JPH0714511B2 - 半導体製造ライン用純水製造装置 - Google Patents
半導体製造ライン用純水製造装置Info
- Publication number
- JPH0714511B2 JPH0714511B2 JP59226153A JP22615384A JPH0714511B2 JP H0714511 B2 JPH0714511 B2 JP H0714511B2 JP 59226153 A JP59226153 A JP 59226153A JP 22615384 A JP22615384 A JP 22615384A JP H0714511 B2 JPH0714511 B2 JP H0714511B2
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- JP
- Japan
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- pure water
- heat exchanger
- production line
- semiconductor
- circulation system
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24D—DOMESTIC- OR SPACE-HEATING SYSTEMS, e.g. CENTRAL HEATING SYSTEMS; DOMESTIC HOT-WATER SUPPLY SYSTEMS; ELEMENTS OR COMPONENTS THEREFOR
- F24D17/00—Domestic hot-water supply systems
- F24D17/0078—Recirculation systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は純粋製造装置に関し、特に超純水を必要とする
電子工業や医薬品工業等における純水の製造に使用され
るものである。
電子工業や医薬品工業等における純水の製造に使用され
るものである。
従来の純水製造装置と、純水を使用する末端装置とから
なるシステムを第３図に示す。なお、第３図には３つの
末端装置（例えば半導体製造ライン）を接続した例を示
す。第３図において、タンク１内の純水はポンプ２によ
り熱交換器３及びフィルター４を経てタンク１へ戻る循
環系を循環している。通常の純水使用時には熱交換器３
で熱交換は行なわず、フィルター４を通過した純水はバ
ルブ5a、5b、5cを介して末端装置6a、6b、6cへ送られ、
使用後の排水が排水ライン７へ流される。そして未使用
の純水はタンク１へ戻される。また、タンク１には一段
前の純水製造装置からバルブ８を介装した供給管９を経
て、末端装置6a、6b、6cで使用された純水量に相当する
原水が供給される。一方、前記循環系を流れる純水中の
生菌の数が一定限度を超えると、バルブ5a、5b、5cを閉
じるとともに、バルブ８も閉じて原水の供給を止め、ポ
ンプ２により純水を循環しながら熱交換器３により純水
を60〜90℃に昇温して高温殺菌を行なう。
なるシステムを第３図に示す。なお、第３図には３つの
末端装置（例えば半導体製造ライン）を接続した例を示
す。第３図において、タンク１内の純水はポンプ２によ
り熱交換器３及びフィルター４を経てタンク１へ戻る循
環系を循環している。通常の純水使用時には熱交換器３
で熱交換は行なわず、フィルター４を通過した純水はバ
ルブ5a、5b、5cを介して末端装置6a、6b、6cへ送られ、
使用後の排水が排水ライン７へ流される。そして未使用
の純水はタンク１へ戻される。また、タンク１には一段
前の純水製造装置からバルブ８を介装した供給管９を経
て、末端装置6a、6b、6cで使用された純水量に相当する
原水が供給される。一方、前記循環系を流れる純水中の
生菌の数が一定限度を超えると、バルブ5a、5b、5cを閉
じるとともに、バルブ８も閉じて原水の供給を止め、ポ
ンプ２により純水を循環しながら熱交換器３により純水
を60〜90℃に昇温して高温殺菌を行なう。
純水製造装置の純水の循環系における生菌数は外部条
件、例えば夏場と冬場で異なるが、いずれにしても殺菌
を行なった後、指数関数的に増加していく。このため、
純水中の生菌数をチェックし、一定限度（通常５〜20個
/ml）を超えると、迅速に殺菌作業を行なう必要があ
る。
件、例えば夏場と冬場で異なるが、いずれにしても殺菌
を行なった後、指数関数的に増加していく。このため、
純水中の生菌数をチェックし、一定限度（通常５〜20個
/ml）を超えると、迅速に殺菌作業を行なう必要があ
る。
従来の純水製造装置では、熱交換器３の能力、系全体の
水量、殺菌温度等システム設計及び運用によっても異な
るが、バルブの開閉、水温上昇及び高温水の循環のため
に殺菌作業に要する時間は３〜７時間となる。この殺菌
作業の間末端装置で純水を使用するとすれば、高温の純
水しか使用できない。そして、高温の純水を使用して不
都合が生じる場合には末端装置を稼動することができ
ず、半導体製造ラインのように連続した工程となってお
り、しかもほとんどの工程で純水を必要とする製造ライ
ンでは全ラインをストップさせなければならない。
水量、殺菌温度等システム設計及び運用によっても異な
るが、バルブの開閉、水温上昇及び高温水の循環のため
に殺菌作業に要する時間は３〜７時間となる。この殺菌
作業の間末端装置で純水を使用するとすれば、高温の純
水しか使用できない。そして、高温の純水を使用して不
都合が生じる場合には末端装置を稼動することができ
ず、半導体製造ラインのように連続した工程となってお
り、しかもほとんどの工程で純水を必要とする製造ライ
ンでは全ラインをストップさせなければならない。
上述したように生菌数が一定限度を超える日数は外部条
件により異なるが、２、３日から１か月である。今、平
均して１日/10日の頻度でラインをストップして殺菌作
業を行なう必要があるとすると、生産能力は最大生産能
力の90％となってしまう。このため、例えば年間生産高
が100億円の生産ラインであれば、実際の年間生産高は9
0億円となってしまい、殺菌作業でラインをストップさ
せることに伴う生産高のロスは10億円にも及ぶ。
件により異なるが、２、３日から１か月である。今、平
均して１日/10日の頻度でラインをストップして殺菌作
業を行なう必要があるとすると、生産能力は最大生産能
力の90％となってしまう。このため、例えば年間生産高
が100億円の生産ラインであれば、実際の年間生産高は9
0億円となってしまい、殺菌作業でラインをストップさ
せることに伴う生産高のロスは10億円にも及ぶ。
本発明は上記欠点を解消するためになされたものであ
り、殺菌作業のたびに末端の製造ラインをストップする
必要がなく、末端製造ラインの生産能力を最大限発揮し
得る純水製造装置を提供しようとするものである。
り、殺菌作業のたびに末端の製造ラインをストップする
必要がなく、末端製造ラインの生産能力を最大限発揮し
得る純水製造装置を提供しようとするものである。
本発明の半導体製造ライン用純水製造装置は、前段の純
水製造装置で製造された純水が供給されるタンク、ポン
プ、高温殺菌を行う熱交換器、およびフィルターを順次
接続して形成された純水の循環系と、該循環系から分岐
する半導体製造ラインとを有する半導体製造ライン用純
水製造装置において、前記フィルターを通過した純水が
前記半導体製造ラインへ至るまでの経路に純水を冷却す
る熱交換器を設けたことを特徴とするものである。
水製造装置で製造された純水が供給されるタンク、ポン
プ、高温殺菌を行う熱交換器、およびフィルターを順次
接続して形成された純水の循環系と、該循環系から分岐
する半導体製造ラインとを有する半導体製造ライン用純
水製造装置において、前記フィルターを通過した純水が
前記半導体製造ラインへ至るまでの経路に純水を冷却す
る熱交換器を設けたことを特徴とするものである。
このような純水製造装置によれば、高温殺菌作業を行な
っている場合でもフィルターの下流に設けられた熱交換
器により純水を冷却して通常使用されている温度に調整
することができるので、末端装置をストップさせる必要
がない。
っている場合でもフィルターの下流に設けられた熱交換
器により純水を冷却して通常使用されている温度に調整
することができるので、末端装置をストップさせる必要
がない。
以下、本発明の実施例を第１図を参照して説明する。な
お、第１図には３つの末端装置（例えば半導体製造ライ
ン）を接続した例を示す。
お、第１図には３つの末端装置（例えば半導体製造ライ
ン）を接続した例を示す。
第１図において、タンク11内の純水はポンプ12により高
温殺菌用熱交換器13、フィルター14及び冷却用熱交換器
15を経てタンク11へ戻る循環系を循環している。通常の
純水使用時には高温殺菌用熱交換器13及び冷却用熱交換
器15で熱交換は行なわず、フィルター14及び冷却用熱交
換器15を通過した純水はバルブ16a、16b、16cを介して
末端装置17a、17b、17cへ送られ、使用後の排水が排水
ライン18へ流される。そして、未使用の純水はタンク11
へ戻される。また、タンク11には一段前の純水製造装置
からバルブ19を介装した供給管20を経て、末端装置17
a、17b、17cで使用された純水量に相当する原水が供給
される。一方、前記循環系を流れる純水中の生菌の数が
一定限度を超えた場合には、通常の運転状態と同様にポ
ンプ12により純水を循環しながら、高温殺菌用熱交換器
13により純水を60〜90℃に昇温して殺菌を行ない、フィ
ルター14を通過した純水を冷却用熱交換器15により冷却
して通常使用されている純水の温度に調整した後、バル
ブ16a、16b、16cを介して純水を末端装置17a、17b、17c
に供給する。
温殺菌用熱交換器13、フィルター14及び冷却用熱交換器
15を経てタンク11へ戻る循環系を循環している。通常の
純水使用時には高温殺菌用熱交換器13及び冷却用熱交換
器15で熱交換は行なわず、フィルター14及び冷却用熱交
換器15を通過した純水はバルブ16a、16b、16cを介して
末端装置17a、17b、17cへ送られ、使用後の排水が排水
ライン18へ流される。そして、未使用の純水はタンク11
へ戻される。また、タンク11には一段前の純水製造装置
からバルブ19を介装した供給管20を経て、末端装置17
a、17b、17cで使用された純水量に相当する原水が供給
される。一方、前記循環系を流れる純水中の生菌の数が
一定限度を超えた場合には、通常の運転状態と同様にポ
ンプ12により純水を循環しながら、高温殺菌用熱交換器
13により純水を60〜90℃に昇温して殺菌を行ない、フィ
ルター14を通過した純水を冷却用熱交換器15により冷却
して通常使用されている純水の温度に調整した後、バル
ブ16a、16b、16cを介して純水を末端装置17a、17b、17c
に供給する。
したがって、このような純水製造装置によれば、高温殺
菌作業を行なっている場合でも末端装置17a、17b、17c
をストップさせる必要がなく、末端の製造ラインの生産
能力を100％発揮することができる。
菌作業を行なっている場合でも末端装置17a、17b、17c
をストップさせる必要がなく、末端の製造ラインの生産
能力を100％発揮することができる。
なお、上記実施例では冷却用熱交換器15を純水の循環系
の一部を構成するようにフィルター14の下流に設けた
が、これに限らず第２図に示すような構成としてもよ
い。すなわち、第２図の純水製造装置は、純水の循環系
は従来と同様にタンク11、ポンプ12、高温殺菌用熱交換
器13及びフィルター14で形成し、フィルター14下流の配
管と、末端の製造ラインとの間にバルブ21及び冷却用熱
交換器22を設けたものである。このような純水製造装置
でも上記実施例の純水製造装置と同様の効果を得ること
ができる。
の一部を構成するようにフィルター14の下流に設けた
が、これに限らず第２図に示すような構成としてもよ
い。すなわち、第２図の純水製造装置は、純水の循環系
は従来と同様にタンク11、ポンプ12、高温殺菌用熱交換
器13及びフィルター14で形成し、フィルター14下流の配
管と、末端の製造ラインとの間にバルブ21及び冷却用熱
交換器22を設けたものである。このような純水製造装置
でも上記実施例の純水製造装置と同様の効果を得ること
ができる。
以上詳述した如く本発明の純水製造装置によれば、純水
の高温殺菌作業中でも末端の製造ラインをストップする
ことなく通常の温度の純水を供給することができ、末端
の製造ラインの生産能力を最大限に発揮できるものであ
る。
の高温殺菌作業中でも末端の製造ラインをストップする
ことなく通常の温度の純水を供給することができ、末端
の製造ラインの生産能力を最大限に発揮できるものであ
る。
第１図は本発明の実施例における純水製造装置の系統
図、第２図は本発明の他の実施例における純水製造装置
の系統図、第３図は従来の純水製造装置の系統図であ
る。 11……タンク、12……ポンプ、13……高温殺菌用熱交換
器、14……フィルター、15、22……冷却用熱交換器、16
a、16b、16c、19、21……バルブ、17a、17b、17c……末
端装置、18……排水ライン、20……供給管。
図、第２図は本発明の他の実施例における純水製造装置
の系統図、第３図は従来の純水製造装置の系統図であ
る。 11……タンク、12……ポンプ、13……高温殺菌用熱交換
器、14……フィルター、15、22……冷却用熱交換器、16
a、16b、16c、19、21……バルブ、17a、17b、17c……末
端装置、18……排水ライン、20……供給管。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 此松 良隆 大分県大分市大字松岡3500番地 株式会社 東芝大分工場内 (56)参考文献 特公 昭50−29581（ＪＰ，Ｂ１) 実公 昭54−25874（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (2)
- 【請求項１】前段の純水製造装置で製造された純水が供
給されるタンク、ポンプ、高温殺菌を行う熱交換器、お
よびフィルターを順次接続して形成された純水の循環系
と、該循環系から分岐する半導体製造ラインとを有する
半導体製造ライン用純水製造装置において、前記フィル
ターを通過した純水が前記半導体製造ラインへ至るまで
の経路に純水を冷却する熱交換器を設けたことを特徴と
する半導体製造ライン用純水製造装置。 - 【請求項２】前記純水を冷却する熱交換器を、前記純水
の循環系から分岐する前記半導体製造ラインへの分岐部
に設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
半導体製造ライン用純水製造装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59226153A JPH0714511B2 (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | 半導体製造ライン用純水製造装置 |
| EP85113537A EP0183968B1 (en) | 1984-10-27 | 1985-10-24 | Pure water manufacturing apparatus |
| DE8585113537T DE3581377D1 (de) | 1984-10-27 | 1985-10-24 | Vorrichtung zum erzeugen von reinem wasser. |
| US06/791,536 US4664793A (en) | 1984-10-27 | 1985-10-25 | Pure water manufacturing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59226153A JPH0714511B2 (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | 半導体製造ライン用純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61103592A JPS61103592A (ja) | 1986-05-22 |
| JPH0714511B2 true JPH0714511B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=16840688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59226153A Expired - Lifetime JPH0714511B2 (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | 半導体製造ライン用純水製造装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4664793A (ja) |
| EP (1) | EP0183968B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0714511B2 (ja) |
| DE (1) | DE3581377D1 (ja) |
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| US4957624A (en) * | 1986-06-09 | 1990-09-18 | Purewater Sciences International, Inc. | Method of and arrangement for purifying contaminated water |
| JPH0645024B2 (ja) * | 1986-08-08 | 1994-06-15 | オルガノ株式会社 | 超純水給水系路の自動熱殺菌装置 |
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- 1984-10-27 JP JP59226153A patent/JPH0714511B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-10-24 EP EP85113537A patent/EP0183968B1/en not_active Expired
- 1985-10-24 DE DE8585113537T patent/DE3581377D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-10-25 US US06/791,536 patent/US4664793A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| EP0183968B1 (en) | 1991-01-16 |
| JPS61103592A (ja) | 1986-05-22 |
| DE3581377D1 (de) | 1991-02-21 |
| EP0183968A3 (en) | 1988-05-25 |
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