JPH0669928U - レーザビームオッシレータ装置 - Google Patents
レーザビームオッシレータ装置Info
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- JPH0669928U JPH0669928U JP011499U JP1149993U JPH0669928U JP H0669928 U JPH0669928 U JP H0669928U JP 011499 U JP011499 U JP 011499U JP 1149993 U JP1149993 U JP 1149993U JP H0669928 U JPH0669928 U JP H0669928U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶接対象物の間のギャップの左右で均等な加
熱を行うことができるレーザビームオッシレータ装置を
提供する。 【構成】 凹面鏡12と集光位置Pとの間に、ZnSe
からなる第1平面透光板1及び第2平面透光板2を光軸
Xに対して傾斜角度αを以て設ける。第1平面透光板1
を支持する第1回転支持体3に取着した第1傘歯車5
と、第2平面透光板2を支持する第2回転支持体4に取
着した第2傘歯車6とを駆動傘歯車8によって回転させ
ることにより、第1傘歯車5及び第2傘歯車6は互いに
逆向きに回転し、その回転周期は同じとなる。即ち、第
1平面透光板1と第2平面透光板2とは同じ傾斜角度α
を維持しながら互いに逆向きに同じ周期で回転する。こ
れにより、レーザビームBのスポットはジグザグ状に振
動し、溶接対象物の間のギャップの左右で均等な加熱を
行うことができる。
熱を行うことができるレーザビームオッシレータ装置を
提供する。 【構成】 凹面鏡12と集光位置Pとの間に、ZnSe
からなる第1平面透光板1及び第2平面透光板2を光軸
Xに対して傾斜角度αを以て設ける。第1平面透光板1
を支持する第1回転支持体3に取着した第1傘歯車5
と、第2平面透光板2を支持する第2回転支持体4に取
着した第2傘歯車6とを駆動傘歯車8によって回転させ
ることにより、第1傘歯車5及び第2傘歯車6は互いに
逆向きに回転し、その回転周期は同じとなる。即ち、第
1平面透光板1と第2平面透光板2とは同じ傾斜角度α
を維持しながら互いに逆向きに同じ周期で回転する。こ
れにより、レーザビームBのスポットはジグザグ状に振
動し、溶接対象物の間のギャップの左右で均等な加熱を
行うことができる。
Description
【0001】
本考案は、レーザ溶接用の加工ノズル等から出射するレーザビームの集光位置 を振動させるためのレーザビームオッシレータ装置に関する。
【0002】
従来より、レーザ加工の分野では、エネルギー密度を高めるために加工対象物 の表面にレーザビームを集光させる技術が重要である。しかしながら、レーザ溶 接の分野では、一定距離のギャップを隔てて対向する2つの加工対象物のそれぞ れの溶接面に同時にレーザビームを照射しなければならないため、集光したレー ザビームを用いることができない。なぜなら、集光したレーザビームを用いると 、集光位置が僅かに変動しても2つの溶接面に均等にレーザビームを照射するこ とができなくなり、ギャップの左右で溶接面の溶融の程度が異なってしまうから である。そのため、強固な溶接を行うことができない。
【0003】 そこで、多少の集光位置の変動が生じても溶接を行うことができるように、レ ーザビームの溶接対象物の上面に於けるレーザビームスポットを大きくすること が行われている。しかしながら、このようにレーザビームスポットを大きくする と、レーザビームスポットのエネルギー密度が低下するため、ギャップの深い部 分に位置する溶接面下部を溶融させるためにレーザビームスポットの移動速度を 低下させざるを得なくなり、生産性が低下してしまう。
【0004】 そこで、図7に示すようなレーザビームスピニング装置が従来より使用されて いる(溶接学会,溶接法研究委員会第132回資料No.3−4−91,レーザ ビームウィーバの基礎検討,新明和工業株式会社)。この装置では、入射したレ ーザビームBは反射鏡71によって反射され、更に凹面鏡72で反射される。凹 面鏡72からの反射レーザビームBは、平面透過板73を透過して集光位置Pに 集光する。平面透過板73は光軸Xに対して所定の傾斜角度を成すように回転支 持体74によって支持されている。また、回転支持体74の下部は筒体75に接 続されており、筒体75は上下に配されたベアリング76,76を介してノズル 基体80に回転可能に支持されている。また、筒体75の下端部にはプーリ79 が取り付けられており、筒体75はこのプーリ79及びベルト77を介してモー タ78によって回転駆動される。
【0005】 このレーザビームスピニング装置では、モータ78によって回転駆動される平 面透過板73の回転に伴ってレーザビームBの集光位置Pが光軸Xの回りに回転 する。即ち、図8(a)及び(b)に示すように、所定の厚さの平面透過板73 は光軸Xに対して直角ではなく所定の傾斜角度αを以て配されているので、この 平面透過板73にレーザビームBが入射すると、屈折作用によって光軸Xから外 れることになる。そして、平面透過板73が回転すると、それに伴ってレーザー ビームBが光軸Xの回りに回転する。図8(c)は光軸Xの回りに回転するレー ザービームBの集光位置Pの軌跡を表している。このようにレーザビームBの集 光位置Pを回転させることにより、エネルギー密度を低下させることなく、ギャ ップの両側に位置する2つの溶接面にほぼ均等にレーザビームを照射することが できる。
【0006】
ところが、溶接用加工ノズルを一定方向に移動させながらレーザービームBの 集光位置Pを回転させると、図8(c)に示すように、その軌跡は中心線Cに関 して非対称となる。即ち、平面透過板73が一回転することにより、集光位置P が中心線Cの右側で描く弧の中心線C方向の移動距離Rが、中心線Cの左側で描 く弧の中心線C方向の移動距離Lに比較して短くなる。従って、溶接すべき面の 右側ではレーザビームスポットの移動速度が遅いため、ギャップの深い位置まで 溶接対象物が溶融される。これに対して、溶接すべき面の左側ではレーザビーム スポットの移動速度が早いため、ギャップの深い位置まで溶接対象物が溶融され ない。そのため、レーザビームスポットの移動速度を溶接すべき面の左側に合わ せて設定しなければならず、溶接速度がこれによって制限されてしまう。
【0007】 本考案はこのような従来の問題点を解決するために為されたものであり、本考 案の目的は、ギャップの左右で均等な溶融を行うことができるレーザビームオッ シレータ装置を提供することである。
【0008】
上記目的を達成するため、本考案は以下の解決手段を講じたものである。即ち 、第1の考案に係るレーザビームオッシレータ装置は、ノズル先端部に集光する レーザビームの集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置であって、 前記レーザビームの光路上に配され該レーザビームの光軸に対し所定の傾斜角度 を維持しながら前記光軸を中心として回転する第1平面透光板と、前記光軸に対 し前記第1平面透光板と同じ傾斜角度を維持しながら前記第1平面透光板とは逆 方向に回転する第2平面透光板と、これらの平面透光板を同周期で回転させる回 転駆動手段とを備えたことを特徴とする。
【0009】 第2の考案に係るレーザビームオッシレータ装置は、ノズル先端部に集光する レーザビームの集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置であって、 略平行なレーザビームの光軸に対し所定の傾斜角度を維持しながら前記光軸を中 心として回転する第1集光レンズと、前記光軸に対し前記第1集光レンズと同じ 傾斜角度を維持しながら前記第1集光レンズとは逆方向に回転する第2集光レン ズとこれらの集光レンズを同周期で回転させる回転駆動手段とを備えたことを特 徴とする。
【0010】 第3の考案に係るレーザビームオッシレータ装置は、ノズル先端部に集光する レーザビームの集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置であって、 前記レーザビームの光路上に於いて該レーザビームの光軸に対して所定の傾斜角 度を以て配された平面反射鏡と、所定の点を支点として前記平面反射鏡の前記傾 斜角度を所定の範囲内で周期的に変化させる振動手段とを備えたことを特徴とす る。
【0011】 第4の考案に係るレーザビームオッシレータ装置は、ノズル先端部に集光する レーザビームの集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置であって、 略平行なレーザビームを前記集光位置に集光させる凹面鏡と、所定の点を支点と して前記凹面鏡を所定の角度の範囲内で周期的に変化させる振動手段とを備えた ことを特徴とする。
【0012】 第5の考案に係るレーザビームオッシレータ装置は、ノズル先端部に集光する レーザビームの集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置であって、 略平行なレーザビームの光軸上に直角に配された集光レンズと、該集光レンズを 前記光軸に対し直角方向に所定の振幅を以て振動させる振動手段とを備えたこと を特徴とする。
【0013】
上記第1〜第5の考案に係るレーザビームオッシレータ装置は、溶接等に用い られるレーザ加工用のノズル先端部に集光するレーザビームの集光位置を振動さ せるものである。上記第1の考案の作用について図2を参照しながら説明する。
【0014】 図2(a)に示すように、第1の考案ではレーザ光を透過させるZnSe、Ga As等からなる第1平面透光板1及び第2平面透光板2がレーザビームの光路上 に配され、これらの平面透光板は、レーザビームの光軸Xに対して所定の傾斜角 度α(レーザビームの光軸と平面透光板の垂線との成す角度)を以て配されてい る。そして、第1平面透光板1及び第2平面透光板2は互いに逆方向に且つ同じ 周期で光軸Xを中心として回転している。なお、本考案のレーザビームオッシレ ータ装置は、集光位置Pにレーザビームを集光させるための集光光学系を通過す る前及び通過した後の何れの位置にも設置し得るものである。
【0015】 図2(a)に示すように、レーザビームBが互いに平行な第1平面透光板1及 び第2平面透光板2に入射すると、第1平面透光板1の屈折作用により、レーザ ビームBは光軸Xから所定の距離eだけ偏心する。次いで第2平面透光板2の屈 折作用により、レーザビームBは更に光軸Xから距離eだけ偏心する。従って、 2枚の平面透光板1,2を透過することにより、レーザビームBは光軸Xから距 離2eだけ偏心することになる。
【0016】 次に、図2(b)に示すように、互いに2αの角度を成している第1平面透光 板1及び第2平面透光板2にレーザビームBが入射すると、上述の場合と同様に 、第1平面透光板1の屈折作用によって距離eだけ偏心する。距離eだけ偏心し たレーザビームBは、次に第2平面透光板2の屈折作用により、第1平面透光板 1の場合とは逆方向に距離eだけ偏心する。従って、2枚の平面透光板2を透過 することにより、レーザビームBは光軸X上に戻されることになる。
【0017】 更に、図2(c)に示すように、図2(a)の場合とは逆向きに第1平面透光 板1及び第2平面透光板2が平行となると、レーザビームBは図2(a)の場合 とは逆方向に、即ち距離−2eだけ偏心する。
【0018】 第1平面透光板1及び第2平面透光板2が互いに平行な状態と互いに2αの角 度を成している状態の間の中間の状態では、レーザビームBの集光位置Pは上記 の距離±2eの位置を結ぶ直線上に位置する。従って、第1平面透光板1及び第 2平面透光板2が互いに逆方向に回転しながら溶接面に沿って移動することによ り、図2(d)に示すように振幅4eのジグザグの軌跡を描いて振動する。
【0019】 このように本考案では、レーザビームBの集光位置Pが左右に同じ形状の軌跡 を描いて移動するので、一定距離のギャップを隔てて対向する溶接面を均等に加 熱することができる。
【0020】 なお、レーザビームBの光軸Xからの偏心距離eは、平面透光板の屈折率、平 面透光板の厚さ及び平面透光板の傾斜角度αを変えることにより変化させること ができる。
【0021】 上記第2の考案は、上記第1の考案に於ける第1平面透光板及び第2平面透光 板に代えて、それぞれ第1集光レンズ及び第2集光レンズを用いたものであり、 これらのレンズによってレーザビームを集光位置に集光させるものである。これ らの集光レンズも、レーザビームの光軸Xに対して所定の傾斜角度α(レーザビ ームの光軸と集光レンズの光軸との成す角度)を以て配され、互いに逆方向に且 つ同じ周期で光軸を中心として回転している。本考案のレーザビームオッシレー タ装置に於いても、前述の図2の説明と同様に、レーザビームは図2(d)に示 すようにジグザグの軌跡を描いて振動する。従って、ギャップの両側の溶接面を 均等に加熱することができる。
【0022】 上記第3の考案は、レーザビームの光軸に対して所定の傾斜角度を以て平面反 射鏡を設け、この平面反射鏡を所定の点で支持し、この点を支点としてこの平面 反射鏡の傾斜角度を所定の範囲内で周期的に変化させるものである。この構成に より、レーザビームの集光位置はジグザグの軌跡を描いて振動する。従って、ギ ャップの両側の溶接面を均等に加熱することができる。
【0023】 上記第4の考案は、レーザビームを集光位置に集光させる凹面鏡を設け、この 凹面鏡を所定の点で支持し、この点を支点としてこの凹面鏡を所定の角度の範囲 内で周期的に振動させるものである。この構成により、レーザビームの集光位置 はジグザグの軌跡を描いて振動する。従って、ギャップの両側の溶接面を均等に 加熱することができる。
【0024】 上記第5の考案は、レーザビームを集光位置に集光させる集光レンズをレーザ ビームの光軸上に直角に配し、この集光レンズを光軸に直角な方向に所定の振幅 を以て振動させるものである。この構成により、レーザビームの集光位置はジグ ザグの軌跡を描いて振動する。従って、ギャップを隔てて対向する2つの溶接面 を均等に加熱することができる。
【0025】
以下、本考案の実施例を図面に基づいてより詳細に説明する。
【0026】 本考案の第1の実施例に係るレーザビームオッシレータ装置を備えたレーザ溶 接用ノズルの断面構成を図1に示す。このレーザ溶接用ノズルでは、同図に示す ように、入射するレーザビームBはノズル基体20内の平面鏡11によって反射 され、凹面鏡12に入射する。凹面鏡12はこの入射レーザビームBを反射させ て集光位置Pに集光させる。
【0027】 本実施例では、ノズル基体20内の凹面鏡12から集光位置Pに至る光路上に 、ZnSeからなる第1平面透光板1と第2平面透光板2とが設けられている。
【0028】 第1平面透光板1はレーザビームBの光軸Xに対して傾斜角度αを成すように設 けられ、第1平面透光板1の周辺部は第1回転支持体3によって支持されている 。第1回転支持体3はベアリング16によってノズル基体20に回転可能に支持 され、第1回転支持体3の下方には第1傘歯車5が取り付けられている。第1傘 歯車5の中央部にはレーザビームBが通過し得るように穴が設けられている。第 1回転支持体3の回転により、第1平面透光板1は光軸Xに対して一定の傾斜角 度αを維持しながら回転することができる。
【0029】 同様に、第2平面透光板2もレーザビームBの光軸Xに対して傾斜角度αを成 すように設けられ、第2平面透光板2の周辺部は第2回転支持体4によって支持 されている。第2回転支持体4の先端には溶接ノズル15が取り付けられている 。また、第2回転支持体4はベアリング16によってノズル基体20に回転可能 に支持され、第2回転支持体4の上方には第2傘歯車6が取り付けられている。
【0030】 第1傘歯車5の歯数と第2傘歯車6の歯数とは同じである。第2傘歯車6の中央 部には、前述の第1傘歯車5の場合と同様に、レーザビームBが通過し得るよう に穴が設けられている。第2回転支持体4の回転により、第2平面透光板2は光 軸Xに対して一定の傾斜角度αを維持しながら回転することができる。
【0031】 第1傘歯車5及び第2傘歯車6は共に駆動傘歯車8に噛合しており、駆動傘歯 車8は駆動モータ9によって駆動される。従って、駆動モータ9による駆動傘歯 車8の回転駆動により、第1傘歯車5及び第2傘歯車6は互いに逆向きに回転し 、その回転周期は同じとなる。これにより、第1平面透光板1と第2平面透光板 2とは同じ傾斜角度αを維持しながら、互いに逆向きに同じ周期で回転すること ができる。
【0032】 本実施例のレーザビームオッシレータ装置は以下のように機能する。即ち、凹 面鏡12で反射されて集光位置Pに向かうレーザビームBは、第1平面透光板1 に入射し、次いで第2平面透光板2に入射する。第1平面透光板1及び第2平面 透光板2は光軸Xに対し傾斜角度αを以て設けられているので、第1平面透光板 1と第2平面透光板2とが平行となった場合には、前述の図2(a)及び(c) に示すように、入射したレーザビームBは第1平面透光板1及び第2平面透光板 2の屈折作用により、光軸Xから距離±2eだけ偏心する。また、図2(b)に 示すように、第1平面透光板1及び第2平面透光板2が互いに2αの角度を成し ている場合には、第1平面透光板1の屈折作用によって距離eだけ偏心したレー ザビームBは、第2平面透光板2の屈折作用により光軸X上に戻されることにな る。従って、偏心距離は0となる。第1平面透光板1及び第2平面透光板2が互 いに平行な状態と互いに2αの角度を成している状態の中間の状態では、レーザ ビームは上記の距離±2eの位置とを結ぶ直線上に位置することになる。従って 、第1平面透光板1及び第2平面透光板2が互いに逆方向に回転しながら溶接面 に沿って移動すると、レーザビームBの集光位置Pは、図2(d)に示すように 振幅4eのジグザグの軌跡を描いて振動する。なお、本実施例に於ける溶接の進 行方向は、図2(a)〜(c)の紙面の裏面側から表面側に向かう方向、又はそ の逆の方向である。紙面の左右の方向に集光位置Pを移動させる場合には、溶接 の進行方向と集光位置Pの振動方向とが一致してしまうため、第1平面透光板1 に対する第2平面透光板2の回転周期の位相を90゜早めるか又は遅らせる必要 がある。
【0033】 本実施例では、図2(d)に示すように、レーザビームBの集光位置Pが左右 に同じ形状の軌跡を描いて移動するので、一定距離のギャップを隔てて対向する 2つの溶接面を均等に加熱することができる。従って、前述の従来例のようにギ ャップの左右の面のうちの溶融速度の遅い方の面に合わせて溶接速度を設定する 必要はなくなり、溶接速度を向上させることが可能となる。
【0034】 なお、本実施例では1つの駆動傘歯車8、1つの駆動モータ9を用いて第1平 面透光板1及び第2平面透光板2を回転させたが、第1平面透光板1及び第2平 面透光板2にそれぞれ独立に駆動装置を設けてもよい。その場合には、第1平面 透光板1及び第2平面透光板2の回転数が等しくなるように同期させる必要があ る。
【0035】 本考案の第2の実施例に係るレーザビームオッシレータ装置を備えたレーザ溶 接用ノズルの断面構成を図3に示す。本実施例のレーザビームオッシレータ装置 は、前述の第1の実施例(図1)に於ける凹面鏡12に代えて平面鏡32を用い 、第1平面透光板1及び第2平面透光板2に代えて、それぞれ第1集光レンズ2 1及び第2集光レンズ22を用いたものである。これらの点を除けば本実施例の 構成は前述の第1の実施例と同様であり、対応する部分には同じ符号を付してあ る。
【0036】 本実施例に於いては、第1集光レンズ21及び第2集光レンズ22は、第1の 実施例に於ける凹面鏡12の機能を果たすと共に、第1平面透光板1及び第2平 面透光板2の機能をも果たしている。従って、本実施例に於いてもレーザビーム の集光位置Pは図2(d)に示すようにジグザグの軌跡を描いて振動する。
【0037】 本実施例の第3の実施例に係るレーザビームオッシレータ装置を備えたレーザ 溶接用ノズルの断面構成を図4に示す。本実施例のレーザビームオッシレータ装 置は、前述の第2の実施例に於ける第1集光レンズ21及び第2集光レンズ22 に代えて、固定部材49によって固定された単一の固定集光レンズ40を有し、 固定された平面鏡32に代えて振動平面鏡42を有している。振動平面鏡42は バネ45及び取付板48を介してノズル基体20に取り付けられると共に、振動 平面鏡42の一端は支点43によって支持され、他端には永久磁石44が取り付 けられている。また、取付板48には電磁石46が取り付けられており、その一 方の磁極47が永久磁石44に対向している。以上の点を除けば本実施例は前述 の第2の実施例と同様であり、対応する部分には同じ符号を付してある。
【0038】 本実施例では電磁石46の磁極47の極性が周期的に変化することにより、磁 極47と永久磁石44との間の距離が支点43を支点として変化し、振動平面鏡 42が所定の振幅で振動する。これにより、レーザビームBの集光位置Pが図2 (d)に示すようにジグザグの軌跡を描いて振動することになる。
【0039】 本実施例の第4の実施例に係るレーザビームオッシレータ装置を備えたレーザ 溶接用ノズルの断面構成を図5に示す。本実施例のレーザビームオッシレータ装 置は、前述の第3の実施例に於ける振動平面鏡42に代えて振動凹面鏡52を用 い、固定集光レンズ40を用いていない。これらの点を除けば、前述の第3の実 施例と同様であり、対応する部分には同じ符号を付してある。
【0040】 本実施例に於いても磁極47の極性の周期的な変化により、振動凹面鏡52が 所定の振幅で振動する。これにより、レーザビームBの集光位置Pが図2(d) に示すようにジグザグの軌跡を描いて振動する。
【0041】 本実施例の第5の実施例に係るレーザビームオッシレータ装置を備えたレーザ 溶接用ノズルの断面構成を図6に示す。本実施例のレーザビームオッシレータ装 置は、前述の第2の実施例(図3)に於ける第1集光レンズ21及び第2集光レ ンズ22に代えて振動集光レンズ61を用いたものである。振動集光レンズ61 の一端には固定部材62が固定され、固定部材62はバネ65及び取付板68を 介してノズル基体20に振動可能に取り付けられている。また、振動集光レンズ 61の他端には永久磁石64が取り付けられており、永久磁石64には電磁石6 6の磁極67が対向している。
【0042】 本実施例では、電磁石66の磁極67の極性が周期的に変化することにより、 磁極67と永久磁石64との間の距離が変化し、振動集光レンズ61が所定の振 幅で光軸Xに直角の方向に振動する。これにより、レーザビームBの集光位置P が図2(d)に示すようにジグザグの軌跡を描いて振動することになる。
【0043】 なお、上記第3〜第5の実施例では、振動手段として永久磁石及び電磁石を用 いたが、本考案はこれに限定されるものではなく、他の周知の手段を用いること も可能であることは言うまでもない。
【0044】
本考案に係るレーザビームオッシレータ装置を用いれば、ノズル先端部に集光 するレーザビームの集光位置の軌跡をジグザグ状とすることができ、溶接すべき 対称物のギャップの左右の溶接面を均等に溶融させることが可能となる。従って 、従来のようにギャップの左右の溶接面のうちの溶融速度が遅い方の面に合わせ て溶接速度を設定する必要はなくなり、溶接速度を図ることが可能となる。従っ て、本考案のレーザビームオッシレータ装置を用いることにより、溶接の作業効 率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の第1の実施例に係るレーザビームオッ
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
【図2】(a)、(b)及び(c)は本考案のレーザビ
ームオッシレータ装置に於けるレーザビームを偏心させ
る原理の説明図、(d)はレーザビームの集光位置の軌
跡を示す図である。
ームオッシレータ装置に於けるレーザビームを偏心させ
る原理の説明図、(d)はレーザビームの集光位置の軌
跡を示す図である。
【図3】本考案の第2の実施例に係るレーザビームオッ
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
【図4】本考案の第3の実施例に係るレーザビームオッ
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
【図5】本考案の第4の実施例に係るレーザビームオッ
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
【図6】本考案の第5の実施例に係るレーザビームオッ
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
シレータ装置を備えたレーザ溶接用ノズルの断面図であ
る。
【図7】従来のレーザビームスピニング装置を備えたレ
ーザ溶接用ノズルの断面図である。
ーザ溶接用ノズルの断面図である。
【図8】(a)及び(b)は図7のレーザビームスピニ
ング装置に於けるレーザビームを偏心させる原理の説明
図、(c)はレーザビームの集光位置の軌跡を示す図で
ある。
ング装置に於けるレーザビームを偏心させる原理の説明
図、(c)はレーザビームの集光位置の軌跡を示す図で
ある。
1…第1平面透光板 2…第2平面透光板 3…第1回転支持体 4…第2回転支持体 5…第1傘歯車 6…第2傘歯車 8…駆動傘歯車 9…駆動モータ 11…平面鏡 12…凹面鏡 16…ベアリング 20…ノズル基体 21…第1集光レンズ 22…第2集光レンズ 32…平面鏡 40…固定集光レンズ 42…振動平面鏡 45,65…バネ 43,63…支点 44,64…永久磁石 46,66…電磁石 47,67…磁極 52…振動凹面鏡 61…振動集光レンズ P…集光位置 X…光軸 B…レーザビーム α…傾斜角度
Claims (5)
- 【請求項1】 ノズル先端部に集光するレーザビームの
集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置で
あって、 前記レーザビームの光路上に配され該レーザビームの光
軸に対し所定の傾斜角度を維持しながら前記光軸を中心
として回転する第1平面透光板と、 前記光軸に対し前記第1平面透光板と同じ傾斜角度を維
持しながら前記第1平面透光板とは逆方向に回転する第
2平面透光板と、 これらの平面透光板を同周期で回転させる回転駆動手段
とを備えたことを特徴とするレーザビームオッシレータ
装置。 - 【請求項2】 ノズル先端部に集光するレーザビームの
集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置で
あって、 略平行なレーザビームの光軸に対し所定の傾斜角度を維
持しながら前記光軸を中心として回転する第1集光レン
ズと、 前記光軸に対し前記第1集光レンズと同じ傾斜角度を維
持しながら前記第1集光レンズとは逆方向に回転する第
2集光レンズとこれらの集光レンズを同周期で回転させ
る回転駆動手段とを備えたことを特徴とするレーザビー
ムオッシレータ装置。 - 【請求項3】 ノズル先端部に集光するレーザビームの
集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置で
あって、 前記レーザビームの光路上に於いて該レーザビームの光
軸に対して所定の傾斜角度を以て配された平面反射鏡
と、 所定の点を支点として前記平面反射鏡の前記傾斜角度を
所定の範囲内で周期的に変化させる振動手段とを備えた
ことを特徴とするレーザビームオッシレータ装置。 - 【請求項4】 ノズル先端部に集光するレーザビームの
集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置で
あって、 略平行なレーザビームを前記集光位置に集光させる凹面
鏡と、 所定の点を支点として前記凹面鏡を所定の角度の範囲内
で周期的に変化させる振動手段とを備えたことを特徴と
するレーザビームオッシレータ装置。 - 【請求項5】 ノズル先端部に集光するレーザビームの
集光位置を振動させるレーザビームオッシレータ装置で
あって、 略平行なレーザビームの光軸上に直角に配された集光レ
ンズと、 該集光レンズを前記光軸に対し直角方向に所定の振幅を
以て振動させる振動手段とを備えたことを特徴とするレ
ーザビームオッシレータ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP011499U JPH0669928U (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | レーザビームオッシレータ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP011499U JPH0669928U (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | レーザビームオッシレータ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0669928U true JPH0669928U (ja) | 1994-09-30 |
Family
ID=11779722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP011499U Pending JPH0669928U (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | レーザビームオッシレータ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0669928U (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10328870A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-15 | Amada Eng Center:Kk | レーザー切断方法および同切断方法に使用するレーザー加工ヘッド |
JPH11156579A (ja) * | 1996-11-15 | 1999-06-15 | Amada Co Ltd | レーザー切断方法、レーザーピアス方法、レーザー溶接方法、およびレーザー加飾方法並びに前記各方法に使用するレーザー加工ヘッド |
WO2017043042A1 (ja) * | 2015-09-08 | 2017-03-16 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レーザ加工ヘッドおよびその原点校正方法 |
WO2018074105A1 (ja) * | 2016-10-17 | 2018-04-26 | 株式会社ブイ・テクノロジー | レーザ照射装置及びそれを用いたレーザリフトオフ装置 |
CN112475626A (zh) * | 2020-11-10 | 2021-03-12 | 广州澳沃司照明电器有限公司 | 一种智能制造用激光切割机构 |
CN115055812A (zh) * | 2022-07-28 | 2022-09-16 | 岗春激光科技(江苏)有限公司 | 一种镜座装置及激光加工头 |
-
1993
- 1993-03-16 JP JP011499U patent/JPH0669928U/ja active Pending
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CN107708915A (zh) * | 2015-09-08 | 2018-02-16 | 松下知识产权经营株式会社 | 激光加工头及其原点校正方法 |
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