応は反応工程
式−３に示されるカルボキシ保護基の脱離反応と同様に
して行なわれる。
【００９２】上記反応工程式−８において用いられる一
般式（１５）の化合物は、各種の方法により製造され
る。例えば、一般式 Ｒ6 ＣＨ2 ＣＯＯＨ 〔式中Ｒ6
は前記に同じ。〕で表わされる化合物をハロゲン化試薬
により酸ハライドとした後、ｎ−ブチルリチウムの存在
下で光学活性なオキサゾリジン−２−オンと反応させ、
次いで得られる一般式 Ｒ6 ＣＨ2 ＣＯＺ 〔式中Ｒ6
は前記に同じ。Ｚは光学活性な２−オキソ−オキサゾリ
ジル基を示す。〕で表わされる化合物に一般式Ｒ10ＣＨ
2 Ｘ 〔式中Ｒ10及びＸは前記に同じ。〕で表わされる
α−ハロ酢酸エステルを反応させ、更に得られる一般式
Ｒ10ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ6 ）ＣＯＺ 〔式中Ｒ6 、Ｒ10及
びＺは前記に同じ。〕で表わされる化合物を加水分解し
て光学活性な２−オキソ−オキサゾリジル基（Ｚ）を除
去することにより、一般式 Ｒ10ＣＨ2 ＣＨ（Ｒ6 ）Ｃ
ＯＯＨ 〔式中Ｒ6 及びＲ10は前記に同じ。〕で表わさ
れる化合物が製造される。これら各反応には、例えばＷ
Ｏ−９３０９０９７号明細書に記載の各反応に対応する
反応条件を広く適用できる。
【００９３】反応工程式−９
【００９４】
【化１５】
【００９５】〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 及びｎは
前記に同じ。Ｒ14は低級アルコキシカルボニル基を示
す。Ｒ15は炭素数１〜１２のアルキリデン基、低級アル
コキシ低級アルキリデン基又はフェニル環上に置換基と
して低級アルキレンジオキシ基を有することのあるフェ
ニル低級アルキリデン基を示す。Ｒ16は低級アルキル基
を示す。〕一般式（２０）の化合物は、適当な溶媒中で
一般式（１８）の化合物と一般式（１９）の化合物とを
塩基性化合物の存在下に反応させた後、ケン化（アルカ
リ加水分解）することにより得られる。適当な溶媒とし
ては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール等のアルコール類が例
示できる。塩基性化合物としては、水素化ナトリウム、
水素化カリウム、水素化リチウム、ナトリウムメチラー
ト、カリウムエチラート等を例示できる。一般式（１
９）の化合物の使用量は一般式（１８）の化合物１モル
に対して１〜１．５モル程度がよい。また塩基性化合物
の使用量は一般式（１８）の化合物１モルに対して１〜
１．５モル程度がよい。上記反応は通常１０〜１２０℃
程度で行なわれ、一般に該反応は１分〜２４時間程度で
終了する。
【００９６】引続き行なわれるケン化は、例えば通常の
塩基性化合物を使用して行なわれる。塩基性化合物とし
ては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等の無機塩基を例示できる。塩基性
化合物の使用量としては、一般式（１８）の化合物１モ
ルに対して２〜６モル程度がよい。上記反応は通常０〜
１００℃程度で行なわれ、一般に該反応は１〜２４時間
程度で終了する。
【００９７】一般式（２２）の化合物は、一般式（２
０）の化合物を無水酢酸、Ｎ，Ｎ´−ジシクロヘキシル
カルボジイミド（ＤＣＣ）等の脱水縮合剤と反応させた
後に、その反応物を一般式（２１）の化合物と反応させ
ることにより製造される。一般式（２０）の化合物と無
水酢酸、ＤＣＣ等の反応において、無水酢酸、ＤＣＣ等
の使用量としては、一般式（２０）の化合物１モルに対
して１モル〜大過剰量程度とするのがよい。上記反応は
２０〜１２０℃程度で進行し、一般に該反応は１分〜１
０時間程度で完了する。反応物と一般式（２１）の化合
物との反応においては、一般式（２１）の化合物の使用
量としては、一般式（２０）の化合物１モルに対して大
過剰量程度がよい。上記反応は通常１０〜１００℃程度
で行なわれ、一般に該反応は１〜２４時間程度で完了す
る。
【００９８】一般式（２３）の化合物は一般式（２２）
の化合物を通常の還元反応に付すことによって得られ
る。この還元反応には公知の還元反応の条件を広く適用
できる。例えば該反応は反応工程式−２に示される反応
と同様にして行なわれる。
【００９９】一般式（２４）の化合物は、一般式（２
３）の化合物と一般式（６）の化合物を通常のアミド結
合生成反応にて反応させることにより得られる。該アミ
ド結合生成反応は反応工程式−１に示される反応と同様
にして行なわれる。
【０１００】一般式（２−Ａ）の化合物は、適当な溶媒
中、一般式（２４）の化合物を塩基性化合物の存在下で
処理することにより製造される。適当な溶媒としては、
メタノール、エタノール等のアルコール類が例示でき
る。塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等の無機塩基、トリエチルアミン等の有機塩基
が例示できる。塩基性化合物の使用量としては、一般式
（２４）の化合物１モルに対して１〜３モル程度がよ
い。上記反応は通常０〜４０℃程度で行なわれ、一般に
該反応は１〜２４時間程度で終了する。
【０１０１】上記反応工程式−３において出発原料とし
て用いられる一般式（４）の化合物は、各種方法により
製造される。例えば下記反応工程式−１０で示される方
法により製造される。
【０１０２】反応工程式−１０
【０１０３】
【化１６】
【０１０４】〔式中、Ｒ6 、Ｒ9 及びＲ10は前記に同
じ。Ｒ17はナトリウム、カリウム等のアルカリ金属を示
す。Ｙはハロゲン原子を示す。〕一般式（２８）の化合
物は、一般式（２６）の化合物と一般式（２７）の化合
物とを適当な溶媒中亜硝酸塩の存在下に通常のジアゾカ
ップリング反応させることにより製造される。
【０１０５】亜硝酸塩としては、亜硝酸ナトリウム、亜
硝酸カリウムが例示できる。亜硝酸塩の使用量として
は、一般式（２６）の化合物１モルに対して１〜１．５
モル程度、一般式（２７）の化合物の使用量としては一
般式（２６）の化合物１モルに対して１〜１．５モル程
度がよい。溶媒としては、水、塩酸、硫酸等の酸性溶媒
又はこれらの混合溶媒を例示できる。上記反応は通常−
１０〜１００℃程度で行なわれ、一般に該反応は１分〜
１日程度で完了する。
【０１０６】一般式（２９）の化合物は一般式（２８）
の化合物を適当な溶媒中で通常のエステル化反応に付す
ことにより製造される。
【０１０７】一般式（４）の化合物は一般式（２９）の
化合物と一般式（３０）の化合物とを適当な溶媒中、塩
基性化合物の存在下で反応させることにより製造され
る。溶媒としてはジメチルホルムアミド等の極性溶媒、
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類が例示でき
る。塩基性化合物としては水素化ナトリウム、ｔ−ブト
キシカリウム等を例示できる。塩基性化合物の使用量と
しては一般式（２９）の化合物１モルに対して１〜３モ
ル程度がよい。上記反応は通常−２０〜７０℃程度で行
なわれ、一般に該反応は１時間〜１０日程度で完了す
る。
【０１０８】上記反応工程式−８において出発原料とし
て用いられる一般式（１２）の化合物は、各種方法によ
り製造される。例えば下記反応工程式−１１で示される
方法により製造される。
【０１０９】反応工程式−１１
【０１１０】
【化１７】
【０１１１】〔式中、Ｒ6 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ19及びＹは
前記に同じ。〕一般式（３２）の化合物は、一般式（２
６）の化合物を適当な溶媒中亜硝酸塩の存在下で通常の
ジアゾカップリング反応に付すことにより製造できる。
該ジアゾカップリング反応は、上記反応工程式−１０に
おいて一般式（２８）の化合物を製造する時と同様の反
応条件下にて行なわれる。
【０１１２】一般式（３４）の化合物は、一般式（３
２）の化合物と一般式（３３）の化合物とを適当な溶媒
中、塩基性化合物の存在下に反応させることにより製造
される。溶媒としてはテトラヒドロフラン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類が例示で
きる。塩基性化合物としてはトリエチルアミン、Ｎ−メ
チルモルホリン等の有機塩基が例示できる。塩基性化合
物の使用量としては一般式（３２）の化合物１モルに対
して１〜２モル程度がよく、一般式（３３）の化合物の
使用量は一般式（３２）の化合物１モルに対して１〜２
モル程度がよい。反応温度としては０〜１００℃程度が
よく、一般には１〜２４時間で完了する。また一般式
（３４）の化合物は、適当な溶媒中で通常のエステル化
反応に付すことによっても製造される。
【０１１３】一般式（１２）の化合物は、一般式（３
４）の化合物をスルホン酸エステルにした後に、一般式
（３５）の化合物と塩基性化合物の存在下に反応させる
ことにより製造される。一般式（３４）の化合物をスル
ホン酸エステルにする反応は、適当な溶媒中塩基性化合
物の存在下、無水スルホン酸等の酸無水物、スルホニル
ハライド等の酸ハライドと反応させることにより行なわ
れる。溶媒としては、ジクロロメタン等のハロゲン化炭
化水素類、テトラヒドロフラン等のエーテル類が例示で
きる。塩基性化合物としてはピリジン、トリエチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン等の有機塩基が例示できる。
塩基性化合物の使用量としては、一般式（３４）の化合
物１モルに対して１〜１．５モル程度とするのがよい。
酸無水物又は酸ハライドの使用量としては、一般式（３
４）の化合物１モルに対して１〜１．５モル程度がよ
い。反応温度は−５０〜５０℃程度、一般に反応は１分
〜１日で完了する。
【０１１４】一般式（３４）の化合物のスルホン酸エス
テルと一般式（３５）の化合物の反応は適当な溶媒中、
塩基性化合物の存在下にて行なわれる。溶媒としてはジ
メチルホルムアミド等の極性溶媒、ジクロロメタン等の
ハロゲン化炭化水素類が例示できる。塩基性化合物とし
ては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化リチ
ウム、ナトリウムメチラート、カリウムエチラート等を
例示できる。塩基性化合物の使用量としては、一般式
（３４）の化合物１モルに対して１〜２モル程度、一般
式（３５）の化合物の使用量としては、一般式（３４）
の化合物１モルに対して１〜２モル程度がよい。反応温
度は−１０〜５０℃程度がよく、一般に該反応は１時間
〜１０日間で完了する。
【０１１５】上記反応工程式−３、−８及び−９におい
て使用される一般式（６）の化合物は新規又は公知の化
合物であり、例えばＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９７
２，１５，３２５、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８
９，５４，３３９４等に記載の方法に従い容易に製造さ
れる。また、一般式（６）の化合物は例えば下記反応工
程式−１２及び−１３で示される方法により製造され
る。
【０１１６】反応工程式−１２
【０１１７】
【化１８】
【０１１８】〔式中、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ3a、Ｂ、Ｘ及びｎ
は前記に同じ。Ｒ20は水素原子、アシル基又はアミノ基
保護基を示す。〕一般式（３６）の化合物と一般式（３
７）の化合物との反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物
の存在下で行なわれる。用いられる溶媒としては、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド等の極性溶媒等が挙げられ
る。また塩基性化合物としては、例えば水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム、水素化リチウム、ナトリウムメチ
ラート、カリウムエチラート等の無機塩基を例示でき
る。斯かる塩基性化合物の使用量としては、一般式（３
６）の化合物に対して通常０．５〜２倍モル量、好まし
くは等モル量程度とするのがよい。一般式（３６）の化
合物と一般式（３７）の化合物との使用割合としては、
通常前者に対して後者を１〜３倍モル程度、好ましくは
等モル程度とするのがよい。反応温度は通常−２０〜１
２０℃程度、好ましくは０〜６０℃程度がよく、一般に
反応は１０分〜５日間で完了する。反応工程式−１３
【０１１９】
【化１９】
【０１２０】〔式中、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ20、Ｘ及びｎは前
記に同じ。Ｒ16a は低級アルキル基、低級アルコキシ低
級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アル
キル基又は低級アルコキシ低級アルコキシ低級アルコキ
シ低級アルキル基を示す。〕一般式（３９）の化合物と
一般式（４０）の化合物との反応は、前記反応工程式−
１２における一般式（３６）の化合物と一般式（３７）
の化合物との反応と同様の反応条件下に行ない得る。
【０１２１】一般式（３８−Ａ）の化合物及び一般式
（３８−Ｂ）の化合物は、通常の脱保護反応にて一般式
（６）の化合物に変換される。
【０１２２】上記反応工程式−８において用いられる一
般式（１５）の化合物は、各種方法により製造される。
例えば下記反応工程式−１４に示される方法により製造
される。
【０１２３】反応工程式−１４
【０１２４】
【化２０】
【０１２５】〔式中、Ｒ6 、Ｒ9 、Ｒ10及びＲ19は前記
に同じ。〕一般式（１２）の化合物の脱保護は、前記反
応工程式−３において一般式（４）の化合物から一般式
（５）の化合物を得る反応と同様の反応条件下に行ない
得る。引続き行なわれるマンニッヒ反応は、前記反応工
程式−５において一般式（７）の化合物から一般式
（９）の化合物を得る反応と同様の反応条件下に行ない
得る。一般式（４１）の化合物の水素添加反応は、前記
反応工程式−２において一般式（１−Ａ）の化合物を還
元して一般式（１−Ｂ）の化合物に変換する反応と同様
の反応条件下に行ない得る。
【０１２６】上記の各反応工程式に示された中間体化合
物におけるアミノ基又は水酸基等の置換基は、反応に影
響しない通常の方法で適時保護することができ、反応終
了後は通常の方法で適時保護基を脱離することができ
る。
【０１２７】また、本発明の一般式（１）の化合物及び
その製造のための上記各反応工程式に示された中間体化
合物は、その有するＲ1 、Ｒ3 及びＲ5 等の種類を上記
したように種々変化させることができるが、これらに限
定されるものではなく通常行なわれている変化を行なう
ことができる。
【０１２８】例えば水酸基の保護基の脱離反応として
は、下記反応工程式−１５における一般式（４２）の化
合物から一般式（１−Ｂ）の化合物を得る脱シリル化反
応を例示できる。
【０１２９】反応工程式−１５
【０１３０】
【化２１】
【０１３１】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ6 及
びｎは前記に同じ。Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ低級
アルキル基を示す。〕一般式（２）の化合物と一般式
（３′）の化合物との反応は、前記反応工程式−１にお
ける一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物との
反応と同様の反応条件下に行ない得る。
【０１３２】一般式（４２）の化合物を一般式（１−
Ｂ）の化合物に導く反応には、通常の脱シリル化の反応
条件をいずれも適用できる。例えばこの脱シリル化反応
は、この種の脱シリル化反応に慣用される適当な触媒、
例えば塩酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸や蟻酸、酢酸、
プロピオン酸等の低級アルカン酸、安息香酸、メタンス
ルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、４
−メチルベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸等の有
機酸の適当量を用いて、通常溶媒中で実施される。溶媒
としては、通常の不活性溶媒、例えば水、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール類、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭
化水素類、酢酸、プロピオン酸等の低級アルカン酸等や
これらの混合溶媒を用いることができる。上記触媒は、
通常触媒量〜過剰量程度、好ましくは過剰量程度使用す
るのがよい。反応温度は、通常０〜１００℃程度、好ま
しくは室温〜８０℃程度とすればよく、該反応は３分〜
２０時間程度で終了する。
【０１３３】アミノ基の保護基の脱離反応としては、例
えば下記に示すヒドラジン分解反応を例示できる。例え
ばＲ1 がフタルイミド低級アルキル基の場合には、無溶
媒又は不活性溶媒中、ヒドラジン又はヒドラジン誘導体
と反応させるヒドラジン分解反応に付すことにより、Ｒ
1 をアミノ低級アルキル基に変換することができる。こ
の反応に用いられる不活性溶媒としては、例えばジクロ
ロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール等
のアルコール類等が挙げられる。またヒドラジン誘導体
としては、メチルヒドラジン、エチルヒドラジン等の低
級アルキル置換ヒドラジン、フェニルヒドラジン等のア
リール置換ヒドラジン等を例示できる。Ｒ1 がフタルイ
ミド低級アルキル基である原料化合物に対するヒドラジ
ン又はヒドラジン誘導体の使用量としては、通常少なく
とも等モル量、好ましくは等モル〜１０倍モル量とする
のがよい。この反応は通常０〜１００℃、好ましくは０
〜８０℃にて行なわれ、一般に１〜４０時間程度で該反
応は終了する。
【０１３４】上記反応工程式−８において、出発原料と
して用いられる一般式（１３）の化合物は、例えばＪ．
Ｇｅｎ．Ｃｈｅｍ．，２２，２６７−２６９（１９５
２）やＫｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉ
ｎ．，３，３４４−３４５（１９７５）等に記載の公知
の化合物であるか、これらの文献に記載の方法に準じて
容易に製造される化合物である。
【０１３５】本発明化合物は、医薬的に許容される酸又
は塩基化合物の付加塩を包含する。上記塩は上記酸又は
塩基を作用させることにより容易に形成される。塩形成
に使用される酸としては、例えば、塩酸、硫酸、リン
酸、臭化水素酸等の無機酸、また、場合によっては、シ
ュウ酸、マレイン酸、フマル酸、リンゴ酸、酒石酸、ク
エン酸、安息香酸等の有機酸を挙げることができる。ま
た上記塩形成に使用される塩基化合物としては、例えば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙げること
ができる。
【０１３６】上記各方法で製造される一般式（１）の化
合物及びその塩は、通常の分離手段、例えば蒸留法、再
結晶法、カラムクロマトグラフィー、プレパラティブ薄
層クロマトグラフィー、溶媒抽出法等により容易に反応
系から単離精製できる。
【０１３７】本発明細胞外マトリックス金属プロテアー
ゼ阻害剤は、通常一般的な医薬製剤の形態で用いられ
る。製剤は通常使用される充填剤、増量剤、結合剤、付
湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の稀釈剤又は賦形
剤を用いて調整される。この医薬製剤としては各種の形
態が治療目的に応じて選択でき、その代表的なものとし
て錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カ
プセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）、軟膏剤等
が挙げられる。錠剤の形態に成型するに際しては、担体
として例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、
尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セル
ロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパノ
ール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン
溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチル
セルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等
の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カン
テン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カル
シウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセ
リド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、
カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アン
モニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進
剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳
糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸
着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエ
チレングリコール等の滑沢剤等を使用できる。更に錠剤
は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、
ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠或
いは二重錠、多層錠とすることができる。丸剤の形態に
成型するに際しては、担体として例えばブドウ糖、乳
糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タル
ク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチ
ン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カンテン等の
崩壊剤等を使用できる。坐剤の形態に成型するに際して
は、担体として例えばポリエチレングリコール、カカオ
脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼ
ラチン、半合成グリセライド等を使用できる。カプセル
剤の調製は常法に従い、通常上記で例示した各種の担体
と本発明化合物を混合し、硬質ゼラチンカプセル、硬質
カプセル等に充填して行われる。注射剤として調製され
る場合、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、且つ血液と
等張であるのが好ましい。これらの形態に成型するに際
しては、稀釈剤として例えば水、乳酸水溶液、エチルア
ルコール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステ
アリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル類等を使用できる。なお、この場合、等張性
の溶液を調製するのに充分な量の食塩、ブドウ糖或いは
グリセリンを医薬製剤中に含有させてもよく、また通常
の溶解補助剤、乾燥剤、無痛化剤等を添加してもよい。
さらに必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘
味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に含有させてもよい。
ペースト、クリーム及びゲルの形態に製剤するに際して
は、希釈剤として例えば白色ワセリン、パラフィン、グ
リセリン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコー
ル、シリコン、ベントナイト等を使用できる。
【０１３８】本発明医薬製剤中に含有されるべき本発明
化合物の量は、特に限定されず広い範囲から適宜選択さ
れるが、通常医薬製剤中に１〜７０重量％とするのがよ
い。
【０１３９】本発明医薬製剤の投与方法は特に制限はな
く、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の状態等、ま
た各種製剤形態等に応じて各種決定されるが、通常全身
的或いは局所的に、経口又は非経口で投与される。例え
ば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセ
ル剤の形態で経口投与され、注射剤の形態で、必要に応
じ通常の補液と混合して静脈内、筋肉内、皮内、皮下又
は腹腔内投与される他、坐剤として直腸内投与され、又
は軟膏剤として塗布される。
【０１４０】本発明医薬製剤の人に対する投与量は、年
齢、体重、症状、治療効果、投与方法、処理時間等によ
り適宜選択されるが、通常１日当り体重１ｋｇ当り約
０．１〜１００ｍｇの範囲で投与され、該製剤は１日１
回から数回に分けて投与されてもよい。もちろん、前記
のように投与量は種々の条件で変動するので、上記投与
量範囲より少ない量で充分な場合もあるし、また範囲を
越えて必要な場合もある。
【０１４１】
【実施例】以下、本発明で使用する化合物の製造例を実
施例として挙げ、次いで、これら化合物の薬理試験結果
及び製剤例を示す。
【０１４２】参考例１ （ａ）２Ｒ−ブロモ−４−メチル−ペンタノイックアシ
ッドの製造 Ｄ−ロイシン５０．０ｇを、硫酸１１２ｍｌ及び水３８
０ｍｌの混合溶媒に溶解し、臭化カリウム１５８ｇを加
え、反応溶液を−２℃に冷却する。亜硝酸ナトリウム３
４．８ｇを水１００ｍｌに溶かした溶液を、上記の反応
溶液が−１〜−２℃を保つように、１時間かけて滴下
し、滴下終了後、氷浴中にて２時間攪拌する。クロロホ
ルム３００ｍｌを反応溶液に加え、不溶物を濾去し、有
機層を分離し、さらに水層をクロロホルム１００ｍｌに
て５回抽出する。クロロホルム層を合わせ、硫酸マグネ
シウムにて乾燥後、真空蒸発させ、上記目的化合物を黄
色油状として得た。収量５８．５ｇ。
【０１４３】（ｂ）ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｒ−ブロモ−
４−メチル−ペンタノエートの製造 ２Ｒ−ブロモ−４−メチルペンタノイックアシッド５
８．５ｇをジクロロメタン１５０ｍｌに溶解し、この溶
液を−４０℃に冷却した後、イソブテンを約５０ｍｌた
める。−４０℃に冷却したまま、濃硫酸１．５ｍｌを攪
拌しながら滴下した後、封管し、室温にて一夜攪拌す
る。反応容器を再び−４０℃以下に冷却してから、封管
を開き、室温にて放置し、反応溶液が１０℃以上になっ
てから、反応溶液が半分ぐらいになるまで真空蒸発させ
た。残留物にクロロホルム２００ｍｌを加え、クロロホ
ルム層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍｌ×
２回）、食塩水１００ｍｌで洗い、硫酸マグネシウムで
乾燥し真空蒸発させ、上記目的化合物を黄色油状として
得た。収量６７．２ｇ。
【０１４４】（ｃ）ベンジル ２−ベンジルオキシカル
ボニル−３Ｒ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−５−メ
チルヘキサノエートの製造 ジベンジルマロネート７６．２ｇを乾燥ジメチルホルム
アミド１００ｍｌに溶解し、カリウムｔ−ブトキシド３
０．０ｇを氷冷しながら加え、室温でカリウムｔ−ブト
キシドが全部溶けるまで攪拌する。氷浴中にて再び冷却
し、ｔｅｒｔ−ブチル２Ｒ−ブロモ−４−メチル−ペン
タノエート６７．２ｇのジメチルホルムアミド１２０ｍ
ｌ溶液を１時間かけて滴下し、４℃にて４日間攪拌し
た。反応溶液を飽和塩化アンモニウム５００ｍｌに注
ぎ、酢酸エチル（３００ｍｌ×３回）にて抽出後、有機
層を真空蒸発させた。残留物にジエチルエーテル６００
ｍｌを加え、食塩水（５００ｍｌ×２回）にて洗浄後、
硫酸マグネシウムにて乾燥し、真空蒸発させた。油状の
残留物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル９００
ｇ，ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１ Ｖ／Ｖ）により
精製し、上記目的化合物を無色油状として得た。収量７
１．６ｇ。
【０１４５】参考例２ ３Ｓ−（４−ベンシルオキシ−３−ベンジルオキシカル
ボニル−２Ｒ−イソブチルスクシニル）アミノ−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 ベンジル ２−ベンジルオキシカルボニル−５−メチル
−３Ｒ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルヘキサノエート
４．０６ｇにトリフルオロ酢酸１０ｍｌを加え、室温に
て１時間放置後、トリフルオロ酢酸を真空蒸発させた。
残留物に、クロロホルム３５ｍｌを加え、食塩水（１０
ｍｌ×２回）で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
真空蒸発させた。得られた残留物をジメチルホルムアミ
ド１５ｍｌに溶解し、３Ｓ−アミノ−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル１．４５ｇを加え、水浴中にて冷却し、
１−ヒドロキシベンゾトリアゾール１．２１ｇ、Ｎ，Ｎ
´−ジシクロヘキシルカルボジイミド１．８４ｇを加え
た後、Ｎ−メチルモルホリンにてｐＨ８に調整し、室温
で２０時間攪拌した。沈殿を瀘過後、真空蒸発させた。
残留物に酢酸エチル１００ｍｌを加え、１Ｎ塩酸（２０
ｍｌ×２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５ｍ
ｌ×３回）、食塩水（１０ｍｌ）で洗い、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、真空蒸発させた。油状の残留物をカ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル９０ｇ，３３％酢
酸エチル／ヘキサン次いで４０％酢酸エチル／ヘキサン
で溶出）により精製し、上記目的化合物を無色油状とし
て得た。収量３．５４ｇ。
【０１４６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．０８（１Ｈ，ｓ）、７．３１（１０Ｈ，
ｓ）、６．９６−７．３０（３Ｈ，ｍ）、６．７４−
６．７９（２Ｈ，ｍ）、５．０３−５．２６（４Ｈ，
ｍ）、４．５２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、３．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ
2 ＝１０Ｈｚ）、３．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．９２−３．１５（１Ｈ，
ｍ）、２．６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．５０
−１．８０（２Ｈ，ｍ）、０．９５−１．１５（１Ｈ，
ｍ）、０．７５−１．００（６Ｈ，ｍ）。
【０１４７】参考例３ ３Ｓ−（３−ヒドロキシカルボニル−２Ｒ−イソブチル
プロパノイル）アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルの製造 ３Ｓ−（４−ベンジルオキシ−３−ベンジルオキシカル
ボニル−２Ｒ−イソブチルスクシニル）アミノ−３，４
−ジヒドロカルボスチリル３．５０ｇをメタノール３５
ｍｌに溶解し、１０％パラジウム−炭素３５ｍｇを加
え、水素で飽和した。常圧下で１日攪拌した後、触媒を
瀘別し、瀘液を減圧下で濃縮乾固する。上記の残渣にト
ルエン２０ｍｌを加え、還流下で２０分間加熱した。反
応溶液を減圧下で濃縮乾固し、残渣に酢酸エチル１０ｍ
ｌを加え、加熱し、溶解させ、ヘキサン２ｍｌを加え、
１日室温下放置後、析出した結晶を瀘過し、上記目的化
合物を白色固体として得た。収量５００ｍｇ。
【０１４８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１
５−７．３０（１Ｈ，ｍ）、７．１６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、６．９０（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2
＝７Ｈｚ）、４．４６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，
Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、２．６０−３．００（３Ｈ，ｍ）、
２．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈ
ｚ）、２．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、１．０５−１．８０（３Ｈ，ｍ）、０．８８
（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０１４９】参考例４ ３Ｓ−（４−ヒドロキシ−２Ｒ−イソブチル−３−メチ
レンスクシニル）アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルの製造 ３Ｓ−（４−ベンジルオキシ−３−ベンジルオキシカル
ボニル−２Ｒ−イソブチルスクシニル）アミノ−３，４
−ジヒドロカルボスチリル１０．８ｇをメタノール１０
０ｍｌに溶解し、１０％パラジウム−炭素１．０ｇを加
え、水素で飽和した。常圧下で１日間攪拌した後、触媒
を瀘別する。上記の反応溶液にピペリジン２．２ｍｌを
加え、１５分間攪拌後３７％ホルムアルデヒド液４．９
ｍｌを加え、室温で７時間攪拌後、還流下で１時間加熱
した。反応液を減圧下で濃縮し、飽和炭酸カリウム水溶
液２００ｍｌに溶解し、クロロホルム（２０ｍｌ×３
回）にて洗う。水層を水浴にて冷却し、濃塩酸でｐＨ１
にした後、クロロホルム（５０ｍｌ×２回）にて抽出
後、食塩水（２０ｍｌ）で洗い、硫酸マグネシウムで乾
燥し、真空蒸発させ、上記目的化合物を白色固体として
得た。収量１．９８ｇ。
【０１５０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．６９（１Ｈ，ｓ）、７．１９（２Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、６．４６（１Ｈ，ｓ）、５．８９（１Ｈ，ｓ）、
４．５８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈ
ｚ）、３．６１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．５１
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．
７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．５０−２．００
（３Ｈ，ｍ）、０．９１（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１０Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０１５１】参考例５ ３Ｓ−（４−ヒドロキシ−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−ア
セチルチオメチルスクシニル）アミノ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−（４−ヒドロキシ−２Ｒ−イソブチル−３−メチ
レンスクシニル）アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル８４０ｍｇをチオ酢酸８ｍｌに溶解し、３０℃に
て、４日間暗所にて攪拌する。反応溶液にジエチルエー
テルを加え、析出した結晶を瀘過し、上記目的化合物を
白色固体として得た。収量３３０ｍｇ。
【０１５２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．７０（１Ｈ，ｂｒｓ）、６．８０−７．３０
（４Ｈ，ｍ）、４．４５−４．６０（１Ｈ，ｍ）、３．
５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、
２．８０−３．４０（４Ｈ，ｍ）、２．６８（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．３６（３Ｈ，ｓ）、１．１０
−１．８０（３Ｈ，ｍ）、０．９５（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０１５３】参考例６ （ａ）Ｄ−ロイシン酸の製造 亜硝酸ナトリウム１４ｇの水溶液１００ｍｌを９５℃に
加温攪拌下、Ｄ−ロイシン２５ｇの０．５Ｎ硫酸４００
ｍｌ水溶液を４５分かけて滴下した。滴下終了後、気泡
が出なくなるまで１５分間攪拌した。反応液を減圧濃縮
（２００ｍｌ）し、得られた残渣をジエチルエーテルで
抽出した。ジエチルエーテル層を１Ｎ塩酸で１回、飽和
食塩水で２回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧濃縮した。得られた油状残渣を放置して、結晶
化させ、上記目的化合物を得た。収量１４．５０ｇ。
【０１５４】（ｂ）Ｄ−ロイシン酸ベンジルエステルの
製造 Ｄ−ロイシン酸１４．５０ｇのテトラヒドロフラン１５
０ｍｌ溶液にトリエチルアミン１５．２ｇ、続いてベン
ジルブロミド１４．４ｍｌを加え、還流しながら３時間
攪拌した。反応液から生成した不溶物を濾去し、瀘液を
減圧濃縮した。得られた残渣を酢酸エチル１５０ｍｌに
溶解し抽出した。酢酸エチル層を飽和重曹水で２回、１
Ｎ塩酸で２回、飽和食塩水で２回、それぞれ順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得ら
れた油状残渣を乾燥し、上記目的化合物を得た。収量１
８．３４ｇ。
【０１５５】（ｃ）１，２−ジベンジル−１−ｔ−ブチ
ル−４−メチル−１，１，２（Ｒ）−ペンタン−トリカ
ルボキシレートの製造 ベンジルｔ−ブチルマロネート２０．６５ｇのＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド溶液１４０ｍｌに水素化ナトリウ
ム（６０％含有）３．３０ｇを加え、室温で１時間攪拌
した。一方Ｄ−ロイシン酸ベンジルエステル１８．３４
ｇのジクロロメタン１００ｍｌ溶液にピリジン６．６６
ｍｌを加え、氷冷攪拌下、これに無水トリフルオロメタ
ンスルホン酸１３．５３ｍｌのジクロロメタン１００ｍ
ｌ溶液を３０分で滴下した。滴下終了後、さらに氷冷下
に１時間攪拌した。反応液を水で１回、飽和食塩水で１
回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫
酸ナトリウムを濾去し、瀘液を上記で調製したＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド溶液に氷冷攪拌下、３０分かけ滴
下した。滴下終了後、室温で一夜攪拌した。反応液を減
圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル３００ｍｌで抽出
した。酢酸エチル層を飽和重曹水で２回、１Ｎ塩酸で２
回、飽和食塩水で２回、それぞれ順次洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた油状残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに添加し酢酸エ
チル／石油エーテル（１：２０）で溶出させ、油状物と
して上記目的化合物を得た。収量１９．０ｇ。
【０１５６】参考例７ １，２−ジベンジル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−１−フタ
ルイミドメチル−４−メチル−１，１，２（Ｒ）−ペン
タン−トリカルボキシレートの製造 １，２−ジベンジル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチ
ル−１，１，２（Ｒ）−ペンタン−トリカルボキシレー
ト６．００ｇのジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、
氷冷攪拌下水素化ナトリウム６５３ｍｇ（６０％含有）
を加え、３０分間攪拌した。反応液を室温に戻し、これ
にＮ−ブロモメチルフタルイミド４．０４ｇを加え、室
温で３日間攪拌した。反応液に少量の酢酸を加えて中和
した後、減圧濃縮した。得られた油状残渣を酢酸エチル
１００ｍｌで抽出し、酢酸エチル層を水で１回、飽和食
塩水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮した。得られた油状残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに添加し、クロロホルムで溶出させ、油状
物として上記目的化合物を得た。収量４．００ｇ。
【０１５７】参考例８ ４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３（Ｒ又
はＳ）−フタルイミドメチルコハク酸の製造 １，２−ジベンジル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−１−フタ
ルイミドメチル−４−メチル−１，１，２（Ｒ）−ペン
タン−トリカルボキシレート４．００ｇのメタノール３
０ｍｌ溶液に１０％パラジウム−炭素２００ｍｇを加
え、減圧下水素ガスを導入し、２日間攪拌した。反応液
からセライトを用い、触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮し
た。得られた残渣をトルエン３０ｍｌに溶解させ、これ
にＮ−メチルモルホリン０．７０ｍｌを加え、還流しな
がら７時間攪拌した。反応液にトルエン７０ｍｌを加
え、有機層を１Ｎ塩酸で２回、飽和食塩水で３回それぞ
れ洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し
た。得られた油状残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに添加し、２％メタノール／クロロホルムで溶出
させ、油状物として上記目的化合物を得た。収量１．０
０ｇ。
【０１５８】参考例９ ３Ｓ−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−
３（Ｒ又はＳ）−フタルイミドメチルスクシニル）アミ
ノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３（Ｒ又
はＳ）−フタルイミドメチルコハク酸５００ｍｇと１−
ヒドロキシベンゾトリアゾール１９０ｍｇ及び３Ｓ−ア
ミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル２２８ｍｇのジ
メチルホルムアミド１０ｍｌ懸濁液に、氷冷攪拌下、
Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド２９０ｍｇ
を加えた後氷冷下に２時間、室温で１８時間攪拌した。
反応液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチル６０ｍｌを加え
不溶物を濾去した。瀘液の酢酸エチル層を飽和重曹水
（×２回）、１Ｎ塩酸（×２回）、飽和食塩水（×２
回）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮した。得られた油状残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに添加して０．５％メタノール／クロロホ
ルムで溶出し、上記目的化合物を粉末として得た。収量
３９０ｍｇ。
【０１５９】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．５２（１Ｈ，ｓ）、７．８７−７．７９（２
Ｈ，ｍ）、７．７５−７．６９（２Ｈ，ｍ）、７．５３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）、７．２４−７．１９（２
Ｈ，ｍ）、７．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．８
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６６−４．５８（１
Ｈ，ｍ）、４．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝９Ｈｚ，Ｊ2
＝１４Ｈｚ）、３．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、３．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、３．５０−３．４７（１Ｈ，
ｍ）、２．９８−２．８０（２Ｈ，ｍ）、１．７３−
１．５８（３Ｈ，ｍ）、０．９２（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）。
【０１６０】参考例１０ ３，４−メチレンジオキシベンジリデンコハク酸の製造 金属ナトリウム１９．１４ｇをエタノール４００ｍｌに
溶解させ、これにコハク酸ジエチル１１０．８ｍｌ及び
ピペロナール１００ｇを加え、３時間加熱還流した。反
応液を減圧濃縮し、残渣を水７００ｍｌに溶かしジエチ
ルエーテル３００ｍｌで洗浄した。水層を氷冷攪拌下、
濃塩酸でｐＨ１に調整し、ジエチルエーテル３００ｍｌ
で抽出した。ジエチルエーテル層を飽和食塩水で１回洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。
得られた油状残渣１８１．４ｇをエタノール３５０ｍｌ
に溶解させ、これに５Ｎ水酸化ナトリウム４００ｍｌを
加え室温で一晩攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣を
ジエチルエーテル２００ｍｌで洗浄した。水層を氷冷攪
拌下、濃塩酸でｐＨ１に調整し酢酸エチル４００ｍｌで
抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣
にジエチルエーテル３００ｍｌを加え固化し上記目的化
合物を得た。収量６７．３４ｇ。
【０１６１】参考例１１ ４−エトキシ−２−（３，４−メチレンジオキシベンジ
リデン）コハク酸の製造 ３，４−メチレンジオキシベンジリデンコハク酸２３．
５ｇに無水酢酸２００ｍｌを加え、２時間加熱還流し
た。反応液を減圧濃縮し、残渣にエタノール２００ｍｌ
を加え、加熱還流を一晩行なった。反応液を減圧濃縮
し、残渣を酢酸エチル３００ｍｌで抽出した。酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で２回洗浄し無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた結晶性残渣に、ジエチ
ルエーテルを加え洗浄し、上記目的化合物を得た。収量
１７．７６ｇ。
【０１６２】参考例１２ ４−エトキシ−２−ピペロニルコハク酸の製造 ４−エトキシ−２−（３，４−メチレンジオキシベンジ
リデン）コハク酸９．７０ｇのエタノール１００ｍｌ溶
液に１０％パラジウム−炭素９７０ｍｇを加え、室温で
接触水素添加を一夜行なった。反応液からセライトを用
い、触媒を濾去し、瀘液を減圧濃縮した。得られた油状
残渣を乾燥し、上記目的化合物を得た。収量１０．３６
ｇ。
【０１６３】参考例１３ ３−（４−エトキシ−２−ピペロニルスクシニル）アミ
ノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３−アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル２６０ｍ
ｇのジメチルホルムアミド３ｍｌ溶液に４−エトキシ−
２−ピペロニルコハク酸５００ｍｇのジクロロメタン５
ｍｌ溶液と１−ヒドロキシベンゾトリアゾール２４０ｍ
ｇを加え、氷冷攪拌下Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカル
ボジイミド３６０ｍｇを加え、氷冷下２時間、室温で３
日間攪拌した。反応液から不溶物を濾去し、瀘液を減圧
濃縮した。得られた残渣にクロロホルム３０ｍｌを加え
抽出し、クロロホルム層を飽和重曹水、１Ｎ塩酸、飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減
圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに添加し、酢酸エチル／ヘキサン（１：１）
で溶出させ上記目的化合物を得た。収量１００ｍｇ。
【０１６４】参考例１４ ４−ｔ−ブトキシ−３−メチレン−２Ｒ−イソブチルコ
ハク酸の製造 １，２−ジベンジル−１−ｔ−ブチル−４−メチル−
１，１，２（Ｒ）−ペンタン−トリカルボキシレート４
０．０ｇのイソプロパノール２００ｍｌ溶液に１０％パ
ラジウム−炭素３．５０ｇを加え、減圧下水素ガスを導
入し、室温で一夜撹拌した。反応液からセライトを用
い、触媒を濾去した。得られた濾液にピペリジン２３．
７２ｍｌと３７％ホルムアルデヒド水溶液１０８．２ｍ
ｌを加え、室温で２日間撹拌した。反応液を減圧濃縮
し、得られた残渣を酢酸エチル３５０ｍｌに溶解させ抽
出した。酢酸エチル層を１Ｎ塩酸（３００ｍｌ×１，２
００ｍｌ×１）、飽和食塩水で２回、各々洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた油状
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより（２
％メタノール／クロロホルムで溶出）精製し、油状の上
記目的化合物を得た。収量１３．８１ｇ。
【０１６５】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：１１．００（１Ｈ，ｂｓ）、６．２９（１Ｈ，
ｓ）、５．６７（１Ｈ，ｓ）、３．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝８Ｈｚ）、１．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ
2 ＝１４Ｈｚ）、１．６３−１．４９（２Ｈ，ｍ）、
１．４９（９Ｈ，ｓ）、０．９２（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
６Ｈｚ，Ｊ2 ＝９Ｈｚ）。
【０１６６】参考例１５ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルコ
ハク酸の製造 ４−ｔ−ブトキシ−３−メチレン−２Ｒ−イソブチルコ
ハク酸１３．８１ｇの酢酸エチル１００ｍｌ溶液に１０
％パラジウム−炭素９７０ｍｇを加え、減圧下水素ガス
を導入し、室温で一夜撹拌した。反応液からセライトを
用い、触媒を濾去し、濾液に氷冷撹拌下ジシクロヘキシ
ルアミン１１．３５ｍｌを加えた。ただちに白色沈澱が
生成したので、濾取し、少量のジエチルエーテルで洗浄
した。得られた白色沈澱を酢酸エチル１５０ｍｌから再
結晶し、白色固体１３．５０ｇを得た。
【０１６７】上記で得られた化合物８．２０ｇを酢酸エ
チル２００ｍｌに懸濁させ、酢酸エチル層を０．５Ｍ硫
酸（１００ｍｌ×２回）、飽和食塩水（１００ｍｌ×３
回）で各々洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮した。得られた残渣を乾燥し、油状の上記目的化
合物を得た。収量４．６０ｇ。
【０１６８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：１０．００（１Ｈ，ｂｓ）、２．７３−２．６８
（１Ｈ，ｍ）、２．６１−２．５５（１Ｈ，ｍ）、１．
７２−１．６３（２Ｈ，ｍ）、１．４５（９Ｈ，ｓ）、
１．２９−１．１９（１Ｈ，ｍ）、１．１７（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９１（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝２Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０１６９】参考例１６ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル１０ｇ
をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解し、
氷冷後、ｔ−ブトキシカルボン酸無水物１４．８ｇを加
え、トリエチルアミンにてｐＨ８に調整した。０℃にて
１時間撹拌した後、室温にもどし、再びトリエチルアミ
ンにてｐＨ８に調整後、１時間撹拌した。反応溶液を減
圧濃縮し、残留物に酢酸エチル３００ｍｌを加え、１Ｎ
塩酸（１００ｍｌ×２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（１００ｍｌ×２回）、飽和食塩水（１００ｍｌ）
で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、真空蒸発させ
た。油状の残留物をカラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル２００ｇ，３３％酢酸エチル／ヘキサンで溶出）に
より精製し、得られた油状物を真空乾燥して結晶化させ
上記目的化合物を得た。収量１４．３８ｇ。
【０１７０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．２０（１Ｈ，ｂｒｓ）、７．１８−７．２６
（２Ｈ，ｍ）、７．０２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，
Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
５．６２（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．３６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．４９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．８５（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．５３（９Ｈ，ｓ）。
【０１７１】参考例１７ ３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル１０ｇ
をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに懸濁さ
せ、氷冷撹拌下、ベンジルオキシカルボニルクロライド
１７．６ｍｌを滴下し、トリエチルアミンにてｐＨ８に
調整した。０℃にて１時間撹拌した後、室温にもどし、
再びトリエチルアミンにてｐＨ８に調整後、１時間撹拌
した。反応溶液を減圧濃縮し、残留物に酢酸エチル３０
０ｍｌを加え、不溶物を濾去した後、濾液を１Ｎ塩酸
（１００ｍｌ×２回）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（１００ｍｌ×２回）、飽和食塩水（１００ｍｌ）で洗
い、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有機層を真空蒸
発し、得られた油状残渣に酢酸エチル５ｍｌを加え、ヘ
キサン５０ｍｌを加え、析出した結晶を濾過し、上記目
的化合物を得た。収量７．２ｇ。
【０１７２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．１６（１Ｈ，ｂｒｓ）、７．３０−７．４０
（５Ｈ，ｍ）、７．１８−７．２４（２Ｈ，ｍ）、７．
０３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、
６．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈ
ｚ）、５．８８（１Ｈ，ｂｒｓ）、５．１６（２Ｈ，
ｓ）、４．４２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、３．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ
2 ＝６Ｈｚ）、２．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）。
【０１７３】参考例１８ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−７−クロロ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、参考例１６と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０１７４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．０４（１Ｈ，ｂｓ）、７．１３（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝２Ｈｚ，
Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、
５．５６（１Ｈ，ｂｓ）、４．３８−４．２９（１Ｈ，
ｍ）、３．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１
５Ｈｚ）、２．８０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．
４８（９Ｈ，ｓ）。
【０１７５】参考例１９ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−７−クロロ−１
−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−アミノ−７−クロロ−１−ヒドロキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩４．００ｇのジメチル
ホルムアミド３０ｍｌ溶液に、氷冷撹拌下、Ｎ−メチル
モルホリン１．６４ｍｌを加え、続いてジ−ｔ−ブチル
ジカーボネート３．９０ｇのジメチルホルムアミド１０
ｍｌ溶液を加え、室温で２時間撹拌した。反応液を減圧
濃縮し、残渣に水５０ｍｌを加え、固化し濾取した。粗
精製物をジエチルエーテルで洗浄し、上記目的化合物を
得た。収量１．８４ｇ。
【０１７６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．６３（１Ｈ，ｓ）、７．２７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、７．０６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、４．２
８−４．２４（１Ｈ，ｍ）、３．００（１Ｈ，ｓ）、
２．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）、１．４１（９Ｈ，
ｓ）。
【０１７７】参考例２０ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ヒドロキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、参考例１９と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０１７８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．８５（１Ｈ，ｂｓ）、７．２０（２Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，
Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
５．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）、４．３９−４．３
１（１Ｈ，ｍ）、３．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．８５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５
Ｈｚ）、１．４９（９Ｈ，ｓ）。
【０１７９】参考例２１ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ヘキシルオ
キシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ヒドロキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリル７００ｍｇのジメチ
ルホルムアミド５ｍｌ溶液に、氷冷撹拌下、水素化ナト
リウム（６０％含有）１１１ｍｇを加え１５分後、ヨー
ドヘキサン６４１ｍｇを加え、その後室温で２時間撹拌
した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル
３０ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を１Ｎ塩酸で２回、
飽和食塩水で２回各々洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後減圧濃縮した。得られた油状残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに添加し、クロロホルムで溶出
させ上記目的化合物を得た。収量６３０ｍｇ。
【０１８０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ
1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、５．６０（１Ｈ，ｂ
ｓ）、４．３７−４．３２（１Ｈ，ｍ）、４．１２（１
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．０２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、３．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１
５Ｈｚ）、２．８０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．
８２−１．７０（２Ｈ，ｍ）、１，４８（９Ｈ，ｓ）、
１．５４−１．３０（６Ｈ，ｍ）、０．９０（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０１８１】参考例２２ ３Ｓ−（４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−
メチルスクシニル）アミノ−１−ヘキシルオキシ−３，
４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−ヘキシルオ
キシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル６３０ｍｇにト
リフルオロ酢酸５ｍｌを加えて溶解させ、室温で３０分
間放置した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をテト
ラヒドロフラン１０ｍｌに溶解した。この溶液に、氷冷
撹拌下、トリエチルアミンを加え中和し、次いで１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール２４７ｍｇと４−ｔ−ブト
キシ−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルコハク酸４４６
ｍｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液を加えた後、ト
リエチルアミン１３０μｌとジシクロヘキシルカルボジ
イミド３７７ｍｇを加え、氷冷下２時間、室温で一夜撹
拌した。反応液から生成した不溶物を濾去し、濾液を減
圧濃縮した。得られた油状残渣を酢酸エチル５０ｍｌに
溶かし抽出した。酢酸エチル層を飽和重曹水で２回、１
Ｎ塩酸で２回、飽和食塩水で２回、各々洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた油状
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに添加し、
クロロホルムで溶出させ、上記目的化合物を得た。収量
７４０ｍｇ。
【０１８２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ）、４．６３−４．５０（１Ｈ，ｍ）、４．１
３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．０２（１Ｈ，ｑ，Ｊ
＝８Ｈｚ）、３．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ
2 ＝１５Ｈｚ）、２．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈ
ｚ）、２．５６−２．５３（２Ｈ，ｍ）、１．８１−
１．６９（４Ｈ，ｍ）、１．５２−１．３０（６Ｈ，
ｍ）、１．４６（９Ｈ，ｓ）、１．１８−１．０９（４
Ｈ，ｍ）、０．９５−０．８６（９Ｈ，ｍ）。
【０１８３】参考例２３ ３Ｓ−（４−ベンジルオキシアミノ−２Ｒ−イソブチル
−３Ｓ−メチルスクシニル）アミノ−１−ヘキシルオキ
シ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−（４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−
メチルスクシニル）アミノ−１−ヘキシルオキシ−３，
４−ジヒドロカルボスチリル７４０ｍｇにトリフルオロ
酢酸５ｍｌを加えて溶解させ、室温で１時間３０分放置
した。反応液を減圧濃縮し、得られた油状残渣を酢酸エ
チル５０ｍｌに溶解させ抽出した。酢酸エチル層を飽和
食塩水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。得られた油状残渣を乾燥後、ジメチルホ
ルムアミド１０ｍｌに溶解させ、これに氷冷撹拌下、１
−ヒドロキシベンゾトリアゾール３０６ｍｇとベンジル
オキシアミン・塩酸塩３６２ｍｇにＮ−メチルモルホリ
ン２３１μｌを加えたジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液
を加えた後、さらにＮ−メチルモルホリン１２０μｌと
１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カル
ボジイミド塩酸塩４３４ｍｇを加え、氷冷下２時間、室
温で一夜撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた油状
残渣に酢酸エチル５０ｍｌを加え抽出した。酢酸エチル
層を飽和重曹水で２回、１Ｎ塩酸で２回、飽和食塩水で
２回、各々洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮した。得られた結晶性残渣にジエチルエーテルを
加えて濾取、乾燥して、上記目的化合物を得た。収量４
３０ｍｇ。
【０１８４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１１．１０（１Ｈ，ｓ）、８．５７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．４０−７．３５（６Ｈ，ｍ）、
７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、４．７９（２Ｈ，ｓ）、４．６３−４．５４（１
Ｈ，ｍ）、４．０１−３．９５（２Ｈ，ｍ）、３．０５
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、２．９３（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．５２−２．４９
（１Ｈ，ｍ）、２．１７−２．１３（１Ｈ，ｍ）、１．
７１−１．２９（１０Ｈ，ｍ）、０．９７（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９０−０．７９（１０Ｈ，ｍ）。
【０１８５】参考例２４ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（４−シア
ノベンジル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル６００ｍｇのジメチルホルムアミド５
ｍｌ溶液に、氷冷撹拌下、水素化ナトリウム（６０％含
有）９６ｍｇを加え１５分後、α−ブロモ−ｐ−トルニ
トリル４９４ｍｇを加え、室温で２時間撹拌した。反応
液に酢酸エチル３０ｍｌを加え抽出した。酢酸エチル層
を１Ｎ塩酸で１回、飽和食塩水で３回、各々洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮した。得られた油
状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより（ク
ロロホルムにより溶出）精製し、上記目的化合物を得
た。収量７６０ｍｇ。
【０１８６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．６２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０
５（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、６．
７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、
５．７１（１Ｈ，ｂｓ）、５．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
７Ｈｚ）、４．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．
５０−４．４０（１Ｈ，ｍ）、３．４８（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．８８（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０１８７】参考例２５ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（５−クロ
ロ−２−チエニルメチル）−３，４−ジヒドロカルボス
チリルの製造 ５−クロロ−２−クロロメチルチオフェンと対応する出
発原料とを反応させ、参考例２４と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０１８８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２８−７．２０（２Ｈ，ｍ）、７．１１−
７．０２（２Ｈ，ｍ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈ
ｚ）、６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）、５．７５
（１Ｈ，ｂｓ）、５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈ
ｚ）、５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．３４
−４．２９（１Ｈ，ｍ）、３．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．８０（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝１５Ｈｚ）、１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０１８９】参考例２６ １−ベンジルオキシ−３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ベンジルブロミドと対応する出発原料とを反応させ、参
考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０１９０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．５２−７．４７（２Ｈ，ｍ）、７．４０−
７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．３１−７．１８（３Ｈ，
ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝７
Ｈｚ）、５．５９（１Ｈ，ｂｓ）、５．１３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ）、４．４０−４．３５（１Ｈ，ｍ）、３．４２（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．７８
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０１９１】参考例２７ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−７−クロロ−１
−エトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ヨードエタンと対応する出発原料とを反応させ、参考例
２１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０１９２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、７．１３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、５．５６（１Ｈ，ｂ
ｓ）、４．３５−４．２９（１Ｈ，ｍ）、４．１８（２
Ｈ，ｑｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、３．４２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．
７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．４７（９Ｈ，
ｓ）、１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０１９３】参考例２８ ３Ｓ−アミノ−１−イソブトキシ−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルの製造 イソブトキシアミンを用い、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１
９８９，５４，３３９４に記載の方法に従い、上記目的
化合物を得た。
【０１９４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１５−７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０５（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．９３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、３．７８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．６２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．
１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、
２．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．０５−２．
２５（１Ｈ，ｍ）、１．０８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ）、１．０５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）。
【０１９５】参考例２９ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−エトキシ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ヨードエタンと対応する出発原料とを反応させ、参考例
２１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０１９６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２０−７．２３（３Ｈ，ｍ）、７．０７（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、５．５９
（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．３４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４
Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、４．１６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、４．１３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．４２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、２．
８１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．４８（９Ｈ，
ｓ）、１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０１９７】参考例３０ ３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−エトキシ
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 エトキシメチルクロリドと対応する出発原料とを反応さ
せ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０１９８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３９−７．２８（７Ｈ，ｍ）、７．２１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０９（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝
１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、５．９５（１Ｈ，ｂｓ）、
５．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、５．１５（２
Ｈ，ｓ）、４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、４．
４２−４．３７（１Ｈ，ｍ）、３．６１（２Ｈ，ｑｄ，
Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝３Ｈｚ）、３．４６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、２．８２（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７
Ｈｚ）。
【０１９９】参考例３１ ３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−ヘキシル
オキシメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ヘキシルオキシメチルクロリドと対応する出発原料とを
反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２００】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３９−７．２８（７Ｈ，ｍ）、７．２１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０９（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝
１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、５．９６（１Ｈ，ｂｓ）、
５．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、５．１５（２
Ｈ，ｓ）、４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、４．
４２−４．３７（１Ｈ，ｍ）、３．５７−３．４２（３
Ｈ，ｍ）、２．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．
５８−１．５１（２Ｈ，ｍ）、１．３３−１．２１（６
Ｈ，ｍ）、０．８５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０２０１】参考例３２ ３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−メトキシ
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 メトキシメチルクロリドと対応する出発原料とを反応さ
せ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２０２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１５−７．５０（８Ｈ，ｍ）、７．０９（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．９５（１Ｈ，ｂｒｓ）、
５．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．１５（２
Ｈ，ｓ）、４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．
４１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、
３．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈ
ｚ）、３．３９（３Ｈ，ｓ）、２．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝１４Ｈｚ）。
【０２０３】参考例３３ １−ベンジル−３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ベンジルブロミドと対応する出発原料とを反応させ、参
考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２０４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３６−７．１２（７Ｈ，ｍ）、７．０１（１
Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１Ｈｚ）、６．９０
（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、５．８１（１Ｈ，ｂｓ）、
５．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．９１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．４４−４．３９（１Ｈ，
ｍ）、３．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１
５Ｈｚ）、２．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．
４８（９Ｈ，ｓ）。
【０２０５】参考例３４ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（４−メト
キシカルボニルベンジル）−３，４−ジヒドロカルボス
チリルの製造 ４−メトキシカルボニルベンジルブロミドと対応する出
発原料とを反応させ、参考例２４と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０２０６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．９９（２Ｈ，，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２７
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、７．１４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０
２（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、６．
８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、５．７７（１Ｈ，ｂ
ｓ）、５．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．９７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．４８−４．３９（１
Ｈ，ｍ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．４９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、２．８８（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．４９（９Ｈ，ｓ）。
【０２０７】参考例３５ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（４−メト
キシベンジル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 ４−メトキシベンジルクロリドと対応する出発原料とを
反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２０８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２８−７．１３（４Ｈ，ｍ）、７．０３−
６．９１（２Ｈ，ｍ）、６．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ）、５．８１（１Ｈ，ｂｓ）、５．３４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈ
ｚ）、４．４１−４．３６（１Ｈ，ｍ）、３．７７（３
Ｈ，ｓ）、３．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2
＝１６Ｈｚ）、２．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、
１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０２０９】参考例３６ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−フタルイミ
ドメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 Ｎ−ブロモメチルフタルイミドと対応する出発原料とを
反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２１０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．８１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝３
Ｈｚ）、７．０１（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝３Ｈｚ）、７．１０−７．３５（３Ｈ，
ｍ）、７．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．２４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．７５−５．９０（１
Ｈ，ｍ）、５．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、４．
３１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、
３．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈ
ｚ）、２．８１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．４７
（９Ｈ，ｓ）。
【０２１１】参考例３７ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−エトキシカ
ルボニルメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 ヨード酢酸エチル又はブロモ酢酸エチルと対応する出発
原料とを反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２１２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０６
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、５．６８（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．８８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４，４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
７Ｈｚ）、４．３６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝５Ｈｚ）、４．２１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
３．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈ
ｚ）、２．８１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．４７
（９Ｈ，ｓ）、１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０２１３】参考例３８ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−７−クロロ−１
−エトキシカルボニルメチル−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルの製造 ブロモ酢酸エチルと対応する出発原料とを反応させ、参
考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２１４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０４
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、６．７
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、５．６４（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）、４．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．４５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．２５−４．４５（１
Ｈ，ｍ）、４．２４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．４
３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、
２．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．４７（９
Ｈ，ｓ）、１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０２１５】参考例３９ １−ベンジルオキシカルボニルメチル−３Ｓ−ｔ−ブト
キシカルボニルアミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルの製造 ブロモ酢酸ベンジルと対応する出発原料とを反応させ、
参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２１６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１０−７．４０（７Ｈ，ｍ）、７．０５（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、５．６７（１Ｈ，ｂｒｓ）、５．１８（２Ｈ，
ｓ）、４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．５６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．３６（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、３．４２（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ２＝５Ｈｚ）、２．８３（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．４７（９Ｈ，ｓ）。
【０２１７】参考例４０ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−カルボキシ
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例３９で得られた１−ベンジルオキシカルボニルメ
チル−３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル２．９８ｇをメタノール１０ｍ
ｌに溶解し、１０％パラジウム−炭素２００ｍｇをメタ
ノール１０ｍｌに懸濁させたものを加え、水素で飽和し
た。常圧下で１日撹拌した後、触媒を濾別し、濾液を真
空蒸発させ、上記目的化合物を白色固体として得た。収
量２．０ｇ。
【０２１８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３ ）δ
ｐｐｍ：７．２０−７．２６（２Ｈ，ｍ）、７．０５
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、５．６９（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．８９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
８Ｈｚ）、４．３１−４．３８（１Ｈ，ｍ）、３．３７
−３．４３（１Ｈ，ｍ）、２．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１
５Ｈｚ）、１．４６（９Ｈ，ｓ）。
【０２１９】参考例４１ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−プロポキシ
カルボニルメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例４０で得られた３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−１−カルボキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル６００ｍｇをジクロロメタン１０ｍｌに溶解し、プロ
パノール４２０μｌを加え、氷浴中にて冷却し、Ｎ−メ
チルモルホリン２４７μｌ、１−エチル−３−（３−ジ
メチルアミノプロピル）カルボジイミド・塩酸塩４３０
ｍｇ及びジメチルアミノピリジン１１ｍｇを加えた後、
室温にて２０時間撹拌した。反応溶液を真空蒸発させ、
残留物に、酢酸エチル４０ｍｌを加え、１Ｎ塩酸１５ｍ
ｌ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５ｍｌ，飽和食塩
水１０ｍｌで洗い、硫酸マグネシウムにて乾燥した後、
真空蒸発させて、上記目的化合物を無色油状として得
た。収量６００ｍｇ。
【０２２０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０６
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、５．６８（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．８７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
７Ｈｚ）、４．３５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝５Ｈｚ）、４．１１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
３．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈ
ｚ）、２．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．６３
（２Ｈ，ｄｑ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．４
８（９Ｈ，ｓ）、０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０２２１】参考例４２ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−イソプロポ
キシカルボニルメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルの製造 ２−プロパノールと対応する出発原料とを反応させ、参
考例４１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２２２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０６
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、５．６９（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．９５−５．
１５（１Ｈ，ｍ）、４．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈ
ｚ）、４．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．３５
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、３．
４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、
２．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．４７（９
Ｈ，ｓ）、１．２０−１．３０（６Ｈ，ｍ）。
【０２２３】参考例４３ ３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−ｔ−ブト
キシカルボニルメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルの製造 ブロモ酢酸ｔ−ブチルと対応する出発原料とを反応さ
せ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２２４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２３−７．３９（５Ｈ，ｍ）、７．０７（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、５．９７（１Ｈ，ｂｒｓ）、５．１４（２Ｈ，
ｓ）、４．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．３４
−４．４５（２Ｈ，ｍ）、３．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．８８（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝１４Ｈｚ）、１．４２（９Ｈ，ｓ）。
【０２２５】参考例４４ １−アミノカルボニルメチル−３Ｓ−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ヨードアセタミドと対応する出発原料とを反応させ、参
考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２２６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１５−７．３５（２Ｈ，ｍ）、７．０５−
７．１５（２Ｈ，ｍ）、６．１３（１Ｈ，ｂｒｓ）、
５．６０（１Ｈ，ｂｒｓ）、５．４４（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）、４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．３８
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、４．
１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．３０−３．５０
（１Ｈ，ｍ）、２．８８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、
１．４７（９Ｈ，ｓ）。
【０２２７】参考例４５ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（Ｎ−メチ
ルアミノカルボニルメチル）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルの製造 ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−カルボキシ
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリル５００ｍｇを
ジクロロメタン１０ｍｌに溶解し、氷冷撹拌下、１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール２４０ｍｇ、Ｎ−メチルモ
ルホリン０．２１ｍｌ及び１−エチル−３−（３−ジメ
チルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩３５８ｍｇ
を加え、１０分間撹拌し、Ｎ−メチルモリホリン０．３
４ｍｌ及びメチルアミン塩酸塩２１０ｍｇを加え、室温
下、１晩攪拌した。反応溶液を減圧濃縮し、残留物に、
ジクロロメタン３０ｍｌを加え、１Ｎ塩酸１５ｍｌ、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液１５ｍｌ、飽和食塩水１５
ｍｌで洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。真空蒸
発して、上記目的化合物を白色固体として得た。収量５
４０ｍｇ。
【０２２８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．０６−７．３２（４Ｈ，ｍ）、６．１２（１
Ｈ，ｂｒｓ）、５．５９（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．９４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．３４−４．４４（１
Ｈ，ｍ）、４．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．
４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、
２．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．８２（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）、１．４８（９Ｈ，ｍ）。
【０２２９】参考例４６ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（Ｎ−プロ
ピルアミノカルボニルメチル）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルの製造 １−プロピルアミンと対応する出発原料とを反応させ、
参考例４５と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２３０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．０６−７．３２（４Ｈ，ｍ）、６．０１（１
Ｈ，ｂｒｓ）、５．６０（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．９２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．３４−４．４２（１
Ｈ，ｍ）、４．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．
４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、
３．２２（２Ｈ，ｄｑ，Ｊ1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈ
ｚ）、２．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．４２
−１．５３（１１Ｈ，ｍ）、０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）。
【０２３１】参考例４７ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（Ｎ−メト
キシアミノカルボニルメチル）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルの製造 メトキシアミンと対応する出発原料とを反応させ、参考
例４５と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２３２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：９．０６（１Ｈ，ｓ）、７．１５−７．４０（３
Ｈ，ｍ）、７．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、５．５
５（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．７５−４．９５（１Ｈ，
ｍ）、４．３６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、４．００−４．２０（１Ｈ，ｍ）、３．７８
（３Ｈ，ｓ）、３．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、２．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０２３３】参考例４８ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノカルボニルメチル）−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルの製造 ジメチルアミンと対応する出発原料とを反応させ、参考
例４５と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２３４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２０−７．２６（２Ｈ，ｍ）、７．０３（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、５．７８（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．９３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈ
ｚ）、４．３４−４．４３（１Ｈ，ｍ）、３．３９−
３．４６（１Ｈ，ｍ）、３．１３（３Ｈ，ｓ）、２．９
９（３Ｈ，ｓ）、２．９０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、１．４７（９Ｈ，ｓ）。
【０２３５】参考例４９ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−モルホリノ
カルボニルメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 モルホリンと対応する出発原料とを反応させ、参考例４
５と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２３６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０５
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、５．６６（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．９２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
６Ｈｚ）、４．３９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝５Ｈｚ）、３．７３（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝４Ｈｚ）、３．６１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１
５Ｈｚ，Ｊ2 ＝４Ｈｚ）、３．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、２．９０（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝１４Ｈｚ）、１．４７（９Ｈ，ｓ）。
【０２３７】参考例５０ １−アリル−３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 アリルブロミドと対応する出発原料とを反応させ、参考
例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２３８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０６−６．９９（２
Ｈ，ｍ）、５．９４−５．８２（１Ｈ，ｍ）、５．７５
（１Ｈ，ｂｓ）、５．２３−５．１２（２Ｈ，ｍ）、
４．８８−４．７８（１Ｈ，ｍ）、４．３５−４．２６
（２Ｈ，ｍ）、３．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．８１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈ
ｚ）、１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０２３９】参考例５１ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−シンナミル
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 シンナミルブロミドと対応する出発原料とを反応させ、
参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２４０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３６−７．１９（７Ｈ，ｍ）、７．１０−
７．０１（２Ｈ，ｍ）、６．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６
Ｈｚ）、６．２４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2
＝６Ｈｚ）、５．７６（１Ｈ，ｂｓ）、４．９９（１
Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ，Ｊ3 ＝１７
Ｈｚ）、４．４６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2
＝６Ｈｚ，Ｊ3 ＝１６Ｈｚ）、４．３７−４．３１（１
Ｈ，ｍ）、３．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2
＝１５Ｈｚ）、２．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、
１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０２４１】参考例５２ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−メチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ヨードメタンと対応する出発原料とを反応させ、参考例
２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２４２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２０−７．３２（２Ｈ，ｍ）、６．９８−
７．０８（２Ｈ，ｍ）、５．７１（１Ｈ，ｂｒｓ）、
４．１９−４．２８（１Ｈ，ｍ）、３．４８−３．５０
（１Ｈ，ｍ）、２．７８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、
１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０２４３】参考例５３ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−エチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ヨードエタンと対応する出発原料とを反応させ、参考例
２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２４４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１５−７．３５（２Ｈ，ｍ）、７．０３（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．７４（１Ｈ，ｂｒｓ）、
４．２４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈ
ｚ）、３．８５−４．２０（２Ｈ，ｍ）、３．４１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、２．７５
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．４７（９Ｈ，ｓ）、
１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０２４５】参考例５４ １−ベンジルオキシエチル−３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 １−ベンジルオキシ−２−ヨードエタンと対応する出発
原料とを反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２４６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１５−７．４０（８Ｈ，ｍ）、６．９５−
７．１０（１Ｈ，ｍ）、５．７１（１Ｈ，ｂｒｓ）、
４．５２（２Ｈ，ｓ）、４．１５−４．３５（２Ｈ，
ｍ）、３．９５−４．１５（１Ｈ，ｍ）、３．７３（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）、３．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
１４Ｈｚ）、１．４７（９Ｈ，ｓ）。
【０２４７】参考例５５ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（２−ヒド
ロキシエチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 １−ベンジルオキシエチル−３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル１．５０
ｇをエタノール１０ｍｌに溶解し、２０％パラジウムハ
イドロオキサイド−オン−カーボン（ウエット）１００
ｍｇを加え、水素で飽和した。常圧下で１日撹拌した
後、触媒を濾別し、濾液を減圧下で濃縮して、上記目的
化合物を得た。１．０５ｇ。
【０２４８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．００−７．４０（４Ｈ，ｍ）、５．７０（１
Ｈ，ｂｒｓ）、４．１５−４．４０（２Ｈ，ｍ）、３．
８０−４．１５（３Ｈ，ｍ）、３．４０（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．８１（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．２３（１Ｈ，ｂｒｓ）、１．
４７（９Ｈ，ｓ）。
【０２４９】参考例５６ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−（２−プロ
ピニル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 プロパルギルブロミドと対応する出発原料とを反応さ
せ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２５０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２１−７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０８（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、５．６８
（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１７
Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、４．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１７Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、４．２５−４．４４（１
Ｈ，ｍ）、３．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ
2 ＝５Ｈｚ）、２．８０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、
２．２４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２Ｈｚ）、１．４７（９Ｈ，
ｓ）。
【０２５１】参考例５７ ７−クロロ−３Ｓ−フタルイミド−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルの製造 ３Ｓ−アミノ−７−クロロ−３，４−ジヒドロカルボス
チリル２．８２ｇをジメチルホルムアミド４０ｍｌに懸
濁させ、Ｎ−カルボエトキシフタルイミド３．４６ｇ及
び炭酸ナトリウム１．５２ｇを加え、室温下、１晩撹拌
した。反応溶液を減圧濃縮し、残留物に水５０ｍｌを加
え、析出物を濾取した。粗精製物を酢酸エチル３０ｍｌ
及びメタノール３０ｍｌで洗浄し、上記目的物を淡茶色
固体として得た。収量４．０２ｇ。
【０２５２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．６９（１Ｈ，ｂｒｓ）、７．８９−
７．９７（４Ｈ，ｍ）、７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝２
Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、５．０６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．
６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、３．１５（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2＝７Ｈｚ）。
【０２５３】参考例５８ ３Ｓ−トリフェニルメチルアミノ−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルの製造 ３Ｓ−アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル２．２
６ｇをジメチルホルムアミド４０ｍｌに懸濁させ、氷冷
撹拌下、トリフェニルメチルクロライド５．０３ｇを加
え、トリエチルアミンにてｐＨ８に調整した。０℃にて
１時間撹拌した後、室温に戻し、再びトリエチルアミン
にてｐＨ８に調整後、１時間撹拌した。反応溶液を減圧
濃縮し、残留物に酢酸エチル１００ｍｌを加え、１Ｎ塩
酸（８０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０
ｍｌ×２回）、飽和食塩水（５０ｍｌ×２回）で洗い、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、真空蒸発した。残留物
にｎ−ヘキサンを加え、析出物を濾取し、上記目的物を
得た。収量５．３４ｇ。
【０２５４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．５２−７．５７（６Ｈ，ｍ）、７．４４（１
Ｈ，ｂｒ）、７．１９−７．３２（９Ｈ，ｍ）、７．１
０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝８Ｈｚ）、６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．
６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、３．４１（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．４６（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、１．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）。
【０２５５】参考例５９ ３Ｓ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノ−７−クロロ
−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 ヨードメタンと対応する出発原料とを反応させ、参考例
２１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２５６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、７．１４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、５．５５（１Ｈ，ｂ
ｒ）、４．３４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．４２（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．７７（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．４８（９Ｈ，ｓ）。
【０２５７】参考例６０ ３Ｓ−（４−ヒドロキシ−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メ
チルスクシニル）アミノ−１−メトキシメチル−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、参考例４と同様にして得た３
Ｓ−（４−ヒドロキシ−２Ｒ−イソブチル−３−メチレ
ンスクシニル）アミノ−１−メトキシメチル−３，４−
ジヒドロカルボスチリル（８００ｍｇ）を、エタノール
（１０ｍｌ）に溶解し、１０％パラジウム−炭素（１０
０ｍｇ）を加え、水素で飽和した。常圧下で１日撹拌し
た後、触媒を濾別し、溶媒を減圧留去することにより、
上記目的化合物を得た。収量７９０ｍｇ。
【０２５８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１
５−７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、５．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．
０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５７（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．２６（３
Ｈ，ｓ）、３．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、２．
９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈ
ｚ）、２．８０−３．２０（１Ｈ，ｍ）、２．２０−
２．４５（１Ｈ，ｍ）、１．４０−１．７０（２Ｈ，
ｍ）、０．９０−１．２０（１Ｈ，ｍ）、１．０４（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、０．８３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０２５９】参考例６１ ３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−メトキシ
エトキシメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 メトキシエトキシメチルクロリドと対応する出発原料と
を反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０２６０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２０−７．５０（７Ｈ，ｍ）、７．２０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、５．９２（１Ｈ，ｂｒｓ）、５．８２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、５．１５（２Ｈ，ｓ）、５．０１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、４．４０（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．７２（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝３Ｈｚ）、３．５３（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ）、３．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４
Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．３７（３Ｈ，ｓ）、２．８
３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）。
【０２６１】参考例６２ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３−プロピルコ
ハク酸の製造 アリールブロミドと対応する出発原料とを反応させ、参
考例８と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２６２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：２．６８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝３Ｈｚ，Ｊ2 ＝９
Ｈｚ）、２．５０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝
１０Ｈｚ）、１．７４−１．１２（１６Ｈ，ｍ）、１．
４５（９Ｈ，ｓ）、０．９６−０．８７（９Ｈ，ｍ）。
【０２６３】参考例６３ ３−ベンジル−４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチルコ
ハク酸の製造 ベンジルブロミドと対応する出発原料とを反応させ、参
考例８と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２６４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２６−７．１６（５Ｈ，ｍ）、２．９１−
２．７４（４Ｈ，ｍ）、１．７７−１．６０（２Ｈ，
ｍ）、１．２９−１．１８（１０Ｈ，ｍ）、１．２６
（９Ｈ，ｓ）、０．９１（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝３Ｈｚ，
Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０２６５】参考例６４ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３−（４−メト
キシベンジル）コハク酸の製造 ４−メトキシベンジルクロリドと対応する出発原料とを
反応させ、参考例８と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０２６６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、６．７９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、
２．８７−２．７２（４Ｈ，ｍ）、１．７２−１．５９
（２Ｈ，ｍ）、１．３３−１．２１（１０Ｈ，ｍ）、
１．２８（９Ｈ，ｓ）、０．９０（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
３Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０２６７】参考例６５ ベンジル ２−ベンジルオキシカルボニル−３Ｓ−ｔ−
ブトキシカルボニル−５−メチルヘキサノエートの製造 Ｌ−ロイシンを用い、参考例１と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２６８】参考例６６ ３Ｓ−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−メトキシ
メトキシエチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 １−ヨード−２−メトキシメトキシエタンと対応する出
発原料とを反応させ、参考例２４と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０２６９】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１５−７．４５（８Ｈ，ｍ）、７．０６（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．０１（１Ｈ，ｂｒｓ）、
５．１５（２Ｈ，ｓ）、４．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、４．２５−４．４０（１Ｈ，ｍ）、４．２５（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、４．０８
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．
７８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ）、３．４４（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．２９（３
Ｈ，ｓ）、２．８１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）。
【０２７０】参考例６７ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３−（３−フェ
ニルプロピル）コハク酸の製造 シンナミルブロミドと対応する出発原料とを反応させ、
参考例８と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２７１】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．２９−７．１３（５Ｈ，ｍ）、２．７１−
２．５０（４Ｈ，ｍ）、１．７４−１．４２（１５Ｈ，
ｍ）、１．４３（９Ｈ，ｓ）、１．２０−１．１２（１
Ｈ，ｍ）、０．９０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０２７２】参考例６８ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３−（２−メチ
ルベンジル）コハク酸の製造 α−ブロモ−ｏ−キシレンと対応する出発原料とを反応
させ、参考例８と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２７３】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１２−７．０６（４Ｈ，ｍ）、２．９１−
２．７９（４Ｈ，ｍ）、２．２９（３Ｈ，ｓ）、１．７
７−１．６０（２Ｈ，ｍ）、１．２９−１．１７（１０
Ｈ，ｍ）、１．２５（９Ｈ，ｓ）、０．９２（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０２７４】参考例６９ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３−（３−メチ
ルベンジル）コハク酸の製造 α−ブロモ−ｍ−キシレンと対応する出発原料とを反応
させ、参考例８と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２７５】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１７−６．９５（４Ｈ，ｍ）、２．８９−
２．７３（４Ｈ，ｍ）、２．２９（３Ｈ，ｓ）、１．７
９−１．５４（２Ｈ，ｍ）、１．３１−１．２０（１０
Ｈ，ｍ）、１．２７（９Ｈ，ｓ）、０．９１（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝３Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０２７６】参考例７０ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３−（４−メチ
ルベンジル）コハク酸の製造 α−ブロモ−ｐ−キシレンと対応する出発原料とを反応
させ、参考例８と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２７７】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．０５（４Ｈ，ｓ）、２．８８−２．７０（４
Ｈ，ｍ）、２．２９（３Ｈ，ｓ）、１．７６−１．５９
（２Ｈ，ｍ）、１．３３−１．１７（１０Ｈ，ｍ）、
１．２８（９Ｈ，ｓ）、０．９０（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０２７８】参考例７１ ４Ｓ−イソプロピル−３−（１−オキソノニル）−２−
オキサゾリジノンの製造 ４Ｓ−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（１．０２
ｇ）を窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン（２５ｍｌ）
に溶解させ、−７８℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム
（１．６３Ｍヘキサン溶液）（５．０９ｍｌ）を滴下
し、３０分間撹拌した。次いでペラルゴニルクロライド
（５．０９ｍｌ）を加え、−７８℃で１．５時間撹拌し
た。反応液を５％塩化アンモニウム水溶液（３０ｍｌ）
に注ぎ、酢酸エチル（３０ｍｌ×２）で抽出、有機層を
水（１０ｍｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）で洗浄後、硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、上記目的化
合物を無色油状物として得た。収量２．１０ｇ。
【０２７９】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：４．４０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝４
Ｈｚ）、４．２６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９Ｈｚ）、４．１９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝９Ｈｚ，Ｊ2 ＝３Ｈｚ）、２．７
５−３．０５（２Ｈ，ｍ）、２．２５−２．５０（１
Ｈ，ｍ）、１．５０−１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．１５
−１．５０（１０Ｈ，ｍ）、０．９１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、０．８６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８
０−１．００（３Ｈ，ｍ）。
【０２８０】参考例７２ ４Ｓ−イソプロピル−３−（２Ｒ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル−１−オキソノニル）−２−オキサゾリジノ
ンの製造 窒素雰囲気下、ジイソプロピルアミン（１．３８ｍｌ）
にテトラヒドロフラン（２５ｍｌ）を加え、氷冷し、ｎ
−ブチルリチウム（１．６３Ｍヘキサン溶液）（５．５
０ｍｌ）を滴下し、１５分間撹拌した後、−７８℃に冷
却し、４Ｓ−イソプロピル−３−（１−オキソノニル）
−２−オキサゾリジノン（２．３０ｇ）のテトラヒドロ
フラン（５ｍｌ）溶液を滴下し、−７８℃で３０分間攪
拌した。次いでブロモ酢酸ｔ−ブチル（１．６６ｍｌ）
を加え、７時間攪拌を続けながら−５℃まで徐々に昇温
した。反応液を５％塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢
酸エチル（２０ｍｌ×２）で抽出、有機層を水（２０ｍ
ｌ）、飽和食塩水（２０ｍｌ）で順次洗浄した後、硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去後、シリカゲルク
ロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１４：１で
溶出）で精製することにより上記目的化合物を得た。収
量２．１９ｇ。
【０２８１】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：４．４３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝４
Ｈｚ）、４．１０−４．３５（３Ｈ，ｍ）、２．７４
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１０Ｈｚ）、
２．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝４Ｈ
ｚ）、２．３０−２．５５（１Ｈ，ｍ）、１．４１（９
Ｈ，ｓ）、１．１０−１．７５（１２Ｈ，ｍ）、０．９
３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、０．８８（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６Ｈｚ）、０．８０−１．１０（３Ｈ，ｍ）。
【０２８２】参考例７３ ３Ｓ−（２Ｒ−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソノニル）アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルの製造 ４Ｓ−イソプロピル−３−（２Ｒ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル−１−オキソノニル）−２−オキサゾリジノ
ン（２．１９ｇ）をテトラヒドロフラン−水（３：１、
１２０ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、０℃に冷却した。次
いで水酸化リチウム水和物（４７９ｍｇ）、３０％過酸
化水素水溶液（２．９４ｍｌ）を順次加え、０℃で１．
５時間撹拌した。１．５Ｎ亜硫酸ナトリウム水溶液（２
１．５ｍｌ）を加え、数分間撹拌の後、塩化メチレン
（１５０ｍｌ）に注ぎ、１Ｎ塩酸（５０ｍｌ）、飽和食
塩水（２０ｍｌ）で順次洗浄した後、硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去した後、ジメチルホルムア
ミド（１０ｍｌ）を加え、水冷し、３Ｓ−アミノ−１−
メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩
（１．３０ｇ）、Ｎ−メチルモルホリン（６２８μ
ｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（８７３ｍ
ｇ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（１．１８ｇ）
を順次加え、室温にて１５時間撹拌した。溶媒を減圧留
去後、酢酸エチル（５０ｍｌ）を加え、１Ｎ塩酸（２０
ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍｌ×
２）、飽和食塩水（３０ｍｌ）で、順次洗浄した後、硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シ
リカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
３：１で溶出）で精製することにより上記目的化合物を
得た。収量２．７０ｇ。
【０２８３】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１５−７．４０（３Ｈ，ｍ）、７．０８（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、４．６０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．４９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．７６（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．５５−２．８０（２Ｈ，
ｍ）、２．３０−２．５０（１Ｈ，ｍ）、１．４５（９
Ｈ，ｓ）、１．２０−１．８０（１２Ｈ，ｍ）、０．８
７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０２８４】参考例７４ ７−クロロ−１−メトキシメチル−３ｓ−フタルイミド
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 メトキシメチルクロリドと対応する出発原料とを反応さ
せ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２８５】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．８６−７．９３（２Ｈ，ｍ）、７．７３−
７．７９（２Ｈ，ｍ）、７．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈ
ｚ）、７．０６−７．１４（２Ｈ，ｍ）、５．６８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、５．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１１Ｈｚ）、４．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）、
３．４１（３Ｈ，ｓ）、２．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０２８６】参考例７５ ３（Ｒ，Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−１−
ｔ−ブトキシエチル−３，４−ジヒドロカルボスチリル
の製造 １−ヨード−２−ｔ−ブトキシエタンと対応する出発原
料とを反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合
物を得た。
【０２８７】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：６．９９−７．４０（９Ｈ，ｍ）、６．００（１
Ｈ，ｂｒ）、５．１２−５．１７（２Ｈ，ｍ）、４．０
８−４．３５（２Ｈ，ｍ）、３．８７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．５５−３．６４
（３Ｈ，ｍ）、２．８０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、
１．１２（９Ｈ，ｓ）。
【０２８８】参考例７６ １−メトキシエチル−３Ｓ−トリフェニルメチルアミノ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 １−ヨード−２−メトキシエタンと対応する出発原料と
を反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０２８９】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．４９−７．５４（６Ｈ，ｍ）、７．０８−
７．３１（１１Ｈ，ｍ）、６．８８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1
＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、４．２０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝５Ｈｚ）、３．９８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７
Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、３．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、３．３４（３Ｈ，ｓ）、
２．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．５６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）。
【０２９０】参考例７７ ３（Ｒ，Ｓ）−ベンジルオキシアミノ−１−メトキシエ
チル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 １−ヨード−２−メトキシエタンと対応する出発原料と
を反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０２９１】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１９−７．４０（８Ｈ，ｍ）、７．０５（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．９９（１Ｈ，ｂｒ）、５．
１５（２Ｈ，ｓ）、４．３３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４
Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、４．２５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、４．００（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．５９−３．６８
（２Ｈ，ｍ）、３．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、３．３５（１Ｈ，ｓ）、２．８１
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）。
【０２９２】参考例７８ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３−（４−メト
キシカルボニルベンジル）コハク酸の製造 ４−メトキシカルボニルベンジルブロミドと対応する出
発原料とを反応させ、参考例８と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０２９３】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２５
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、
２．９７−２．７４（４Ｈ，ｍ）、１．７８−１．６０
（２Ｈ，ｍ）、１．２９−１．１８（１０Ｈ，ｍ）、
１．２６（９Ｈ，ｓ）、０．９１（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０２９４】参考例７９ ４−ｔ−ブトキシ−３−ヘキシル−２Ｒ−イソブチルコ
ハク酸の製造 １−ヨードヘキサンと対応する出発原料とを反応させ、
参考例８と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２９５】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：２．７１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝４Ｈｚ，Ｊ2 ＝９
Ｈｚ）、２．５２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
９Ｈｚ）、１．７６−１．５５（２Ｈ，ｍ）、１．４９
（９Ｈ，ｓ）、１．３０−１．１５（１１Ｈ，ｍ）、
０．９９−０．８８（９Ｈ，ｍ）。
【０２９６】参考例８０ ベンジル ２−ベンジルオキシカルボニル−３Ｒ−ｔ−
ブトキシカルボニル−ヘプタノエートの製造 Ｄ−ノルロイシンと対応する出発原料とを反応させ、参
考例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０２９７】参考例８１ ４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３−（３，４−
メチレンジオキシベンジル）コハク酸の製造 ３，４−メチレンジオキシベンジルクロリドと対応する
出発原料とを反応させ、参考例８と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０２９８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：６．７１−６．６０（３Ｈ，ｍ）、５．９１（２
Ｈ，ｓ）、２．８３−２．６９（４Ｈ，ｍ）、１．７５
−１．５６（２Ｈ，ｍ）、１．３２（９Ｈ，ｓ）、１．
２５−１．１６（１Ｈ，ｍ）、０．９０（６Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝３Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０２９９】参考例８２ ４−ｔ−ブトキシ−３−（３−エトキシカルボニルプロ
ピル）−２Ｒ−イソプチルコハク酸の製造 エチル ４−ブロモクロトネートと対応する出発原料と
を反応させ、参考例８と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０３００】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２．７３−
２．６３（１Ｈ，ｍ）、２．５３−２．４６（１Ｈ，
ｍ）、２．３４−２．２９（２Ｈ，ｍ）、１．７３−
１．５１（６Ｈ，ｍ）、１．４６（９Ｈ，ｓ）、１．２
８−１．１６（４Ｈ，ｍ）、１．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、０．９０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）。
【０３０１】参考例８３ １−エトキシメチル−３Ｓ−トリフェニルメチルアミノ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 エトキシメチルクロリドと対応する出発原料とを反応さ
せ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３０２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．５２（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１０−
７．４０（１１Ｈ，ｍ）、６．９３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1
＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、５．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．
９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、３．４５−３．６０
（２Ｈ，ｍ）、３．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、２．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、１．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
５Ｈｚ）、１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０３０３】参考例８４ Ｏ−ブチル−Ｄ−セリンの製造 ６０％水素化ナトリウム（２８．８ｇ）、イミダゾール
（１．０８ｇ）及び乾燥テトラヒドロフラン（２７０ｍ
ｌ）の混合液に、−１５℃で、Ｎ−トリチル−Ｄ−セリ
ン（２５．０ｇ）、乾燥テトラヒドロフラン（１５０ｍ
ｌ）の混合液を１５分かけて滴下し、−１５℃で４５分
間攪拌した。これにヨウ化ブチル（６５．５ｍｌ）を加
え、−１５℃で２時間撹拌した。更に、−１５℃で６０
％水素化ナトリウム（１２．０ｇ）及びヨウ化ブチル
（１２９ｍｌ）を加え、−２０℃で１日間撹拌した。反
応液に水（１リットル）を加え、ジエチルエーテル（３
００ｍｌ×２）にて抽出し、有機層を５％クエン酸水溶
液（２００ｍｌ）、飽和食塩水（１００ｍｌ）で洗浄し
た後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
し、得られた油状物に５０％酢酸−エタノール溶液（１
００ｍｌ）を加え、室温にて１５時間撹拌した。沈殿物
を濾取し、エタノール及びジエチルエーテルで洗浄し、
上記目的化合物６．１１ｇを得た。
【０３０４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，Ｄ2 Ｏ）δｐｐ
ｍ：３．７５−４．００（３Ｈ，ｍ）、３．５０−３．
７０（２Ｈ，ｍ）、１．５７（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４
Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．３３（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）。
【０３０５】参考例８５ ベンジル ２−ベンジルオキシカルボニル−３Ｓ−ｔ−
ブトキシカルボニル−４−ブトキシ−ブチレートの製造 Ｏ−ブチル−Ｄ−セリンと対応する出発原料とを反応さ
せ、参考例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３０６】参考例８６ Ｏ−ニトロフェニル−Ｌ−アラニンの合成 Ｎ−アセチル−Ｏ−ニトロフェニル−ＤＬ−アラニン
（３２４ｇ）に、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（１．８
リットル）を加え、溶解させ、アシラーゼ（９．０
ｇ）、塩化コバルト（II）・６水和物（１００ｍｇ）を
順次加え、３７℃にて２にて撹拌した。不溶物を濾過
後、濾液を減圧留去して、析出した結晶を濾過し、少量
の水にて洗浄することにより、上記目的化合物９９．６
ｇを得た。
【０３０７】参考例８７ ３Ｓ−（４−ヒドロキシ−２−イソブチル−３−メチル
チオメチルスクシニル）アミノ−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルの製造 ３Ｓ−（４−ヒドロキシ−２−イソブチル−３−アセチ
ルチオメチルスクシニル）アミノ−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル（８００ｍｇ）及びメタノール（１０ｍ
ｌ）の混合液を氷冷し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
（８ｍｌ）を加え、氷冷下４０分間撹拌した。ヨウ化メ
チル（４３０μｌ）を加え、更に氷冷下２時間撹拌し
た。１Ｎ塩酸（１０ｍｌ）を加え、析出した結晶を濾取
し、上記目的化合物を黄色固体（３３０ｍｇ）として得
た。
【０３０８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．２２（１Ｈ，ｓ）、８．４７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、６．８９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１１Ｈｚ，Ｊ2 ＝
８Ｈｚ）、４．４３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝７Ｈｚ）、２．８０−３．２０（３Ｈ，ｍ）、２．
４０−２．８０（３Ｈ，ｍ）、２．０４（３Ｈ，ｓ）、
１．３５−１．７０（２Ｈ，ｍ）、０．９０−１．０５
（１Ｈ，ｍ）、０．８７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
０．８３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０３０９】参考例８８ ３Ｓ−アミノ−１−エトキシエトキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルの製造 水素化ナトリウム（油性，１８６ｍｇ）をヘキサン（２
ｍｌ）にて２回洗い、ジメチルホルムアミド（１４ｍ
ｌ）に懸濁させ、氷冷下、３Ｓ−アミノ−１−ヒドロキ
シ−３，４−ジヒドロカルボスチリル・塩酸塩（５００
ｍｇ）を加え、氷冷下２０分間、室温にて１時間撹拌し
た。再び氷冷し、２−ヨードエチルエチルエーテル（５
１３ｍｇ）を加え、氷冷下２０分間、室温にて１時間撹
拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物に水（３０
ｍｌ）を加え、ジクロロメタン（３０ｍｌ）にて２回抽
出し、有機層を合わせ、飽和食塩水（３０ｍｌ）にて洗
浄後、硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を減圧留去
することにより、上記目的化合物（５２２ｍｇ）を得
た。
【０３１０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．４０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１０−
７．３５（２Ｈ，ｍ）、７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、４．２０−４．３５（２Ｈ，ｍ）、３．６０−
３．８０（２Ｈ，ｍ）、３．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．５３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、３．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ
2 ＝６Ｈｚ）、２．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、
１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０３１１】参考例８９ ３Ｓ−アミノ−１−メトキシメトキシエトキシ−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 １−ヨード−２−メトキシメトキシエタンを用い、参考
例８８と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３１２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．３３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2
＝１Ｈｚ）、４．６８（２Ｈ，ｓ）、４．２０−４．４
０（２Ｈ，ｍ）、３．７５−３．９５（２Ｈ，ｍ）、
３．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈ
ｚ）、３．３８（３Ｈ，ｓ）、３．１１（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．８５（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）。
【０３１３】参考例９０ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−メトキシ−
７−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、参考例２１と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０３１４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．７９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、６．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、５．５７（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）、４．３３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、３．９２（３Ｈ，ｓ）、３．８２（３Ｈ，
ｓ）、３．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
４Ｈｚ）、２．７３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．
４８（９Ｈ，ｓ）。
【０３１５】参考例９１ ３Ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−エトキシ−
７−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ヨー化エチルと対応する出発原料とを反応させ、参考例
２１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３１６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．７９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ）、６．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝３Ｈｚ）、５．５７（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）、４．３１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、４．０５−４．２５（２Ｈ，ｍ）、３．８２
（３Ｈ，ｓ）、３．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．７２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈ
ｚ）、１．４９（９Ｈ，ｓ）、１．３８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）。
【０３１７】参考例９２ ３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−メトキシエチ
ル−６，７−メチレンジオキシ−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルの製造 １−ヨード−２−メトキシエタンと対応する出発原料と
を反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０３１８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：６．８９（１Ｈ，ｓ）、６．６５（１Ｈ，ｓ）、
５．９４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈ
ｚ）、５．７０（１Ｈ，ｂｓ）、４．２５−４．１４
（２Ｈ，ｍ）、３．９３−３．８２（１Ｈ，ｍ）、３．
６２−３．６０（２Ｈ，ｍ）、３．３４（３Ｈ，ｓ）、
３．２９−３．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2
＝１４Ｈｚ）、２．６７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、
１．４７（９Ｈ，ｓ）。
【０３１９】参考例９３ ３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−６，７−ジメト
キシ−１−メトキシメチル−３，４−ジヒドロカルボス
チリルの製造 メトキシメチルクロリドと対応する出発原料とを反応さ
せ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３２０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３０−７．３４（５Ｈ，ｍ）、６．９６（１
Ｈ，ｓ）、６．７１（１Ｈ，ｓ）、５．９６（１Ｈ，ｂ
ｒｓ）、５．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、５．１
５（２Ｈ，ｓ）、４．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈ
ｚ）、４．３８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
５Ｈｚ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．８６（３Ｈ，
ｓ）、３．４０（３Ｈ，ｓ）、３．３６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、２．７６（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）。
【０３２１】参考例９４ ３−アミノ−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル塩酸塩の製造 ２−ニトロ−４．５−ジメトキシベンジルクロリドを用
い、Ｊ．Ｍｅｄ，Ｃｈｅｍ．，１９７２，１５，３２５
に記載の方法に従い、上記目的化合物を製造した。
【０３２２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．５２（３Ｈ，
ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｓ）、６．５６（１Ｈ，ｓ）、
４．０６−４．１６（１Ｈ，ｍ）、３．７２（３Ｈ，
ｓ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）、３．１２（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．９８（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）。
【０３２３】参考例９５ ８−メトキシ−１−メトキシエチル−３Ｓ−トリチルア
ミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 １−ヨード−２−メトキシエタンと対応する出発原料と
を反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０３２４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．４９−７．４５（６Ｈ，ｍ）、７．３０−
７．１８（９Ｈ，ｍ）、６．９０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．２５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．４５（２Ｈ，ｍ）、
４．１４−４．０９（１Ｈ，ｍ）、３．８０（３Ｈ，
ｓ）、３．４９−３．４１（２Ｈ，ｍ）、３．２８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、３．２３
（３Ｈ，ｓ）、２．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、
１．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈ
ｚ）。
【０３２５】参考例９６ １−メトキシエトキシ−３Ｓ−トリフェニルメチルアミ
ノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 １−ヨード−２−メトキシエタンと対応する出発原料と
を反応させ、参考例２４と同様にして上記目的化合物を
得た。
【０３２６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．５１−７．５６（６Ｈ，ｍ）、７．２２−
７．３２（１１Ｈ，ｍ）、６．９１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1
＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、４．２３−４．３０（１Ｈ，ｍ）、４．０８
−４．２０（１Ｈ，ｍ）、３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３
Ｈｚ）、３．６３−３．７６（２Ｈ，ｍ）、３．４４
（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ，Ｊ3
＝３Ｈｚ）、３．３９（３Ｈ，ｓ）、２．３３（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、１．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１
４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）。
【０３２７】参考例９７ ３Ｓ−アミノ−１−メトキシエトキシメトキシエトキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 １−ヨード−２−メトキシエトキシメトキシエタンと対
応する出発原料とを反応させ、参考例８８と同様にして
上記目的化合物を得た。
【０３２８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．１０−７．４５（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１
Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、４．７７
（２Ｈ，ｓ）、４．２０−４．４０（２Ｈ，ｍ）、３．
７５−３．９５（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．７５（５
Ｈ，ｍ）、３．３８（３Ｈ，ｓ）、３．１１（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．８６（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）。
【０３２９】参考例９８ ３Ｓ−アミノ−１−メトキシエトキシエトキシ−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 １−ヨード−２−メトキシエトキシエタンと対応する出
発原料とを反応させ、参考例８８と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０３３０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：７．３９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１０−
７．３５（２Ｈ，ｍ）、７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、４．２０−４．４０（２Ｈ，ｍ）、３．７０−
３．９０（２Ｈ，ｍ）、３．５０−３．７０（５Ｈ，
ｍ）、３．４０（３Ｈ，ｓ）、３．１０（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．８６（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）。
【０３３１】実施例１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルの製造 ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル２４０ｍｇをエタノール１０．８ｍｌに溶解
し、シクロヘキセン１．２ｍｌ及び１０％パラジウム−
炭素６０ｍｇを加え、還流下で２０分間攪拌した。触媒
を瀘別し、瀘液を減圧下で濃縮乾固する。残留物をカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ，クロロホル
ム／メタノール＝２０／１ Ｖ／Ｖ）により精製し、上
記目的化合物を白色固体として得た。収量１１０ｍｇ。
【０３３２】〔α〕D ＝−４９゜（ｃ＝１，メタノー
ル） ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１
０．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）、１０．２０（１Ｈ，ｓ）、
８．７０（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．９
０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、
４．４４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，Ｊ 2 ＝８Ｈ
ｚ）、２．７０−３．００（３Ｈ，ｍ）、２．１７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．０４
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．
４０−１．７０（２Ｈ，ｍ）、１．００−１．３０（１
Ｈ，ｍ）、０．８６（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，Ｊ
2 ＝６Ｈｚ）。
【０３３３】実施例２ 対応する出発原料を用い、実施例１と同様にして３Ｓ−
〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルス
クシニル〕アミノ−７−メトキシ−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルを得た。
【０３３４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３６（１Ｈ，ｂｒｓ）、１０．１４
（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，ｓ）、８．１３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、６．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝２
Ｈｚ）、６．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、４．４２
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．
７０（３Ｈ，ｓ）、２．６５−３．００（３Ｈ，ｍ）、
２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈ
ｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
７Ｈｚ）、１．２０−１．７０（２Ｈ，ｍ）、１．００
−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８６（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３３５】実施例３ 対応する出発原料を用い、実施例１と同様にして３Ｓ−
〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルス
クシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルを得た。
【０３３６】〔α〕D ＝−１９゜（ｃ＝１，メタノー
ル） ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１
０．４０（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７１（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）、８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３１
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、７．
１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、２．８５
−３．１５（２Ｈ，ｍ）、２．７０−２．８５（１Ｈ，
ｍ）、２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝８Ｈｚ）、１．４０−１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．
００−１．１５（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３３７】実施例４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−アセチルチオメチルスクシニル〕アミノ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−（４−ヒドロキシ−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−ア
セチルチオメチルスクシニル）アミノ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル３３０ｍｇを、ジメチルホルムアミド
１ｍｌ及びジクロロメタン３．５ｍｌの混合溶媒に溶解
し、氷浴中にて冷却し、１−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール１１０ｍｇ、Ｎ−メチルモルホリン１０７μｌ、１
−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボ
ジイミド塩酸塩１８６ｍｇを加え、氷浴中にて１時間攪
拌し、ヒドロキシアミン塩酸塩５７ｍｇ、Ｎ−メチルモ
ルホリン８９μｌを、ジメチルホルムアミド０．５ｍｌ
に溶かした溶液を加える。氷浴中にて１時間攪拌した
後、減圧下で反応溶液を濃縮する。ブタノール１０ｍｌ
に残留物を溶解させ、水５ｍｌで洗い、真空蒸発させ
た。残留物を、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル
２０ｇ，クロロホルム／メタノール＝２０／１ Ｖ／
Ｖ）により精製し、上記目的化合物を白色固体として得
た。収量４５ｍｇ。
【０３３８】〔α〕D ＝−４９゜（ｃ＝１，メタノー
ル） ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１
０．６１（１Ｈ，ｓ）、１０．２３（１Ｈ，ｓ）、８．
９２（１Ｈ，ｓ）、８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ）、６．９１（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、４．５１
（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９Ｈｚ）、２．８０−３．２０（４
Ｈ，ｍ）、１．４０−１．６０（２Ｈ，ｍ）、０．８０
−１．００（１Ｈ，ｍ）、０．８３（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１２Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３３９】実施例５ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メルカプトメチルスクシニル〕アミノ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−アセチルチオメチルスクシニル〕アミノ−
３，４−ジヒドロカルボスチリル１４ｍｇをメタノール
１ｍｌに溶解し、メチルアミン４０％・メタノール溶液
２００μｌを滴下する。１時間室温にて攪拌後、析出し
た結晶を瀘過し、上記目的化合物を白色固体として得
た。収量４ｍｇ。
【０３４０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．５９（１Ｈ，ｓ）、１０．１１（１
Ｈ，ｓ）、８．９５（１Ｈ，ｓ）、８．５４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０５−７．２５（２Ｈ，ｍ）、
６．８２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈ
ｚ）、４．４０−４．６０（１Ｈ，ｍ）、２．６０−
３．３０（４Ｈ，ｍ）、１．４５−１．７０（２Ｈ，
ｍ）、０．８０−１．１０（１Ｈ，ｍ）、０．８４（６
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３４１】実施例６ 対応する出発原料を用い、実施例４と同様にして３Ｓ−
〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチル−
３Ｓ−（２−チエニルチオメチル）スクシニル〕アミノ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルを得た。
【０３４２】〔α〕D ＝−５２゜（ｃ＝１，メタノー
ル） ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１
０．７０（１Ｈ，ｓ）、１０．２２（１Ｈ，ｓ）、８．
９５（１Ｈ，ｓ）、８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）、７．１０−
７．２０（３Ｈ，ｍ）、７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
３Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、６．９０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１７Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、４．３７（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．８０−３．２０
（４Ｈ，ｍ）、１．４０−１．６０（２Ｈ，ｍ）、０．
８０−１．００（１Ｈ，ｍ）、０．８２（６Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１０Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３４３】実施例７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３（Ｒ又はＳ）−フタルイミドメチルスクシニ
ル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３（Ｒ又はＳ）−フタルイミドメチルスクシ
ニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル３２０
ｍｇのジメチルホルムアミド２０ｍｌ懸濁液に１０％パ
ラジウム−炭素２００ｍｇを加え、減圧下水素ガスを導
入し２日間攪拌した。反応液からセライトを用い、触媒
を濾去し、瀘液を減圧濃縮した。結晶性残渣にメタノー
ル２００ｍｌを加え、加熱溶解し、残存した触媒をセラ
イトを用い濾去した。瀘液を減圧濃縮し、析出した沈澱
を瀘取、乾燥し、上記目的化合物の白色固体を得た。収
量１７２ｍｇ。
【０３４４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４７（１Ｈ，ｓ）、１０．１２（１
Ｈ，ｓ）、８．６８（１Ｈ，ｓ）、８．５０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．８８−７．８０（４Ｈ，ｍ）、
７．１６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．９０（２Ｈ，
ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１３Ｈｚ）、４．４６−
４．４３（１Ｈ，ｍ）、３．９０−３．８５（１Ｈ，
ｍ）、３．５０−３．４３（１Ｈ，ｍ）、２．９７（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、２．６３−２．５９（２Ｈ，
ｍ）、１．６２−１．５３（２Ｈ，ｍ）、０．９５−
０．８１（７Ｈ，ｍ）。
【０３４５】実施例８ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンゾイルオキシアミノ）−２Ｒ−
イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルの製造 ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル１８０ｍｇをジメチルホルムアミド２ｍｌ及びジク
ロロメタン２ｍｌの混合溶媒に溶解し、水浴中にて冷却
し、ピリジン２２０μｌ及びベンゾイルクロライド８８
μｌを加え、氷浴中にて３０分間攪拌した。反応溶液を
真空蒸発し、クロロホルム３０ｍｌを加え、１Ｎ塩酸１
０ｍｌ、水１０ｍｌで洗い、硫酸マグネシウムで乾燥
し、真空蒸発させた。残留物にジエチルエーテル１０ｍ
ｌを加え、析出している結晶を瀘過し、上記目的化合物
を白色固体として得た。収量１１０ｍｇ。
【０３４６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．０８（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．７４（１Ｈ，ｓ）、７．６２
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．４６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、７．１０−７．２５（２Ｈ，ｍ）、７．０１
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、４．５５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝７Ｈｚ）、３．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．６５−３．３０（３Ｈ，
ｍ）、２．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝
３Ｈｚ）、１．００−１．８０（３Ｈ，ｍ）、０．９６
（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３４７】実施例９ ３−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２−ピペロニル
スクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル
の製造 塩酸ヒドロキシルアミン４９ｍｇのメタノール溶液１０
ｍｌに氷冷攪拌下、水酸化カリウム６６ｍｇのメタノー
ル溶液１０ｍｌを加え５分間攪拌した後、３−（４−エ
トキシ−２−ピペロニルスクシニル）アミノ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル１００ｍｇのジメチルホルムア
ミド３ｍｌ溶液を加え、室温で一夜攪拌した。反応液を
酢酸で中和した後、不溶物を濾去し、瀘液を減圧濃縮し
た。残渣をｎ−ブタノール２０ｍｌで抽出した。有機層
を水で３回洗浄後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルプ
レパラートで精製し（クロロホルム：メタノール＝７：
１）、上記目的化合物を得た。収量４．４７ｍｇ。
【０３４８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４０（１Ｈ，ｂｒｓ）、１０．２９
（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７０（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．１
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１７（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、６．９６−６．６１（５Ｈ，ｍ）、５．９
７（２Ｈ，ｓ）、４．５１−４．４２（１Ｈ，ｍ）、
３．１０−２．６２（４Ｈ，ｍ）、２．４９−１．９３
（３Ｈ，ｍ）。
【０３４９】実施例１０ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３（Ｒ又はＳ）−フタルイミドメチルスクシ
ニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−（４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−
３（Ｒ又はＳ）−フタルイミドメチルスクシニル）アミ
ノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル９９０ｍｇをジク
ロロメタン５ｍｌに溶解させ、これに４Ｎ塩化水素／ジ
オキサン１０ｍｌを加え、室温で２時間放置した。反応
液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル５０ｍｌに溶解し
た。酢酸エチル層を飽和食塩水（×２回）で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残
渣を乾燥し粉末とした（６６０ｍｇ）。この粉末６６０
ｍｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液に氷／食塩で冷
却攪拌下、Ｎ−メチルモルホリン１９０μｌを加えた
後、クロロギ酸イソブチル２４０μｌを加え５分間攪拌
した。続いてベンジルオキシアミン５７３ｍｇのジメチ
ルホルムアミド１０ｍｌ溶液を加え、ｐＨ８に保ちなが
ら室温で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣に
水２０ｍｌを加え、固化し瀘取した。粗生成物を酢酸エ
チル／ジエチルエーテルで洗浄し、上記目的化合物の白
色固体を得た。収量３３０ｍｇ。
【０３５０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１１．１８（１Ｈ，ｓ）、１０．２４（１
Ｈ，ｓ）、８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．９
２−７．８４（４Ｈ，ｍ）、７．３２−７．１５（７
Ｈ，ｍ）、６．９７−６．９１（２Ｈ，ｍ）、４．６７
−４．３７（３Ｈ，ｍ）、４．００−３．８５（１Ｈ，
ｍ）、３．６０−３．５０（１Ｈ，ｍ）、３．０３（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、２．７２−２．６９（２Ｈ，
ｍ）、１．５９−１．５４（２Ｈ，ｍ）、０．９８−
０．８３（７Ｈ，ｍ）。
【０３５１】実施例１１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルの製造 ３Ｓ−（３−カルボキシ−２Ｒ−イソブチルプロピオニ
ル）アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル５００ｍ
ｇをジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解し、Ｏ−ベンジ
ルヒドロキシルアミン３２９ｍｇを加え、氷浴中にて冷
却し、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール２１３ｍｇ、
Ｎ−メチルモルホリン２５９μｌ、１−エチル−３−
（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩
３６８ｍｇを加え、氷浴中にて３時間、室温にて１５時
間攪拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し、残渣に酢酸エ
チル５０ｍｌを加え、水１０ｍｌ、１Ｎ塩酸１０ｍｌ、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍｌ×３回）、食
塩水１０ｍｌで洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空
蒸発させた。残留物をカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル５０ｇ，クロロホルム／メタノール＝４０／１
Ｖ／Ｖ）により精製し、上記目的化合物を白色固体とし
て得た。収量３００ｍｇ。
【０３５２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．５７（１Ｈ，ｂｒｓ）、７．７９（１Ｈ，ｂ
ｒｓ）、７．３８（５Ｈ，ｓ）、７．１８（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、７．０１（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、４．９０（２Ｈ，ｓ）、４．４５−４．６０（１
Ｈ，ｍ）、３．３５−３．５０（１Ｈ，ｍ）、２．８０
−２．９８（１Ｈ，ｍ）、２．８０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１
４Ｈｚ）、２．２０−２．５０（２Ｈ，ｍ）、１．２０
−１．４０（３Ｈ，ｍ）、０．９４（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３５３】実施例１２ 対応する出発原料を用い、実施例１１と同様にして３Ｓ
−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−７−メトキシ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルを得た。
【０３５４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．９０（１Ｈ，ｓ）、８．４９（１Ｈ，ｓ）、
７．３４（５Ｈ，ｓ）、７．０５−７．１５（１Ｈ，
ｍ）、６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．５１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2＝２Ｈｚ）、６．４
１（１Ｈ，ｓ）、４．８８（２Ｈ，ｓ）、４．４０−
４．５５（１Ｈ，ｍ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、３．２
５−３．４５（１Ｈ，ｍ）、２．９０−３．１０（１
Ｈ，ｍ）、２．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、２．
１５−２．５０（２Ｈ，ｍ）、１．５０−１．８０（２
Ｈ，ｍ）、１．２０−１．４０（１Ｈ，ｍ）、０．９４
（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１９Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３５５】実施例１３ 対応する出発原料を用い、実施例１１と同様にして３Ｓ
−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルを得た。
【０３５６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δｐ
ｐｍ：８．６９（１Ｈ，ｓ）、７．３７（５Ｈ，ｓ）、
７．１５−７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０７（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、４．９０（２Ｈ，ｓ）、４．４０−４．６０（１
Ｈ，ｍ）、３．９２（３Ｈ，ｓ）、３．２５−３．４５
（１Ｈ，ｍ）、２．７５−２．９５（２Ｈ，ｍ）、２．
２０−２．５０（２Ｈ，ｍ）、１．５０−１．８０（２
Ｈ，ｍ）、１．２０−１．３５（２Ｈ，ｍ）、０．９３
（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３５７】実施例１４ １−ヘキシルオキシ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシア
ミノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕
アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−ヘキ
シルオキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル４００ｍ
ｇのテトラヒドロフラン１５ｍｌ溶液に１０％パラジウ
ム−炭素１５０ｍｇ及びシクロヘキセン１．０ｍｌを加
えて還流しながら３０分間撹拌した。反応液からセライ
トを用い、触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
（３％メタノール／クロロホルムで溶出）精製し、上記
目的化合物を得た。収量２５０ｍｇ。
【０３５８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３５−
７．２７（２Ｈ，ｍ）、７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．６３−
４．５８（１Ｈ，ｍ）、４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、３．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．０６
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、２．９４（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．５１−２．４５
（１Ｈ，ｍ）、２．２０−２．１３（１Ｈ，ｍ）、１．
７１−１．２７（１０Ｈ，ｍ）、０．９７（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９２−０．８０（１０Ｈ，ｍ）。
【０３５９】実施例１５ １−（４−シアノベンジル）−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒド
ロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスク
シニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 参考例２４及び対応する出発原料を反応させ、実施例１
６と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３６０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７７（１Ｈ，
ｓ）、８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、７．８０
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．４３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１
７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、５．
３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、５．１９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．７５−４．７０（１Ｈ，
ｍ）、３．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、３．００
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．
５５−２．４９（１Ｈ，ｍ）、２．２１−２．１５（１
Ｈ，ｍ）、１．５８−１．４３（２Ｈ，ｍ）、０．９９
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．０１−０．７９（１
Ｈ，ｍ）、０．８３（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2
＝１８Ｈｚ）。
【０３６１】実施例１６ １−（５−クロロ−２−チエニルメチル）−３Ｓ−〔４
−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ
−メチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルの製造 対応する出発原料を用い、参考例２２と同様にして得ら
れた３Ｓ−（４−ｔ−ブトキシ−２Ｒ−イソブチル−３
Ｓ−メチルスクシニル）アミノ−１−（５−クロロ−２
−チエニルメチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
９２０ｍｇにトリフルオロ酢酸５ｍｌを加えて溶解さ
せ、室温で１時間３０分放置した。反応液を減圧濃縮
し、得られた油状残渣を酢酸エチル３０ｍｌで抽出し
た。酢酸エチル層を、飽和食塩水で３回洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣
を乾燥した（７９０ｍｇ）。上記で得られた化合物３９
０ｍｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液に氷／食塩冷
却撹拌下、Ｎ−メチルモルホリン１２６μｌ、続いてイ
ソブチルクロロホルメート１１１μｌを加え、１５分間
撹拌した。反応液にＯ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）
ヒドロキシアミン１９５ｍｇを加え、室温で一夜撹拌し
た。反応液から不溶物を濾去し、濾液に酢酸４ｍｌ及び
水４ｍｌを加え、室温で３時間撹拌した。反応液を減圧
濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル５０ｍｌに溶解し抽
出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で３回、水で２回各
々洗浄し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより（３％メタノール／クロ
ロホルムで溶出）精製し、白色固体の上記目的化合物を
得た。収量１７０ｍｇ。
【０３６２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２９−
７．２５（３Ｈ，ｍ）、７．０６−７．００（２Ｈ，
ｍ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）、５．２３
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ）、４．６２−４．５７（１
Ｈ，ｍ）、３．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、２．
９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、
２．５４−２．４７（１Ｈ，ｍ）、２．２０−２．１４
（１Ｈ，ｍ）、１．６０−１．４２（２Ｈ，ｍ）、０．
９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．００−０．８０
（１Ｈ，ｍ）、０．８５（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１７Ｈｚ）。
【０３６３】実施例１７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い実施例１４と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０３６４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、１０．１８（１
Ｈ，ｓ）、８．７５（１Ｈ，ｓ）、８．３７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−７．１３（２Ｈ，ｍ）、
６．９５−６．８６（２Ｈ，ｍ）、４．５１−４．４６
（１Ｈ，ｍ）、２．９９−２．９３（２Ｈ，ｍ）、２．
５１−２．４４（１Ｈ，ｍ）、２．２０−２．１４（１
Ｈ，ｍ）、１．６０−１．４０（２Ｈ，ｍ）、０．９７
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９８−０．８０（１
Ｈ，ｍ）、０，８４（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2
＝１５Ｈｚ）。
【０３６５】実施例１８ １−ヒドロキシ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミ
ノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕ア
ミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例２６及び対応する出発原料を反応させ、実施例１
４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３６６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（２Ｈ，ｂｓ）、８．７６（１
Ｈ，ｓ）、８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３
２−７．２０（３Ｈ，ｍ）、７．０１（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ
1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、４．６４−４．５４（１
Ｈ，ｍ）、３．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．
９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、
２．５１−２．４５（１Ｈ，ｍ）、２．２０−２．１４
（１Ｈ，ｍ）、１．６５−１．４２（２Ｈ，ｍ）、０．
９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．００−０．８０
（１Ｈ，ｍ）、０．８５（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）。
【０３６７】実施例１９ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例１４と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０３６８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３６−
７．２８（２Ｈ，ｍ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．６６−
４．６１（１Ｈ，ｍ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、３．０
６−２．９３（２Ｈ，ｍ）、２．５２−２．４４（１
Ｈ，ｍ）、２．２０−２．１３（１Ｈ，ｍ）、１．５７
−１．４２（２Ｈ，ｍ）、０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
Ｈｚ）、０．９８−０．８１（１Ｈ，ｍ）、０．８４
（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）。
【０３６９】実施例２０ ７−クロロ−１−エトキシ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロ
キシアミノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシ
ニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例２７及び対応する出発原料を反応させ、実施例１
４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３７０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、８．７７（１Ｈ，
ｓ）、８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１３−７．０９（２
Ｈ，ｍ）、４．６３−４．５９（１Ｈ，ｍ）、４．０６
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．０４−２．９５（２
Ｈ，ｍ）、２．５１−２．４３（１Ｈ，ｍ）、２．１９
−２．１２（１Ｈ，ｍ）、１．６９−１．４１（２Ｈ，
ｍ）、１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９７
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９８−０．８０（１
Ｈ，ｍ）、０．８３（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2
＝１２Ｈｚ）。
【０３７１】実施例２１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−イソブトキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例２８及び対応する出発原料を反応させ、実施例１
と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３７２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２５−
７．４０（２Ｈ，ｍ）、７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．５０−
４．７０（１Ｈ，ｍ）、３．７８（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝
１２Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．７０−３．１０（３
Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝６Ｈｚ）、１．９０−２．１５（２Ｈ，ｍ）、１．
４０−１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．００−１．２０（１
Ｈ，ｍ）、０．９９（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2
＝３Ｈｚ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，
Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３７３】実施例２２ １−エトキシ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）
−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例２９及び対応する出発原料を反応させ、実施例１
４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３７４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７７（１Ｈ，
ｓ）、８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３１
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．５
４−４．６６（１Ｈ，ｍ）、４．０５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、２．９６−３．０７（２Ｈ，ｍ）、２．４９
−２．５２（１Ｈ，ｍ）、２．１２−２．２０（１Ｈ，
ｍ）、１．４０−１．５８（２Ｈ，ｍ）、１．２８（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、０．９８−０．８４（１Ｈ，ｍ）、０．８４（６
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３７５】実施例２３ ３Ｒ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例１と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０３７６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４２（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、７．
１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、４．５８（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
３．８３（３Ｈ，ｓ）、２．７０−３．１０（３Ｈ，
ｍ）、２．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝
５Ｈｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ
2 ＝９Ｈｚ）、１．４０−１．６０（２Ｈ，ｍ）、０．
９５−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８４（６Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６Ｈｚ）。
【０３７７】実施例２４ ３Ｒ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造。
【０３７８】対応する出発原料を用い、実施例１４と同
様にして上記目的化合物を得た。
【０３７９】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２５−
７．４０（２Ｈ，ｍ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６６
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、２．
８０−３．１０（２Ｈ，ｍ）、２．４０−２．６０（１
Ｈ，ｍ）、２．０５−２．３０（１Ｈ，ｍ）、１．３０
−１．６０（２Ｈ，ｍ）、１．０７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
Ｈｚ）、０．７５−１．０５（１Ｈ，ｍ）、０．８１
（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝４Ｈｚ）。
【０３８０】実施例２５ １−エトキシメチル−３（Ｒ又はＳ）−〔４−（Ｎ−ヒ
ドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミ
ノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例３０の化合物を接触還元処理した化合物と対応す
る出発原料を反応させ、実例１と同様にして上記目的化
合物（ジアステレオマー１：１混合物）を得た。
【０３８１】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４０（１Ｈ，ｂｓ）、８．７６＋８．
７２（１Ｈ，ｓ）、８．４４＋８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ）、７．２９−７．２６（３Ｈ，ｍ）、７．０
９−７．０３（１Ｈ，ｍ）、５．５６＋５．５４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、５．０２＋５．０１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、４．５３−４．４８（１Ｈ，
ｍ）、３．５１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．００−
２．８２（３Ｈ，ｍ）、２．２５−１．９８（２Ｈ，
ｍ）、１．７０−１．４５（２Ｈ，ｍ）、１．１１（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．１４−１．０７（１Ｈ，
ｍ）、０．９１−０．８３（６Ｈ，ｍ）。
【０３８２】実施例２６ １−ヘキシルオキシメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロ
キシアミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例３１の化合物を接触還元処理した化合物と対応す
る出発原料を反応させ、実施例１と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０３８３】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ
1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、５．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１１Ｈｚ）、５．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、
４．５６−４．４５（１Ｈ，ｍ）、３．４５（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）、３．００−２．８０（３Ｈ，ｍ）、
２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈ
ｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１
５Ｈｚ）、１．７５−１．５５（１Ｈ，ｍ）、１．５４
−１．４５（３Ｈ，ｍ）、１．２０−１．０７（７Ｈ，
ｍ）、０．９１−０．７８（９Ｈ，ｍ）。
【０３８４】実施例２７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメチル−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例３２の化合物を接触還元処理した化合物と対応す
る出発原料を反応させ、実施例１と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０３８５】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３９（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７１（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
７．１５−７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０７（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ）、５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５２
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．
２６（３Ｈ，ｓ）、２．７０−３．１０（３Ｈ，ｍ）、
２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈ
ｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
８Ｈｚ）、１．３５−１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．００
−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８８（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３８６】実施例２８ １−ベンジル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）
−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルの製造 参考例３３の化合物をトリフルオロ酢酸処理した化合物
と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にして
上記目的化合物を得た。
【０３８７】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３９（１Ｈ，ｓ）、８．７２（１Ｈ，
ｓ）、８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３４−
７．１４（８Ｈ，ｍ）、６．９８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、５．１０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、４．６９−４．５９（１
Ｈ，ｍ）、３．０７−２．９７（２Ｈ，ｍ）、２．８１
−２．７５（１Ｈ，ｍ）、２．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．０３（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、１．６５−１．４５
（２Ｈ，ｍ）、１．１４−１．０７（１Ｈ，ｍ）、０．
８７１（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2＝１６Ｈ
ｚ）。
【０３８８】実施例２９ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−（４−メトキシカルボニ
ルベンジル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例３４の化合物をトリフルオロ酢酸処理した化合物
と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にして
上記目的化合物を得た。
【０３８９】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３９（１Ｈ，ｓ）、８．７２（１Ｈ，
ｓ）、８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．９１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１
６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．００（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、５．
３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、５．１７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．７３−４．６３（１Ｈ，
ｍ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、３．０９−２．９９（２
Ｈ，ｍ）、２．８８−２．７３（１Ｈ，ｍ）、２．２０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．
０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、
１．６５−１．４６（２Ｈ，ｍ）、１．１３−１．０７
（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1＝６Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）。
【０３９０】実施例３０ １−（４−カルボキシベンジル）−３（Ｒ又はＳ）−
〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルス
クシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−（４−メトキシカル
ボニルベンジル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル２
００ｍｇのメタノール５ｍｌ及びテトラヒドロフラン５
ｍｌの混合溶液に、室温で１Ｎ水酸化ナトリウム２．０
ｍｌを加え一夜撹拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え中和
し、減圧濃縮した。得られた残渣に酢酸エチル２０ｍｌ
及び水２０ｍｌを加え、振りまぜ水層を分取し、さらに
酢酸エチル層を飽和重曹水で１回洗浄した。水層と飽和
重曹水とを合わせ、氷冷撹拌下、１Ｎ塩酸でｐＨ２に調
整し、酢酸エチル３０ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を
飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧濃縮した。得られた結晶性残渣にジエチルエー
テルを加え、濾取し乾燥した。収量１１０ｍｇ。
【０３９１】上記で得られた化合物を実施例１と同様に
して上記目的化合物（ジアステレオマー１：１混合物）
を得た。
【０３９２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１２．８５（１Ｈ，ｂｓ）、１０．４１＋１
０．３９（１Ｈ，ｓ）、８．７５＋８．７２（１Ｈ，
ｓ）、８．４９＋８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３４（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０２−
６．９１（２Ｈ，ｍ）、５．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７
Ｈｚ）、５．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．７
０−４．６２（１Ｈ，ｍ）、３．０８−２．８１（３
Ｈ，ｍ）、２．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2
＝１５Ｈｚ）、２．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝９Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、１．５４−１．４４（２Ｈ，ｍ）、
１．１２−１．０３（１Ｈ，ｍ）、０．９０−０．８２
（６Ｈ，ｍ）。
【０３９３】実施例３１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−（４−メ
トキシベンジル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例３５及び対応する出発原料を反応させ、実施例１
４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０３９４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１９−７．１４（３
Ｈ，ｍ）、７．０１−６．９５（２Ｈ，ｍ）、６．８７
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、５．１０（２Ｈ，ｂｓ）、
４．６８−４．６３（１Ｈ，ｍ）、３．７０（３Ｈ，
ｓ）、３．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．
５６−２．４９（１Ｈ，ｍ）、２．２２−２．１６（１
Ｈ，ｍ）、１．５８−１．４４（２Ｈ，ｍ）、１．０１
−０．８０（１Ｈ，ｍ）、０．９９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７
Ｈｚ）、０．８５（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝
１９Ｈｚ）。
【０３９５】実施例３２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−フタルイミドメチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例３６の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０３９６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３６（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．８４
（４Ｈ，ｓ）、７．２５（３Ｈ，ｓ）、６．９０−７．
１０（１Ｈ，ｍ）、６．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、４．４７
（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．７０−３．００（３
Ｈ，ｍ）、２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝７Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．４０−１．８０（２Ｈ，
ｍ）、１．００−１．２５（１Ｈ，ｍ）、０．８８（６
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１７Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０３９７】実施例３３ １−エトキシカルボニルメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒ
ドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミ
ノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例３７の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０３９８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２６
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．８
０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．５６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．４２−４．６５（１Ｈ，ｍ）、
４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２．７０−３．１
０（３Ｈ，ｍ）、２．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１
４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．４０−１．７８（２Ｈ，
ｍ）、１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．００−
１．２５（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１５Ｈｚ，Ｊ2＝６Ｈｚ）。
【０３９９】実施例３４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−カルボキシメチル−３，
４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例１１と同様にして得た
３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンジルオキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−エトキシカルボニル
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルを出発原料と
し、実施例３０と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４００】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４０（１Ｈ，ｓ）、８．７５（１Ｈ，
ｂｒｓ）、８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．２
１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．９８（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．
５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．４７（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、４．０６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、２．６５−３．０５（３Ｈ，
ｍ）、２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
７Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝８Ｈｚ）、１．４０−１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．
００−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０４０１】実施例３５ ７−クロロ−１−エトキシカルボニルメチル−３Ｓ−
〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルス
クシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例３８の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４０２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１０−７．２０（２
Ｈ，ｍ）、４．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．
６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．４５−４．６０
（１Ｈ，ｍ）、４．１４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
２．６０−３．１０（３Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．０１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．２０
−１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７
Ｈｚ）、１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８６
（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０４０３】実施例３６ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−プロポキシカルボニルメ
チル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例４１の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４０４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２７
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．８
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．５９（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．４０−４．５５（１Ｈ，ｍ）、
４．０４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２．６５−３．１
０（３Ｈ，ｍ）、２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１
４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．４０−１．７５（４Ｈ，
ｍ）、１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．７５−
１．００（９Ｈ，ｍ）。
【０４０５】実施例３７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−イソプロポキシカルボニ
ルメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例４２の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４０６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２７
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．９
３（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、４．
７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．５４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．４５−４．６５（１Ｈ，
ｍ）、２．７０−３．１５（３Ｈ，ｍ）、２．１８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．０１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．
４０−１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．２１（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝２Ｈｚ）、１．１９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、１．
００−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０４０７】実施例３８ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニル
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例４３の化合物を接触還元により処理した化合物と
対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にして上
記目的化合物を得た。
【０４０８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７１（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．２５−７．３０（２Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、４．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．４４
−４．５４（２Ｈ，ｍ）、２．７５−３．０２（３Ｈ，
ｍ）、１．９８−２．２６（２Ｈ，ｍ）、１．６１−
１．７１（１Ｈ，ｍ）、１．４２−１．５１（１Ｈ，
ｍ）、１．３９（９Ｈ，ｓ）、１．０１−１．１１（１
Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ
2 ＝７Ｈｚ）。
【０４０９】実施例３９ １−アミノカルボニルメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒド
ロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例４４の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４１０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３９（１Ｈ，ｓ）、８．７３（１Ｈ，
ｓ）、８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．５８
（１Ｈ，ｓ）、７．１０−７．３０（３Ｈ，ｍ）、７．
０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．８４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、
４．５０−４．７０（１Ｈ，ｍ）、４．１９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、２．７０−３．１０（３Ｈ，
ｍ）、２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
６Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝８Ｈｚ）、１．４０−１．７５（２Ｈ，ｍ）、０．
９５−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０４１１】実施例４０ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−（Ｎ−メチルアミノカル
ボニルメチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 参考例４５の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４１２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７１（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）、７．２３−７．２
７（２Ｈ，ｍ）、７．０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．５７−４．６
９（２Ｈ，ｍ）、４．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈ
ｚ）、２．９２−３．０５（２Ｈ，ｍ）、２．７４−
２．８０（１Ｈ，ｍ）、２．６０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ）、１．９８−２．２５（２Ｈ，ｍ）、１．４２−
１．６８（２Ｈ，ｍ）、１．０１−１．１２（１Ｈ，
ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝
７Ｈｚ）。
【０４１３】実施例４１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−（Ｎ−プロピルアミノカ
ルボニルメチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例４６の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４１４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７２（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
８．０８（１Ｈ，ｂｒｓ）、７．２２−７．２７（２
Ｈ，ｍ）、７．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．８
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．５４−４．６８（２
Ｈ，ｍ）、４．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、２．
９４−３．０５（３Ｈ，ｍ）、２．７５−２．８０（１
Ｈ，ｍ）、１．９６−２．２５（２Ｈ，ｍ）、１．４２
−１．６８（２Ｈ，ｍ）、１．０１−１．１２（１Ｈ，
ｍ）、０．８０−０．９１（９Ｈ，ｍ）。
【０４１５】実施例４２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−（Ｎ−メトキシアミノカ
ルボニルメチル）−３、４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例４７の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４１６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１１．４０（１Ｈ，ｓ）、１０．３９（１
Ｈ，ｓ）、８．７２（１Ｈ，ｓ）、８．２７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−７．４０（２Ｈ，ｍ）、
７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．９１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈ
ｚ）、４．４０−４．７０（１Ｈ，ｍ）、４．２５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．５９（３Ｈ，ｓ）、２．
７０−３．１０（３Ｈ，ｍ）、２．１９（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．３０−１．
８０（２Ｈ，ｍ）、０．９０−１．２０（１Ｈ，ｍ）、
０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈ
ｚ）。
【０４１７】実施例４３ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノカルボニルメチル）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルの製造 参考例４８の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４１８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７２（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．２０−７．２６（２Ｈ，ｍ）、７．００（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．４６
−４．５６（２Ｈ，ｍ）、３．０９（３Ｈ，ｓ）、２．
７３−３．０２（６Ｈ，ｍ）、１．９５−２．２５（２
Ｈ，ｍ）、１．４２−１．７０（２Ｈ，ｍ）、１．０１
−１．１２（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０４１９】実施例４４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−モルホリノカルボニルメ
チル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例４９の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４２０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２４
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．９
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．５７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．４０−４．６０（１Ｈ，ｍ）、
３．５０−３．７５（８Ｈ，ｍ）、２．７０−３．２０
（３Ｈ，ｍ）、２．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１
４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．４０−１．８０（２Ｈ，
ｍ）、０．９５−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０４２１】実施例４５ １−アリル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−
２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−
３．４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例５０の化合物及び対応する出発原料を反応させ、
実施例１６と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４２２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、８．７７（１Ｈ，
ｓ）、８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２５
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０６−６．９９（２
Ｈ，ｍ）、５．９０−５．８０（１Ｈ，ｍ）、５．１５
−５．０６（２Ｈ，ｍ）、４．６９−４．５３（２Ｈ，
ｍ）、４．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、３．０４
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９３（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．５４−２．４７
（１Ｈ，ｍ）、２．２０−２．１４（１Ｈ，ｍ）、１．
６０−１．４２（２Ｈ，ｍ）、０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、０．９８−０．８０（１Ｈ，ｍ）、０．８
４（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１７Ｈｚ）。
【０４２３】実施例４６ １−シンナミル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミ
ノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕ア
ミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例５１の化合物及び対応する出発原料を反応させ、
実施例１６と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４２４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７７（１Ｈ，
ｓ）、８．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．４０
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．３２−７．２１（５
Ｈ，ｍ）、７．１６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０
２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１６Ｈｚ）、６．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１７Ｈｚ）、４．６７−４．５２（２Ｈ，
ｍ）、３．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．
５６−２．４９（１Ｈ，ｍ）、２．２１−２．１５（１
Ｈ，ｍ），１．６１−１．４３（２Ｈ，ｍ），０．９８
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９９−０．７９（１
Ｈ，ｍ）、０．８４（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2
＝１８Ｈｚ）。
【０４２５】実施例４７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メチル−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルの製造 参考例５２の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４２６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３３−
７．２４（２Ｈ，ｍ）、７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．４９−
４．３９（１Ｈ，ｍ）、３．２８（３Ｈ，ｓ）、２．９
７−２．８９（２Ｈ，ｍ）、２．８５−２．７３（１
Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2
＝１４Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、１．７３−１．６２（１Ｈ，ｍ）、
１．５４−１．４２（１Ｈ，ｍ）、１．１５−１．００
（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1＝６Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）。
【０４２７】実施例４８ １−エチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−
２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルの製造 参考例５３の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４２８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−
７．３５（２Ｈ，ｍ）、７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．３５−
４．５０（１Ｈ，ｍ）、３．８０−４．１０（２Ｈ，
ｍ）、２．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、２．７０−
２．９０（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．４０−１．８０
（２Ｈ，ｍ）、１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
１．００−１．２５（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０４２９】実施例４９ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−プロピル
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例５０の化合物及び対応する出発原料を反応させ、
実施例１４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４３０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４７（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２８−
７．２５（２Ｈ，ｍ）、７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．５２−
４．４７（１Ｈ，ｍ）、３．８４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、３．０５−２．８０（２Ｈ，ｍ）、２．５１−
２．４６（１Ｈ，ｍ）、２．２０−２．１６（１Ｈ，
ｍ）、１．５９−１．４６（４Ｈ，ｍ）、０．９６（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９１−０．８０（１０Ｈ，
ｍ）。
【０４３１】実施例５０ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−（３−フ
ェニルプロピル）−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例５１の化合物及び対応する出発原料を反応させ、
実施例１４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４３２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４７（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３０−
７．１５（７Ｈ，ｍ）、７．０７−６．９８（２Ｈ，
ｍ）、４．５１−４．４６（１Ｈ，ｍ）、３．９２（２
Ｈ，ｔ）、２．９８−２．８８（２Ｈ，ｍ）、２．６４
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．５１−２．４６（１
Ｈ，ｍ）、２．２０−２．１３（１Ｈ，ｍ）、１．８７
−１．７８（２Ｈ，ｍ）、１．６５−１．３８（２Ｈ，
ｍ）、０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９８−
０．８０（１Ｈ，ｍ）、０．８４（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１７Ｈｚ）。
【０４３３】実施例５１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−３．４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例５５の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０４３４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，
ｓ）、８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１５−
７．３５（３Ｈ，ｍ）、６．９０−７．１０（１Ｈ，
ｍ）、４．８５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）、４．４６
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．
９０−４．０５（１Ｈ，ｍ）、３．８４（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．４５−３．６５
（２Ｈ，ｍ）、２．７０−３．００（３Ｈ，ｍ）、２．
１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、
２．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈ
ｚ）、１．３５−１．７５（２Ｈ，ｍ）、０．９５−
１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０４３５】実施例５２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−メチルスクシニル〕アミノ−１−メチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例５２の化合物及び対応する出発原料を反応させ、
実施例１６と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４３６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７６（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．２５−７．３３（２Ｈ，ｍ）、７．１１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、４．４４−４．５４（１Ｈ，ｍ）、３．２８（３
Ｈ，ｓ）、２．８９−３．０７（２Ｈ，ｍ）、２．４９
−２．５３（１Ｈ，ｍ）、２．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．４１−１．６２（２
Ｈ，ｍ）、０．９６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８
４−０．９６（１Ｈ，ｍ）、０．８４（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝１７Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０４３７】実施例５３ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−アセトキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３．４−ジヒ
ドロカルボスチリルの製造 無水酢酸と対応する出発原料を反応させ、実施例８と同
様にして上記目的化合物を得た。
【０４３８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１１．６０（１Ｈ，ｓ）、８．３４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−７．４０（２Ｈ，ｍ）、
７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１２
Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、２．６
０−３．１０（３Ｈ，ｍ）、２．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．１７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．１５（３
Ｈ，ｓ）、１．４０−１．８０（２Ｈ，ｍ）、１．０５
−１．４０（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０４３９】実施例５４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンゾイルオキシアミノ）−２Ｒ−
イソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−メ
トキシ−３．４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例８と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０４４０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１２．０８（１Ｈ，ｓ）、８．６４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．６０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３７−７．２９（２
Ｈ，ｍ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０
７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６８−４．６３（１
Ｈ，ｍ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、３．０８（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、２．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７
Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．５５−２．４１（２Ｈ，
ｍ）、１．６０−１．５３（２Ｈ，ｍ）、１．２１−
１．１５（１Ｈ，ｍ）、１．１０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、０．８７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０４４１】実施例５５ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３（Ｒ又はＳ）−フタルイミドメチルスクシニ
ル〕アミノ−１−メトキシ−３．４−ジヒドロカルボス
チリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例７と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０４４２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４７（１Ｈ，ｓ）、８．６８（１Ｈ，
ｓ）、８．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、７．８８−
７．８０（４Ｈ，ｍ）、７．３３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、４．６１−４．５６（１Ｈ，ｍ）、３．８９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝３Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、３．
８２（３Ｈ，ｓ）、３．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、３．０６−２．８９（２Ｈ，
ｍ）、２．７９−２．６３（２Ｈ，ｍ）、１．６７−
１．５４（３Ｈ，ｍ）、０．８６（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）。
【０４４３】実施例５６ ３−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチ
ル−３（Ｒ又はＳ）−フタルイミドメチルスクシニル〕
アミノ−１−メチル−３．４−ジヒドロカルボスチリル
の製造 参考例５２の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料を反応させ、実施例７と同様にし
て上記目的化合物（ジアステレオマー１：１混合物）を
得た。
【０４４４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．５０＋１０．４５（１Ｈ，ｓ）、８．
７１＋８．６８（１Ｈ，ｓ）、８．６６＋８．５３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．８８−７．８０（４Ｈ，
ｍ）、７．３２−７．２０（２Ｈ，ｍ）、７．１４−
６．９９（２Ｈ，ｍ）、４．５６−４．４０（１Ｈ，
ｍ）、４，０５＋３．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１０Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１３Ｈｚ）、３．７０＋３．４７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝４Ｈｚ，Ｊ2 ＝１３Ｈｚ）、３．２８（３
Ｈ，ｓ）、３．０１−２．８９（２Ｈ，ｍ）、２．８２
−２．６５（２Ｈ，ｍ）、１．７０−１．４９（３Ｈ，
ｍ）、０．９１−０．８２（６Ｈ，ｍ）。
【０４４５】実施例５７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−（２−プ
ロピニル）−３．４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例５６及び対応する出発原料を反応させ、実施例１
６と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４４６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７７（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．２０−７．３６（３Ｈ，ｍ）、７．０７（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１８
Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、４．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１８Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、４．４８−４．５８（１
Ｈ，ｍ）、３．００（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．
９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、
２．４６−２．５４（２Ｈ，ｍ）、２．１４−２．２０
（１Ｈ，ｍ）、１．５８−１．６６（１Ｈ，ｍ）、１．
４６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝３Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、
０．９７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９７−０．８
５（１Ｈ，ｍ）、０．８５（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０４４７】実施例５８ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−３Ｓ−アミノ
メチル−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−１−メ
トキシ−３．４−ジヒドロカルボスチリルの製造 ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−フタルイミドメチルスクシニル〕アミノ−
１−メトキシ−３．４−ジヒドロカルボスチリル５０ｍ
ｇを、ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶解し、ヒドラジ
ン・１水和物１９μｌを加え、室温下１時間攪拌した。
反応溶液を減圧下で濃縮し、メタノール１ｍｌを加え、
不溶物を瀘別したのち、濾液を真空蒸発させ、析出して
いる結晶に、ジエチルエーテル３ｍｌを加え、濾取し、
上記目的化合物を白色固体として得た。収量７ｍｇ。
【０４４８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．５６（１Ｈ，ｂｒｓ）、９．５６（１
Ｈ，ｓ）、８．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３
２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、
７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．６８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１２
Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、２．４
０−３．２０（６Ｈ，ｍ）、０．９０−１．８０（３
Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１８Ｈｚ，Ｊ
2 ＝６Ｈｚ）。
【０４４９】実施例５９ １−アミノカルボニルメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒド
ロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−アセチルチ
オメチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルの製造 参考例４４で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４５０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．６２（１Ｈ，ｓ）、８．９２（１Ｈ，
ｓ）、８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．５７
（１Ｈ，ｓ）、７．１０−７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．
０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．８６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝７Ｈｚ）、４．５５−４．７５（１Ｈ，ｍ）、４．
６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．２０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、２．８０−３．２０（４Ｈ，
ｍ）、２．４０−２．６５（１Ｈ，ｍ）、２．３１（３
Ｈ，ｓ）、２．２０−２．４０（１Ｈ，ｍ）、１．４０
−１．７０（２Ｈ，ｍ）、０．８０−１．００（１Ｈ，
ｍ）、０．８７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８１
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０４５１】実施例６０ ７−クロロ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−
２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例５９の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料とを反応させ、実施例１と同様に
して上記目的化合物を得た。
【０４５２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７２（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１１−７．１
６（２Ｈ，ｍ）、４，６３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１１Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、２．９８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、２．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ）、２．７５−２．７６（１Ｈ，ｍ）、２．１
６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、
２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈ
ｚ）、１．６０−１．６５（１Ｈ，ｍ）、１．４２−
１．４９（１Ｈ，ｍ）、１．０２−１．１２（１Ｈ，
ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１
２Ｈｚ）。
【０４５３】実施例６１ １−カルボキシメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシ
アミノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシニ
ル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例３９で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４５４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７５（１Ｈ，
ｂｓ）、８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２８
−７．２２（２Ｈ，ｍ）、７．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８
Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、４．５７−４．５２（１
Ｈ，ｍ）、４．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、３．
０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９１（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．５１−２．
４７（１Ｈ，ｍ）、２．２１−２．１５（１Ｈ，ｍ）、
１．６３−１．４２（２Ｈ，ｍ）、０．９９−０．８０
（１０Ｈ，ｍ）、０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
０．８５（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１８Ｈ
ｚ）。
【０４５５】実施例６２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例６０で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４５６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７７（１Ｈ，
ｓ）、８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１５−
７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、５．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．０２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５７（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．２７（３Ｈ，
ｓ）、３．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、２．９１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．
４０−２．６０（１Ｈ，ｍ）、２．１０−２．３０（１
Ｈ，ｍ）、１．５０−１．７０（１Ｈ，ｍ）、１．４６
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、０．８０−１．００（１
Ｈ，ｍ）、０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８
８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８１（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ）。
【０４５７】実施例６３ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−アセチルチオメチルスクシニル〕アミノ−
１−メトキシメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリル
の製造 参考例３２で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４５８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．６１（１Ｈ，ｓ）、８．９１（１Ｈ，
ｓ）、８．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１５−
７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、５．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．０３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．６０（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．２７（３Ｈ，
ｓ）、２．８０−３．２０（４Ｈ，ｍ）、２．４０−
２．７０（１Ｈ，ｍ）、２．２０−２．４０（１Ｈ，
ｍ）、２．３０（３Ｈ，ｓ）、１．４０−１．７０（２
Ｈ，ｍ）、０．８０−１．００（１Ｈ，ｍ）、０．８７
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、０．８１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６Ｈｚ）。
【０４５９】実施例６４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メルカプトメチルスクシニル〕アミノ−１
−メトキシメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 対応する出発原料を用い、実施例５と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０４６０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１
５−７．３０（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、５．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．
０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５３（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．２７（３
Ｈ，ｓ）、３．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．
９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、
２．４０−２．７０（３Ｈ，ｍ）、２．２０−２．４０
（１Ｈ，ｍ）、１．４０−１．７０（２Ｈ，ｍ）、０．
８０−１．００（１Ｈ，ｍ）、０．８６（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、０．８２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０４６１】実施例６５ １−エトキシ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）
−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルの製造 参考例２９の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料とを反応させ、実施例１と同様に
して上記目的化合物を得た。
【０４６２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３５−
７．２６（２Ｈ，ｍ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．６３−
４．５３（１Ｈ，ｍ）、４．０４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、３．０１−２．９２（２Ｈ，ｍ）、２．８０−
２．７２（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、１．６４−１．４３
（２Ｈ，ｍ）、１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
１．１２−１．０４（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１２Ｈｚ）。
【０４６３】実施例６６ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエトキシメチル
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例６１の化合物を接触還元した化合物と対応する出
発原料とを反応させ、実施例１と同様にして、上記目的
化合物を得た。
【０４６４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４１（１Ｈ，ｓ）、８．７３（１Ｈ，
ｓ）、８．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２５−
７．４０（３Ｈ，ｍ）、７．００−７．１５（１Ｈ，
ｍ）、５．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．０２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５１（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．６０（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ）、３．４４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈ
ｚ）、３．２２（３Ｈ，ｓ）、２．７０−３．１０（３
Ｈ，ｍ）、２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝７Ｈｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．４０−１．８０（２Ｈ，
ｍ）、１．００−１．３０（１Ｈ，ｍ）、０．９０（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）。
【０４６５】実施例６７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−プロピルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例６２で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４６６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７８（１Ｈ，
ｓ）、８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３６−
７．２９（２Ｈ，ｍ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．６７−
４．６２（１Ｈ，ｍ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、３．０
４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、２．９４（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．５２−２．
４３（１Ｈ，ｍ）、２．１１−２．０９（１Ｈ，ｍ）、
１．５８−１．４１（２Ｈ，ｍ）、１．２４−１．０３
（４Ｈ，ｍ）、０．９６−０．８０（１０Ｈ，ｍ）。
【０４６７】実施例６８ ３Ｓ−〔３−ベンジル−４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）
−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例６３で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４６８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．２８（１Ｈ，ｓ）、８．６９−８．６
５（２Ｈ，ｍ）、７．３６−７．０３（９Ｈ，ｍ）、
４．６８−４．６３（１Ｈ，ｍ）、３．８４（３Ｈ，
ｓ）、３．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．
７５−２．７１（２Ｈ，ｍ）、２．５８−２．５５（１
Ｈ，ｍ）、２．４５−２．３９（１Ｈ，ｍ）、１．６２
−１．４８（２Ｈ，ｍ）、１．０３−０．９７（１Ｈ，
ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１
６Ｈｚ）。
【０４６９】実施例６９ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−（４−メトキシベンジル）スクシニル〕アミ
ノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例６４で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４７０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．２５（１Ｈ，ｓ）、８．６５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．６４（１Ｈ，ｓ）、７．３６−
７．２７（２Ｈ，ｍ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．０５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７
Ｈｚ）、６．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、６．７９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、４．６８−４．６３（１
Ｈ，ｍ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．７１（３Ｈ，
ｓ）、３．１１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．
６８−２．５６（３Ｈ，ｍ）、２．３９−２．３４（１
Ｈ，ｍ）、１．６４−１．５１（２Ｈ，ｍ）、１．００
−０．９６（１Ｈ，ｍ）、０．８６（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝７Ｈｚ，Ｊ2＝１６Ｈｚ）。
【０４７１】実施例７０ １−カルボキシメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシ
アミノ）−２Ｒ−イソブチル−３（Ｒ又はＳ）−フタル
イミドメチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルの製造 参考例３９及び対応する出発原料とを反応させ、実施例
１４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４７２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．５０（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，
ｂｓ）、８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．８８
−７．８０（４Ｈ，ｍ）、７．２８−７．２３（２Ｈ，
ｍ）、７．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．９４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１８Ｈｚ）、４．５０−４．３７（２Ｈ，ｍ）、３．９
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１０Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、
３．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈ
ｚ）、３．１７−２．９２（２Ｈ，ｍ）、２．８４−
２．６５（２Ｈ，ｍ）、１．７１−１．５４（２Ｈ，
ｍ）、１．００−０．９６（１Ｈ，ｍ）、０．８６（６
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１９Ｈｚ）。
【０４７３】実施例７１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ
エトキシメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 参考例６１の化合物を接触還元した化合物と対応する出
発原料とを反応させ、実施例６２と同様にして上記目的
化合物を得た。
【０４７４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７８（１Ｈ，
ｓ）、８．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−
７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．００−７．１０（１Ｈ，
ｍ）、５．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．０４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５５（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．６０（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝３Ｈｚ）、３．４４（２Ｈ，
ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝３Ｈｚ）、３．２２（３
Ｈ，ｓ）、３．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１４Ｈｚ）、２．
９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、
２．４５−２．６０（１Ｈ，ｍ）、２．１０−２．３０
（１Ｈ，ｍ）、１．５０−１．７０（１Ｈ，ｍ）、１．
４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、０．８０−１．１０
（１Ｈ，ｍ）、０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
０．８８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８１（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０４７５】実施例７２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｓ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルの製造 参考例６５で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０４７６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４１（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７５（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．３２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、４．６０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１１Ｈｚ，Ｊ2 ＝
８Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、２．９８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、２．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、２．７９−２．８４（１Ｈ，ｍ）、２．２１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、２．０２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝９Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、１．
４２−１．５１（２Ｈ，ｍ）、１．０２−１．１２（１
Ｈ，ｍ）、０．８４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）。
【０４７７】実施例７３ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメトキシエチル
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例６６の化合物を接触還元した化合物と対応する出
発原料とを反応させ、実施例１と同様にして上記目的化
合物を得た。
【０４７８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，
ｓ）、８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−
７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、４．５２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ）、４．４０−
４．６０（１Ｈ，ｍ）、４．０９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、３．６３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）、３．１７
（３Ｈ，ｓ）、２．７０−３．００（３Ｈ，ｍ）、２．
１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、
２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈ
ｚ）、１．４０−１．８０（２Ｈ，ｍ）、１．００−
１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．９０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、０．８４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０４７９】実施例７４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−（３−フェニルプロピル）スクシニル〕アミ
ノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例６７で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４８０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．５２（１Ｈ，ｓ）、８．８０（１Ｈ，
ｓ）、８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３５
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．３０−７．１５（７
Ｈ，ｍ）、７．１０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．６
６−４．６１（１Ｈ，ｍ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、
２．９６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、２．８２（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．５６
−２．４３（３Ｈ，ｍ）、２．１４−２．０９（１Ｈ，
ｍ）、１．５７−１．２９（６Ｈ，ｍ）、０．９５−
０．９２（１Ｈ，ｍ）、０．８３（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１２Ｈｚ）。
【０４８１】実施例７５ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−（２−メチルベンジル）スクシニル〕アミノ
−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 参考例６８で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４８２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．２１（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．６０（１Ｈ，ｓ）、７．３３
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０
７−６．９６（５Ｈ，ｍ）、４．６８−４．６２（１
Ｈ，ｍ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．１５（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６
Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．７５−２．７１（２Ｈ，
ｍ）、２．６１−２．５６（１Ｈ，ｍ）、２．４２−
２．３７（１Ｈ，ｍ）、２．２２（３Ｈ，ｓ）、１．６
３−１．４７（２Ｈ，ｍ）、１．００−０．９６（１
Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2
＝１７Ｈｚ）。
【０４８３】実施例７６ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−（３−メチルベンジル）スクシニル〕アミノ
−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 参考例６９で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４８４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．２７（１Ｈ，ｓ）、８．６７−８．６
４（２Ｈ，ｍ）、７．３６−７．２７（２Ｈ，ｍ）、
７．１８−６．８５（６Ｈ，ｍ）、４．６８−４．６３
（１Ｈ，ｍ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．１２（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．７５−２．４９（３
Ｈ，ｍ）、２．４４−２．３８（１Ｈ，ｍ）、２．２６
（３Ｈ，ｓ）、１．６４−１．４７（２Ｈ，ｍ）、１．
０１−０．９７（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）。
【０４８５】実施例７７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−（４−メチルベンジル）スクシニル〕アミノ
−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製
造 参考例７０で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４８６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．２５（１Ｈ，ｓ）、８．６６−８．６
３（２Ｈ，ｍ）、７．３６−７．２７（２Ｈ，ｍ）、
７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０８−７．０
２（３Ｈ，ｍ）、６．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
４．６８−４．６３（１Ｈ，ｍ）、３．８４（３Ｈ，
ｓ）、３．１１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、２．９８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．
７５−２．４９（３Ｈ，ｍ）、２．４１−２．３５（１
Ｈ，ｍ）、２．２５（３Ｈ，ｓ）、１．６１−１．４７
（２Ｈ，ｍ）、１．００−０．８２（７Ｈ，ｍ）、０．
８６（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）。
【０４８７】実施例７８ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−ヘプチ
ルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルの製造 参考例７３で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０４８８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、７．
１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１２Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、２．８５
−３．１０（２Ｈ，ｍ）、２．５５−２．８０（１Ｈ，
ｍ）、２．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2＝
７Ｈｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝７Ｈｚ）、１．０５−１．６０（１２Ｈ，ｍ）、
０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）。
【０４８９】実施例７９ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−アセトキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメチル−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 無水酢酸と対応する出発原料とを反応させ、実施例８と
同様にして上記目的化合物を得た。
【０４９０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１１．６３（１Ｈ，ｓ）、８．３３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−７．３５（３Ｈ，ｍ）、
７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．４９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈ
ｚ）、４．５３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝
８Ｈｚ）、３．２６（３Ｈ，ｓ）、２．９０−３．１０
（２Ｈ，ｍ）、２．７０−２．９０（１Ｈ，ｍ）、２．
３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、
２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈ
ｚ）、２．１５（３Ｈ，ｓ）、１．４０−１．８０（２
Ｈ，ｍ）、１．１０−１．３５（１Ｈ，ｍ）、０．９０
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）。
【０４９１】実施例８０ ７−クロロ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−
２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメ
チル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例７４の化合物をヒドラジンで処理した化合物と対
応する出発原料とを反応させ、実施例１と同様にして上
記目的化合物を得た。
【０４９２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７２（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、７．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝２Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、５．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈ
ｚ）、５．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、４．５５
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１１Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．
２６（３Ｈ，ｓ）、２．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈ
ｚ）、２．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．７５−
２．８４（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、１．５１−１．５９
（１Ｈ，ｍ）、１．４３−１．５３（１Ｈ，ｍ）、１．
０２−１．１２（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，
Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１３Ｈｚ）。
【０４９３】実施例８１ １−ｔ−ブトキシエチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキ
シアミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例７５の化合物を接触還元で処理した化合物と対応
する出発原料とを反応させ、実施例１と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０４９４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７０（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．２２−７．３１（３Ｈ，ｍ）、６．９９−７．０５
（１Ｈ，ｍ）、４．４３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１１Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、４．０４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１
４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．８５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1
＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．４５−３．５０（１
Ｈ，ｍ）、２．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、２．
９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．７６−２．８２
（１Ｈ，ｍ）、２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1＝８Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、１．５９−１．６７（１Ｈ，
ｍ）、１．４５−１．５４（１Ｈ，ｍ）、１．０６−
１．１３（１Ｈ，ｍ）、１．０６（９Ｈ，ｓ）、０．８
７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）。
【０４９５】実施例８２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例７６の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料とを反応させ、実施例１と同様に
して上記目的化合物を得た。
【０４９６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７１（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．２３−７．３１（３Ｈ，ｍ）、７．００−７．０６
（１Ｈ，ｍ）、４．４５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１１Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、４．０１−４．１１（２Ｈ，
ｍ）、３．４５−３．５４（２Ｈ，ｍ）、３．２３（３
Ｈ，ｓ）、２．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、２．
９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．７５−２．７９
（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、１．６２−１．６６（１Ｈ，
ｍ）、１．４３−１．５４（１Ｈ，ｍ）、１．０８−
１．１５（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）。
【０４９７】実施例８３ ３Ｒ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例７７の化合物を接触還元で処理した化合物と対応
する出発原料とを反応させ、実施例１と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０４９８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４０（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７４（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．２２−７．３１（３Ｈ，ｍ）、７．００−７．０５
（１Ｈ，ｍ）、４．４３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１１Ｈｚ）、４．０２−４．１２（２Ｈ，ｍ）、
３．４９−３．５３（２Ｈ，ｍ）、３．２４（３Ｈ，
ｓ）、２．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．９０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、２．８３−２．８８（１
Ｈ，ｍ）、２．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2
＝１４Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝９Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、１．４４−１．４７（２Ｈ，ｍ）、
１．０５−１．０７（１Ｈ，ｍ）、０．８４（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）。
【０４９９】実施例８４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−エトキ
シエチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリルの製造 ４−エトキシプロピオン酸（Ｖｌａｄｏ Ｐｒｅｌｏ
ｇ、Ｂｅｒ．，７２Ｂ，１１０３ ６（１９３９））に
オキサリルクロリドを作用させて４−エトキシプロピオ
ニルクロリドに変換した後、これに対応する出発原料を
反応させ、実施例７８と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５００】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３９（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、７．
１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０８（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１２Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．４１
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ）、３．２５−３．５０（２
Ｈ，ｍ）、２．９０−３．１０（２Ｈ，ｍ）、２．７０
−２．９０（１Ｈ，ｍ）、２．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．５０−１．８０（２
Ｈ，ｍ）、１．１１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０５０１】実施例８５ ３Ｒ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメチル−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９７２，１５，３２５に記
載の方法で得られた化合物及び対応する出発原料を用
い、実施例２７と同様にして上記目的化合物を得た。
【０５０２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４１（１Ｈ，ｓ）、８．７５（１Ｈ，
ｓ）、８．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−
７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、５．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．０１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５１（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．２６（３Ｈ，
ｓ）、２．７５−３．１０（３Ｈ，ｍ）、２．２２（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈｚ）、２．０２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝９Ｈｚ）、１．
４０−１．６０（１Ｈ，ｍ）、０．９５−１．３５（２
Ｈ，ｍ）、０．８５（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ）。
【０５０３】実施例８６ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−アセチルチオメチルスクシニル〕アミノ−
１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例４と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０５０４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．６１（１Ｈ，ｓ）、８．９１（１Ｈ，
ｓ）、８．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３４
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０
７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．６７（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，
ｓ）、２．８０−３．１５（４Ｈ，ｍ）、２．２５−
２．６５（１Ｈ，ｍ）、２．２０−２．４０（１Ｈ，
ｍ）、２．３０（３Ｈ，ｓ）、１．５０−１．７０（１
Ｈ，ｍ）、１．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、０．
９３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、０．８６（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）。
【０５０５】実施例８７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−メルカプトメチルスクシニル〕アミノ−１
−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例５と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０５０６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：８．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３
２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、
７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．５８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４
Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．１
０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９８（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．４０−２．
６５（３Ｈ，ｍ）、２．２０−２．４０（１Ｈ，ｍ）、
１．４５−１．７０（１Ｈ，ｍ）、１．５０（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、０．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１２Ｈ
ｚ）、０．８６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８２
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０５０７】実施例８８ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−（４−メトキシカルボニルベンジル）スクシ
ニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルの製造 参考例７８で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５０８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．２９（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．６６（１Ｈ，ｓ）、７．８５
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３６−７．２７（２
Ｈ，ｍ）、７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、４．６６−４．６１（１Ｈ，ｍ）、３．８
４（６Ｈ，ｓ）、３．１４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈ
ｚ）、２．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１
６Ｈｚ）、２．８１−２．７８（２Ｈ，ｍ）、２．６０
−２．５７（１Ｈ，ｍ）、２．４６−２．４０（１Ｈ，
ｍ）、１．６２−１．４８（２Ｈ，ｍ）、１．０１−
０．９７（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）。
【０５０９】実施例８９ ３Ｓ−〔３−ヘキシル−４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）
−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例７９で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５１０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、８．７７（１Ｈ，
ｓ）、８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３４
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０
６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６６−４．６１（１
Ｈ，ｍ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、２．９９（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１３Ｈｚ）、２．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝９
Ｈｚ，Ｊ2 ＝１２Ｈｚ）、２．５１−２．４２（１Ｈ，
ｍ）、２．０９−２．０５（１Ｈ，ｍ）、１．５７−
１．４１（２Ｈ，ｍ）、１．２２−１．０９（１０Ｈ，
ｍ）、０．９５−０．８０（１０Ｈ，ｍ）。
【０５１１】実施例９０ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−ブチル
−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例８０で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例６２と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５１２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４９（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、７．
１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、２．３０
−２．５０（１Ｈ，ｍ）、２．１０−２．３０（１Ｈ，
ｍ）、１．００−１．５０（６Ｈ，ｍ）、０．９５（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）。
【０５１３】実施例９１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−ブチル
スクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルの製造 参考例８０で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０５１４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，
ｓ）、８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．３２
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、７．
１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、２．８０
−３．１０（２Ｈ，ｍ）、２．５５−２．８０（１Ｈ，
ｍ）、２．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2＝
７Ｈｚ）、２．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝８Ｈｚ）、１．１０−１．６０（６Ｈ，ｍ）、０．
８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０５１５】実施例９２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３−（３，４−メチレンジオキシベンジル）スク
シニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルの製造 参考例８１で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５１６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．２８（１Ｈ，ｓ）、８．６８（１Ｈ，
ｓ）、８．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３６−
７．２７（２Ｈ，ｍ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．０５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１Ｈｚ，Ｊ2 ＝７
Ｈｚ）、６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．６０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、６．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、５．９５（２Ｈ，ｓ）、
４．６６−４．６１（１Ｈ，ｍ）、３．８４（３Ｈ，
ｓ）、３．１２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、２．９８
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）、２．
６６−２．４９（３Ｈ，ｍ）、２．３８−２．３２（１
Ｈ，ｍ）、１．６０−１．４６（２Ｈ，ｍ）、０．９９
−０．９５（１Ｈ，ｍ）、０．８６（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1
＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）。
【０５１７】実施例９３ ３Ｓ−〔３−（３−エトキシカルボニルプロピル）−４
−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシ
ニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルの製造 参考例８２で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１４と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５１８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．５３（１Ｈ，ｓ）、８．８３（１Ｈ，
ｓ）、８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３４
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０
７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６９−４．５９（１
Ｈ，ｍ）、４．０５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．８
３（３Ｈ，ｓ）、３．０８−２．９３（２Ｈ，ｍ）、
２．５１−２．４３（１Ｈ，ｍ）、２．３２−２．２２
（２Ｈ，ｍ）、２．１０−２．０６（１Ｈ，ｍ）、１．
５６−１．３１（６Ｈ，ｍ）、１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、０．９５−０．８０（７Ｈ，ｍ）、０．８
４（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１２Ｈｚ）。
【０５１９】実施例９４ １−エトキシメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシア
ミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例８３の化合物を接触還元で処理した化合物と対応
する出発原料とを反応させ、実施例１と同様にして上記
目的化合物を得た。
【０５２０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３９（１Ｈ，ｓ）、８．７２（１Ｈ，
ｓ）、８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−
７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、５．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．００
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５０（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．５１（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２．７０−３．１０（３Ｈ，ｍ）、
２．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈ
ｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
７Ｈｚ）、１．４０−１．８０（２Ｈ，ｍ）、１．１０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．００−１．２０（１
Ｈ，ｍ）、０．９０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８
５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０５２１】実施例９５ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｓ−ブトキ
シメチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例８５で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０５２２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．６９（１Ｈ，
ｓ）、８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３４
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０
８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．５８（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１２Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，
ｓ）、３．３０−３．６０（４Ｈ，ｍ）、２．９０−
３．１０（３Ｈ，ｍ）、２．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、２．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、１．２０−１．６０
（４Ｈ，ｍ）、０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０５２３】実施例９６ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２−イソブチ
ル−３−メチルチオメチルスクシニル〕アミノ−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例８７で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させ、実施例４と同様にして上記目的化合物を得た。
【０５２４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．６１（１Ｈ，ｓ）、１０．１９（１
Ｈ，ｓ）、８．８７（１Ｈ，ｓ）、８．４５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６
Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、６．９０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、４．４１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．８０−３．３０
（３Ｈ，ｍ）、２．２５−２．７０（３Ｈ，ｍ）、２．
００（３Ｈ，ｓ）、１．３０−１．７０（２Ｈ，ｍ）、
０．８０−１．１０（１Ｈ，ｍ）、０．８６（３Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）。
【０５２５】実施例９７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チル−３Ｓ−（２−チエニルチオメチル）スクシニル〕
アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルの製造 対応する出発原料を反応させた後、実施例４と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０５２６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．７０（１Ｈ，ｓ）、８．９６（１Ｈ，
ｓ）、８．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．６０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2 ＝１Ｈｚ）、７．３
３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．００−７．３０（５
Ｈ，ｍ）、４．５４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2＝７Ｈｚ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、２．８０−３．
２０（５Ｈ，ｍ）、２．３０−２．５０（１Ｈ，ｍ）、
１．４０−１．６５（２Ｈ，ｍ）、０．８０−１．００
（１Ｈ，ｍ）、０．８４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、
０．８１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）。
【０５２７】実施例９８ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｓ−ブトキ
シメチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−３，４−
ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用いて反応させた後、実施例６２と
同様にして上記目的化合物を得た。
【０５２８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４８（１Ｈ，ｓ）、１０．２６（１
Ｈ，ｓ）、８．７７（１Ｈ，ｓ）、８．３５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．８７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．４０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ
1 ＝１２Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、３．１０−３．５０
（４Ｈ，ｍ）、２．８０−３．１０（２Ｈ，ｍ）、２．
７４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝４Ｈｚ，Ｊ2 ＝１０Ｈｚ）、
２．１０−２．３０（１Ｈ，ｍ）、１．２０−１．５０
（４Ｈ，ｍ）、０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、
０．８５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０５２９】実施例９９ １−エトキシエトキシ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシ
アミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，
４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例８８で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させた後、実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５３０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７２（１Ｈ，
ｓ）、８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ）、７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ）、４．６０
（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、４．
１５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４Ｈｚ）、３．６３（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝４Ｈｚ）、３．４４（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２．８５−３．１０（２Ｈ，ｍ）、
２．６５−２．８５（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．０１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．４０
−１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．００−１．２０（１Ｈ，
ｍ）、１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８９
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、０．８４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６Ｈｚ）。
【０５３１】実施例１００ １−エトキシ−３Ｒ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）
−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例１と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０５３２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４２（１Ｈ，ｓ）、８．７６（１Ｈ，
ｓ）、８．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３１
（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１６Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、７．
１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝８Ｈｚ）、４．５６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝９Ｈｚ）、
４．０５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２．９０−３．１
０（２Ｈ，ｍ）、２．７０−２．９５（１Ｈ，ｍ）、
２．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝５Ｈ
ｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝
９Ｈｚ）、１．３５−１．６０（２Ｈ，ｍ）、１．２８
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．９５−１．２０（１
Ｈ，ｍ）、０．８５（３Ｈ，ｓ）、０．８３（３Ｈ，
ｓ）。
【０５３３】実施例１０１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメトキシエトキ
シ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例８９の化合物と対応する出発原料とを反応させた
後、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０５３４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，
ｂｒｓ）、８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２
０−７．４０（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ
1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、４．６２（２Ｈ，ｓ）、
４．５０−４．７０（１Ｈ，ｍ）、４．１５−４．２５
（２Ｈ，ｍ）、３．６０−３．８０（２Ｈ，ｍ）、３．
２８（３Ｈ，ｓ）、２．８５−３．１５（２Ｈ，ｍ）、
２．７０−２．９０（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．０１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．４０
−１．７５（２Ｈ，ｍ）、０．９５−１．２０（１Ｈ，
ｍ）、０．８９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、０．８５
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）。
【０５３５】実施例１０２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１，７−ジメトキシ−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例９０の化合物と対応する出発原料とを反応させた
後、実施例１と同様にして上記目的化合物を得た。
【０５３６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３９（１Ｈ，ｓ）、８．７３（１Ｈ，
ｓ）、８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．６０−６．７０（２
Ｈ，ｍ）、４．５７（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、３．
８２（３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、２．８９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）、２．７０−２．９０（１
Ｈ，ｍ）、２．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ
2 ＝７Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．４０−１．７５（２Ｈ，
ｍ）、１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８９（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、０．８５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）。
【０５３７】実施例１０３ １−エトキシ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）
−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−７−メトキシ
−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例９１で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させた後、実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５３８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ）、７．１９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．５５−６．７０（２
Ｈ，ｍ）、４．５４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．
０４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．７７（３Ｈ，
ｓ）、２．７０−３．００（３Ｈ，ｍ）、２．１６（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2＝７Ｈｚ）、２．０１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．
３５−１．７０（２Ｈ，ｍ）、１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８
９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８５（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ）。
【０５３９】実施例１０４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−６，７
−メチレンジオキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル
の製造 参考例９２の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料とを反応させて、実施例１と同様
にした後、ＨＰＬＣにより精製し上記目的化合物を得
た。
【０５４０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．９８
（１Ｈ，ｓ）、６．８７（１Ｈ，ｓ）、５．９９（２
Ｈ，ｓ）、４．４０−４．３７（１Ｈ，ｍ）、４．００
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）、３．４８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
６Ｈｚ）、３．２３（３Ｈ，ｓ）、２．８０−２．７５
（３Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、１．６３−１．６１（１Ｈ，
ｍ）、１．４７−１．４４（１Ｈ，ｍ）、１．１２−
１．０６（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）。
【０５４１】実施例１０５ ３Ｒ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−６，７
−メチレンジオキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル
の製造 参考例９２の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料とを反応させ、実施例１と同様に
した後、ＨＰＬＣにより精製し上記目的化合物を得た。
【０５４２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．４０（１Ｈ，ｓ）、８．７４（１Ｈ，
ｓ）、８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．９８
（１Ｈ，ｓ）、６．８８（１Ｈ，ｓ）、５．９９（２
Ｈ，ｓ）、４．４０−４．３２（１Ｈ，ｍ）、４．０１
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈｚ）、３．４８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５Ｈｚ）、３．２３（３Ｈ，ｓ）、２．８３−２．７５
（３Ｈ，ｍ）、２．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝９Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、１．５０−１．４３（２Ｈ，
ｍ）、１．０９−１．０５（１Ｈ，ｍ）、０．８３（６
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝３Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）。
【０５４３】実施例１０６ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンゾイルオキシアミノ）−２Ｒ−
イソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエトキシ
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例８と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０５４４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１１．９５（１Ｈ，ｂｓ）、８．３５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．６０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３０−７．２５（３
Ｈ，ｍ）、７．０７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝２Ｈｚ，Ｊ2
＝８Ｈｚ）、５．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、
５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、４．５９−４．
４９（１Ｈ，ｍ）、３．６０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．４４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝４
Ｈｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、３．２２（３Ｈ，ｓ）、３．０
１−２．９３（２Ｈ，ｍ）、２．８７−２．８２（１
Ｈ，ｍ）、２．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2
＝１５Ｈｚ）、２．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，
Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、１．７１−１．５３（２Ｈ，ｍ）、
１．２７−１．２１（１Ｈ，ｍ）、０．９０（６Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１３Ｈｚ）。
【０５４５】実施例１０７ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンゾイルオキシアミノ）−２Ｒ−
イソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例８と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０５４６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１１．９５（１Ｈ，ｂｓ）、８．３６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．６０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２−７．２２（３
Ｈ，ｍ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．４
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、５．０１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１０Ｈｚ）、４．５８−４．５０（１Ｈ，ｍ）、
３．２７（３Ｈ，ｓ）、３．０２−２．９４（２Ｈ，
ｍ）、２．８７−２．８２（１Ｈ，ｍ）、２．４４（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．２７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、１．
６９−１．５３（２Ｈ，ｍ）、１．２７−１．１７（１
Ｈ，ｍ）、０．９０２（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ
2 ＝１３Ｈｚ）。
【０５４７】実施例１０８ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−６，７−ジメトキシ−１−メ
トキシメチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例９３で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させた後、実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５４８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．９１
（１Ｈ，ｓ）、６．８６（１Ｈ，ｓ）、５．４８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
０Ｈｚ）、４．４８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１１Ｈｚ，Ｊ
2 ＝８Ｈｚ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．７４（３
Ｈ，ｓ）、３．２６（３Ｈ，ｓ）、２．８０−２．９１
（３Ｈ，ｍ）、２．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，
Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝７Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．６０−１．６７（１Ｈ，
ｍ）、１．４３−１．５４（１Ｈ，ｍ）、１．０３−
１．１３（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０５４９】実施例１０９ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−６，７−ジメトキシ−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例９４で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させた後、実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５５０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、９．９７（１Ｈ，
ｓ）、８．７４（１Ｈ，ｓ）、８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ）、６．８３（１Ｈ，ｓ）、６．５３（１Ｈ，
ｓ）、４．４１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１１Ｈｚ，Ｊ2 ＝
８Ｈｚ）、３．７０（６Ｈ，ｓ）、２．７６−２．８９
（３Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，
Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．５７−１．６５（１Ｈ，
ｍ）、１．４２−１．５２（１Ｈ，ｍ）、１．０３−
１．１３（１Ｈ，ｍ）、０．８６（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０５５１】実施例１１０ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−８−メトキシ−１−メトキシ
エチル−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例９５で得られた化合物と対応する出発原料とを反
応させた後、実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５５２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３５（１Ｈ，ｓ）、８．６９（１Ｈ，
ｓ）、８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．１２−
７．０１（２Ｈ，ｍ）、６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、４．３４−４．２１（２Ｈ，ｍ）、４．０１−
３．９４（１Ｈ，ｍ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．４
５−３．２６（２Ｈ，ｍ）、３．１１（３Ｈ，ｓ）、
２．８５−２．７４（３Ｈ，ｍ）、２．１６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ1 ＝７Ｈｚ，Ｊ2 ＝１５Ｈｚ）、２．００（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝８Ｈｚ，Ｊ2 ＝１４Ｈｚ）、１．６４
−１．５９（１Ｈ，ｍ）、１．５２−１．４２（１Ｈ，
ｍ）、１．１３−１．０３（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝６Ｈｚ，Ｊ2 ＝１６Ｈｚ）。
【０５５３】実施例１１１ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ベンゾイルオキシアミノ）−２Ｒ−
イソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４
−ジヒドロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を用い、実施例８と同様にして上記目
的化合物を得た。
【０５５４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１２．００（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．４６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、７．７５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．６０
（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
７Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．１
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７Ｈｚ）、４．６４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、
３．８３（３Ｈ，ｓ）、２．９０−３．１０（２Ｈ，
ｍ）、２．７０−２．９５（１Ｈ，ｍ）、２．４１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．２６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、１．
４０−１．８０（２Ｈ，ｍ）、１．１０−１．３５（１
Ｈ，ｍ）、０．９２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、０．８
８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）。
【０５５５】実施例１１２ ３−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチ
ルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−６，７−
メチレンジオキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの
製造 参考例９２の化合物をトリフルオロ酢酸で処理した化合
物と対応する出発原料とを反応させた後、実施例１と同
様にして上記目的化合物（ジアステレオマー１：１混合
物）を得た。
【０５５６】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３９＋１０．３６（１Ｈ，ｓ）、８．
７３＋８．７０（１Ｈ，ｓ）、８．３５＋８．１６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、６．８
８＋６．８６（１Ｈ，ｓ）、５．９９（２Ｈ，ｓ）、
４．４０−４．３５（１Ｈ，ｍ）、４．０１−４．００
（２Ｈ，ｍ）、３．４８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６Ｈｚ）、
３．３１＋３．２３（３Ｈ，ｓ）、２．８０−２．７５
（３Ｈ，ｍ）、２．２４−２．１３（１Ｈ，ｍ）、２．
０５−１．９７（１Ｈ，ｍ）、１．７３−１．４０（２
Ｈ，ｍ）、１．０７−１．０５（１Ｈ，ｍ）、０．９１
−０．８２（６Ｈ，ｍ）。
【０５５７】実施例１１３ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエトキシ−３，
４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例９６で得られた化合物と対応する出発原料を反応
させた後に実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５５８】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．７２（１
Ｈ，ｂｒｓ）、８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、
７．２６−７．３６（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．６１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１１
Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、４．１３−４．１６（２Ｈ，
ｍ）、３．６０−３．６１（２Ｈ，ｍ）、３．２９（３
Ｈ，ｓ）、２．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）、２．
９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．７３−２．７７
（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１
４Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．６１−１．６７（１Ｈ，
ｍ）、１．４３−１．５３（１Ｈ，ｍ）、１．０６−
１．１５（１Ｈ，ｍ）、０．８７（６Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）。
【０５５９】実施例１１４ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエトキシメトキ
シエトキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例９７で得られた化合物と対応する出発原料を反応
させた後に実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５６０】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７２（１Ｈ，
ｓ）、８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−
７．４０（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ1 ＝
７Ｈｚ，Ｊ2 ＝２Ｈｚ）、４．６８（２Ｈ，ｓ）、４．
５０−４．８０（１Ｈ，ｍ）、４．１８（２Ｈ，ｔ，Ｊ
＝４Ｈｚ）、３．７６（２Ｈ，ｍ）、３．６０（２Ｈ，
ｍ）、３．４７（２Ｈ，ｍ）、３．２４（３Ｈ，ｓ）、
２．８５−３．１０（２Ｈ，ｍ）、２．７０−２．８５
（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１４Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１
０Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．３５−１．７５（２Ｈ，
ｍ）、１．００−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８９（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）。
【０５６１】実施例１１５ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブ
チルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエトキシエトキ
シ−３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造 参考例９８で得られた化合物と対応する出発原料を反応
させた後、実施例１と同様にして上記目的化合物を得
た。
【０５６２】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３８（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，
ｓ）、８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２０−
７．４５（３Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、４．６１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ1 ＝１３Ｈｚ，Ｊ2 ＝
８Ｈｚ）、４．１５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝５Ｈｚ，Ｊ2
＝３Ｈｚ）、３．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ）、３．
４０−３．６０（４Ｈ，ｍ）、３．２８（３Ｈ，ｓ）、
２．８５−３．１５（２Ｈ，ｍ）、２．６５−２．８５
（１Ｈ，ｍ）、２．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１５Ｈ
ｚ，Ｊ2 ＝６Ｈｚ）、２．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝１
５Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．３５−１．７５（２Ｈ，
ｍ）、０．９５−１．２０（１Ｈ，ｍ）、０．８９（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、０．８５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）。
【０５６３】実施例１１６ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−ヘキシ
ルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルの製造 対応する出発原料を反応させた後、実施例１と同様にし
て上記目的化合物を得た。
【０５６４】ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ6 ）
δｐｐｍ：１０．３７（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，
ｓ）、８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．０
７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、４．６１（１Ｈ，ｄｔ，
Ｊ1 ＝１１Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，
ｓ）、２．８５−３．１０（２Ｈ，ｍ）、２．５５−
２．８０（１Ｈ，ｍ）、２．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ1 ＝
１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝７Ｈｚ）、２．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
1 ＝１４Ｈｚ，Ｊ2 ＝８Ｈｚ）、１．１０−１．６０
（１０Ｈ，ｍ）、０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。
【０５６５】薬理試験 （１）ストロメライシン阻害活性測定方法 マウス結腸癌細胞（Ｃｏｌｏｎ２６細胞）培養上清より
精製したストロメライシンに対する阻害を宮崎らの方法
〔Ｊ．Ｂｉｏｃｈｅｍ．，１０８，５３７−５４３（１
９９０）〕及びツイング（Ｔｗｉｎｉｎｇ．Ｓ．Ｓ．）
の方法〔Ｆｅｄ．Ｐｒｏｃ．，４２，１９５１（１９８
４）〕に準じて蛍光標識カゼインを用いて測定した。
【０５６６】酵素の活性化は１ｍＭ ｐ−アミノフェニ
ル酢酸第二水銀中で３７℃、２時間インキュベートする
ことによって行なった。供試化合物はジメチルスルホキ
シドに溶解して用いた。供試化合物と基質である蛍光標
識カゼインを０．２５％（Ｗ／Ｖ）含む５０ｍＭ トリ
ス−塩酸（ｐＨ７．５）、１０ｍＭ ＣａＣｌ2 、０．
１％（Ｖ／Ｖ）ジメチルスルホキシド溶液に上記方法に
て活性化した酵素を添加することによって酵素反応を開
始した。反応は３７℃、３時間行ない、等量の５％（Ｗ
／Ｖ）トリクロロ酢酸溶液を加えることによって停止し
た。その後３０００ｒｐｍ、４℃、１５分間遠心分離す
ることによって未分解の基質を沈澱させ、得られた上清
中の１容に４容の０．３Ｍリン酸緩衝液（ｐＨ８．５）
を加え、その蛍光強度を５２０ｎｍ（Ｅｍ）／４９５ｎ
ｍ（Ｅｘ）で測定し、分解物量を定量した。
【０５６７】酵素阻害活性は、既知量の酵素活性を５０
％まで阻害する供試化合物の濃度（ＩＣ50）で表わし
た。結果を下記表１に示す。
【０５６８】（２）間質型コラゲナーゼ阻害活性測定方
法 ヒト繊維芽細胞（Ｄｅｔｒｏｉｔ５５１細胞）培養上清
より精製した間質型コラゲナーゼに対する阻害を永井ら
の方法〔炎症，４（２），１２３（１９８４）〕に基づ
き蛍光標識コラーゲンを用いて測定した。
【０５６９】酵素の活性化は、１ｍＭ ｐ−アミノフェ
ニル酢酸第二水銀中で３７℃、３時間インキュベートす
ることによって行なった。供試化合物はジメチルスルホ
キシドに溶解して用いた。供試化合物と基質である蛍光
標識コラーゲンを０．０２５％（Ｗ／Ｖ）含む５０ｍＭ
トリス−塩酸（ｐＨ７．５）、０．２Ｍ ＮａＣｌ、
５ｍＭ ＣａＣｌ2 、０．０２％（Ｗ／Ｖ）ＮａＮ3 、
２．５ｍＭ酢酸、０．１％（Ｖ／Ｖ）ジメチルスルホキ
シド溶液に上記の方法にて活性化した酵素を添加するこ
とによって酵素反応を開始した。反応は３５℃、２時間
行ない、氷冷した８０ｍＭ Ｏ−フェナンスロリン、５
０％（Ｖ／Ｖ）エタノール溶液を１／２０量加えること
によって停止した。これに等量の５０ｍＭ トリス−塩
酸（ｐＨ７．５）、０．２Ｍ ＮａＣｌ、５ｍＭ Ｃａ
Ｃｌ2 、０．０２％（Ｗ／Ｖ）ＮａＮ3 溶液を加え、更
に３５℃、１時間インキュベートすることによって分解
産物のみを特異的に変性させ、等量の７０％（Ｖ／Ｖ）
エタノールを含む０．１７Ｍ トリス−塩酸（ｐＨ９．
５）、０．６７Ｍ ＮａＣｌ溶液を加えて分解物を抽出
し、その後３０００ｒｐｍ、４℃、１５分間遠心分離す
ることによって未分解の基質を沈澱させた。得られた上
清中の蛍光強度を５２０ｎｍ（Ｅｍ）／４９５ｎｍ（Ｅ
ｘ）で測定し分解物量を定量した。
【０５７０】酵素阻害活性は、既知量の酵素活性を５０
％まで阻害する供試化合物の濃度（ＩＣ50）で表わし
た。結果を下記表２に示す。
【０５７１】（３）タイプIVコラゲナーゼ阻害活性測定
方法 ヒト肺繊維肉腫細胞（ＨＴ−１０８０細胞）培養上清よ
り精製したタイプIVコラゲナーゼに対する阻害をハリス
らの方法〔Ｈａｒｉｓ，Ｅ．Ｄ． ａｎｄ Ｋｒａｎ
ｅ，Ｓ．Ｍ．，Ｂｉｏｃｈｉｍ．Ｂｉｏｐｈｙｓ．Ａｃ
ｔａ．，２５８，５６６−５７６（１９７２）〕に準じ
て蛍光標識ゼラチンを用いて測定した。
【０５７２】酵素の活性化は、１ｍＭ ｐ−アミノフェ
ニル酢酸第二水銀中で３７℃、２２時間インキュベート
することによって行なった。供試化合物はジメチルスル
ホキシドに溶解して用いた。供試化合物と基質である蛍
光標識ゼラチンを０．１％（Ｗ／Ｖ）含む５０ｍＭ ト
リス−塩酸（ｐＨ７．５）、１０ｍＭ ＣａＣｌ2 、
０．０１％（Ｗ／Ｖ）ブリッジ３５〔商標名、和光純薬
（株）製〕、０．１％（Ｖ／Ｖ）ジメチルスルホキシド
溶液に上記の方法にて活性化した酵素を添加することに
よって酵素反応を開始した。反応は３７℃、６時間行な
い、３０％（Ｗ／Ｖ）トリクロロ酢酸溶液を１／２量加
えることによって停止した。４℃にて３０分間放置した
後１００００ｒｐｍ、４℃、１０分間遠心分離すること
によって未分解の基質を沈澱させた。得られた上清の１
容に５０容の０．３Ｍリン酸緩衝液ｐＨ８．５を加え、
その蛍光強度を５２０ｎｍ（Ｅｍ）／４９５ｎｍ（Ｅ
ｘ）で測定し分解物量を定量した。
【０５７３】酵素阻害活性は、既知量の酵素活性を５０
％まで阻害する供試化合物の濃度（ＩＣ50）で表わし
た。結果を下記表３に示す。
【０５７４】供給化合物は以下のとおりである。
【０５７５】１．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミ
ノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル ２．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−７−メトキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル ３．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル ４．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３Ｓ−アセチルチオメチルスクシニル〕アミ
ノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３Ｓ−メルカプトメチルスクシニル〕アミノ
−３，４−ジヒドロカルボスチリル ６．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３Ｓ−（２−チエニルチオメチル）スクシニ
ル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル ７．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３（Ｒ又はＳ）−フタルイミドメチルスクシ
ニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル ８．１−エトキシカルボニルメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ
−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕
アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル ９．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−メト
キシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル 10．１−アミノカルボニルメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−
ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕ア
ミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル 11．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−（４−メトキシカル
ボニルベンジル）−３，４−ジヒドロカルボスチリル 12．１−エチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミ
ノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル 13．１−アリル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミ
ノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕ア
ミノ−３．４−ジヒドロカルボスチリル 14．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 15．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３Ｓ−メチルスクシニル〕アミノ−１−（２
−プロピニル）−３．４−ジヒドロカルボスチリル 16．１−カルボキシメチル−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロ
キシアミノ）−２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−メチルスクシ
ニル〕アミノ−３，４−ジヒドロカルボスチリル 17．１−エトキシ−３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミ
ノ）−２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル 18．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエトキシメ
チル−３，４−ジヒドロカルボスチリル 19．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシメトキシエ
チル−３，４−ジヒドロカルボスチリル 20．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−ヘ
プチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル 21．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 22．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−エ
トキシエチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，
４−ジヒドロカルボスチリル 23．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチル−３−（３，４−メチレンジオキシベンジル）
スクシニル〕アミノ−１−メトキシ−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル 24．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−
６，７−メチレンジオキシ−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 25．３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イ
ソブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−
６，７−メチレンジオキシ−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 26．３−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）−２Ｒ−イソ
ブチルスクシニル〕アミノ−１−メトキシエチル−６，
７−メチレンジオキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル
【０５７６】
【表１】
【０５７７】
【表２】
【０５７８】
【表３】
【０５７９】製剤例１ 以下の各成分を常法により混合した後打錠して一錠中に
５０ｍｇの活性成分を有する錠剤１００錠を得た。
【０５８０】３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）− ２Ｒ−イソブチル−３Ｓ−アセチルチオ メチルスクシニル〕アミノ−３，４− ジヒドロカルボスチリル ５ｇ ラウリル硫酸ナトリウム ０．２ｇ ステアリン酸マグネシウム ０．２ｇ 結晶セルロース ４．６ｇ 製剤例２ ３Ｓ−〔４−（Ｎ−ヒドロキシアミノ）− ２Ｒ−イソブチルスクシニル〕アミノ−１− カルボキシメチル−３，４−ジヒドロ カルボスチリル １ｇ ポリエチレングリコール（分子量：4000） ０．３ｇ 塩化ナトリウム ０．９ｇ ポリオキシエチレン−ソルビタンモノ オレエート ０．４ｇ メタ重亜硫酸ナトリウム ０．１ｇ メチル−バラベン ０．１８ｇ プロピル−バラベン ０．０２ｇ 注射用蒸留水 １０．０ｍｌ 上記バラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び塩化ナト
リウムを攪拌しながら８０℃で上記の約半量の蒸留水に
溶解させる。得られた溶液を４０℃まで冷却し、本発明
の有効成分化合物、次いでポリエチレングリコール及び
ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエートを、上記
溶液中に溶解させる。次にその溶液に注射用蒸留水を加
えて最終の容量に調製し、適当なフィルターペーパーを
用いて滅菌瀘過することにより滅菌して、注射剤を調製
する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 401/12 ２０９ 409/12 ２１５

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子又は基−Ａ−Ｒ1a（Ａは低級ア
    ルキレン基を示し、Ｒ1aは水素原子、アミノ基、フタル
    イミド基、チエニルチオ基、低級アルカノイルチオ基、
    メルカプト基、置換基としてハロゲン原子、水酸基、低
    級アルキル基、低級アルコキシ基、カルボキシ基、低級
    アルコキシカルボニル基及び低級アルキレンジオキシ基
    からなる群より選ばれた基を１〜３個有することのある
    フェニル基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル
    基、フェニルチオ基又は低級アルキルチオ基を示す）を
    示す。Ｒ2 は水素原子又低級アルキル基を示す。Ｒ3 は
    水素原子、水酸基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ
    低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ低級
    アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ低級アル
    コキシ低級アルコキシ基又は基−Ｂ−Ｒ3a（Ｂは低級ア
    ルキレン基、低級アルケニレン基又は低級アルキニレン
    基を示し、Ｒ3aは水素原子、水酸基、低級アルコキシ
    基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、置換基としてハ
    ロゲン原子、シアノ基、水酸基、低級アルキル基、低級
    アルコキシ基、カルボキシ基及び低級アルコキシカルボ
    ニル基から選ばれる基を１〜３個有することのあるフェ
    ニル基、置換基としてハロゲン原子を有することのある
    チエニル基、フタルイミド基、カルボキシ基、低級アル
    コキシカルボニル基又は基−ＣＯ−Ｎ（Ｒ3b）−Ｒ3cを
    示す。ここでＲ3bは水素原子又は低級アルキル基を示
    し、Ｒ3cは水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキ
    シ基を示す。また基−Ｎ（Ｒ3b）−Ｒ3cは窒素原子、酸
    素原子及び硫黄原子からなる群より選ばれたヘテロ原子
    を更に１個有することのある５員又は６員の飽和ヘテロ
    環を形成してもよい。）を示す。Ｒ4 は水素原子、ハロ
    ゲン原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基
    又は低級アルキレンジオキシ基を示す。Ｒ5 は水素原
    子、ベンゾイル基、低級アルカノイル基又はフェニル低
    級アルキル基を示す。Ｒ6 は炭素数１〜１２のアルキル
    基、低級アルコキシ低級アルキル基又はフェニル環上に
    置換基として低級アルキレンジオキシ基を有することの
    あるフェニル低級アルキル基を示す。ｎは１又は２を示
    す。〕で表わされるカルボスチリル誘導体又はその塩。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載のカルボスチリル誘導体
    及びその塩から選ばれる少なくとも１種を有効成分とし
    て含有する細胞外マトリックス金属プロテアーゼ阻害
    剤。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003526603A (ja) * 1998-08-07 2003-09-09 デュポン ファーマシューティカルズ カンパニー Ａβタンパク質生成阻害剤としてのスクシノイルアミノラクタム類
US6989401B2 (en) 2000-07-19 2006-01-24 Mitsubishi Pharma Corporation Sulfonic acid derivatives of hydroxamic acids and their use as medicinal products

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003526603A (ja) * 1998-08-07 2003-09-09 デュポン ファーマシューティカルズ カンパニー Ａβタンパク質生成阻害剤としてのスクシノイルアミノラクタム類
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