JPH0684396B2 - デオキシヌクレオシドホスホルスルフイド化合物 - Google Patents
デオキシヌクレオシドホスホルスルフイド化合物Info
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- JPH0684396B2 JPH0684396B2 JP61158719A JP15871986A JPH0684396B2 JP H0684396 B2 JPH0684396 B2 JP H0684396B2 JP 61158719 A JP61158719 A JP 61158719A JP 15871986 A JP15871986 A JP 15871986A JP H0684396 B2 JPH0684396 B2 JP H0684396B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はオリゴデオキシヌクレオチドを製造するための
中間化合物、さらに詳しくはホスフアイトトリエステル
法によるオリゴデオキシヌクレオチド製造のためのデオ
キシヌクレオシド−3′−ホスフアイト化合物に関する
ものである。
中間化合物、さらに詳しくはホスフアイトトリエステル
法によるオリゴデオキシヌクレオチド製造のためのデオ
キシヌクレオシド−3′−ホスフアイト化合物に関する
ものである。
従来の技術 オリゴデオキシヌクレオチドを製造するための方法とし
ては、現在、リン酸トリエステル法およびホスフアイト
トリエステル法が広く使用されている。リン酸トリエス
テル法には、一般に、つぎに示すようなデオキシヌクレ
オシド−3′−ホスフエート化合物〔II〕が、またホス
フアイトトリエステル法には、デオキシヌクレオシド−
3′−ホスホルクロリド化合物〔III〕およびデオキシ
ヌクレオシド−3′−ホスホルアミダイト化合物〔IV〕
が、それぞれその製造中間体として用いられている(化
合物〔II〕の製造法とその使用法については、C.B.Rees
e、Tetrahedron,34、3143(1978)、化合物〔III〕につ
いては、R.L.Letsingerら、J.Am.Chem.Soc.、97,3278
(1975)、また化合物〔IV〕については、M.H.Caruther
sら、Tetra−hedron Lett.、22,1859(1981)を参照さ
れたい。) (式中、R1およびR2は保護基を、Bは保護基を有するこ
ともある塩基残基を、そしてR4はアルキル基をあらわ
す。) 発明が解決しようとする問題点 中間化合物として化合物〔II〕を用いてオリゴデオキシ
ヌクレオチドを製造する場合の利点は、化合物〔II〕が
酸素および水に対して安定である故に、化合物〔II〕の
製造および取扱いが容易であることである。したがつて
中間化合物として化合物〔II〕を用いる方法(リン酸ト
リエステル法)が、オリゴデオキシヌクレオチド製造法
の主流を占めてきた。しかし、この方法には、化合物
〔II〕と5′−O−デオキシヌクレオシドあるいは5′
−O−デオキシヌクレオチドとの縮合反応、いわゆるイ
ンターヌクレオチド形成反応がさほど速くないために、
オリゴ体の製造に時間を要するという欠点がある。
ては、現在、リン酸トリエステル法およびホスフアイト
トリエステル法が広く使用されている。リン酸トリエス
テル法には、一般に、つぎに示すようなデオキシヌクレ
オシド−3′−ホスフエート化合物〔II〕が、またホス
フアイトトリエステル法には、デオキシヌクレオシド−
3′−ホスホルクロリド化合物〔III〕およびデオキシ
ヌクレオシド−3′−ホスホルアミダイト化合物〔IV〕
が、それぞれその製造中間体として用いられている(化
合物〔II〕の製造法とその使用法については、C.B.Rees
e、Tetrahedron,34、3143(1978)、化合物〔III〕につ
いては、R.L.Letsingerら、J.Am.Chem.Soc.、97,3278
(1975)、また化合物〔IV〕については、M.H.Caruther
sら、Tetra−hedron Lett.、22,1859(1981)を参照さ
れたい。) (式中、R1およびR2は保護基を、Bは保護基を有するこ
ともある塩基残基を、そしてR4はアルキル基をあらわ
す。) 発明が解決しようとする問題点 中間化合物として化合物〔II〕を用いてオリゴデオキシ
ヌクレオチドを製造する場合の利点は、化合物〔II〕が
酸素および水に対して安定である故に、化合物〔II〕の
製造および取扱いが容易であることである。したがつて
中間化合物として化合物〔II〕を用いる方法(リン酸ト
リエステル法)が、オリゴデオキシヌクレオチド製造法
の主流を占めてきた。しかし、この方法には、化合物
〔II〕と5′−O−デオキシヌクレオシドあるいは5′
−O−デオキシヌクレオチドとの縮合反応、いわゆるイ
ンターヌクレオチド形成反応がさほど速くないために、
オリゴ体の製造に時間を要するという欠点がある。
一方、化合物〔III〕または化合物〔IV〕を使用するホ
スフアイトトリエステル法は、化合物〔III〕および〔I
V〕が5′−O−デオキシヌクレオシドあるいは5′−
O−デオキシヌクレオチドのアルコール性水酸基との反
応性が大きいために、インターヌクレオチド形成反応が
速く、そのために目的とするオリゴデオキシヌクレオチ
ドを短時間に得ることができるという長所がある。とく
にこれらの方法は固相法によるオリゴデオキシヌクレオ
チドの製造に有効である。しかし、これらの化合物〔II
I〕および〔IV〕、とりわけ化合物〔III〕は、その製造
と取扱いが簡単ではないこと、また酸素および水に対し
て不安定であるために、その保存中に分解しないように
注意を払う必要があること等の欠点がある。実際、化合
物〔III〕は一般に生成系からの単離が困難であるほど
に不安定な化合物であり、また化合物〔IV〕は、弱酸の
存在下でさえもP−N結合が容易に切断される程度に不
安定であることが知られている。
スフアイトトリエステル法は、化合物〔III〕および〔I
V〕が5′−O−デオキシヌクレオシドあるいは5′−
O−デオキシヌクレオチドのアルコール性水酸基との反
応性が大きいために、インターヌクレオチド形成反応が
速く、そのために目的とするオリゴデオキシヌクレオチ
ドを短時間に得ることができるという長所がある。とく
にこれらの方法は固相法によるオリゴデオキシヌクレオ
チドの製造に有効である。しかし、これらの化合物〔II
I〕および〔IV〕、とりわけ化合物〔III〕は、その製造
と取扱いが簡単ではないこと、また酸素および水に対し
て不安定であるために、その保存中に分解しないように
注意を払う必要があること等の欠点がある。実際、化合
物〔III〕は一般に生成系からの単離が困難であるほど
に不安定な化合物であり、また化合物〔IV〕は、弱酸の
存在下でさえもP−N結合が容易に切断される程度に不
安定であることが知られている。
問題点を解決するための手段,作用および効果 本発明者らは、上述のごとき従来技術の状況にかんが
み、製造が容易でかつ安定であり、さらにすみやかにオ
リゴデオキシヌクレオチドを製造しうる中間化合物を探
索した結果、下記一般式〔I〕で示されるデオキシヌク
レオシドホスホルスルフイド化合物を創製し、該化合物
を使用することにより、この目的を有利に達成しうるこ
とを見い出した。
み、製造が容易でかつ安定であり、さらにすみやかにオ
リゴデオキシヌクレオチドを製造しうる中間化合物を探
索した結果、下記一般式〔I〕で示されるデオキシヌク
レオシドホスホルスルフイド化合物を創製し、該化合物
を使用することにより、この目的を有利に達成しうるこ
とを見い出した。
(式中、R1およびR2は保護基を、R3はアリール基を、そ
してBは保護基を有することもある塩基残基をあらわ
す。) したがつて、本発明は、上述したようなオリゴデオキシ
ヌクレオチドを製造するための従来の中間化合物の利
点、すなわちその製造が容易でかつすみやかなインター
ヌクレオチド結合形成反応を提供する一般式〔I〕の新
規デオキシヌクレオシド化合物に関するものであり、以
下に該新規化合物〔I〕について具体的に説明する。
してBは保護基を有することもある塩基残基をあらわ
す。) したがつて、本発明は、上述したようなオリゴデオキシ
ヌクレオチドを製造するための従来の中間化合物の利
点、すなわちその製造が容易でかつすみやかなインター
ヌクレオチド結合形成反応を提供する一般式〔I〕の新
規デオキシヌクレオシド化合物に関するものであり、以
下に該新規化合物〔I〕について具体的に説明する。
一般式〔I〕で示されるホスホルスルフイド化合物の保
護基R1としては、基本的にはすべてのヒドロキシ保護基
が可能である。具体的にはオリゴヌクレオチドを製造す
る際に、その有用性が認められたヒドロキシ保護基、た
とえばトリフエニルメチル基、4−メトキシトリフエニ
ルメチル基、4,4′−ジメトキシトリフエニルメチル基
等のトリアリールメチル基、ピキシル基(すなわち9−
フエニルキサンテン−9−イル基)、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオア
ルキルオキシカルボニル基、さらにt−ブチルジメチル
シリル基のようなトリアルキルシリル基等を挙げること
ができる。これらのヒドロキシ保護基の中から化合物
〔I〕のR1としてどれを選ぶかについては限定的ではな
いが、トリアリールメチル基についていえば、それらの
導入と脱保護が容易であること、また後述するように化
合物〔I〕を製造する際に原料として用いる5′−O
−,N−保護デオキシヌクレオシドのうちで、5′−O−
トリアリールメチル−N−保護デオキシヌクレオシドは
市販されているものもある等、その入手が容易であるこ
とを考慮すると、それらが好ましく用いられる。
護基R1としては、基本的にはすべてのヒドロキシ保護基
が可能である。具体的にはオリゴヌクレオチドを製造す
る際に、その有用性が認められたヒドロキシ保護基、た
とえばトリフエニルメチル基、4−メトキシトリフエニ
ルメチル基、4,4′−ジメトキシトリフエニルメチル基
等のトリアリールメチル基、ピキシル基(すなわち9−
フエニルキサンテン−9−イル基)、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アリールチオア
ルキルオキシカルボニル基、さらにt−ブチルジメチル
シリル基のようなトリアルキルシリル基等を挙げること
ができる。これらのヒドロキシ保護基の中から化合物
〔I〕のR1としてどれを選ぶかについては限定的ではな
いが、トリアリールメチル基についていえば、それらの
導入と脱保護が容易であること、また後述するように化
合物〔I〕を製造する際に原料として用いる5′−O
−,N−保護デオキシヌクレオシドのうちで、5′−O−
トリアリールメチル−N−保護デオキシヌクレオシドは
市販されているものもある等、その入手が容易であるこ
とを考慮すると、それらが好ましく用いられる。
また化合物〔I〕の有機基R2としては、基本的にはすべ
てのリン酸塩保護基が可能である。具体的には、オリゴ
ヌクレオチドを製造するために研究開発された保護基、
たとえば炭素数が5までの低級アルキル基、アリル基、
シアノアルキル基、ハロアルキル基、アリールスルホニ
ルアルキル基、アリール基、ハロアリール基等を挙げる
ことができる。これらの保護基のうちで、化合物〔I〕
のR2としてどれを選ぶかについては限定的ではないが、
オリゴヌクレオチド製造のためのリン酸塩保護基として
広く研究され、その有用性が確認されているメチル基,
アリル基,β−シアノエチル基および2−クロロフエニ
ル基等が好んで用いられる。
てのリン酸塩保護基が可能である。具体的には、オリゴ
ヌクレオチドを製造するために研究開発された保護基、
たとえば炭素数が5までの低級アルキル基、アリル基、
シアノアルキル基、ハロアルキル基、アリールスルホニ
ルアルキル基、アリール基、ハロアリール基等を挙げる
ことができる。これらの保護基のうちで、化合物〔I〕
のR2としてどれを選ぶかについては限定的ではないが、
オリゴヌクレオチド製造のためのリン酸塩保護基として
広く研究され、その有用性が確認されているメチル基,
アリル基,β−シアノエチル基および2−クロロフエニ
ル基等が好んで用いられる。
つぎに化合物〔I〕の有機基R3について説明すると、そ
れはアリール基であればよく、具体的にはフエニル基、
2−メチルフエニル基、4−メチルフエニル基、2,4−
ジメチルフエニル基、2,6−ジメチルフエニル基、2,4,6
−トリメチルフエニル基、2−クロロフエニル基、4−
クロロフエニル基、3,4−ジクロロフエニル基、α−ナ
フチル基等を挙げることができる。これらのアリール基
のうちでR3としてどれを選ぶかについては、化合物
〔I〕における保護基R2の種類により異なるので限定す
ることはできないが、化合物〔I〕の製造の容易さおよ
び安定性等を考慮すると、一般にそれが容易でかつ良好
な安定性を与える2−メチルフエニル基、2,6−ジメチ
ルフエニル基および2−クロロフエニル基等のα−位に
置換基をもつアリール基が好んで用いられる。
れはアリール基であればよく、具体的にはフエニル基、
2−メチルフエニル基、4−メチルフエニル基、2,4−
ジメチルフエニル基、2,6−ジメチルフエニル基、2,4,6
−トリメチルフエニル基、2−クロロフエニル基、4−
クロロフエニル基、3,4−ジクロロフエニル基、α−ナ
フチル基等を挙げることができる。これらのアリール基
のうちでR3としてどれを選ぶかについては、化合物
〔I〕における保護基R2の種類により異なるので限定す
ることはできないが、化合物〔I〕の製造の容易さおよ
び安定性等を考慮すると、一般にそれが容易でかつ良好
な安定性を与える2−メチルフエニル基、2,6−ジメチ
ルフエニル基および2−クロロフエニル基等のα−位に
置換基をもつアリール基が好んで用いられる。
つぎに化合物〔I〕における塩基残基Bについて説明す
ると、代表的なBとしては、下記一般式〔V〕で示され
る3位に保護基を有することもあるチミン残基、一般式
〔VI〕で示される4位のアミノ基に保護基を有すること
もあるシトシン残基、一般式〔VII〕で示される6位の
アミノ基に保護基を有することもあるアデニン残基、一
般式〔VIII〕で示される1,2,6−位のアミド基、アミノ
基およびケト基に保護基を有することもあるグアニン残
基等を挙げることができる。
ると、代表的なBとしては、下記一般式〔V〕で示され
る3位に保護基を有することもあるチミン残基、一般式
〔VI〕で示される4位のアミノ基に保護基を有すること
もあるシトシン残基、一般式〔VII〕で示される6位の
アミノ基に保護基を有することもあるアデニン残基、一
般式〔VIII〕で示される1,2,6−位のアミド基、アミノ
基およびケト基に保護基を有することもあるグアニン残
基等を挙げることができる。
これら塩基の保護基としては、限定的ではないが、現在
までオリゴヌクレオチド製造のために開発されたトリア
リールメチル基、トリアルキルシリルアルキル基、アリ
ールチオアルキル基、フタロイル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アルコキシカルホニル基、ジアリールカル
バモイル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニ
ル基、1,2−ジアルキルカルボニルオキシエチレン基を
挙げることができる(一般式〔V〕−〔VIII〕で示され
る塩基残基にどの保護基を用いるかについては、すでに
多くの報文や総説に示されている。たとえば、畑辻明
ら、有機合成化学協会誌、42、429(1984)を参照され
たい)。
までオリゴヌクレオチド製造のために開発されたトリア
リールメチル基、トリアルキルシリルアルキル基、アリ
ールチオアルキル基、フタロイル基、アリールオキシカ
ルボニル基、アルコキシカルホニル基、ジアリールカル
バモイル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニ
ル基、1,2−ジアルキルカルボニルオキシエチレン基を
挙げることができる(一般式〔V〕−〔VIII〕で示され
る塩基残基にどの保護基を用いるかについては、すでに
多くの報文や総説に示されている。たとえば、畑辻明
ら、有機合成化学協会誌、42、429(1984)を参照され
たい)。
本発明に従う一般式〔I〕のデオキシヌクレオシドホス
ホルスルフイド化合物は、下記反応式(1)に示すよう
に、一般式〔IX〕で示されるデオキシヌクレオシドと一
般式〔X〕で示される1,2,4−トリアゾリルホスフイン
化合物との反応により製造することができる。
ホルスルフイド化合物は、下記反応式(1)に示すよう
に、一般式〔IX〕で示されるデオキシヌクレオシドと一
般式〔X〕で示される1,2,4−トリアゾリルホスフイン
化合物との反応により製造することができる。
(式中、R1,R2,R3およびBは前記と同じ意味をあらわ
す。)たとえば、5′−O−ジメトキシリチルチミジン
と等モルの2−クロロフエニルオキシー2−メチルフエ
ニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホスフインとを重クロ
ロホルム中で室温下に1.5時間反応させた後、その反応
溶液の1HNMRを測定すると、原料である5′−O−ジメ
トキシトリチルチミジンの3′−OH基のプロトンのシグ
ナル(δ3.45ppm),さらに2−クロロフエニルオキシ
−2−メチルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホス
フインのメチル基(δ2.31ppm)および1,2,4−トリアゾ
リル基(δ8.12および8.44ppm)の吸収が消失し、新た
にあらわれた吸収は5′−O−ジメトキシトリチルチミ
ジン−3′−(2−クロロフエニルオキシ−2−メチル
フエニルチオ)ホスフイン〔主な有機基のシグナルは、
δ1.46(チミン残基の5−メチル基)、2.28および2.38
(2−メチルフエニルチオ基のメチル基)、3.69および
3.70(ジメトキシトリチル基のメトキシ基)ppm〕と1H
−1,2,4−トリアゾール〔δ8.16(3および5位の水
素)、12.8(1位の水素)ppm〕がほぼ定量的に生成し
ていることを示した。さらに、この溶液を飽和食塩水で
洗浄、乾燥、濃縮後、これをn−ペンタンに滴下するこ
とにより、微粉末状の5′−O−ジメトキシトリチルチ
ミジン−3′−(2−クロロフエニルオキシ−2−メチ
ルフエニルチオ)ホスフインがほぼ定量的に得られた。
す。)たとえば、5′−O−ジメトキシリチルチミジン
と等モルの2−クロロフエニルオキシー2−メチルフエ
ニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホスフインとを重クロ
ロホルム中で室温下に1.5時間反応させた後、その反応
溶液の1HNMRを測定すると、原料である5′−O−ジメ
トキシトリチルチミジンの3′−OH基のプロトンのシグ
ナル(δ3.45ppm),さらに2−クロロフエニルオキシ
−2−メチルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホス
フインのメチル基(δ2.31ppm)および1,2,4−トリアゾ
リル基(δ8.12および8.44ppm)の吸収が消失し、新た
にあらわれた吸収は5′−O−ジメトキシトリチルチミ
ジン−3′−(2−クロロフエニルオキシ−2−メチル
フエニルチオ)ホスフイン〔主な有機基のシグナルは、
δ1.46(チミン残基の5−メチル基)、2.28および2.38
(2−メチルフエニルチオ基のメチル基)、3.69および
3.70(ジメトキシトリチル基のメトキシ基)ppm〕と1H
−1,2,4−トリアゾール〔δ8.16(3および5位の水
素)、12.8(1位の水素)ppm〕がほぼ定量的に生成し
ていることを示した。さらに、この溶液を飽和食塩水で
洗浄、乾燥、濃縮後、これをn−ペンタンに滴下するこ
とにより、微粉末状の5′−O−ジメトキシトリチルチ
ミジン−3′−(2−クロロフエニルオキシ−2−メチ
ルフエニルチオ)ホスフインがほぼ定量的に得られた。
このように一般式〔I〕で示されるデオキシヌクレオシ
ドホスホルスルフイド化合物は反応(1)により高収率
で得られるが、その原料である一般式〔IX〕で示される
デオキシヌクレオシドは、すでに知られている方法(た
とえば、畑辻明ら、有機合成化学協会誌、42、429(198
4)とその引用文献を参照)で製造したものであるいは
市販されているものを用いることができるが、使用に際
しては適当な手段により十分乾燥した方がよい。
ドホスホルスルフイド化合物は反応(1)により高収率
で得られるが、その原料である一般式〔IX〕で示される
デオキシヌクレオシドは、すでに知られている方法(た
とえば、畑辻明ら、有機合成化学協会誌、42、429(198
4)とその引用文献を参照)で製造したものであるいは
市販されているものを用いることができるが、使用に際
しては適当な手段により十分乾燥した方がよい。
また1,2,4−トリアゾリルホスフイン化合物〔X〕は、
クリヒルドルフらの方法(Angew.Chem.Int.Ed.Engl.15,
305(1976))に準じて製造することができる(反応式
(2))。
クリヒルドルフらの方法(Angew.Chem.Int.Ed.Engl.15,
305(1976))に準じて製造することができる(反応式
(2))。
(式中、R2およびR3は前記と同じ意味をあらわす。)す
なわち、一般式〔XI〕で示されるアルコキシまたはアリ
ールオキシアリールチオクロロホスフインとトリメチル
シリル−1,2,4−トリアゾール〔XII〕とをクロロホル
ム、塩化メチレン、ベンゼンおよびトルエン等の有機溶
媒中で、モル比1:1〜1.5で室温下に5分程度反応させた
のち、上記有機溶媒および副生したトリメチルクロロシ
ラン〔XIII〕を減圧下に留去すると、化合物〔X〕が残
渣として得られる。化合物〔X〕は蒸留あるいはクロマ
トグラフイー等により精製できるほど熱および水に対し
て安定ではないが、上記の方法により得た化合物〔X〕
はほぼ純粋であり、このことは上記の残渣の1HNMRを測
定することにより容易に示される。このようにして得ら
れた化合物〔X〕に反応(1)を行なわせるための有機
溶媒が加えられ、デオキシヌクレオシド〔IX〕との反応
に用いられる。
なわち、一般式〔XI〕で示されるアルコキシまたはアリ
ールオキシアリールチオクロロホスフインとトリメチル
シリル−1,2,4−トリアゾール〔XII〕とをクロロホル
ム、塩化メチレン、ベンゼンおよびトルエン等の有機溶
媒中で、モル比1:1〜1.5で室温下に5分程度反応させた
のち、上記有機溶媒および副生したトリメチルクロロシ
ラン〔XIII〕を減圧下に留去すると、化合物〔X〕が残
渣として得られる。化合物〔X〕は蒸留あるいはクロマ
トグラフイー等により精製できるほど熱および水に対し
て安定ではないが、上記の方法により得た化合物〔X〕
はほぼ純粋であり、このことは上記の残渣の1HNMRを測
定することにより容易に示される。このようにして得ら
れた化合物〔X〕に反応(1)を行なわせるための有機
溶媒が加えられ、デオキシヌクレオシド〔IX〕との反応
に用いられる。
つぎに反応(2)の原料であるアルコキシまたはアリー
ルオキシアリールチオクロロホスフイン化合物〔XI〕お
よびトリメチルシリル−1,2,4−トリアゾール〔XII〕に
ついて説明すると、いずれも文献に記載されている方
法、すなわち下記の反応(3)および(4)により容易
に製造することができる(化合物〔XI〕の製造法につい
ては、たとえばG.M.Kosolapoffら、“Organic Phosphor
us Compounds",Vol.5,John Wiley & Sons(New Yor
k),1973年とその引用文献を、また化合物〔III〕につ
いては、L.Birkoferら、Chem.Ber.,93,2804(1960)を
それぞれ参照されたい)。
ルオキシアリールチオクロロホスフイン化合物〔XI〕お
よびトリメチルシリル−1,2,4−トリアゾール〔XII〕に
ついて説明すると、いずれも文献に記載されている方
法、すなわち下記の反応(3)および(4)により容易
に製造することができる(化合物〔XI〕の製造法につい
ては、たとえばG.M.Kosolapoffら、“Organic Phosphor
us Compounds",Vol.5,John Wiley & Sons(New Yor
k),1973年とその引用文献を、また化合物〔III〕につ
いては、L.Birkoferら、Chem.Ber.,93,2804(1960)を
それぞれ参照されたい)。
(式中、R2およびR3は前記と同じ意味をあらわし、塩基
はトリエチルアミン等の塩基をあらわす。) 本発明に係る反応(1)は、有機溶媒中でより円滑に進
行し、かかる溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレ
ン、1,2−ジクロロエタン、ベンゼン、テトラヒドロフ
ラン、p−ジオキサン等が挙げられる。これらの溶媒は
適当な乾燥剤で十分脱水したのち、蒸留等により精製し
たものが好んで用いられる。本発明に従う反応(1)に
おいて、化合物〔IX〕と化合物〔X〕のモル比は、1:1
〜10の範囲であり得るが、経済面を考慮すると化合物
〔X〕を大過剰に用いない方が得策であり、1:1〜2の
範囲が好適である。また実際に反応(1)を行うにあた
つては、化合物〔IX〕の上記有機溶媒溶液あるいは懸濁
液に、化合物〔X〕の上記有機溶媒溶液をゆつくり加え
ることが望ましい。反応は、0°〜35℃の範囲で行なわ
せることが望ましい。また反応時間は、化合物〔IX〕と
化合物〔X〕のモル比、さらに化合物〔IX〕の保護基R1
および塩基残基B、あるいは化合物〔X〕の保護基R2お
よび有機基R3の種類により異なるが、概して10分〜2時
間の範囲である。しかし、実際に反応(1)を行なうに
際しては、薄層クロマトグラフイー(TLC)や1HNMR等に
より反応の終結を確認した方がよい。
はトリエチルアミン等の塩基をあらわす。) 本発明に係る反応(1)は、有機溶媒中でより円滑に進
行し、かかる溶媒としては、クロロホルム、塩化メチレ
ン、1,2−ジクロロエタン、ベンゼン、テトラヒドロフ
ラン、p−ジオキサン等が挙げられる。これらの溶媒は
適当な乾燥剤で十分脱水したのち、蒸留等により精製し
たものが好んで用いられる。本発明に従う反応(1)に
おいて、化合物〔IX〕と化合物〔X〕のモル比は、1:1
〜10の範囲であり得るが、経済面を考慮すると化合物
〔X〕を大過剰に用いない方が得策であり、1:1〜2の
範囲が好適である。また実際に反応(1)を行うにあた
つては、化合物〔IX〕の上記有機溶媒溶液あるいは懸濁
液に、化合物〔X〕の上記有機溶媒溶液をゆつくり加え
ることが望ましい。反応は、0°〜35℃の範囲で行なわ
せることが望ましい。また反応時間は、化合物〔IX〕と
化合物〔X〕のモル比、さらに化合物〔IX〕の保護基R1
および塩基残基B、あるいは化合物〔X〕の保護基R2お
よび有機基R3の種類により異なるが、概して10分〜2時
間の範囲である。しかし、実際に反応(1)を行なうに
際しては、薄層クロマトグラフイー(TLC)や1HNMR等に
より反応の終結を確認した方がよい。
本発明に従う反応(1)により製造されたデオキシヌク
レオシドホスホルスルフイド化合物〔I〕は、化合物
〔IX〕と化合物〔X〕の反応溶液をそのまま、いわゆる
in situ,で次後の反応に使用してもよいが、通常はつぎ
に示す方法で単離したものが次後の反応等に用いられ
る。上記方法により反応(1)の終結を確認した後に、
反応溶液を飽和食塩水等で洗浄した後、有機層を無水硫
酸ナトリウム等で乾燥し、有機溶媒を減圧下でほとんど
留去する。濃縮された化合物〔I〕を含む溶液は、攪拌
してあるn−ペンタンあるいはn−ヘキサン中に滴下さ
れる。析出した微粉末状の化合物〔I〕を別し、減圧
下で乾燥する。また場合によつては、上記の濃縮された
化合物〔I〕を含む溶液をシリカゲルのカラムクロマト
グラフイーにかけ、クロロホルム、塩化メチレンあるい
は酢酸エチル等を溶媒として展開し、化合物〔I〕を含
む留出液を減圧下に濃縮乾固し、あわ状固体として単離
することもできる。
レオシドホスホルスルフイド化合物〔I〕は、化合物
〔IX〕と化合物〔X〕の反応溶液をそのまま、いわゆる
in situ,で次後の反応に使用してもよいが、通常はつぎ
に示す方法で単離したものが次後の反応等に用いられ
る。上記方法により反応(1)の終結を確認した後に、
反応溶液を飽和食塩水等で洗浄した後、有機層を無水硫
酸ナトリウム等で乾燥し、有機溶媒を減圧下でほとんど
留去する。濃縮された化合物〔I〕を含む溶液は、攪拌
してあるn−ペンタンあるいはn−ヘキサン中に滴下さ
れる。析出した微粉末状の化合物〔I〕を別し、減圧
下で乾燥する。また場合によつては、上記の濃縮された
化合物〔I〕を含む溶液をシリカゲルのカラムクロマト
グラフイーにかけ、クロロホルム、塩化メチレンあるい
は酢酸エチル等を溶媒として展開し、化合物〔I〕を含
む留出液を減圧下に濃縮乾固し、あわ状固体として単離
することもできる。
このようにして得られたデオキシヌクレオシドホスホル
スルフイド化合物〔I〕は安定であり、たとえば5′−
O−ジメトキシトリチルチミジン−3′−(2−クロロ
フエニルオキシ−2−メチルフエニルチオ)ホスフイン
は−20℃で5ヶ月は安定に保存することができる。また
化合物〔I〕を用いてオリゴデオキシヌクレオチドの合
成を行なうとジデオキシヌクレオチドが得られる。たと
えば、トリ−n−ブチルスタンニル−1,2,4−トリアゾ
ールの存在下で、5′−O−ジメトキシトリチルチミジ
ン−3′−(2−クロロフエニルオキシ−2−メチルフ
エニルチオ)ホスフインと3′−0−t−ブチルジメチ
ルシリルチミジンを塩化メチレン中で反応させたのち、
ヨウ素酸化すると、5′−O−ジメトキシトリチルチミ
ジン(3′→5′)−3′−t−ブチルジメチルシリル
チミジン−3′−0−(P1−2−クロロフエニル)ホス
フエートが好収率で得られる。
スルフイド化合物〔I〕は安定であり、たとえば5′−
O−ジメトキシトリチルチミジン−3′−(2−クロロ
フエニルオキシ−2−メチルフエニルチオ)ホスフイン
は−20℃で5ヶ月は安定に保存することができる。また
化合物〔I〕を用いてオリゴデオキシヌクレオチドの合
成を行なうとジデオキシヌクレオチドが得られる。たと
えば、トリ−n−ブチルスタンニル−1,2,4−トリアゾ
ールの存在下で、5′−O−ジメトキシトリチルチミジ
ン−3′−(2−クロロフエニルオキシ−2−メチルフ
エニルチオ)ホスフインと3′−0−t−ブチルジメチ
ルシリルチミジンを塩化メチレン中で反応させたのち、
ヨウ素酸化すると、5′−O−ジメトキシトリチルチミ
ジン(3′→5′)−3′−t−ブチルジメチルシリル
チミジン−3′−0−(P1−2−クロロフエニル)ホス
フエートが好収率で得られる。
なお本明細書において使用する略号の意味および各塩基
残基の構造はつぎのとおりである。
残基の構造はつぎのとおりである。
Me;メチル基、 MMTr;モノメトキシトリチル基、 DMTr;ジメトキシトリチル基、 実施例 以下実施例によつて、本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、各実施例で使用した1,2,4−トリアゾリルホスフ
イン化合物〔X〕は、以下の参考例1〜3によつて合成
したものである。
イン化合物〔X〕は、以下の参考例1〜3によつて合成
したものである。
参考例1 クロロホスフイン化合物〔XI〕として、2−クロロフエ
ニルオキシ−2−メチルフエニルチオクロロホスフイン
を0.3ミリモル(0.095g)含むトルエン溶液2mlに、トリ
メチルシリル−1,2,4−トリアゾール〔XII〕を0.33ミリ
モル(0.046g)含むトルエン溶液を0℃で加え、この温
度で10分間攪拌し、低沸点留分を減圧下において−78℃
でトラツプした。残渣として1,2,4−トリアゾリルホス
フイン化合物〔X〕、すなわち2−クロロフエニルオキ
シ−2−メチルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホ
スフインを、またトラツプされた留分の分留によりトリ
メチルクロロシラン〔XIII〕をそれぞれ得た。結果は後
記第2表に示すとおりである。
ニルオキシ−2−メチルフエニルチオクロロホスフイン
を0.3ミリモル(0.095g)含むトルエン溶液2mlに、トリ
メチルシリル−1,2,4−トリアゾール〔XII〕を0.33ミリ
モル(0.046g)含むトルエン溶液を0℃で加え、この温
度で10分間攪拌し、低沸点留分を減圧下において−78℃
でトラツプした。残渣として1,2,4−トリアゾリルホス
フイン化合物〔X〕、すなわち2−クロロフエニルオキ
シ−2−メチルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホ
スフインを、またトラツプされた留分の分留によりトリ
メチルクロロシラン〔XIII〕をそれぞれ得た。結果は後
記第2表に示すとおりである。
参考例2 クロロホスフイン化合物〔XI〕として、メトキシ−2−
メチルフエニルチオクロロホスフイン5ミリモルを含む
トルエン溶液30mlと、トリメチルシリル−1,2,4−トリ
アゾール〔XII〕5ミリモルを含むトルエン溶液20mlを
用いた以外は参考例1と同様にしてメトキシ−2−メチ
ルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホスフイン
〔X〕を合成した結果は後記第2表に示すとおりであ
る。
メチルフエニルチオクロロホスフイン5ミリモルを含む
トルエン溶液30mlと、トリメチルシリル−1,2,4−トリ
アゾール〔XII〕5ミリモルを含むトルエン溶液20mlを
用いた以外は参考例1と同様にしてメトキシ−2−メチ
ルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホスフイン
〔X〕を合成した結果は後記第2表に示すとおりであ
る。
参考例3 クロロホスフイン化合物〔XI〕として、2−クロロフエ
ニルオキシ−2,6−ジメチルフエニルチオクロロホスフ
イン5ミリモルを用いた以外は参考例2と同じ方法によ
り後記第2表に示すごとく2−クロロフエニル−2,6−
ジメチルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホスフイ
ン〔X〕を得た。
ニルオキシ−2,6−ジメチルフエニルチオクロロホスフ
イン5ミリモルを用いた以外は参考例2と同じ方法によ
り後記第2表に示すごとく2−クロロフエニル−2,6−
ジメチルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホスフイ
ン〔X〕を得た。
実施例1 5′−O−ジメトキシトリチルチミジン〔IX〕(0.163
g、0.3ミリモル)の重クロロホルム(0.5ml)の懸濁液
に、参考例1で合成した2−クロロフエニルオキシ−2
−メチルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホスフイ
ン〔X〕の重クロロホルム(1ml)溶液を、0℃でゆつ
くり加えた。室温にもどし、1.5時間その温度で攪拌し
た後、その溶液の1HNMRを測定した。1 HNMR(CDCl3,TMS)δ;1.46(s,3H,5−CH3)、2.20−2.
85(m,5H,2.28と2.38ppmに一重線を含む。2′およびCH
3C6H4S−),3.35−3.65(m,2H,5′),3.69(s,3H,CH3O
C6H4−),3.70(s,3H,CH3OC6H4−),4.25−4.50(m,1H,
4′),5.45−5.80(m,1H,3′),6.49(t,1H,J=7.0Hz,
1′),6.65−6.90(m,4H,ph),6.90−7.75(m,18H,phお
よび6),8.16(s,2H,HNC2H2N2),10.3(s,1H,NH),12.
8(s,1H,HNC2H2N2)。
g、0.3ミリモル)の重クロロホルム(0.5ml)の懸濁液
に、参考例1で合成した2−クロロフエニルオキシ−2
−メチルフエニルチオ−1,2,4−トリアゾリルホスフイ
ン〔X〕の重クロロホルム(1ml)溶液を、0℃でゆつ
くり加えた。室温にもどし、1.5時間その温度で攪拌し
た後、その溶液の1HNMRを測定した。1 HNMR(CDCl3,TMS)δ;1.46(s,3H,5−CH3)、2.20−2.
85(m,5H,2.28と2.38ppmに一重線を含む。2′およびCH
3C6H4S−),3.35−3.65(m,2H,5′),3.69(s,3H,CH3O
C6H4−),3.70(s,3H,CH3OC6H4−),4.25−4.50(m,1H,
4′),5.45−5.80(m,1H,3′),6.49(t,1H,J=7.0Hz,
1′),6.65−6.90(m,4H,ph),6.90−7.75(m,18H,phお
よび6),8.16(s,2H,HNC2H2N2),10.3(s,1H,NH),12.
8(s,1H,HNC2H2N2)。
その後、この溶液にクロロホルム(50ml)を加え、クロ
ロホルム溶液を飽和食塩水(30ml)で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。クロロホルムを減圧下でほとん
ど留去し、残渣(約2ml)を攪拌してあるn−ペンタン
(200ml)中に0℃で滴下すると白色の粉末が直ちに析
出した。そのまま30分攪拌し、その粉末を別し、室温
で8時間減圧下乾燥し、0.235g(95%)の5′−O−ジ
メトキシトリチルチミジン−3′−(2−クロロフエニ
ルオキシ−2−メチルフエニルチオ)ホスフイン〔I〕
を得た。Rf(CHCl3:MeOH=80:1)=0.30。
ロホルム溶液を飽和食塩水(30ml)で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。クロロホルムを減圧下でほとん
ど留去し、残渣(約2ml)を攪拌してあるn−ペンタン
(200ml)中に0℃で滴下すると白色の粉末が直ちに析
出した。そのまま30分攪拌し、その粉末を別し、室温
で8時間減圧下乾燥し、0.235g(95%)の5′−O−ジ
メトキシトリチルチミジン−3′−(2−クロロフエニ
ルオキシ−2−メチルフエニルチオ)ホスフイン〔I〕
を得た。Rf(CHCl3:MeOH=80:1)=0.30。
実施例2〜8 第2表に記載したデオキシヌクレオシド〔IX〕と参考例
1〜3で合成した1,2,4−トリアゾリルホスフイン化合
物〔X〕を、重クロロホルム中、第2表に示したモル比
で、所定の時間反応させたのち、実施例1と同様の操作
を行ない、第2表に示したデオキシヌクレオシドホスホ
ルスルフイド化合物〔I〕を得た。
1〜3で合成した1,2,4−トリアゾリルホスフイン化合
物〔X〕を、重クロロホルム中、第2表に示したモル比
で、所定の時間反応させたのち、実施例1と同様の操作
を行ない、第2表に示したデオキシヌクレオシドホスホ
ルスルフイド化合物〔I〕を得た。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式〔I〕で示されるデオキシヌクレオ
シドホスホルスルフイド化合物。 (式中、R1およびR2は保護基を、R3はアリール基を、そ
してBは保護基を有することもある塩基残基をあらわ
す。)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/925,890 US4808708A (en) | 1985-11-02 | 1986-10-30 | Phosphorsulfide derivatives of deoxynucleosides or deoxynucleotides and their uses |
DE19863637243 DE3637243A1 (de) | 1985-11-02 | 1986-11-03 | Neue phosphorsulfidderivate von deoxynucleosiden oder deoxynucleotiden und deren verwendung |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60-245326 | 1985-11-02 | ||
JP24532685 | 1985-11-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62201895A JPS62201895A (ja) | 1987-09-05 |
JPH0684396B2 true JPH0684396B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=17131995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61158719A Expired - Lifetime JPH0684396B2 (ja) | 1985-11-02 | 1986-07-08 | デオキシヌクレオシドホスホルスルフイド化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0684396B2 (ja) |
-
1986
- 1986-07-08 JP JP61158719A patent/JPH0684396B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62201895A (ja) | 1987-09-05 |
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