JPH07142378A

JPH07142378A - 塗布装置

Info

Publication number: JPH07142378A
Application number: JP5312539A
Authority: JP
Inventors: Kiyohisa Tateyama; 清久立山; Shinji Kitamura; 晋治北村
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Priority date: 1993-11-18
Filing date: 1993-11-18
Publication date: 1995-06-02
Anticipated expiration: 2014-06-14
Also published as: JP2906017B2

Abstract

(57)【要約】【目的】回転カップの蓋体の開放を容易にすると共
に、被処理体へのミストやダストの付着を防止して、ス
ループットの向上及び製品歩留まりの向上を図る。【構成】被処理体であるＬＣＤ基板Ｇを回転保持する
スピンチャック１０と共に回転する回転カップ１２と、
この回転カップ１２の開口部を閉塞する蓋体１６とで処
理室２０を形成し、回転カップ１２の周囲を取囲むよう
にドレンカップ１４を配置する。回転カップ１２の処理
室２０の上部周辺部に給気孔３４を設けると共に、下部
周辺部には排気孔３５を設ける。これにより、回転処理
時には給気孔３４から処理室２０内に入った空気を排気
孔３５から外部に排出することができるので、処理室２
０内が負圧になるのを防止し、処理後の蓋体１６の開放
を容易にすることができると共に、蓋体１６の開放時に
外部から処理室２０内に進入してＬＣＤ基板Ｇにダスト
が付着するのを防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、被処理体と共に被処
理体を収容する処理室を回転させて、被処理体の表面に
薄い塗膜を形成する塗布装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体デバイスやＬＣＤの製造
工程においては、シリコン基板あるいはＬＣＤ基板（ガ
ラス基板）にフォトレジストを塗布し、フォトリソグラ
フィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォトレジ
ストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施され
る。

【０００３】このような処理を行う場合、図１２に示す
処理システムが使用されている。このシステムは、被処
理体としての基板Ｇを搬入・搬出するローダ部４０と、
基板Ｇをブラシ洗浄するブラシ洗浄装置４２と、基板Ｇ
を高圧ジェット水で洗浄するジェット水洗浄装置４４
と、基板Ｇの表面を疎水化処理するアドヒージョン処理
装置４６と、基板Ｇを所定温度に冷却する冷却処理装置
４８と、基板Ｇの表面にレジスト液を塗布するレジスト
塗布装置５０と、レジスト液塗布の前後で基板Ｇを加熱
してプリベーク又はポストベークを行う加熱処理装置５
２及び基板Ｇの周縁部のレジストを除去するレジスト除
去装置５４と、現像装置５５などを集合化して作業効率
の向上を図っている。

【０００４】上記のように構成される処理システムの中
央部には、長手方向に沿って基板搬送路５６が設けら
れ、この基板搬送路５６に各装置４２〜５５が正面を向
けて配置され、各装置４２〜５５との間で基板Ｇの受け
渡しを行う基板搬送機構５８が基板搬送路５６に沿って
移動自在に設けられている。この基板搬送機構５８は、
真空吸着などによって基板Ｇを保持するためのアーム５
９を備えている。アーム５９は上下に例えば２本配設さ
れており、移動機構により各装置４２〜５５の基板載置
位置まで移動できるようになっている。

【０００５】一方、上記レジスト塗布装置５０は、矩形
状の基板Ｇの表面にレジスト液を塗布して基板Ｇの表面
に薄い塗膜を形成するために、基板Ｇと共に基板Ｇを収
容する処理室を有するカップを回転させて基板Ｇ上にレ
ジスト塗膜を形成する回転カップ式塗布装置が使用され
ている。この回転カップ式塗布装置は、図１３に示すよ
うに、基板Ｇを載置するスピンチャック１０と一体に固
定された円盤状の回転カップ１２と、この回転カップ１
２の外周を取囲むように配置されるリング状のドレンカ
ップ１４とで主要部が構成されている。この場合、回転
カップ１２の周壁にはレジスト塗布時に飛散するミスト
の排出用の透孔１５が穿設され、また、回転カップ１２
の開口部には蓋体１６が閉塞されるようになっており、
この蓋体１６の上部に突出する膨隆頭部１８が図示しな
いロボットアームによって把持されて回転カップ１２の
開口部を開閉し得るように構成されている。

【０００６】上記のように構成される回転カップ式塗布
装置において、ロボットアームによって蓋体１６を上方
へ持上げ、この状態で基板搬送機構５８のアーム５９に
よって基板Ｇを回転カップ１２上に搬送し、スピンチャ
ック１０上に載置する。そして、基板Ｇをスピンチャッ
ク１０上に真空吸着等によって保持した後、図示しない
塗布液供給ノズルが移動してきて、基板Ｇ上に塗布液で
あるレジスト液を滴下させる。そして、塗布液供給ノズ
ルが退避すると、再度ロボットアームが作動して回転カ
ップ１２上に蓋体１６を被着して密閉処理室２０を形成
する。この状態でスピンチャック１０が駆動してスピン
チャック１０、回転カップ１２、蓋体１６及び基板Ｇが
一体的に回転され、この際の遠心力により基板Ｇの上表
面にレジスト液の塗膜が形成される。そして、この一方
ではレジスト液のミストが回転カップ１２の透孔１５か
ら遠心力及び排気流によりドレンカップ１４の内方へ排
出され、ドレンカップ１４に設けられた排液口（図示せ
ず）から外部へ排出される。

【０００７】しかし、スピンチャック１０の回転時にモ
ータ１１が発熱して周囲の空気を加熱することによって
上昇気流が生じて、これがベース１３と回転カップ１２
との間を通過してドレンカップ１４の内方へ流入し、蓋
体１６を開放した際に基板Ｇ上にダストとなって降りか
かり、処理済みの基板Ｇの塗布膜に付着しダメージを与
える虞れがある。そのため、従来のこの種の塗布装置に
おいては、回転カップ１２の外周縁上部に上側の縮径さ
れたテーパ面を形成すると共に、ドレンカップ１４の内
周縁には同様に上側の縮径されたテーパ面を形成して、
これら両テーパ面間に微小間隙を形成し、そして、回転
カップ１２の回転時に回転カップ１２とドレンカップ１
４間で生じる周速度差から誘発される圧力差による気流
が微小間隙の上部から下部へ、すなわち回転カップ１２
の上方からドレンカップ１４の内方へ向う気流となって
上記ドレンカップ１４内に流れるミストの舞い上がり現
象を防止している（実開平４−６３６３３号公報参
照）。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の塗布装置においては、回転カップ１２と蓋体１
６を密閉した状態で高速回転（約１５００ｒｐｍ）して
レジスト液を塗布し、塗布時に飛散したミストを透孔１
５を介して外部から吸引排気する構造であるため、処理
室２０内と外気との間に圧力差が生じ、処理室２０内は
負圧状態となる。したがって、特にＬＣＤ基板のように
比較的大きな被処理体の処理後に蓋体１６を開放する際
に大きな力を要し、蓋体１６の開放がスムーズに行えな
いという問題があった。また、蓋体１６の開放時に周囲
の空気が回転カップ内に流れ込み、この空気の流入に伴
って外部に飛散したミストやダストが処理済みの基板Ｇ
上に付着してダメージを与えるという問題もあった。

【０００９】この発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、回転処理中に回転カップの内側外部に空気流を作っ
て処理室内の負圧を低減させ、蓋体の開放を円滑に行え
るようにすると共に、処理済みの被処理体へのミストや
ダストの付着を防止して、スループットの向上及び製品
歩留まりの向上を図れるようにした塗布装置を提供しよ
うとするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第１の塗布装置は、被処理体を収容する
処理室を有する回転カップと、この回転カップの周囲を
取囲むように配置されるドレンカップとを有する塗布装
置を前提とし、上記回転カップの処理室の上部周辺部に
給気孔を設けると共に、下部周辺部には排気孔を設けた
ことを特徴とするものである。

【００１１】この発明において、上記回転カップの外側
面に、上側に向って縮径されたテーパ面を形成し、ドレ
ンカップの内周面には、上記回転カップのテーパ面に近
接すべく上側に向って縮径されたテーパ面を形成する方
が好ましい。

【００１２】また、この発明の第２の塗布装置は、上記
第１の塗布装置と同様、被処理体を収容する処理室を有
する回転カップと、この回転カップの周囲を取囲むよう
に配置されるドレンカップとを有する塗布装置を前提と
し、上記ドレンカップの外周側に排気口を設けると共
に、ドレンカップの内周側上方部に排気口と連通する排
気通路を形成してなることを特徴とするものである。

【００１３】この発明において、上記処理室は、上記回
転カップと、この開口部に閉塞される蓋体とで形成さ
れ、蓋体は回転処理時には回転カップに固定される。こ
の場合、回転カップと蓋体の固定手段は、例えばピンと
孔等の凹部による嵌合であってもよく、あるいは押圧機
構を用いて蓋体を回転カップに固定することができる。
押圧機構としては、例えばスプリング等の弾性手段、マ
グネットや真空による吸着手段、あるいは、蓋体の上面
に取付けられて回転に伴って蓋体を回転カップ側に押圧
する分力を有する翼片等にて形成することができる。

【００１４】

【作用】上記のように構成されるこの発明の塗布装置に
よれば、回転カップの処理室の上部周辺部に給気孔を設
けると共に、下部周辺部に排気孔を設けることにより、
回転処理中に回転カップの内側外部に空気流を形成し、
この空気流により処理室内の負圧を低減させることがで
きる。したがって、蓋体の開放に大きな力を要すること
なく、蓋体の開放を円滑に行うことができる。また、蓋
体の開放時に外部から処理室内に流入する空気量を少な
くして、処理済みの被処理体へのミストやダスト等の付
着を防止することができる。この場合、回転カップの外
側面に、上側に向って縮径されたテーパ面を形成し、ド
レンカップの内周面には、回転カップのテーパ面に近接
すべく上側に向って縮径されたテーパ面を形成すること
により、回転カップの回転時に回転カップとドレンカッ
プとの間で生じる周速差から圧力差が誘発され、この圧
力差が回転カップの外周部上側から下側に向う気流を助
長させてドレンカップ内の排気ミストの飛散を防止する
ことができる。

【００１５】また、ドレンカップの外周側に排気口を設
けると共に、ドレンカップの内周側上方部に排気口と連
通する排気通路を形成することにより、ドレンカップか
ら外部へ向おうとするミストを排気口から排気すること
ができる。

【００１６】

【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。ここでは、この発明の塗布装置を、ＬＣＤ
基板の処理システムに適用した場合について説明する。
なお、従来の塗布装置と同じ部分は同一の符合を付して
説明する。

【００１７】図１はこの発明の塗布装置の全体の構造の
概略断面図、図２はその要部拡大断面図、図３は回転駆
動部の断面図が示されている。

【００１８】この発明の塗布装置は、被処理体例えばＬ
ＣＤ基板Ｇ（以下に基板という）を図示しない真空装置
によって吸着保持すると共に水平方向に回転するスピン
チャック１０と、このスピンチャック１０の上部及び外
周部を包囲する処理室２０を有する上方部が開口した開
口円盤状の回転カップ１２と、回転カップ１２の開口部
１２ａに開閉可能に被着（着脱）される蓋体１６と、回
転カップ１２の外周側を取囲むように配置される中空リ
ング状のドレンカップ１４とで主要部が構成されてい
る。

【００１９】上記スピンチャック１０は駆動モータ２１
の駆動によって回転される回転軸２２を介して水平方向
に回転（自転）可能になっており、また回転軸２２に連
結される昇降シリンダ２３の駆動によって上下方向に移
動し得るようになっている。この場合、回転軸２２は、
固定カラー２４の内周面にベアリング２５ａを介して回
転可能に装着される回転内筒２６ａの内周面に嵌着され
るスプライン軸受２７に摺動可能に連結されている。ス
プライン軸受２７には従動プーリ２８ａが装着されてお
り、従動プーリ２８ａには駆動モータ２１の駆動軸２１
ａに装着された駆動プーリ２１ｂとの間にベルト２９ａ
が掛け渡されている。したがって、駆動モータ２１の駆
動によってベルト２９ａを介して回転軸２２が回転して
スピンチャック１０が回転される。また、回転軸２２の
下部側は図示しない筒体内に配設されており、筒体内に
おいて回転軸２２はバキュームシール部３０を介して昇
降シリンダ２３に連結され、昇降シリンダ２３の駆動に
よって回転軸２２が上下方向に移動し得るようになって
いる。

【００２０】上記回転カップ１２は、上記固定カラー２
４の外周面にベアリング２５ｂを介して装着される回転
外筒２６ｂの上端部に固定される連結筒３１を介して取
付けられており、回転カップ１２の底部１２ｂとスピン
チャック１０の下面との間にはシール機能を有するベア
リング３２が介在されてスピンチャック１０と相対的に
回転可能になっている。そして、回転外筒２６ｂに装着
される従動プーリ２８ｂと上記駆動モータ２１に装着さ
れる駆動プーリ２１ｂに掛け渡されるベルト２９ｂによ
って駆動モータ２１からの駆動が回転カップ１２に伝達
されて回転カップ１２が回転される。この場合、従動プ
ーリ２８ｂの直径は上記回転軸２２に装着された従動プ
ーリ２８ａの直径と同一に形成され、同一の駆動モータ
２１にベルト２９ａ，２９ｂが掛け渡されているので、
回転カップ１２とスピンチャック１０は同一回転する。
なお、固定カラー２４と回転内筒２６ａ及び回転外筒２
６ｂとの対向面にはラビリンスシール部３３が形成され
て回転処理時に下部の駆動系から回転カップ１２内にご
みが進入するのを防止している（図３参照）。

【００２１】また、回転カップ１２は、側壁１２ｃが上
側に向って縮径されたテーパ面１２ｅを形成してなり、
この側壁１２ｃの上端から内方側に向って内向きフラン
ジ１２ｄが形成されている。そして、回転カップ１２の
上部周辺部すなわち内向きフランジ１２ｄには周方向に
適宜間隔をおいて給気孔３４が穿設され、下部周辺部す
なわち側壁１２ｃの下部側の周方向の適宜位置には排気
孔３５が穿設されている。このように給気孔３４と排気
孔３５を設けることにより、回転カップ１２が回転する
際に、給気孔３４から処理室２０内に流れる空気が排気
孔３５から外部に流れるので、回転カップ１２の回転時
に処理室２０内が負圧になるのを防止することができ、
処理後に回転カップ１２から蓋体１６を開放する際に大
きな力を要することなく，蓋体１６を容易に開放するこ
とができる。

【００２２】一方、上記ドレンカップ１４内部には環状
通路１４ａが設けられており、この環状通路１４ａの外
周壁の適宜箇所（例えば周方向の４箇所）には図示しな
い排気装置に接続する排気口３６が設けられると共に、
ドレンカップ１４の内周側上方部に排気口３６と連通す
る放射状の排気通路３７が形成されている（図１及び図
３参照）。このようにドレンカップ１４の外周部に排気
口３６を設けると共に、ドレンカップ１４の内周側上方
部に排気口３６と連通する排気通路３７を形成すること
により、回転処理時に処理室２０内で遠心力により飛散
し排気孔３５を通ってドレンカップ１４内に流れ込んだ
ミストが回転カップ１２の上部側へ舞い上がるのを防止
して、排気口３６から外部に排出することができる。

【００２３】上記環状通路１４ａは、ドレンカップ１４
の底部から起立する外側壁１４ｂとドレンカップ１４の
天井部から垂下する内側壁１４ｃとで迂回状に区画され
て、排気が均一に行えるようになっており、外側壁１４
ｂと内側壁１４ｃとの間に位置する底部１４ｄには周方
向に適宜間隔をおいてドレン孔１４ｅが設けられてい
る。このドレン孔１４ｅを有するドレン管１４ｆは、図
２に示すように、ドレンカップ１４を支持する支柱３８
に取付けられたブラケット３８ａに装着されるジョイン
ト３８ｂに対して挿脱可能に係合されて排液管１４ｇと
連結されており、ドレンカップ１４の清掃、補修時に、
ドレンカップ１４が簡単にジョイント３８ｂ部分から取
外せるようになっている。

【００２４】また、ドレンカップ１４の内周面には、上
記回転カップ１２のテーパ面１２ｅに近接すべく上側に
向って縮径されたテーパ面１４ｈが形成されて、回転カ
ップ１２のテーパ面１２ｅとドレンカップ１４のテーパ
面１４ｈとの間に微小間隙３９が形成されている。この
ように下方に向って拡開するテーパ状の微小間隙３９を
形成することによって、回転カップ１２の回転時に回転
カップ１２とドレンカップ１４との間の上記微小間隙３
９の上下の間で生じる周速差から圧力差が誘発され、こ
の圧力差が回転カップ１２の外周部の微小間隙３９の上
側から下側に向う気流を助長させてドレンカップ１４内
の排気ミストが上記微小間隙３９を通って回転カップ１
２外へ飛散するのを防止することができる。

【００２５】また、微小間隙３９を通って上方に向い回
転カップ１２外へ飛散しおうとするミストがあっても、
排気通路３７により吸引されてドレンカップ１４内に向
い排気口３６から排出される。

【００２６】上記蓋体１６は回転処理時には回転カップ
１２の開口部１２ａに固定されて一体に回転される必要
がある。そこで、図４及び図５に示すように、回転カッ
プ１２の上部に突出する固定ピン１７ａと、この固定ピ
ン１７ａに嵌合する嵌合凹所１７ｂとを互いに嵌合させ
て蓋体１６を回転カップ１２に固定している。この場
合、固定ピン１７ａの頂部を球面状に形成することによ
り、嵌合凹所１７ｂとの接触によって発生するごみを少
なくしている。なお、固定ピン１７ａは必ずしも回転カ
ップ側に突出する必要はなく、図６に示すように、蓋体
側に固定ピン１７ａを突出させ、回転カップ側に嵌合凹
所１７ｂを設けてもよい。また、嵌合凹所１７ｂ内を図
示しない吸引手段に接続させて固定ピン１７ａと嵌合凹
所１７ｂとの接触によって発生するごみを外部に排出さ
せるようにしてもよい。

【００２７】上記蓋体１６を開閉する場合には、図１に
想像線で示すように、蓋体１６の上面に突設された膨隆
頭部１８の下にロボットアーム６０を挿入し、膨隆頭部
１８に設けられた係止溝１８ａにロボットアーム６０か
ら突出する係止ピン６１を係合させた後、ロボットアー
ム６０を上下動させることによって行うことができる。
なお、蓋体１６を開放するときの膨隆頭部１８の系し溝
１８ａとロボットアーム６０の係止ピン６１との位置合
せ、及び蓋体１６を閉じるときの固定ピン１７ａと嵌合
凹所１７ｂの位置合せは、サーボモータ等にて形成され
る駆動モータ２１の回転角を制御することによって行う
ことができる。

【００２８】上記実施例では、蓋体１６と回転カップ１
２との固定を固定ピン１７ａと嵌合凹所１７ｂの嵌合に
より行う場合について説明したが、必ずしもこのような
構造とする必要はなく、別途押圧機構を用いて蓋体１６
を回転カップ１２に固定すれば、蓋体１６の開放時のご
みの発生や回転処理時の蓋体１６のガタツキ等を防止す
ることができる。押圧機構としては、例えば、図７に示
すように、蓋体１６を回転可能に吊持する吊持部材６２
と蓋体１６の上面との間にコイルスプリング６３を縮設
させて、このコイルスプリング６３の弾発力によつて蓋
体１６を回転カップ１２に固定するようにしてもよく、
また、図８に示すように、マグネット６４を用いて蓋体
１６を回転カップ１２に吸着固定するもの、あるいは、
図９に示すように、回転カップ１２の上面に真空装置
（図示せず）に接続する吸着室６５を周設して、吸着室
６５内を負圧状態にして蓋体１６を吸着固定するもの、
あるいは、図１０に示すように、蓋体１６の上面に取付
けられて回転に伴って蓋体１６を回転カップ側に押圧す
る分力Ｆ（ｓｉｎθ）を有する傾斜状（傾斜角：θ）の
翼片６６等にて形成することができる。更には、図１１
に示すように、吊持部材６２の下面から蓋体１６の上面
に向って取付けられる弾性を有する複数（図面では３個
の場合を示す）の板バネ６７の弾発力によって蓋体１６
を回転カップ１２に固定する構造等としてもよい。

【００２９】なお、回転カップ１２の下部側の回転せず
固定された連結筒３１内に洗浄ノズル６８を配設するこ
とにより、回転カップ１２及び蓋体１６の内面を洗浄す
ることができる。すなわち、回転軸２２に取付けられた
ブラケット６９にて洗浄ノズル６８を保持し、洗浄ノズ
ル６８に接続する洗浄液供給管７０を固定カラー２４内
に設けた通路（図示せず）を介して外部の図示しない洗
浄液供給源に接続することによって、図３に想像線で示
すように、スピンチャック１０を上昇させてスピンチャ
ック１０と回転カップ１２の底部との間から洗浄ノズル
６８を臨ませて洗浄液を回転する回転カップ１２及び蓋
体１６の内面に噴射することができる。

【００３０】次に、この発明の塗布装置の動作態様につ
いて説明する。まず、ロボットアーム６０を蓋体１６の
膨隆頭部１８の下面に挿入して係止ピン６１を膨隆頭部
１８の係止溝１８ａに係合した後に上方へ移動して、蓋
体１６を持上げて回転カップ１２の開口部１２ａを開放
する。この状態で、基板搬送機構５８のアーム５９にて
保持された基板Ｇが回転カップ１２の開口部１２ａに搬
送されると、昇降シリンダ２３の伸長動作によってスピ
ンチャック１０が上昇して基板Ｇを受取って吸着保持す
る。基板Ｇを受渡した後、基板搬送機構５８のアーム５
９は回転カップ１２の上方から退避する。

【００３１】基板Ｇを受取った後、昇降シリンダ２３が
収縮動作してスピンチャック１０が下降すると、図示し
ないレジスト液供給ノズルが回転カップ１２の開口部１
２ａの上方に移動して、レジスト液を基板Ｇの表面に供
給例えば滴下する。そして、レジスト液供給ノズルが回
転カップ１２から退避すると、再度ロボットアーム６０
が作動して回転カップ上に蓋体１６を被着して処理室２
０を密封する。この状態で駆動モータ２１が駆動してス
ピンチャック１０、回転カップ１２、蓋体１６及び基板
Ｇが一体的に回転され、この際の遠心力により基板Ｇ表
面の中心部から外周部に向ってにレジスト液が拡散され
て塗膜が形成される。

【００３２】上記回転処理時に回転カップ１２の上部周
辺部に設けられた給気孔３４から処理室２０内に流入し
た空気は、処理室２０の下部外周側に設けられた排気孔
３５から外部に流れるので、基板Ｇから飛散したレジス
ト液のミストは、この空気によって搬送され排気孔３５
から外部のドレンカップ１４内に排出される。この際、
回転カップ１２のテーパ面１２ｅとドレンカップ１４の
テーパ面１４ｈとの間に、下方に向って拡開するテーパ
状の微小間隙３９が形成されているので、回転カップ１
２の回転時に回転カップ１２とドレンカップ１４との間
で生じる周速差から空気の遠心力の作用による圧力差が
誘発され、この圧力差が回転カップ１２の外周部上側か
ら下側に向う気流を助長させてドレンカップ１４内の排
気ミストの飛散を防止することができる。更に、回転カ
ップ１２の上部の空気は排気通路３７を介して排気口３
６側に流れるので、ドレンカップ１４内に流れて上方へ
舞い上がるミストは排気口３６から外部に排出される。
なお、ドレンカップ１４内に流れたミストはドレンカッ
プ１４の内側壁１２ｃと外側壁１２ｃの間を通る際に気
液が分離されて排液はドレン孔１４ｅから外部に排出さ
れ、また、空気は排気口３６から外部に排出される。

【００３３】また、回転処理時には、空気が給気孔３４
から処理室２０内を通って排気孔３５を介して外部に流
れるので、処理室２０内が負圧状態になるのを防止する
ことができ、処理後の蓋体１６の開放を容易にすること
ができると共に、蓋体１６の開放時に上部の空気と共に
ダストが処理室２０内に入込むのを防止することができ
る。

【００３４】なお、上記実施例ではこの発明の塗布装置
をＬＣＤ基板のレジスト塗布に適用した場合について説
明したが、ＬＣＤ基板以外の半導体ウエハのレジスト塗
布やその他の基板の表面に適宜処理液を塗布するものに
おいても適用可能である。

【００３５】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明の塗布
装置によれば、上記のように構成されるので、以下のよ
うな効果が得られる。

【００３６】１）請求項１に記載の塗布装置によれば、
回転処理中に回転カップの内側外部に空気流を形成する
ことができるので、処理室内の負圧を低減させることが
でき、処理後の蓋体の開放を容易に行うことができると
共に、蓋体の開放時に外部から処理室内に流入する空気
量を少なくして、処理済みの被処理体へのミストやダス
ト等の付着を防止することができる。したがって、スル
ープットの向上を図ることができると共に、製品歩留ま
りの向上を図ることができる。

【００３７】２）請求項２記載の塗布装置によれば、回
転カップの回転時に回転カップの外周部上側から下側に
向う気流を助長させてドレンカップ内の排気ミストの飛
散を防止して、更に製品歩留まりの向上を図ることがで
きる。

【００３８】３）請求項３記載の塗布装置によれば、ド
レンカップの外周側に排気口を設けると共に、ドレンカ
ップの内周側上方部に排気口と連通する排気通路を形成
するので、ドレンカップから外部へ向うミストを排気口
から排気することができ、上記１），２）に加えて更に
製品歩留まりの向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の塗布装置の全体構造を示す概略断面
図である。

【図２】図１の要部を示す拡大断面図である。

【図３】塗布装置の回転駆動部分を示す拡大断面図であ
る。

【図４】この発明における回転カップと蓋体の関係の一
例を示す分解斜視図である。

【図５】回転カップと蓋体の固定状態を示す拡大断面図
である。

【図６】回転カップと蓋体の別の固定状態を示す拡大断
面図である。

【図７】回転カップと蓋体の別の固定形態を示す概略断
面図である。

【図８】回転カップと蓋体の更に別の固定形態を示す概
略断面図である。

【図９】回転カップと蓋体の更に別の固定形態を示す概
略断面図である。

【図１０】回転カップと蓋体の更に別の固定形態を示す
概略断面図である。

【図１１】回転カップと蓋体の更に別の固定形態を示す
概略断面図及びその平面図である。

【図１２】この発明の塗布装置を具備するＬＣＤ基板の
処理システムを示す斜視図である。

【図１３】従来の塗布装置を示す断面図である。

【符号の説明】

ＧＬＣＤ基板（被処理体）１０スピンチャック１２回転カップ１２ｅテーパ面１４ドレンカップ１４ｈテーパ面１６蓋体２０処理室３４給気孔３５排気孔３６排気口３７排気通路３９微小間隙

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理体を収容する処理室を有する回転
カップと、この回転カップの周囲を取囲むように配置さ
れるドレンカップとを有する塗布装置において、上記回転カップの処理室の上部周辺部に給気孔を設ける
と共に、下部周辺部には排気孔を設けたことを特徴とす
る塗布装置。
【請求項２】回転カップの外側面に、上側に向って縮
径されたテーパ面を形成し、ドレンカップの内周面に
は、上記回転カップのテーパ面に近接すべく上側に向っ
て縮径されたテーパ面を形成してなることを特徴とする
請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】被処理体を収容する処理室を有する回転
カップと、この回転カップの周囲を取囲むように配置さ
れるドレンカップとを有する塗布装置において、上記ドレンカップの外周側に排気口を設けると共に、ド
レンカップの内周側上方部に排気口と連通する排気通路
を形成してなることを特徴とする塗布装置。