JPH0685213B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0685213B2 JPH0685213B2 JP60013450A JP1345085A JPH0685213B2 JP H0685213 B2 JPH0685213 B2 JP H0685213B2 JP 60013450 A JP60013450 A JP 60013450A JP 1345085 A JP1345085 A JP 1345085A JP H0685213 B2 JPH0685213 B2 JP H0685213B2
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- magnetic
- magnetic layer
- roll
- recording medium
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はビデオテープ、オーデイオテープ、コンピユー
ターテープ等の磁気記録媒体に関するものである。
ターテープ等の磁気記録媒体に関するものである。
現在一般に広く用いられている磁気記録媒体の製造方法
は非磁性支持体上に磁性塗液を塗布乾燥したのち、鏡面
仕上げの金属ロールと弾性ロールから成るカレンダーに
よつて該塗布層を平滑化ししかるのち加熱などの手段に
より結合剤を架橋する方法である。しかしこの製造方法
は、塗布、乾燥工程とは別に平滑化工程が必要であり、
このため製造コストの高い方法であつた。また近年磁気
記録媒体に高度な電磁変換特性と走行耐久性を要求され
ているが、従来の製造方法ではこれらの要求を満たすこ
とができなかつた。
は非磁性支持体上に磁性塗液を塗布乾燥したのち、鏡面
仕上げの金属ロールと弾性ロールから成るカレンダーに
よつて該塗布層を平滑化ししかるのち加熱などの手段に
より結合剤を架橋する方法である。しかしこの製造方法
は、塗布、乾燥工程とは別に平滑化工程が必要であり、
このため製造コストの高い方法であつた。また近年磁気
記録媒体に高度な電磁変換特性と走行耐久性を要求され
ているが、従来の製造方法ではこれらの要求を満たすこ
とができなかつた。
上記の欠点を防止するためのひとつの提案として、ポリ
イソシアネート化合物等の熱硬化系に代えて放射線重合
性化合物をバインダーとして用い放射線照射により硬化
することが特開昭56−25231号、同56−122802号、同56
−124119号等に開示されているが単に放射線重合性化合
物をバインダーに用いても上記の問題点を解決するには
至らなかつたものである。
イソシアネート化合物等の熱硬化系に代えて放射線重合
性化合物をバインダーとして用い放射線照射により硬化
することが特開昭56−25231号、同56−122802号、同56
−124119号等に開示されているが単に放射線重合性化合
物をバインダーに用いても上記の問題点を解決するには
至らなかつたものである。
塗布層の表面平滑性を向上させる技術としてSymposium
on Magnetic Media Manufacturing Methods（198
3年５月Honolulu）でTransfer Coatingの提案がDr.Nab
loによつて為された（PAPER No.B−４）が、ここで開
示された技術では、強磁性微粉末濃度（いわゆるピグメ
ントとビヒクル比）を高くすることが出来ず、磁気記録
媒体の製造方法には使用できぬものであつた。即ち、D
r.Nabloの方法では充分な電磁変換特性を確保すること
ができないものであり、磁気記録媒体の製造方法として
採用できないものであつた。
on Magnetic Media Manufacturing Methods（198
3年５月Honolulu）でTransfer Coatingの提案がDr.Nab
loによつて為された（PAPER No.B−４）が、ここで開
示された技術では、強磁性微粉末濃度（いわゆるピグメ
ントとビヒクル比）を高くすることが出来ず、磁気記録
媒体の製造方法には使用できぬものであつた。即ち、D
r.Nabloの方法では充分な電磁変換特性を確保すること
ができないものであり、磁気記録媒体の製造方法として
採用できないものであつた。
本発明の目的は、第１に、高度な電磁変換特性を有する
磁気記録媒体を製造する方法、第２は耐久性の良好な磁
気記録媒体を製造する方法、第３は製造コストの低い磁
気記録媒体を製造する方法、第４に、平滑性の良好な磁
性面を有する磁気記録媒体を製造する方法を提供するこ
とにある。
磁気記録媒体を製造する方法、第２は耐久性の良好な磁
気記録媒体を製造する方法、第３は製造コストの低い磁
気記録媒体を製造する方法、第４に、平滑性の良好な磁
性面を有する磁気記録媒体を製造する方法を提供するこ
とにある。
上記の問題点を解決するため本発明者らは、鋭意研究の
結果、上記目的は、強磁性微粉末と少なくとも放射線重
合性化合物を含む結合剤及び有機溶剤とから成る磁性塗
液を非磁性支持体上に塗布して磁性層を設けたのち、乾
燥により該磁性層の溶剤含量が0.05〜10wt％にあるとき
に該磁性層表面を鏡面仕上げのロール若しくは帯状物に
接触圧１〜50kg/cmで接触させたのち該ロール若しくは
帯状物と磁性層とを剥離することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法によつて達成されることを見出した。
結果、上記目的は、強磁性微粉末と少なくとも放射線重
合性化合物を含む結合剤及び有機溶剤とから成る磁性塗
液を非磁性支持体上に塗布して磁性層を設けたのち、乾
燥により該磁性層の溶剤含量が0.05〜10wt％にあるとき
に該磁性層表面を鏡面仕上げのロール若しくは帯状物に
接触圧１〜50kg/cmで接触させたのち該ロール若しくは
帯状物と磁性層とを剥離することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法によつて達成されることを見出した。
本発明の方法において、該磁性層を剥離したのち放射線
照射することができ、また更に他の態様においては、該
磁性層表面を鏡面仕上げのロールもしくは帯状物に接触
させてから該ロールもしくは帯状物と磁性層とを剥離す
るまでの過程で放射線照射することができる。
照射することができ、また更に他の態様においては、該
磁性層表面を鏡面仕上げのロールもしくは帯状物に接触
させてから該ロールもしくは帯状物と磁性層とを剥離す
るまでの過程で放射線照射することができる。
本発明に用いられる強磁性粉末としては、強磁性酸化鉄
微粉末、Coドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二酸化
クロム微粉末、強磁性合金粉末、バリウムフエライトな
どが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針状比
は、2/1〜20/1程度、好ましくは5/1以上平均長は0.2〜
2.0μｍ程度の範囲が有効である。強磁性合金粉末は金
属分が75wt％以上であり、金属分の80wt％以上が強磁性
金属（即ち、Fe,Co,Ni,Fe−Co,Fe−Ni,Co−Ni,Fe−Co−
Ni）で長径が約1.0μｍ以下の粒子である。
微粉末、Coドープの強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二酸化
クロム微粉末、強磁性合金粉末、バリウムフエライトな
どが使用できる。強磁性酸化鉄、二酸化クロムの針状比
は、2/1〜20/1程度、好ましくは5/1以上平均長は0.2〜
2.0μｍ程度の範囲が有効である。強磁性合金粉末は金
属分が75wt％以上であり、金属分の80wt％以上が強磁性
金属（即ち、Fe,Co,Ni,Fe−Co,Fe−Ni,Co−Ni,Fe−Co−
Ni）で長径が約1.0μｍ以下の粒子である。
本発明に用いられる結合剤としては熱可塑性樹脂である
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−マレン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ア
クリル酸共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−
マレイン酸共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル
−ブテン酸共重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マ
レイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−
ビニルアルコール共重合体などの塩ビ酢ビ系共重合体、
セルロースナイトレート、セルロースアセテートプロピ
オネート、セルロースジアセテート、セルロースプロピ
オネートなどの繊維素系樹脂、ポリビニルフオルマー
ル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等の
アセタール系樹脂、フエノキシ樹脂、ウレタン樹脂、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル
共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、ポリ
エステル樹脂、ポリイソシアネート化合物、放射線重合
性化合物であるポリエステル型ウレタンアクリレート、
ポリエーテル型ウレタンアクリレート、ポリエステルエ
ーテル型ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ートなどのアクリレートオリゴマー及びメタクリレート
オリゴマーであり、これらの具体例は、A.Vrancken“Fa
fipec Congress"11 19（1972）に引用されている。例
えば、 である。また他の放射線重合性化合物は、エチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタアク
リレート、ビス−２−アクリロイロキシエチル−ヒドロ
キシエチルイソシアヌレート、トリス（β−アクリロイ
ロキシエチル）イソシアヌレートその他の多官能アクリ
レート化合物、及びこれらの多官能メタクリレート化合
物であり、更にアクリル酸、アクリル酸メチル及びこれ
らの同族体のアクリル酸アルキルエステル、メタクリル
酸アルキルエステル、スチレン、α−メチルスチレン、
アクリロニトリル、アクリルアミド、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニルなどの炭素炭素不飽和結合を分子中に１
個以上有する化合物である。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−マレン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ア
クリル酸共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−
マレイン酸共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル
−ブテン酸共重合体、塩化ビニリデン−酢酸ビニル−マ
レイン酸共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル−
ビニルアルコール共重合体などの塩ビ酢ビ系共重合体、
セルロースナイトレート、セルロースアセテートプロピ
オネート、セルロースジアセテート、セルロースプロピ
オネートなどの繊維素系樹脂、ポリビニルフオルマー
ル、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等の
アセタール系樹脂、フエノキシ樹脂、ウレタン樹脂、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アク
リロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル
共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、ポリ
エステル樹脂、ポリイソシアネート化合物、放射線重合
性化合物であるポリエステル型ウレタンアクリレート、
ポリエーテル型ウレタンアクリレート、ポリエステルエ
ーテル型ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ートなどのアクリレートオリゴマー及びメタクリレート
オリゴマーであり、これらの具体例は、A.Vrancken“Fa
fipec Congress"11 19（1972）に引用されている。例
えば、 である。また他の放射線重合性化合物は、エチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘプタアク
リレート、ビス−２−アクリロイロキシエチル−ヒドロ
キシエチルイソシアヌレート、トリス（β−アクリロイ
ロキシエチル）イソシアヌレートその他の多官能アクリ
レート化合物、及びこれらの多官能メタクリレート化合
物であり、更にアクリル酸、アクリル酸メチル及びこれ
らの同族体のアクリル酸アルキルエステル、メタクリル
酸アルキルエステル、スチレン、α−メチルスチレン、
アクリロニトリル、アクリルアミド、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニルなどの炭素炭素不飽和結合を分子中に１
個以上有する化合物である。
上記結合剤は、２種以上混合して用いることができる。
放射線重合性化合物に熱可塑性樹脂を加えることも可能
である。
放射線重合性化合物に熱可塑性樹脂を加えることも可能
である。
以上の中で特に好ましい結合剤は、繊維素系もしくは、
塩ビ酢ビ系共重合体とウレタンアクリレートと多官能ア
クリレート化合物の３成分系である。この場合好ましい
比率は繊維素樹脂もしくは塩ビ酢ビ系共重合体とウレタ
ンアクリレートの比は4/1〜1/2であり、これらの総和と
多官能アクリレートの比は8/2〜1/1である。
塩ビ酢ビ系共重合体とウレタンアクリレートと多官能ア
クリレート化合物の３成分系である。この場合好ましい
比率は繊維素樹脂もしくは塩ビ酢ビ系共重合体とウレタ
ンアクリレートの比は4/1〜1/2であり、これらの総和と
多官能アクリレートの比は8/2〜1/1である。
本発明においては、鏡面仕上げのロールもしくは帯状物
と磁性層と非磁性支持体とがサンドイツチ構造になつて
いる状態（過程）であるいは該ロールもしくは帯状物か
ら剥離後に放射線照射する。特に好ましくは、上記サン
ドイツチ構造になつている状態で照射することであり鏡
面仕上げのロールもしくは帯状物から磁性層を剥離する
ことが最も容易である。サンドイツチ構造で照射すると
きは非磁性支持体の側から照射するが、該ロールもしく
は帯状物から剥離後に照射する場合は磁性層側から照射
してもよい。
と磁性層と非磁性支持体とがサンドイツチ構造になつて
いる状態（過程）であるいは該ロールもしくは帯状物か
ら剥離後に放射線照射する。特に好ましくは、上記サン
ドイツチ構造になつている状態で照射することであり鏡
面仕上げのロールもしくは帯状物から磁性層を剥離する
ことが最も容易である。サンドイツチ構造で照射すると
きは非磁性支持体の側から照射するが、該ロールもしく
は帯状物から剥離後に照射する場合は磁性層側から照射
してもよい。
用いる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系；酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル系；エーテル、グリコールジメ
チルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキ
サン等のグリコールエーテル系；ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素；メチレンクロライド、エ
チレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレ
ンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水
素テトラヒドロフラン等のものが選択して使用できる。
磁性塗液の強磁性支持体と結合剤と溶剤の比率は重量で
2/1/6〜6/1/15の範囲で任意に調整できる。
メチルイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系；酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチ
ルエーテル等のエステル系；エーテル、グリコールジメ
チルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキ
サン等のグリコールエーテル系；ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素；メチレンクロライド、エ
チレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレ
ンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水
素テトラヒドロフラン等のものが選択して使用できる。
磁性塗液の強磁性支持体と結合剤と溶剤の比率は重量で
2/1/6〜6/1/15の範囲で任意に調整できる。
本発明に於て非磁性支持体への塗布方法としては、エア
ードクラーコート、ブレードコート、エアナイフコー
ト、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコー
ト、トランスフアーロールコート、グラビアコート、キ
スコート、キヤストコート、スプレイコート、等が利用
でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説明
は「コーテイング工学」253頁〜277頁（昭和46年３月20
日朝倉書店発行）に詳細に記載されている。
ードクラーコート、ブレードコート、エアナイフコー
ト、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコー
ト、トランスフアーロールコート、グラビアコート、キ
スコート、キヤストコート、スプレイコート、等が利用
でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説明
は「コーテイング工学」253頁〜277頁（昭和46年３月20
日朝倉書店発行）に詳細に記載されている。
磁性層の厚みは、乾燥厚みで１〜10μｍの範囲となるよ
うに塗布する。
うに塗布する。
非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル
類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン
類；セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート等のセルロース誘導体；ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂；ポリ
カーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド等プラス
チツクの他に用途に応じてアルミニウム、銅、スズ、亜
鉛またはこれらを含む非磁性合金などの非磁性金属類；
あるいはこれらの非磁性金属を真空蒸着などの方法によ
りプラスチツク支持体上に薄層で設けた支持体などが使
用できる。これらの支持体は磁性層を塗布する前に下塗
層塗布あるいはコロナ処理等の物理的処理をされている
ことが好ましい。またこれらの支持体は用いる前に、バ
ツクコート層を設けてあつてもよい。また磁性層を塗設
後磁性層と反対側にバツクコート層を設けてもよい。
ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル
類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン
類；セルローストリアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネート等のセルロース誘導体；ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂；ポリ
カーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド等プラス
チツクの他に用途に応じてアルミニウム、銅、スズ、亜
鉛またはこれらを含む非磁性合金などの非磁性金属類；
あるいはこれらの非磁性金属を真空蒸着などの方法によ
りプラスチツク支持体上に薄層で設けた支持体などが使
用できる。これらの支持体は磁性層を塗布する前に下塗
層塗布あるいはコロナ処理等の物理的処理をされている
ことが好ましい。またこれらの支持体は用いる前に、バ
ツクコート層を設けてあつてもよい。また磁性層を塗設
後磁性層と反対側にバツクコート層を設けてもよい。
本発明でいう放射線照射とは、紫外線、電子線、γ−
線、β−線、Ｘ−線などであるが、より好ましくは電子
線である。電子線照射装置としてはスキヤニング方式、
グブルスキヤニング方式あるいはカーテンビーム方式ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
線、β−線、Ｘ−線などであるが、より好ましくは電子
線である。電子線照射装置としてはスキヤニング方式、
グブルスキヤニング方式あるいはカーテンビーム方式ブ
ロードビームカーテン方式などが採用できる。
電子線特性としては、加速電圧が100〜1000kV、好まし
くは150〜300kVであり、吸収線量として1.0〜20メガラ
ツド、好ましくは２〜10メガラツドである。加速電圧が
100kV以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し1000k
Vを超えると重合に使われるエネルギー効率が低下し経
済的でない。吸収線量として、1.0メガラツド以下では
硬化反応が不充分で磁性層強度が得られず、20メガラツ
ド以上になると、硬化に使用されるエネルギー効率が低
下したり、被照射体が発熱し、特に非磁性支持体が変形
するので好ましくない。
くは150〜300kVであり、吸収線量として1.0〜20メガラ
ツド、好ましくは２〜10メガラツドである。加速電圧が
100kV以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し1000k
Vを超えると重合に使われるエネルギー効率が低下し経
済的でない。吸収線量として、1.0メガラツド以下では
硬化反応が不充分で磁性層強度が得られず、20メガラツ
ド以上になると、硬化に使用されるエネルギー効率が低
下したり、被照射体が発熱し、特に非磁性支持体が変形
するので好ましくない。
磁性層塗布後の乾燥は、熱風により残留溶剤量が磁性層
の0.05〜10wt％になつたときに、好ましくは0.5〜8wt％
更に好ましくは1.5〜5wt％になつたときに鏡面仕上げの
ロールもしくは帯状物の接触する。この時の接触圧力は
１〜50Kg/cm好ましくは５〜30Kg/cmである。接触後0.1
〜５秒程度で磁性層を該支持帯に剥離する。必要によつ
ては、鏡面ロールもしくは帯状物を40℃〜100℃程度に
加熱してもよい。放射線照射を用いるときは、接触後未
だ剥離しない間に照射すると剥離が容易であり、磁性層
の平滑性を保持することができる。該ロールもしくは帯
状物から剥離後にも一度乾燥ゾーンを設けることも可能
である。また乾燥後、必要により熱硬化もしくは放射線
照射を施してもよい。
の0.05〜10wt％になつたときに、好ましくは0.5〜8wt％
更に好ましくは1.5〜5wt％になつたときに鏡面仕上げの
ロールもしくは帯状物の接触する。この時の接触圧力は
１〜50Kg/cm好ましくは５〜30Kg/cmである。接触後0.1
〜５秒程度で磁性層を該支持帯に剥離する。必要によつ
ては、鏡面ロールもしくは帯状物を40℃〜100℃程度に
加熱してもよい。放射線照射を用いるときは、接触後未
だ剥離しない間に照射すると剥離が容易であり、磁性層
の平滑性を保持することができる。該ロールもしくは帯
状物から剥離後にも一度乾燥ゾーンを設けることも可能
である。また乾燥後、必要により熱硬化もしくは放射線
照射を施してもよい。
また必要に応じて容易に塗布後磁場配向を施すこともで
きる。この場合、ソレノイド、電磁石、永久磁石を用い
ることができる。
きる。この場合、ソレノイド、電磁石、永久磁石を用い
ることができる。
また、本発明の磁性塗液には、潤滑性、研摩剤、分散
剤、帯電防止剤、防錆剤などの添加剤を加えてもよい。
特に潤滑剤は、飽和及び不飽和の高級脂肪酸、脂肪酸エ
ステル、高級脂肪酸アミド、高級アルコール、シリコー
ンオイル、鉱油、植物油、フツソ系化合物などがあり、
これらは塗布液調製時に添加してもよく、また該ロール
もしくは帯状物から剥離後に有機溶剤に溶解してあるい
はそのまま磁性層表面に塗布あるいは、噴霧してもよ
い。
剤、帯電防止剤、防錆剤などの添加剤を加えてもよい。
特に潤滑剤は、飽和及び不飽和の高級脂肪酸、脂肪酸エ
ステル、高級脂肪酸アミド、高級アルコール、シリコー
ンオイル、鉱油、植物油、フツソ系化合物などがあり、
これらは塗布液調製時に添加してもよく、また該ロール
もしくは帯状物から剥離後に有機溶剤に溶解してあるい
はそのまま磁性層表面に塗布あるいは、噴霧してもよ
い。
以下に本発明を実施例および比較例により更に具体的に
説明する。以下の実施例および比較例において「部」は
すべて「重量部」を示す。
説明する。以下の実施例および比較例において「部」は
すべて「重量部」を示す。
実施例1,2、比較例1,2 上記成分をボールミルで50時間混練して得られた塗料
を、添付図に示されるように、10μｍのポリエチレンテ
レフタレートフイルム１上に塗布液２の厚みが20μｍと
なるように塗布した。Co磁石で磁場配向したのち、第１
乾燥部５で100℃で乾燥し鏡面ロール７にニツプし（ニ
ツプ圧20Kg/cm）電子線を照射した。電子線は加速電圧1
65kVで10Mrad照射した。しかるのち剥離し第２乾燥を行
つた。ニツプ部６での残留溶剤量はロールとウエブのス
ピードをコントロールし第１表のように得られた。
を、添付図に示されるように、10μｍのポリエチレンテ
レフタレートフイルム１上に塗布液２の厚みが20μｍと
なるように塗布した。Co磁石で磁場配向したのち、第１
乾燥部５で100℃で乾燥し鏡面ロール７にニツプし（ニ
ツプ圧20Kg/cm）電子線を照射した。電子線は加速電圧1
65kVで10Mrad照射した。しかるのち剥離し第２乾燥を行
つた。ニツプ部６での残留溶剤量はロールとウエブのス
ピードをコントロールし第１表のように得られた。
実施例３ 実施例１に於て電子線照射を添付図の照射部９で行わず
に剥離直後に同一条件の電子線照射を実施した。サンプ
ルNo.5とする。
に剥離直後に同一条件の電子線照射を実施した。サンプ
ルNo.5とする。
比較例３ 実施例１の磁性塗液２を10μｍのポリエチレンテレフタ
レートフイルム１に塗布し、次いでCo磁石で磁場配向
し、100℃で乾燥したのち60℃のカレンダーロールで平
滑化処理したのち電子線照射した。照射条件は165kVの
加速電圧で10Mradであつた。尚カレンダーロールで平滑
化処理するときの残留溶剤量は0.1wt％以下であつた。
サンプルNo.6とする。
レートフイルム１に塗布し、次いでCo磁石で磁場配向
し、100℃で乾燥したのち60℃のカレンダーロールで平
滑化処理したのち電子線照射した。照射条件は165kVの
加速電圧で10Mradであつた。尚カレンダーロールで平滑
化処理するときの残留溶剤量は0.1wt％以下であつた。
サンプルNo.6とする。
上記残留溶剤量は全てガスクロマトグラフで測定し磁性
層に対する重量％で求めた。
層に対する重量％で求めた。
以上のサンプルについて剥離後の様子を目視で観察し、
良好なものは以下の実験を行つた。
良好なものは以下の実験を行つた。
磁性層の表面粗さ：東京精密製表面粗さ計で磁性層表面
を測定し、JIS−B0601の５項で定義される中心線平均あ
らさで示す（カツトオフは0.25mm）。
を測定し、JIS−B0601の５項で定義される中心線平均あ
らさで示す（カツトオフは0.25mm）。
ビデオS/N:松下電器（株）製NV8200ビデオテープレコー
ダーを使用し50％セツトアツプの灰色信号を録画しシバ
ソク製925C型S/Nメーターでノイズを測定した。ビデオS
/NはサンプルNo.1〜６の試料について、サンプルNo.1を
OdBとしたときのそれぞれの相対比較値で示した。
ダーを使用し50％セツトアツプの灰色信号を録画しシバ
ソク製925C型S/Nメーターでノイズを測定した。ビデオS
/NはサンプルNo.1〜６の試料について、サンプルNo.1を
OdBとしたときのそれぞれの相対比較値で示した。
スチル耐久時間:VHSビデオテープレコーダー（松下電器
産業株式会社製、NV8200型）を用いてビデオテープ（各
サンプル）に一定のビデオ信号を記録し、再生した静止
画像が鮮明さを失なうまでの時間を示す。
産業株式会社製、NV8200型）を用いてビデオテープ（各
サンプル）に一定のビデオ信号を記録し、再生した静止
画像が鮮明さを失なうまでの時間を示す。
以下の評価結果を第２表に示す。
比較例のサンプルNo.4は磁性層の一部が帯状物からうま
く剥離せず良好な磁気テープが得られなかつた。
く剥離せず良好な磁気テープが得られなかつた。
第２表をみれば本発明がいかに磁性層の表面が平滑で電
磁特性良好でしかも耐久性が良好かがわかる。
磁特性良好でしかも耐久性が良好かがわかる。
添付図は、本発明の実施例説明図の側面図である。 １……ポリエチレンテレフタレートフイルム、２……塗
布液、３……塗布部、４……磁性層、５……第１乾燥
部、６……ニツプ部、７……鏡面仕上げのロール、８…
…放射線照射装置、９……照射部、10……剥離部、11…
…第２乾燥部
布液、３……塗布部、４……磁性層、５……第１乾燥
部、６……ニツプ部、７……鏡面仕上げのロール、８…
…放射線照射装置、９……照射部、10……剥離部、11…
…第２乾燥部
Claims (3)
- 【請求項１】強磁性微粉末と少なくとも放射線重合性化
合物を含む結合剤及び有機溶剤とから成る磁性塗液を非
磁性支持体上に塗布して磁性層を設けたのち、乾燥によ
り該磁性層の溶剤含量が0.05〜10wt％にあるときに該磁
性層表面を鏡面仕上げのロール若しくは帯状物に接触圧
１〜50kg/cmで接触させたのち該ロール若しくは帯状物
と磁性層とを剥離することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。 - 【請求項２】該磁性層を剥離したのち放射線照射するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒
体の製造方法。 - 【請求項３】該磁性層表面を鏡面仕上げのロールもしく
は帯状物に接触させてから該ロールもしくは帯状物と磁
性層とを剥離するまでの過程で放射線照射することを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60013450A JPH0685213B2 (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US06/823,871 US4664734A (en) | 1985-01-29 | 1986-01-29 | Process for producing a magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60013450A JPH0685213B2 (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61175928A JPS61175928A (ja) | 1986-08-07 |
| JPH0685213B2 true JPH0685213B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=11833473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60013450A Expired - Lifetime JPH0685213B2 (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0685213B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007105647A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Hitachi Maxell Ltd | ベースフィルム、ベースフィルムの製造方法および製造装置 |
| JP2008279438A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-11-20 | Hitachi Maxell Ltd | 積層フィルムの製造方法および製造装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5625235A (en) * | 1979-08-08 | 1981-03-11 | Sony Corp | Manufacture of magnetic recording medium |
| JPS57143737A (en) * | 1981-03-02 | 1982-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
| JPS5897132A (ja) * | 1981-12-07 | 1983-06-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録材料の製造方法 |
| DE3407267C2 (de) * | 1983-03-02 | 1986-11-06 | RPC Industries, Hayward, Calif. | Vorrichtung zur Strahlenbehandlung von laufenden beschichteten Bändern mittels Elektronenstrahlen |
| JPS59223938A (ja) * | 1983-06-02 | 1984-12-15 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-01-29 JP JP60013450A patent/JPH0685213B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61175928A (ja) | 1986-08-07 |
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