JPH07106531A - ゲートアレー構成半導体装置 - Google Patents
ゲートアレー構成半導体装置Info
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- JPH07106531A JPH07106531A JP5249649A JP24964993A JPH07106531A JP H07106531 A JPH07106531 A JP H07106531A JP 5249649 A JP5249649 A JP 5249649A JP 24964993 A JP24964993 A JP 24964993A JP H07106531 A JPH07106531 A JP H07106531A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 abstract description 21
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
-
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- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/10—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
- H01L27/118—Masterslice integrated circuits
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Abstract
(57)【要約】
【目的】マザーウェハーを複数マスタで共用化し、1ウ
ェハー内複数ペレット混載を実現するゲートアレーを提
供する。 【構成】ウェハー全面に基本セル1と入出力回路セル2
をn対1(nは整数)の数量比で配置したマザーウェハ
ーを使用し、配線およびボンディングパッドは基本セル
上、あるいは入出力回路セル上に形成する。ペレットサ
イズは実現できる最小のものとはせず、予めボンディン
グパッド数・位置を含めて決定済のサイズ群の中から選
択する。
ェハー内複数ペレット混載を実現するゲートアレーを提
供する。 【構成】ウェハー全面に基本セル1と入出力回路セル2
をn対1(nは整数)の数量比で配置したマザーウェハ
ーを使用し、配線およびボンディングパッドは基本セル
上、あるいは入出力回路セル上に形成する。ペレットサ
イズは実現できる最小のものとはせず、予めボンディン
グパッド数・位置を含めて決定済のサイズ群の中から選
択する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はゲートアレー構成半導体
装置に関し、特にウェハー上にゲートアレーを形成する
ときのゲートアレー構成半導体装置に関する。
装置に関し、特にウェハー上にゲートアレーを形成する
ときのゲートアレー構成半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ウェハー全面に一様にゲート素子
を配置したゲートアレーは特開平3−83376号公報
に開示されるように一般のゲートアレーのマスタ基板よ
りも自由にペレットサイズ・ボンディングパッド領域を
設定できることを特徴としている。
を配置したゲートアレーは特開平3−83376号公報
に開示されるように一般のゲートアレーのマスタ基板よ
りも自由にペレットサイズ・ボンディングパッド領域を
設定できることを特徴としている。
【0003】この従来例のゲートアレーの構成を示す図
5を参照すると、このゲートアレーは、交互に配置され
た基本セル1と配線領域11を持つマザーウェハー3上
に、所望のゲート規模および若干の冗長回路のゲート規
模を含む領域を設定し、そのなかで基本セル1を使用し
て必要なロジック回路を実現し、入出力回路も基本セル
を組み合わせて実現している。
5を参照すると、このゲートアレーは、交互に配置され
た基本セル1と配線領域11を持つマザーウェハー3上
に、所望のゲート規模および若干の冗長回路のゲート規
模を含む領域を設定し、そのなかで基本セル1を使用し
て必要なロジック回路を実現し、入出力回路も基本セル
を組み合わせて実現している。
【0004】すなわち、ペレットサイズを固定せず、最
小のペレットサイズで必要なロジック回路を実現しよう
とするものである。
小のペレットサイズで必要なロジック回路を実現しよう
とするものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ウェハー全面に基本セルと配線領域を交互配置しておく
方法では、入出力回路が基本セルの組合せでつくられる
ため静電気破壊電圧耐量が弱くなったり、出力電流・出
力電圧の特性が一般のゲートアレーよりも悪くなる等の
欠点がある。
ウェハー全面に基本セルと配線領域を交互配置しておく
方法では、入出力回路が基本セルの組合せでつくられる
ため静電気破壊電圧耐量が弱くなったり、出力電流・出
力電圧の特性が一般のゲートアレーよりも悪くなる等の
欠点がある。
【0006】また、ペレットサイズを固定しない方法の
ため、ペレットそのものは小さくできるがゲートアレー
の設計の都度ペレットサイズが変わることになり、ウェ
ハープロービング用治具および組立用治具の製作ならび
にリードフレームとの適合性確認が生じ、TATまたは
費用の面で不利になる問題があった。
ため、ペレットそのものは小さくできるがゲートアレー
の設計の都度ペレットサイズが変わることになり、ウェ
ハープロービング用治具および組立用治具の製作ならび
にリードフレームとの適合性確認が生じ、TATまたは
費用の面で不利になる問題があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のゲートアレー構
成半導体装置は、相補型絶縁効果トランジスタ素子の複
数個を所定の配線接続をして所望の論理動作をする基本
セルおよび前記基本セルを複数個含み所望の論理機能動
作をするブロックセルならびに前記基本セルおよび前記
ブロックセルのそれぞれの出力信号を受け外部信号とし
て出力するまたは外部信号を受け前記基本セルおよび前
記ブロックセルのそれぞれへ信号伝達する入出力回路の
それぞれを半導体基板の一主面上に配列して成るゲート
アレー構成半導体装置において、前記基本セルのn個
(nは整数)に対して前記入出力回路の1個の割合で構
成される基本アレーブロックセルを前記半導体基板の前
記一主面上のX方向およびY方向の平面に配列して成る
構成である。
成半導体装置は、相補型絶縁効果トランジスタ素子の複
数個を所定の配線接続をして所望の論理動作をする基本
セルおよび前記基本セルを複数個含み所望の論理機能動
作をするブロックセルならびに前記基本セルおよび前記
ブロックセルのそれぞれの出力信号を受け外部信号とし
て出力するまたは外部信号を受け前記基本セルおよび前
記ブロックセルのそれぞれへ信号伝達する入出力回路の
それぞれを半導体基板の一主面上に配列して成るゲート
アレー構成半導体装置において、前記基本セルのn個
(nは整数)に対して前記入出力回路の1個の割合で構
成される基本アレーブロックセルを前記半導体基板の前
記一主面上のX方向およびY方向の平面に配列して成る
構成である。
【0008】また、本発明の他のゲートアレー構成半導
体装置は、相補型絶縁効果トランジスタ素子の複数個を
所定の配線接続をして所望の論理動作をする基本セルお
よび前記基本セルを複数個含み所望の論理機能動作をす
るブロックセルならびに前記基本セルおよび前記ブロッ
クセルのそれぞれの出力信号を受け外部信号として出力
するまたは外部信号を受け前記基本セルおよび前記ブロ
ックセルのそれぞれへ信号伝達する入出力回路セルのそ
れぞれを半導体基板の一主面上に配列して成るゲートア
レー構成半導体装置において、前記基本セルのn個(n
は整数)に対して前記入出力回路セルの1個の割合で構
成される基本アレーブロックセルを複数個含む第1のゲ
ートアレーと前記基本アレーブロックセルを前記第1の
ゲートアレーとは異る複数個を含む第2のゲートレーと
が混載して成る構成である。
体装置は、相補型絶縁効果トランジスタ素子の複数個を
所定の配線接続をして所望の論理動作をする基本セルお
よび前記基本セルを複数個含み所望の論理機能動作をす
るブロックセルならびに前記基本セルおよび前記ブロッ
クセルのそれぞれの出力信号を受け外部信号として出力
するまたは外部信号を受け前記基本セルおよび前記ブロ
ックセルのそれぞれへ信号伝達する入出力回路セルのそ
れぞれを半導体基板の一主面上に配列して成るゲートア
レー構成半導体装置において、前記基本セルのn個(n
は整数)に対して前記入出力回路セルの1個の割合で構
成される基本アレーブロックセルを複数個含む第1のゲ
ートアレーと前記基本アレーブロックセルを前記第1の
ゲートアレーとは異る複数個を含む第2のゲートレーと
が混載して成る構成である。
【0009】
【実施例】次に、本発明の第1の実施例のゲートアレー
構成半導体装置について説明する。
構成半導体装置について説明する。
【0010】本発明の第1の実施例のゲートアレー構成
半導体装置の構成を示す図1を参照すると、この実施例
の半導体装置は、基本セル1を10個に対し、入出力回
路セル2を1個の割合で構成される基本アレーブロック
セル13をマザーウェハー3全面に均等に配置してあ
る。配線工程では図2に示すように、多層配線技術を利
用し、基本セル1および入出力回路セル2の上面を使っ
て配線を行なう。ボンディングパッド5も基本セル1ま
たは入出力回路セル2上に設ける。この半導体装置のペ
レットサイズは、ゲート規模と入出力信号ピン数から決
定されるが、これらを満たす最小のものとするのではな
く、10種程度に限定する。ペレットサイズだけでな
く、ボンディングパッドの数およびその位置も各ペレッ
トサイズ毎に固定のものとする。
半導体装置の構成を示す図1を参照すると、この実施例
の半導体装置は、基本セル1を10個に対し、入出力回
路セル2を1個の割合で構成される基本アレーブロック
セル13をマザーウェハー3全面に均等に配置してあ
る。配線工程では図2に示すように、多層配線技術を利
用し、基本セル1および入出力回路セル2の上面を使っ
て配線を行なう。ボンディングパッド5も基本セル1ま
たは入出力回路セル2上に設ける。この半導体装置のペ
レットサイズは、ゲート規模と入出力信号ピン数から決
定されるが、これらを満たす最小のものとするのではな
く、10種程度に限定する。ペレットサイズだけでな
く、ボンディングパッドの数およびその位置も各ペレッ
トサイズ毎に固定のものとする。
【0011】このような構成にすることによって、ウェ
ハープロービング治具組立治具およびリードフレームは
10種に対応できれば良く、TATおよびコスト共削減
ができる。
ハープロービング治具組立治具およびリードフレームは
10種に対応できれば良く、TATおよびコスト共削減
ができる。
【0012】また、入出力回路セル2を備えているた
め、静電気破壊電圧(ESD)からの入力保護、出力電
流および出力電圧レベルについては一般のゲートアレー
と全く同一の特性が得られる。
め、静電気破壊電圧(ESD)からの入力保護、出力電
流および出力電圧レベルについては一般のゲートアレー
と全く同一の特性が得られる。
【0013】すなわち、ゲートアレー構成半導体装置を
使用するユーザーは、ウェハー全面が基本セル1および
入出力回路セル2の構造を意識せずに設計することがで
き、またこのゲートアレー構成半導体装置を製造する生
産者側もこれら半導体装置の製造および試験ならびに製
品取扱時に一般のゲートアレーで使われている手法をそ
のまま使うことができる。
使用するユーザーは、ウェハー全面が基本セル1および
入出力回路セル2の構造を意識せずに設計することがで
き、またこのゲートアレー構成半導体装置を製造する生
産者側もこれら半導体装置の製造および試験ならびに製
品取扱時に一般のゲートアレーで使われている手法をそ
のまま使うことができる。
【0014】さらに、図3を参照すると、本発明の第1
の実施例のゲートアレー構成半導体装置は、そのペレッ
トサイズや回路機能の異なる異種のエレットを一枚のウ
ェハー上に混載が可能な構成を有する。
の実施例のゲートアレー構成半導体装置は、そのペレッ
トサイズや回路機能の異なる異種のエレットを一枚のウ
ェハー上に混載が可能な構成を有する。
【0015】したがって、ゲートアレーの製造工程のう
ち拡散工程開始時よりマスタが決定されている一般的な
ゲートアレーの場合、一枚のウェハー上で混載できるの
は同一マスタ内に限られるが、しかし、この実施例のゲ
ートアレー構成半導体装置は、ウェハー内の任意の位置
に任意のペレットサイズのペレットを配置できるので、
マスタ基板すなわちペレットサイズとゲート規模にかか
わらず、複数のペレットを1枚のウェハー上に混載可能
である。
ち拡散工程開始時よりマスタが決定されている一般的な
ゲートアレーの場合、一枚のウェハー上で混載できるの
は同一マスタ内に限られるが、しかし、この実施例のゲ
ートアレー構成半導体装置は、ウェハー内の任意の位置
に任意のペレットサイズのペレットを配置できるので、
マスタ基板すなわちペレットサイズとゲート規模にかか
わらず、複数のペレットを1枚のウェハー上に混載可能
である。
【0016】換言すれば1種のマザーウェハーを用意し
ておけば、全てのマスタに対応でき、マザーウェハー管
理および生産管理の負担が軽減される。
ておけば、全てのマスタに対応でき、マザーウェハー管
理および生産管理の負担が軽減される。
【0017】次に、本発明の第2の実施例のゲートアレ
ー構成の半導体装置について説明する。
ー構成の半導体装置について説明する。
【0018】本発明の第2の実施例のゲートアレー構成
半導体装置の構成を示す図4を参照すると、第2の実施
例のゲートアレー構成半導体装置は、基本セル41の1
列毎に1個の入出力回路セル42を設けたストライプ構
造の基本アレーブロックセル43を有している。この実
施例は、入出力回路セル42が集中して配置されている
ため入出力回路セル42とボンディングパッド(図示し
ていない)との間の配線接続が単純化されCADの自動
配置・配線処理が容易となり、このCAD処理時間が短
縮される。
半導体装置の構成を示す図4を参照すると、第2の実施
例のゲートアレー構成半導体装置は、基本セル41の1
列毎に1個の入出力回路セル42を設けたストライプ構
造の基本アレーブロックセル43を有している。この実
施例は、入出力回路セル42が集中して配置されている
ため入出力回路セル42とボンディングパッド(図示し
ていない)との間の配線接続が単純化されCADの自動
配置・配線処理が容易となり、このCAD処理時間が短
縮される。
【0019】なお、第1の実施例、第2の実施例とも基
本セル1および41と入出力回路セル2および42の配
置数量比を10:1にしているが、これは一般的なゲー
トアレイのゲート規模とそのゲート規模での最大入出力
信号端子数から算出したものである。この数量比はゲー
ト規模が大きくなるにつれて100:1または500:
1のように変わる。本発明を適用するゲートアレーのゲ
ート規模を例えば10Kゲート以上とすると、数量比1
00:1で入出力回路セル数は足りることになり、削減
できた入出力回路セル分だけペレットサイズを小さくす
るもことも可能である。
本セル1および41と入出力回路セル2および42の配
置数量比を10:1にしているが、これは一般的なゲー
トアレイのゲート規模とそのゲート規模での最大入出力
信号端子数から算出したものである。この数量比はゲー
ト規模が大きくなるにつれて100:1または500:
1のように変わる。本発明を適用するゲートアレーのゲ
ート規模を例えば10Kゲート以上とすると、数量比1
00:1で入出力回路セル数は足りることになり、削減
できた入出力回路セル分だけペレットサイズを小さくす
るもことも可能である。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、基本セル
と入出力回路セルをウェハー全面に配置したマザーウェ
ハーを使用することにより、1種のマザーウェハーで複
数のマスタに対応できる。また、1枚のマザーウェハー
上にペレットサイズの異なる複数のペレットを混載可能
であり、少量多品種化のすすむゲートアレーの製造TA
T短縮と製造コスト削減に効果がある。
と入出力回路セルをウェハー全面に配置したマザーウェ
ハーを使用することにより、1種のマザーウェハーで複
数のマスタに対応できる。また、1枚のマザーウェハー
上にペレットサイズの異なる複数のペレットを混載可能
であり、少量多品種化のすすむゲートアレーの製造TA
T短縮と製造コスト削減に効果がある。
【図1】本発明の第1の実施例のゲートアレー構成半導
体装置の構成を示す図である。
体装置の構成を示す図である。
【図2】図1に示す本発明の実施例の断面図である。
【図3】本発明のゲートアレー構成半導体装置の効果を
説明する模式図である。
説明する模式図である。
【図4】本発明の第2の実施例のゲートアレー構成半導
体装置の構成を示す図である。
体装置の構成を示す図である。
【図5】従来の技術のゲートアレー構成半導体装置の構
成を示す模式図で(a)はマザーウェハー1の配列を示
す図であり、(b)はペレットの配列を示す図である。
成を示す模式図で(a)はマザーウェハー1の配列を示
す図であり、(b)はペレットの配列を示す図である。
1,41 基本セル 2,42 入出力回路セル 3 マザーウェハー 4 ウェハー 5 ボンディングパッド 6 第1配線層 7 第2配線層 8 第1絶縁膜 9 第2絶縁膜 10 パッシベーション膜 11 配線領域 12 ペレット 13,43 基本アレーブロックセル
Claims (2)
- 【請求項1】 相補型絶縁効果トランジスタ素子の複数
個を所定の配線接続をして所望の論理動作をする基本セ
ルおよび前記基本セルを複数個含み所望の論理機能動作
をするブロックセルならびに前記基本セルおよび前記ブ
ロックセルのそれぞれの出力信号を受け外部信号として
出力するまたは外部信号を受け前記基本セルおよび前記
ブロックセルのそれぞれへ信号伝達する入出力回路セル
のそれぞれを半導体基板の一主面上に配列して成るゲー
トアレー構成半導体装置において、前記基本セルのn個
(nは整数)に対して前記入出力回路セルの1個の割合
で構成される基本アレーブロックセルを前記半導体基板
の前記一主面上のX方向およびY方向の平面に配列して
成ることを特徴とするゲートアレー構成半導体装置。 - 【請求項2】 相補型絶縁効果トランジスタ素子の複数
個を所定の配線接続をして所望の論理動作をする基本セ
ルおよび前記基本セルを複数個含み所望の論理機能動作
をするブロックセルならびに前記基本セルおよび前記ブ
ロックセルのそれぞれの出力信号を受け外部信号として
出力するまたは外部信号を受け前記基本セルおよび前記
ブロックセルのそれぞれへ信号伝達する入出力回路セル
のそれぞれを半導体基板の一主面上に配列して成るゲー
トアレー構成半導体装置において、前記基本セルのn個
(nは整数)に対して前記入出力回路セルの1個の割合
で構成される基本アレーブロックセルを複数個含む第1
のゲートアレーと前記基本アレーブロックセルを前記第
1のゲートアレーとは異る複数個を含む第2のゲートア
レーとが混載して成ることを特徴とするゲートアレー構
成半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5249649A JPH07106531A (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | ゲートアレー構成半導体装置 |
US08/544,854 US5656833A (en) | 1993-10-06 | 1995-10-18 | Gate array type semiconductor device with flexible pellet size |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5249649A JPH07106531A (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | ゲートアレー構成半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07106531A true JPH07106531A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17196167
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5249649A Pending JPH07106531A (ja) | 1993-10-06 | 1993-10-06 | ゲートアレー構成半導体装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5656833A (ja) |
JP (1) | JPH07106531A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6049132A (en) * | 1996-07-12 | 2000-04-11 | Kawasaki Steel Corporation | Multiple metallization structure for a reflection type liquid crystal display |
US6373122B1 (en) * | 1999-04-12 | 2002-04-16 | Tanner Research, Inc. | Method of fabricating various-sized passivated integrated circuit chips from a borderless gate array |
JP2001319974A (ja) * | 2000-05-08 | 2001-11-16 | Nec Corp | 半導体装置とその製造方法 |
US7337425B2 (en) | 2004-06-04 | 2008-02-26 | Ami Semiconductor, Inc. | Structured ASIC device with configurable die size and selectable embedded functions |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51147190A (en) * | 1975-06-12 | 1976-12-17 | Nec Corp | Method of manufacturing of integurated circuit for lsi |
JPS62159446A (ja) * | 1986-01-07 | 1987-07-15 | Mitsubishi Electric Corp | マスタスライスlsi |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4864381A (en) * | 1986-06-23 | 1989-09-05 | Harris Corporation | Hierarchical variable die size gate array architecture |
JPH0383376A (ja) * | 1989-08-28 | 1991-04-09 | Ricoh Co Ltd | ゲートアレイ |
JP2675659B2 (ja) * | 1990-08-10 | 1997-11-12 | 株式会社東芝 | 集積回路のセルレイアウト方法 |
-
1993
- 1993-10-06 JP JP5249649A patent/JPH07106531A/ja active Pending
-
1995
- 1995-10-18 US US08/544,854 patent/US5656833A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51147190A (en) * | 1975-06-12 | 1976-12-17 | Nec Corp | Method of manufacturing of integurated circuit for lsi |
JPS62159446A (ja) * | 1986-01-07 | 1987-07-15 | Mitsubishi Electric Corp | マスタスライスlsi |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5656833A (en) | 1997-08-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970204 |