JPH07155584A - 原料ガス供給装置 - Google Patents
原料ガス供給装置Info
- Publication number
- JPH07155584A JPH07155584A JP12221991A JP12221991A JPH07155584A JP H07155584 A JPH07155584 A JP H07155584A JP 12221991 A JP12221991 A JP 12221991A JP 12221991 A JP12221991 A JP 12221991A JP H07155584 A JPH07155584 A JP H07155584A
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- Japan
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- evaporation tank
- tank
- liquid raw
- evaporation
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- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 蒸発槽自体及び装置全体を大型化することな
く、液体原料の蒸発面積を大きくして光ファイバー用母
材等の製造効率の大幅な向上を図る。 【構成】 蒸発槽３内の液体原料２を気化させ、気化し
た原料ガスを送出する原料ガス供給装置において、蒸発
槽３内に、複数の皿状容器３１〜３４が上下方向に間隔
をおいて配置されており、複数の皿状容器のうちの最上
部の容器３１は、蒸発槽３内に供給される液体原料を受
ける位置に配置されていると共に、最下部の容器３４
は、蒸発槽３の底面３ａから所定の間隔をおいた位置に
配置されている。液体原料２は、蒸発槽３の底部及び複
数の皿状容器３１〜３４内に溜るので、蒸発槽３内の液
体原料２をヒータ４により加熱する際に、複数の皿状容
器３１〜３４内に溜った液体原料２の分だけ蒸発面積が
多くなる。
く、液体原料の蒸発面積を大きくして光ファイバー用母
材等の製造効率の大幅な向上を図る。 【構成】 蒸発槽３内の液体原料２を気化させ、気化し
た原料ガスを送出する原料ガス供給装置において、蒸発
槽３内に、複数の皿状容器３１〜３４が上下方向に間隔
をおいて配置されており、複数の皿状容器のうちの最上
部の容器３１は、蒸発槽３内に供給される液体原料を受
ける位置に配置されていると共に、最下部の容器３４
は、蒸発槽３の底面３ａから所定の間隔をおいた位置に
配置されている。液体原料２は、蒸発槽３の底部及び複
数の皿状容器３１〜３４内に溜るので、蒸発槽３内の液
体原料２をヒータ４により加熱する際に、複数の皿状容
器３１〜３４内に溜った液体原料２の分だけ蒸発面積が
多くなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバ等の製造装
置における反応装置、例えばバーナーに原料ガスを供給
する原料ガス供給装置に関する。
置における反応装置、例えばバーナーに原料ガスを供給
する原料ガス供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、このような原料ガス供給装置とし
ては、例えば、図２に示すような構造のものが、特公昭
６０−３１７７７号公報、特公昭６３−２０７７２号公
報等により公知である。すなわち、従来の原料ガス供給
装置は、図２に示すように、液体原料供給用配管１から
導入される液体原料２を収容する蒸発槽３と、該蒸発槽
３の周囲に配置され、蒸発槽３内の液体原料２を加熱す
るヒータ４とを備えて成り、蒸発槽３内の液体原料を気
化させ、気化した原料ガスとキャリアガス供給用配管５
から導入されるキャリアガス６との混合気を混合気送出
用配管７及び流量制御装置８を介してバーナ（光ファイ
バ製造装置の反応装置）９に供給するものである。該バ
ーナ９に供給される混合気中の原料ガス成分は、バーナ
９の炎９ａで酸化されて粒状の生成酸化物となり、この
酸化物が炎９ａの力により棒状の素材（例えば、石英の
ロッド）１０に送られる。このようにして、一般にスー
トと呼ばれている焼結可能なガラスすすが石英ロッド１
０の表面に堆積して光ファイバー用のプリフォーム（母
材）１１が製造される。なお、前記混合気送出用配管７
の周囲には、該配管７を蒸発槽３よりも高い温度に維持
して混合気中の原料ガスが凝縮するのを防止するため
に、ヒータ１２，１３が配置されている。
ては、例えば、図２に示すような構造のものが、特公昭
６０−３１７７７号公報、特公昭６３−２０７７２号公
報等により公知である。すなわち、従来の原料ガス供給
装置は、図２に示すように、液体原料供給用配管１から
導入される液体原料２を収容する蒸発槽３と、該蒸発槽
３の周囲に配置され、蒸発槽３内の液体原料２を加熱す
るヒータ４とを備えて成り、蒸発槽３内の液体原料を気
化させ、気化した原料ガスとキャリアガス供給用配管５
から導入されるキャリアガス６との混合気を混合気送出
用配管７及び流量制御装置８を介してバーナ（光ファイ
バ製造装置の反応装置）９に供給するものである。該バ
ーナ９に供給される混合気中の原料ガス成分は、バーナ
９の炎９ａで酸化されて粒状の生成酸化物となり、この
酸化物が炎９ａの力により棒状の素材（例えば、石英の
ロッド）１０に送られる。このようにして、一般にスー
トと呼ばれている焼結可能なガラスすすが石英ロッド１
０の表面に堆積して光ファイバー用のプリフォーム（母
材）１１が製造される。なお、前記混合気送出用配管７
の周囲には、該配管７を蒸発槽３よりも高い温度に維持
して混合気中の原料ガスが凝縮するのを防止するため
に、ヒータ１２，１３が配置されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一般に、前記光ファイ
バー用の母材１１を製造する際に、前記蒸発槽３内で気
化されてバーナ９に供給される原料ガス又はこれとキャ
リアガスとの混合気の量を増やすことにより、母材１１
の時間当りの製造量を多くして母材の製造効率の向上を
図ることが望まれている。原料ガス又は混合気の供給量
を増やすためには、蒸発槽３内の液体原料２の蒸発面積
を大きくする必要がある。
バー用の母材１１を製造する際に、前記蒸発槽３内で気
化されてバーナ９に供給される原料ガス又はこれとキャ
リアガスとの混合気の量を増やすことにより、母材１１
の時間当りの製造量を多くして母材の製造効率の向上を
図ることが望まれている。原料ガス又は混合気の供給量
を増やすためには、蒸発槽３内の液体原料２の蒸発面積
を大きくする必要がある。
【０００４】ところが、上記従来の原料ガス供給装置で
は、液体原料２が蒸発槽３の底部に単に収容されている
だけであるので、原料ガスの蒸発量を多くするために蒸
発槽３内の液体原料２の蒸発面積を大きくすると、蒸発
槽３の横方向の寸法が大きくなって蒸発槽３自体が大型
化し、その結果原料ガス供給装置全体が大型化してしま
うという問題点がある。
は、液体原料２が蒸発槽３の底部に単に収容されている
だけであるので、原料ガスの蒸発量を多くするために蒸
発槽３内の液体原料２の蒸発面積を大きくすると、蒸発
槽３の横方向の寸法が大きくなって蒸発槽３自体が大型
化し、その結果原料ガス供給装置全体が大型化してしま
うという問題点がある。
【０００５】また、上記特公昭６３−２０７７２号公報
に開示された原料ガス供給装置のように、前記蒸発槽３
を複数設けることにより原料ガスの蒸発量を多くするこ
とが可能である。しかしながら、この場合には、各蒸発
槽３と前記バーナ９とを接続する配管構造が複雑になる
と共に、これらの配管構造及び複数の蒸発槽を含む原料
ガス供給装置全体が大型化してしまうという問題点があ
る。
に開示された原料ガス供給装置のように、前記蒸発槽３
を複数設けることにより原料ガスの蒸発量を多くするこ
とが可能である。しかしながら、この場合には、各蒸発
槽３と前記バーナ９とを接続する配管構造が複雑になる
と共に、これらの配管構造及び複数の蒸発槽を含む原料
ガス供給装置全体が大型化してしまうという問題点があ
る。
【０００６】本発明は、このような従来の問題点に着目
して為されたもので、蒸発槽自体及び装置全体を大型化
することなく、液体原料の蒸発面積を大きくして原料ガ
ス又はこれとキャリアガスとの混合気の供給量を大幅に
増やすことができ、その結果光ファイバー用母材等の製
造効率の大幅な向上を図った原料ガス供給装置を提供す
ることを目的としている。
して為されたもので、蒸発槽自体及び装置全体を大型化
することなく、液体原料の蒸発面積を大きくして原料ガ
ス又はこれとキャリアガスとの混合気の供給量を大幅に
増やすことができ、その結果光ファイバー用母材等の製
造効率の大幅な向上を図った原料ガス供給装置を提供す
ることを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、本発明は、液体原料を収容する蒸発槽と、該蒸発槽
内の液体原料を加熱するヒータとを備え、蒸発槽内の液
体原料を気化させ、気化した原料ガスを送出する原料ガ
ス供給装置において、前記蒸発槽内に、複数の皿状容器
が上下方向に間隔をおいて配置されており、前記複数の
皿状容器のうちの最上部の容器は、蒸発槽内に供給され
る液体原料を受ける位置に配置されていると共に、最下
部の容器は、蒸発槽の底面から所定の間隔をおいた位置
に配置されているものである。
に、本発明は、液体原料を収容する蒸発槽と、該蒸発槽
内の液体原料を加熱するヒータとを備え、蒸発槽内の液
体原料を気化させ、気化した原料ガスを送出する原料ガ
ス供給装置において、前記蒸発槽内に、複数の皿状容器
が上下方向に間隔をおいて配置されており、前記複数の
皿状容器のうちの最上部の容器は、蒸発槽内に供給され
る液体原料を受ける位置に配置されていると共に、最下
部の容器は、蒸発槽の底面から所定の間隔をおいた位置
に配置されているものである。
【０００８】
【作用】そして、上記原料ガス供給装置では、蒸発槽内
に供給される液体原料が複数の皿状容器のうちの最上部
の容器に溜り、該最上部の容器から溢れた液体原料が順
次下方の容器に溜り、最下部の容器から溢れた液体原料
が蒸発槽の底部に溜る。このように、液体原料は、蒸発
槽の底部及び複数の皿状容器内に溜るので、蒸発槽内の
液体原料をヒータにより加熱する際に、複数の皿状容器
内に溜った液体原料の分だけ蒸発面積が大きくなる。
に供給される液体原料が複数の皿状容器のうちの最上部
の容器に溜り、該最上部の容器から溢れた液体原料が順
次下方の容器に溜り、最下部の容器から溢れた液体原料
が蒸発槽の底部に溜る。このように、液体原料は、蒸発
槽の底部及び複数の皿状容器内に溜るので、蒸発槽内の
液体原料をヒータにより加熱する際に、複数の皿状容器
内に溜った液体原料の分だけ蒸発面積が大きくなる。
【０００９】
【実施例】以下、図面に基いて本発明の一実施例を説明
する。なお、一実施例の説明において、上記従来例と同
様の部位には同一の符号を付して重複した説明を省略す
る。
する。なお、一実施例の説明において、上記従来例と同
様の部位には同一の符号を付して重複した説明を省略す
る。
【００１０】図１に示すように、一実施例に係る原料ガ
ス供給装置の蒸発槽３内には、複数（例えば、４つ）の
皿状容器３１，３２，３３，３４が上下方向に間隔をお
いて配置されていると共に、これらの皿状容器３１，３
２，３３，３４を支持する支柱３５が配置されている。
該支柱３５には、皿状容器３１，３２，３３，３４が間
隔をおいて固定されている。
ス供給装置の蒸発槽３内には、複数（例えば、４つ）の
皿状容器３１，３２，３３，３４が上下方向に間隔をお
いて配置されていると共に、これらの皿状容器３１，３
２，３３，３４を支持する支柱３５が配置されている。
該支柱３５には、皿状容器３１，３２，３３，３４が間
隔をおいて固定されている。
【００１１】前記複数の皿状容器のうちの最上部の容器
３１は、蒸発槽３内に供給される液体原料（例えば、四
塩化ケイ素）２を受ける位置に配置されていると共に、
最下部の容器３４は、蒸発槽３の底面３ａから所定の間
隔をおいた位置に配置されている。ここで、底面３ａか
ら所定の間隔をおいた位置とは、蒸発槽３の底部に溜る
液体原料２の液面の上限位置から離れた位置である。そ
して、各皿状容器３１，３２，３３，３４の下端面全体
には、該各容器から溢れた液体原料を毛管現象と表面張
力により保持して蒸発面積を増やすために、金網３６が
固定されている。
３１は、蒸発槽３内に供給される液体原料（例えば、四
塩化ケイ素）２を受ける位置に配置されていると共に、
最下部の容器３４は、蒸発槽３の底面３ａから所定の間
隔をおいた位置に配置されている。ここで、底面３ａか
ら所定の間隔をおいた位置とは、蒸発槽３の底部に溜る
液体原料２の液面の上限位置から離れた位置である。そ
して、各皿状容器３１，３２，３３，３４の下端面全体
には、該各容器から溢れた液体原料を毛管現象と表面張
力により保持して蒸発面積を増やすために、金網３６が
固定されている。
【００１２】また、蒸発槽３の底部には、該底部に溜る
液体原料２の液面を管理するための液面センサ４０が配
置されている。この液面センサ４０は、フロート４１
と、該フロート４１に装着された不図示の上限及び下限
スイッチとから構成されている。下限スイッチは、蒸発
槽３の底部に溜る液体原料２の液面が上限位置に達した
ときに作動するもので、下限スイッチは、その液面が下
限位置に達したときに作動するものである。
液体原料２の液面を管理するための液面センサ４０が配
置されている。この液面センサ４０は、フロート４１
と、該フロート４１に装着された不図示の上限及び下限
スイッチとから構成されている。下限スイッチは、蒸発
槽３の底部に溜る液体原料２の液面が上限位置に達した
ときに作動するもので、下限スイッチは、その液面が下
限位置に達したときに作動するものである。
【００１３】次に、上記構成を有する一実施例に係る原
料ガス供給装置の作動を説明する。
料ガス供給装置の作動を説明する。
【００１４】蒸発槽３内には、前記液体原料供給用配管
１から液体原料２が導入されると共に、前記キャリアガ
ス供給用配管５からキャリアガス（例えば、水素ガス）
６が導入される。
１から液体原料２が導入されると共に、前記キャリアガ
ス供給用配管５からキャリアガス（例えば、水素ガス）
６が導入される。
【００１５】蒸発槽３内に供給される液体原料２は、ま
ず４つの皿状容器３１〜３４のうちの最上部の容器３１
内に溜り、該最上部の容器３１から溢れた液体原料は、
順次下方の容器３２，３３及び３４に溜り、最下部の容
器３４から溢れた液体原料は蒸発槽３の底部に溜る。ま
た、各容器３１〜３４から溢れた液体原料は、各容器３
１〜３４の下端面に固定された金網３６に毛管現象と表
面張力により保持される。
ず４つの皿状容器３１〜３４のうちの最上部の容器３１
内に溜り、該最上部の容器３１から溢れた液体原料は、
順次下方の容器３２，３３及び３４に溜り、最下部の容
器３４から溢れた液体原料は蒸発槽３の底部に溜る。ま
た、各容器３１〜３４から溢れた液体原料は、各容器３
１〜３４の下端面に固定された金網３６に毛管現象と表
面張力により保持される。
【００１６】このように、蒸発槽３内に供給される液体
原料２は、蒸発槽３の底部、４つの皿状容器３１〜３４
内、及び４つの金網３６に溜るので、蒸発槽３内の液体
原料２を前記ヒータ４により加熱する際に、４つの皿状
容器３１〜３４内及び４つの金網３６に溜った液体原料
２の分だけ蒸発面積が大きくなる。これによって、液体
原料２の蒸発量、すなわち原料ガスとキャリアガスとの
混合気の供給量が大幅に増え、その結果前記光ファイバ
ー用母材１１等の製造効率の大幅な向上が図られる。
原料２は、蒸発槽３の底部、４つの皿状容器３１〜３４
内、及び４つの金網３６に溜るので、蒸発槽３内の液体
原料２を前記ヒータ４により加熱する際に、４つの皿状
容器３１〜３４内及び４つの金網３６に溜った液体原料
２の分だけ蒸発面積が大きくなる。これによって、液体
原料２の蒸発量、すなわち原料ガスとキャリアガスとの
混合気の供給量が大幅に増え、その結果前記光ファイバ
ー用母材１１等の製造効率の大幅な向上が図られる。
【００１７】なお、上記一実施例の原料ガス供給装置
は、気化された原料ガスとキャリアガスとの混合気を送
出するように構成されているが、本発明の原料ガス供給
装置はこれに限定されるものではなく、液体原料の種類
によってはキャリアガスを用いずに原料ガスのみを送出
するものであってもよい。
は、気化された原料ガスとキャリアガスとの混合気を送
出するように構成されているが、本発明の原料ガス供給
装置はこれに限定されるものではなく、液体原料の種類
によってはキャリアガスを用いずに原料ガスのみを送出
するものであってもよい。
【００１８】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
液体原料を収容する蒸発槽と、該蒸発槽内の液体原料を
加熱するヒータとを備え、蒸発槽内の液体原料を気化さ
せ、気化した原料ガスを送出する原料ガス供給装置にお
いて、前記蒸発槽内に、複数の皿状容器が上下方向に間
隔をおいて配置されており、前記複数の皿状容器のうち
の最上部の容器は、蒸発槽内に供給される液体原料を受
ける位置に配置されていると共に、最下部の容器は、蒸
発槽の底面から所定の間隔をおいた位置に配置されてい
る構成により、液体原料は、蒸発槽の底部及び複数の皿
状容器内に溜るので、蒸発槽内の液体原料をヒータによ
り加熱する際に、複数の皿状容器内に溜った液体原料の
分だけ蒸発面積が大きくなる。従って、蒸発槽の横方向
の寸法を大きくすることなく、すなわち蒸発槽自体及び
装置全体を大型化することなく、液体原料の蒸発面積を
大きくして原料ガス又はこれとキャリアガスとの混合気
の供給量を大幅に増やすことができ、その結果光ファイ
バー用母材等の製造効率の大幅な向上を図ることができ
る。
液体原料を収容する蒸発槽と、該蒸発槽内の液体原料を
加熱するヒータとを備え、蒸発槽内の液体原料を気化さ
せ、気化した原料ガスを送出する原料ガス供給装置にお
いて、前記蒸発槽内に、複数の皿状容器が上下方向に間
隔をおいて配置されており、前記複数の皿状容器のうち
の最上部の容器は、蒸発槽内に供給される液体原料を受
ける位置に配置されていると共に、最下部の容器は、蒸
発槽の底面から所定の間隔をおいた位置に配置されてい
る構成により、液体原料は、蒸発槽の底部及び複数の皿
状容器内に溜るので、蒸発槽内の液体原料をヒータによ
り加熱する際に、複数の皿状容器内に溜った液体原料の
分だけ蒸発面積が大きくなる。従って、蒸発槽の横方向
の寸法を大きくすることなく、すなわち蒸発槽自体及び
装置全体を大型化することなく、液体原料の蒸発面積を
大きくして原料ガス又はこれとキャリアガスとの混合気
の供給量を大幅に増やすことができ、その結果光ファイ
バー用母材等の製造効率の大幅な向上を図ることができ
る。
【図１】図１は本発明の一実施例に係る原料ガス供給装
置を示す概略構成図である。
置を示す概略構成図である。
【図２】図２は従来の原料ガス供給装置を示す概略構成
図である。
図である。
３ 蒸発槽 ３ａ 底面 ４ ヒータ ３１〜３４ 皿状容器 ３１ 最上部の容器 ３４ 最下部の容器
Claims (1)
- 【請求項１】 液体原料を収容する蒸発槽と、該蒸発槽
内の液体原料を加熱するヒータとを備え、蒸発槽内の液
体原料を気化させ、気化した原料ガスを送出する原料ガ
ス供給装置において、前記蒸発槽内に、複数の皿状容器
が上下方向に間隔をおいて配置されており、前記複数の
皿状容器のうちの最上部の容器は、蒸発槽内に供給され
る液体原料を受ける位置に配置されていると共に、最下
部の容器は、蒸発槽の底面から所定の間隔をおいた位置
に配置されていることを特徴とする原料ガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12221991A JPH07155584A (ja) | 1991-04-24 | 1991-04-24 | 原料ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12221991A JPH07155584A (ja) | 1991-04-24 | 1991-04-24 | 原料ガス供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07155584A true JPH07155584A (ja) | 1995-06-20 |
Family
ID=14830499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12221991A Pending JPH07155584A (ja) | 1991-04-24 | 1991-04-24 | 原料ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07155584A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012098730A1 (ja) * | 2011-01-19 | 2012-07-26 | シーケーディ株式会社 | 液体気化器 |
| JP2013078754A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-05-02 | Ckd Corp | 液体制御装置 |
| JP2013237006A (ja) * | 2012-05-15 | 2013-11-28 | Ckd Corp | 液体制御装置 |
| JP2014018693A (ja) * | 2012-07-12 | 2014-02-03 | Ckd Corp | 液体制御装置、及び液体制御装置に適用される網状体組立体 |
| US9010736B2 (en) | 2011-09-30 | 2015-04-21 | Cdk Corporation | Liquid control apparatus |
| US9031391B2 (en) | 2011-09-30 | 2015-05-12 | Ckd Corporation | Woven mesh form liquid control apparatus |
| US9266130B2 (en) | 2012-02-01 | 2016-02-23 | Ckd Corporation | Liquid control apparatus |
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| JPS61179192A (ja) * | 1985-02-05 | 1986-08-11 | 三菱重工業株式会社 | ドライクリ−ナの蒸留方法 |
| JPS6419188A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-23 | Ushio Electric Inc | Pressure reducing method for container housing low-temperature solid |
-
1991
- 1991-04-24 JP JP12221991A patent/JPH07155584A/ja active Pending
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