JPH0714820A - 乾燥機 - Google Patents
乾燥機Info
- Publication number
- JPH0714820A JPH0714820A JP17984893A JP17984893A JPH0714820A JP H0714820 A JPH0714820 A JP H0714820A JP 17984893 A JP17984893 A JP 17984893A JP 17984893 A JP17984893 A JP 17984893A JP H0714820 A JPH0714820 A JP H0714820A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- drying
- ipa
- drying tank
- vacuum chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハ１０をＩＰＡにより乾燥する場合に問
題となるウォーターマークの発生を防ぐ。パーティクル
を少なくする。処理時間を短縮する。 【構成】 乾燥槽２０を真空チャンバにより構成する。
乾燥槽２０にＩＰＡ供給系３０および真空排気系４０を
設ける。真空排気系４０は真空チャンバ４２を有する。
ＩＰＡによる乾燥処理後、予め減圧した真空チャンバ４
２により、乾燥槽２０内を急速吸引し、ウエハ１０の表
面に付着するＩＰＡを短時間で強制除去する。
題となるウォーターマークの発生を防ぐ。パーティクル
を少なくする。処理時間を短縮する。 【構成】 乾燥槽２０を真空チャンバにより構成する。
乾燥槽２０にＩＰＡ供給系３０および真空排気系４０を
設ける。真空排気系４０は真空チャンバ４２を有する。
ＩＰＡによる乾燥処理後、予め減圧した真空チャンバ４
２により、乾燥槽２０内を急速吸引し、ウエハ１０の表
面に付着するＩＰＡを短時間で強制除去する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハ等の乾燥に
使用する乾燥機に関し、更に詳しくはイソプロピルアル
コール（以下ＩＰＡという）等の有機溶剤による乾燥と
真空乾燥とを組み合わせた乾燥機に関する。
使用する乾燥機に関し、更に詳しくはイソプロピルアル
コール（以下ＩＰＡという）等の有機溶剤による乾燥と
真空乾燥とを組み合わせた乾燥機に関する。
【０００２】
【従来の技術】製造された半導体ウエハは、数工程にわ
たる洗浄を受け、最後の洗浄の後に表面が乾燥される。
この乾燥機としては、例えばＩＰＡを用いるものや遠心
力を利用するスピンドライヤが多用されている。
たる洗浄を受け、最後の洗浄の後に表面が乾燥される。
この乾燥機としては、例えばＩＰＡを用いるものや遠心
力を利用するスピンドライヤが多用されている。
【０００３】ＩＰＡを用いたウエハ乾燥機では、ウエハ
表面に残留する水滴が、ＩＰＡにより置換されてウエハ
表面から除去される。一方、スピンドライヤでは、ウエ
ハの回転に伴って生じる遠心力により、ウエハ表面の水
滴が除去される。
表面に残留する水滴が、ＩＰＡにより置換されてウエハ
表面から除去される。一方、スピンドライヤでは、ウエ
ハの回転に伴って生じる遠心力により、ウエハ表面の水
滴が除去される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、スピンドライ
ヤでは回転機構が必要なため、バランス等の機械的な制
約から、極端な高速回転が困難であり、パーティクルや
ウォーターマークの残存が問題になる。
ヤでは回転機構が必要なため、バランス等の機械的な制
約から、極端な高速回転が困難であり、パーティクルや
ウォーターマークの残存が問題になる。
【０００５】一方、ＩＰＡ方式の乾燥機では機械的な制
約は殆どない。しかし、乾燥後のウエハの表面にウォー
ターマークが残るのを避け得ない。
約は殆どない。しかし、乾燥後のウエハの表面にウォー
ターマークが残るのを避け得ない。
【０００６】本発明の目的は、乾燥後の被乾燥物表面に
ウォーターマークが残らず、しかもパーティクルの残存
が非常に少ない乾燥機を提供することにある。
ウォーターマークが残らず、しかもパーティクルの残存
が非常に少ない乾燥機を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の乾燥機は、真空
チャンバにより構成した乾燥槽と、該乾燥槽内に収容さ
れた被乾燥物に対して有機溶剤による乾燥処理を行うべ
く乾燥槽内に有機溶剤を供給する溶剤供給系と、前記乾
燥槽内を真空排気する真空排気系とを具備し、前記真空
排気系が真空ポンプと、真空ポンプと乾燥槽の間に設け
た真空チャンバとを有することを特徴とする。
チャンバにより構成した乾燥槽と、該乾燥槽内に収容さ
れた被乾燥物に対して有機溶剤による乾燥処理を行うべ
く乾燥槽内に有機溶剤を供給する溶剤供給系と、前記乾
燥槽内を真空排気する真空排気系とを具備し、前記真空
排気系が真空ポンプと、真空ポンプと乾燥槽の間に設け
た真空チャンバとを有することを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明の乾燥機では、まず、乾燥槽内に収容さ
れた被乾燥物が、溶剤供給系により乾燥槽内に供給され
た有機溶剤により乾燥処理される。次いで、真空排気系
により乾燥槽内が真空排気される。このとき、予め真空
ポンプにより減圧した真空チャンバにより、乾燥槽内を
瞬時に吸引する。これにより被乾燥物の表面に残る有機
溶剤が、被乾燥物の表面から急速に強制除去される。
れた被乾燥物が、溶剤供給系により乾燥槽内に供給され
た有機溶剤により乾燥処理される。次いで、真空排気系
により乾燥槽内が真空排気される。このとき、予め真空
ポンプにより減圧した真空チャンバにより、乾燥槽内を
瞬時に吸引する。これにより被乾燥物の表面に残る有機
溶剤が、被乾燥物の表面から急速に強制除去される。
【０００９】なお、真空ポンプを用いた真空乾燥機は周
知であるが、真空ポンプのみによる真空乾燥では乾燥時
間が長すぎ、ウォーターマークが残る。真空チャンバを
設けることにより乾燥時間を大幅に短縮できる。
知であるが、真空ポンプのみによる真空乾燥では乾燥時
間が長すぎ、ウォーターマークが残る。真空チャンバを
設けることにより乾燥時間を大幅に短縮できる。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明の乾燥機の一例についてその構成を
示す系統図である。
する。図１は本発明の乾燥機の一例についてその構成を
示す系統図である。
【００１１】この乾燥機は半導体ウエハを乾燥するウエ
ハ乾燥機であって、そのウエハ１０を収容する乾燥槽２
０と、乾燥槽２０に連結された溶剤供給系３０および真
空排気系４０とを具備する。
ハ乾燥機であって、そのウエハ１０を収容する乾燥槽２
０と、乾燥槽２０に連結された溶剤供給系３０および真
空排気系４０とを具備する。
【００１２】乾燥槽２０は、内部を気密に封止し得る真
空チャンバからなり、ウエハ１０を装填し上方の開口部
より装入されたウエハキャリア１１を内部に支持する。
乾燥槽２０の開口部は気密性の蓋体２１により開閉され
る。また、乾燥槽２０の底部に連結されたドレン管に
は、ドレン弁２２が設けられている。
空チャンバからなり、ウエハ１０を装填し上方の開口部
より装入されたウエハキャリア１１を内部に支持する。
乾燥槽２０の開口部は気密性の蓋体２１により開閉され
る。また、乾燥槽２０の底部に連結されたドレン管に
は、ドレン弁２２が設けられている。
【００１３】溶剤供給系３０は、乾燥槽２０内に水平に
挿入された噴霧ノズル３１を有する。噴霧ノズル３１は
開閉弁３２を介してＩＰＡ供給源３３に接続され、乾燥
槽２０内に支持されたウエハキャリア１１の上方から下
方にＩＰＡを噴霧する。なお、ＩＰＡ供給源３３はＩＰ
Ａを所定温度に加熱する。
挿入された噴霧ノズル３１を有する。噴霧ノズル３１は
開閉弁３２を介してＩＰＡ供給源３３に接続され、乾燥
槽２０内に支持されたウエハキャリア１１の上方から下
方にＩＰＡを噴霧する。なお、ＩＰＡ供給源３３はＩＰ
Ａを所定温度に加熱する。
【００１４】真空排気系４０は、真空ポンプ４１を有す
る。真空ポンプ４１の吸込側は、真空チャンバ４２を介
して乾燥槽２０に接続されている。真空チャンバ４２の
吸込側および排出側には開閉弁４３，４４が設けられて
いる。また、真空ポンプ４１の排出側には凝縮器４５が
接続されている。
る。真空ポンプ４１の吸込側は、真空チャンバ４２を介
して乾燥槽２０に接続されている。真空チャンバ４２の
吸込側および排出側には開閉弁４３，４４が設けられて
いる。また、真空ポンプ４１の排出側には凝縮器４５が
接続されている。
【００１５】乾燥を行うには、まず、純水による最終洗
浄を終え、ウエハキャリア１１に収納された多数枚のウ
エハ１０を乾燥槽２０内に収容する。次いで、蓋体２１
を閉め、開閉弁３２を開く。これにより、噴霧ノズル３
１から加熱されたＩＰＡが噴霧される。噴霧されたＩＰ
Ａは、ウエハ表面で凝縮し、ウエハ表面の純水と結合し
て重力により下方に流下し、ドレン弁２２より排出され
る。この過程でウエハ表面に付着する純水がＩＰＡと置
換される。
浄を終え、ウエハキャリア１１に収納された多数枚のウ
エハ１０を乾燥槽２０内に収容する。次いで、蓋体２１
を閉め、開閉弁３２を開く。これにより、噴霧ノズル３
１から加熱されたＩＰＡが噴霧される。噴霧されたＩＰ
Ａは、ウエハ表面で凝縮し、ウエハ表面の純水と結合し
て重力により下方に流下し、ドレン弁２２より排出され
る。この過程でウエハ表面に付着する純水がＩＰＡと置
換される。
【００１６】このとき、真空排気系４０では、開閉弁４
３を閉じ、開閉弁４４を開いた状態で、真空ポンプ４１
を作動させる。これにより、真空チャンバ４２内が所定
の真空度に真空排気される。
３を閉じ、開閉弁４４を開いた状態で、真空ポンプ４１
を作動させる。これにより、真空チャンバ４２内が所定
の真空度に真空排気される。
【００１７】乾燥槽２０内でＩＰＡによる乾燥処理が終
了すると、ドレン弁２２および開閉弁３２を閉じ、開閉
弁４３を開ける。これにより、乾燥槽２０の内部が真空
チャンバ４２により吸引されて急速に減圧され、ウエハ
表面に付着するＩＰＡが一気に除去される。このような
短時間の真空処理によると、ウエハ表面にウォーターマ
ークが生じない。
了すると、ドレン弁２２および開閉弁３２を閉じ、開閉
弁４３を開ける。これにより、乾燥槽２０の内部が真空
チャンバ４２により吸引されて急速に減圧され、ウエハ
表面に付着するＩＰＡが一気に除去される。このような
短時間の真空処理によると、ウエハ表面にウォーターマ
ークが生じない。
【００１８】この間、真空ポンプ４１は作動し続ける。
乾燥槽２０内から吸引排出されたＩＰＡは凝縮器４５で
凝縮する。
乾燥槽２０内から吸引排出されたＩＰＡは凝縮器４５で
凝縮する。
【００１９】
【発明の効果】以上に説明した通り、本発明の乾燥機
は、有機溶剤による乾燥処理の後に、真空チャンバを用
いた急速真空処理を行うので、有機溶剤による乾燥で問
題となるウォーターマークの発生を防止でき、パーティ
クルも非常に少ない。また、乾燥時間を短縮できる。
は、有機溶剤による乾燥処理の後に、真空チャンバを用
いた急速真空処理を行うので、有機溶剤による乾燥で問
題となるウォーターマークの発生を防止でき、パーティ
クルも非常に少ない。また、乾燥時間を短縮できる。
【図１】本発明の乾燥機の一例についてその構成を示す
系統図である。
系統図である。
１０ ウエハ（被乾燥物） ２０ 乾燥槽 ３０ ＩＰＡ供給系 ４０ 真空排気系 ４１ 真空ポンプ ４２ 真空チャンバ
Claims (1)
- 【請求項１】 真空チャンバにより構成した乾燥槽と、
該乾燥槽内に収容された被乾燥物に対して有機溶剤によ
る乾燥処理を行うべく乾燥槽内に有機溶剤を供給する溶
剤供給系と、前記乾燥槽内を真空排気する真空排気系と
を具備し、 前記真空排気系が真空ポンプと、真空ポンプと乾燥槽の
間に設けた真空チャンバとを有することを特徴とする乾
燥機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17984893A JPH0714820A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 乾燥機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17984893A JPH0714820A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 乾燥機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714820A true JPH0714820A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=16072971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17984893A Pending JPH0714820A (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 乾燥機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714820A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6027574A (en) * | 1997-08-07 | 2000-02-22 | Applied Materials, Inc. | Method of drying a substrate by lowering a fluid surface level |
| JP2013502554A (ja) * | 2009-08-21 | 2013-01-24 | ザクルイトエ・アクツィオネルノエ・オブスチェストヴォ“ツイン・トレーディング・カンパニー” | バルク毛管多孔性材料を乾燥させる方法及び装置 |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP17984893A patent/JPH0714820A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6027574A (en) * | 1997-08-07 | 2000-02-22 | Applied Materials, Inc. | Method of drying a substrate by lowering a fluid surface level |
| JP2013502554A (ja) * | 2009-08-21 | 2013-01-24 | ザクルイトエ・アクツィオネルノエ・オブスチェストヴォ“ツイン・トレーディング・カンパニー” | バルク毛管多孔性材料を乾燥させる方法及び装置 |
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