JPH07122626A

JPH07122626A - 被搬送物のシールド構造及び方法

Info

Publication number: JPH07122626A
Application number: JP28746693A
Authority: JP
Inventors: Shuhei Shinozuka; 脩平篠塚; Masaaki Kajiyama; 雅章梶山; Masao Matsumura; 正夫松村; Takeshi Yoshioka; 毅吉岡
Original assignee: Ebara Corp
Current assignee: Ebara Corp
Priority date: 1993-10-22
Filing date: 1993-10-22
Publication date: 1995-05-12

Abstract

(57)【要約】【目的】真空中を搬送カートに載置されて搬送される
ウエハやガラス基板に分子汚染が生じないようにすると
ともに、分子汚染を生じない清浄な状態を維持する。【構成】ウエハ８を載せて真空中を搬送する搬送カー
ト１に当該ウエハ８を覆うシールド板２を着脱可能に設
け、このシールド板２でウエハ８の分子汚染を防止す
る。また、シールド板８はウエハ８より大きいものと
し、分子汚染の防止を確実なものとするとともに、搬送
カート１へのウエハ８の出し入れを容易にする。また、
シールド板２をカート１から取り外し、シールド板２に
オゾン雰囲気下で紫外線を照射してシールド板２に付着
した有機物を灰化して消滅させることにより、分子汚染
を生じない清浄な状態を維持する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高度の清浄度を要求さ
れる半導体ウエハや液晶のガラス基板を搬送するための
カート、に備えられた被搬送物のシールド構造及び方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハや液晶のガラス基板の製造
工程には種々の真空プロセス装置が用いられる。真空プ
ロセス装置を用いる場合、真空ポンプの排気等によって
舞上げられた粒子や壁からの剥離粒子が、真空プロセス
装置へ挿入しようとするウエハやガラス基板に付着して
粒子汚染を発生させてしまうことがある。

【０００３】従来より、このような不具合を回避するた
め、一連の真空プロセスを連続させ、真空プロセス装置
から次の真空プロセス装置へのウエハやガラス基板の移
送を大気中ではなく真空中で行うようにして、上記のよ
うな粒子汚染の機会をなくす製造方法が考えられてい
る。また、近年では、プロセス装置間を真空トンネルで
接続し、ウエハやガラス基板を搬送カートに乗せて大気
中に一切出さずにプロセス装置間を移送するようにし
た、クリーンルームを必要としない製造法も考えられて
いる。

【０００４】しかしながら、上記のように真空中でウエ
ハやガラス基板を搬送するようにしても、真空ポンプか
らのオイルバックによって飛翔した分子状のオイルがウ
エハやガラス基板の表面に付着したり、或いは、真空容
器から離脱した汚染物質が分子状で浮遊してウエハやガ
ラス基板の表面に付着し、ウエハやガラス基板に分子レ
ベルの有機物汚染が発生してしまうことがある。このよ
うな分子レベルの汚染膜は数オングストロームから数十
オングストローム程度の極めて薄いものであるが、この
ような汚染膜がウエハやガラス基板の表面に付着する
と、製造プロセスにおける成膜不良や製品の耐電圧不良
を生じさせ、製品歩留まりの低下を引き起こしてしま
う。

【０００５】上記のような事情から、最近では、真空ポ
ンプとしてオイルを用いないドライポンプが用いられて
おり、分子状のオイルによる汚染は一応回避されてい
る。

【０００６】しかしながら、真空容器から離脱した汚染
物質による汚染は、容器の洗浄に用いたアルコールやア
セトン等が極少量付着していてもこれによって発生して
しまうという厄介なものであり、例えこの容器を長時間
ベーキングしたとしても分子レベルの汚染を完全になく
すことは極めて困難であった。

【発明が解決しようとする課題】

【０００７】本発明は、上記従来の事情に鑑み為された
もので、真空中を搬送カートで搬送されるウエハやガラ
ス基板に分子レベルの汚染（分子汚染）を生じないよう
にした被搬送物のシールド構造及び方法を提供すること
を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の被搬送物のシー
ルド構造は、被搬送物を載せて真空中を搬送する搬送カ
ートにおいて、被搬送物を覆うシールド板を着脱可能に
設けたことを特徴とする。

【０００９】

【作用】真空中での搬送は、被搬送物（半導体ウエハ、
液晶のガラス基板等）を搬送カートに載せ、これを磁気
浮上搬送装置、ロボットのアーム、ベローズを用いた直
線搬送装置等で移送することにより行うが、搬送カート
に載せられた被搬送物をシールド板で覆うことによっ
て、搬送中における被搬送物の分子汚染を防止すること
ができる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図１乃至２に
基づいて説明する。図１には本発明の一実施例に係る搬
送カートに設けられた被搬送物のシールド構造を示して
いる。図示のように、本実施例の搬送カートは箱形のカ
ート本体１と、カート本体１の上面開口部を閉塞するシ
ールド板２とを備えている。カート本体１の上面開口部
の縁には段部３が形成されており、シールド板２は段部
３に納められてビス４で固定されている。すなわち、シ
ールド板２はビス４を外すことによりカート本体１から
簡単に取り外すことができる。

【００１１】図２には本発明の他の一実施例に係る搬送
カートに設けられた被搬送物のシールド構造を示してい
る。図示のように、本実施例の搬送カートは平板状のカ
ート本体１と、カート本体１の上に被さる箱形のシール
ド板２とを備えている。カート本体１の周縁には段部５
が形成され、シールド板２の縁部には爪部６が形成さ
れ、シールド板２でカート本体１を覆った状態で爪部６
を段部５に係合させることによって、シールド板２をカ
ート本体１に取り付けてある。すなわち、シールド板２
はインロー構造でカート本体１に着脱可能に取り付けら
れており、爪部６を段部５から外すことによって、シー
ルド板２をカート本体１から簡単に取り外すことができ
る。

【００１２】上記いずれの搬送カートにおいても、カー
ト本体１には受け部７が設けられており、この受け部７
の上に被搬送物８（本実施例ではウエハとして説明す
る）が載置され、このウエハ８を覆うようにシールド板
２がカート本体１に取り付けられる。

【００１３】ここで、分子の平均自由行程は、大気中に
おいて０．０６６μｍであるものが、１．０×１０^-6Ｔ
ｏｒｒの真空中になると約４２．５ｍになる。真空中で
飛翔する汚染分子についても同様であるが、ウエハ８と
シールド板２との間隔が狭い場合には、汚染分子はそれ
だけ隙間に入りにくくなる。このウエハ８とシールド板
２との間隔は５ｍｍ程度以下とするのが好ましいが、１
０ｍｍ程度以下であれば十分な効果が得られる。

【００１４】カート本体１およびシールド板２は、例え
ば、ステンレス材（ＳＵＳ）、アルミ材等の金属材料、
テフロン等の高分子材料等、特に材質の限定はないが、
放出ガスの少ない材料で形成することが好ましい。ま
た、シールド板２の板厚は任意であるが、５ｍｍ程度以
下とするのが取り扱い上便利である。また、被搬送物で
あるウエハ８を搬送カートに出し入れする都合上、シー
ルド板２はウエハ８より大きいことが必要である。本実
施例では、シールド板２を、アルミ材（５０５２材）の
電解研磨材で、板厚１．５ｍｍ、ウエハ８より１３０％
大きいものとしている。

【００１５】上記構成の搬送カートを用いてウエハ８を
真空中で搬送する場合には、ウエハ８をその表面を上に
してカート本体１の受け部７の上に載せ、ウエハ８を覆
うようにシールド板２をカート本体１に取り付け、この
搬送カートを磁気浮上搬送装置で目的の真空プロセスへ
移送する。尚、磁気浮上搬送装置は、例えば本出願人の
国際特許出願ＪＰ９３／００９３０にその詳細が開示さ
れている。

【００１６】このような搬送作業を繰り返す内に、真空
中に浮揚する汚染分子（有機物分子）がシールド板２に
付着するが、このような状態では逆にシールド板２がウ
エハ８を汚染してしまうこととなる。このような場合に
は、シールド板２をカート本体１から取り外し、シール
ド板２にオゾン雰囲気下で紫外線を照射して、シールド
板２に付着した有機物を灰化して消滅させることにより
洗浄し、シールド板２を元の清浄な状態に戻す。この洗
浄法は、例えば特願平５−１１６５４１号特許出願によ
り開示されており、波長が２５４ｎｍの紫外線（ＵＶ）
でオゾン（Ｏ₃）を分解して発生期の酸素（Ｏ）を発生
させ、この発生期酸素の強力な結合力で、有機物（Ｃ_m
Ｈ_nＯ_l）を二酸化炭素（ＣＯ₂）や水（Ｈ₂Ｏ）に灰化し
て消滅させるものである。

【００１７】次に、図１に示す構造の搬送カートを用い
て、１．０×１０^-6Ｔｏｒｒの真空トンネル中を磁気浮
上搬送装置でウエハ８を搬送した場合のシールド効果を
説明する。用いたシールド板２はアルミ材（５０５２
材）の電解研磨材から形成した、板厚１．５ｍｍ、ウエ
ハ８より約１３０％大きい１３０ｍｍ×１３０ｍｍの大
きさの板材とした。また、ウエハ８とシールド板２との
間隔は５ｍｍとした。また、汚染の度合いを検出するた
めの方法として接触角法（ウエハの表面に超純水の水滴
を滴下すると、有機物の膜が生じている場合には水滴の
接触角度は大きくなることを利用した測定方法）を用い
た。

【００１８】

【表１】

【００１９】シールド板２を取り付けた搬送カート（シ
ールド板あり）とシールド板を取り付けない搬送カート
（シールド板なし）とで、真空トンネル中で２４時間搬
送させた。その後、搬送カートに納めたウエハ８を取り
出して接触法で検査したところ、表１に示すように、シ
ールド板ありのものでは接触角度の増加量は０．３°と
ほとんど増加していないのに対し、シールド板なしのも
のでは接触角度の増加量は６．５°と大幅に増加し、シ
ールド板によって分子レベルの有機物汚染を効果的に防
止できることが明らかとなった。

【００２０】なお、上記実施例では、ウエハまたはガラ
ス基板を１枚搬送する搬送カートを例にとって説明した
が、本発明では、２枚以上のウエハやガラス基板を搬送
するようにしてもよく、この場合にはシールド板でウエ
ハやガラス基板の全体を覆うようにすればよい。

【００２１】また、ウエハやガラス基板をシールド板で
上から覆う他に、複数枚載置したウエハやガラス基板の
間にシールド板を設置し、シールド板とウエハやガラス
基板との間隔をより一層狭めて、汚染分子の侵入をより
効果的に防止するようにしてもよい。

【００２２】また、上記実施例ではウエハやガラス基板
をカート本体に水平に置いて搬送する例を示したが、本
発明では、ウエハやガラス基板をカート本体に垂直に置
いて搬送するようにしてもよく、この場合にはシールド
板をウエハやガラス基板の直前、直後に設置してこのウ
エハやガラス基板を汚染分子から保護するようにしても
よい。

【００２３】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、搬
送カートに半導体ウエハやガラス基板等の被搬送物を覆
うシールド板を着脱可能に設けたため、当該被搬送物の
分子レベルの汚染（分子汚染）を有効に防止することが
できる。また、本発明によれば、シールド板を被搬送物
より大きいものとしたため、被搬送物を確実にシールド
できるとともに、被搬送物をカートへ支障なく出し入れ
することができる。また、本発明によれば、シールド板
をカートから取り外し、シールド板にオゾン雰囲気下で
紫外線を照射して当該シールド板に付着した有機物を灰
化して消滅させるようにしたため、シールド板を分子汚
染が生じていない清浄な状態に維持することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る搬送カートの断面図。

【図２】本発明の他の一実施例に係る搬送カートの断面
図。

【符号の説明】

１カート本体２シールド板４ビス５段部６爪部８半導体ウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者吉岡毅神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号株式会社荏原総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被搬送物を載せて真空中を搬送する搬送
カートにおいて、被搬送物を覆うシールド板を着脱可能
に設けたことを特徴とする被搬送物のシールド構造。
【請求項２】被搬送物を搬送カートに載置し真空トン
ネル中を搬送する装置において、前記被搬送物は、該被
搬送物より大きなシールド板により覆われ、分子汚染か
ら保護されることを特徴とする被搬送物のシールド方
法。
【請求項３】前記シールド板は、前記搬送カートから
取り外され、該シールド板にオゾン雰囲気下で紫外線を
照射して当該シールド板に付着した分子汚染有機物を灰
化して消滅させることを特徴とする請求項２記載の被搬
送物のシールド方法。
【請求項４】前記被搬送物は、半導体ウエハであるこ
とを特徴とする請求項１乃至３記載の被搬送物のシール
ド構造又は方法。
【請求項５】前記被搬送物は、液晶用のガラス基板で
あることを特徴とする請求項１乃至３記載の被搬送物の
シールド構造又は方法。