JPH065577A - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
- Publication number
- JPH065577A JPH065577A JP18186392A JP18186392A JPH065577A JP H065577 A JPH065577 A JP H065577A JP 18186392 A JP18186392 A JP 18186392A JP 18186392 A JP18186392 A JP 18186392A JP H065577 A JPH065577 A JP H065577A
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- cleaning
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄ブラシ自身の汚染による経時劣化を防止
する。 【構成】 オーバーフロー槽１内の洗浄液１１に超音波
発振器７による超音波を作用させ、この洗浄液中で基板
１２を回転ブラシ部５の洗浄ブラシ６により洗浄し、洗
浄ブラシ６の汚染を防止する。
する。 【構成】 オーバーフロー槽１内の洗浄液１１に超音波
発振器７による超音波を作用させ、この洗浄液中で基板
１２を回転ブラシ部５の洗浄ブラシ６により洗浄し、洗
浄ブラシ６の汚染を防止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板洗浄装置に関し、特
に枚葉処理方式によるブラシ洗浄装置に関する。
に枚葉処理方式によるブラシ洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の基板洗浄装置は図２に示すよう
に、洗浄液１１の受槽１３の上開口部に被洗浄物である
基板１２の両端を支持する搬送ローラ４が直線上に所定
のピッチで配列され、パスラインを構成している。
に、洗浄液１１の受槽１３の上開口部に被洗浄物である
基板１２の両端を支持する搬送ローラ４が直線上に所定
のピッチで配列され、パスラインを構成している。
【０００３】このパスラインに直交して対向する１組の
回転ブラシ部５が受槽１３のほぼ中央部に配設され、さ
らに、受槽１３の下部には貯液タンク８を有し、両者
は、互いに配管接続されている。
回転ブラシ部５が受槽１３のほぼ中央部に配設され、さ
らに、受槽１３の下部には貯液タンク８を有し、両者
は、互いに配管接続されている。
【０００４】また、洗浄ブラシ６の先端近傍に洗浄液１
１を供給するためのスプレーノズル１４が回転ブラシ部
５と同様にパスラインに対向して配設されている。
１を供給するためのスプレーノズル１４が回転ブラシ部
５と同様にパスラインに対向して配設されている。
【０００５】なお、スプレーノズル１４と貯液タンク８
とは、循環ポンプ９とフィルター１０を中継して配管接
続されている。
とは、循環ポンプ９とフィルター１０を中継して配管接
続されている。
【０００６】次に洗浄動作について説明する。図１に示
すように基板１２は、搬送ローラ４によりパスラインに
沿って右方向に搬送されながら、回転ブラシ部５の先端
部に装着された洗浄ブラシ６によって基板１２の表・裏
面が同時にスクラブ洗浄される。
すように基板１２は、搬送ローラ４によりパスラインに
沿って右方向に搬送されながら、回転ブラシ部５の先端
部に装着された洗浄ブラシ６によって基板１２の表・裏
面が同時にスクラブ洗浄される。
【０００７】このとき、洗浄液１１は循環ポンプ９の圧
力によりスプレーノズル１４の口より洗浄ブラシ６の先
端近傍に供給される。
力によりスプレーノズル１４の口より洗浄ブラシ６の先
端近傍に供給される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この従来の基板洗浄装
置では、洗浄処理時間の経過に伴って、基板の表面から
除去した粒子等の不純物がブラシの内部に入り込み、徐
々にブラシ自身が汚染されるという現象が発生する。
置では、洗浄処理時間の経過に伴って、基板の表面から
除去した粒子等の不純物がブラシの内部に入り込み、徐
々にブラシ自身が汚染されるという現象が発生する。
【０００９】そのために基板の表面が汚染されたブラシ
により擦られる結果となり、洗浄能力が著しく低下する
という品質面での問題点があった。
により擦られる結果となり、洗浄能力が著しく低下する
という品質面での問題点があった。
【００１０】さらに、頻繁にブラシを交換するための多
大な工数が発生するという問題点があった。
大な工数が発生するという問題点があった。
【００１１】本発明の目的は、ブラシ自身の汚染による
経時劣化を防止した基板洗浄装置を提供することにあ
る。
経時劣化を防止した基板洗浄装置を提供することにあ
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る基板洗浄装置は、オーバーフロー槽
と、シャッター部と、搬送部と、超音波発振部と、回転
ブラシ部とを有する基板洗浄装置であって、オーバーフ
ロー槽は、洗浄液を収容し、対向する側面の上縁付近に
基板の搬出入を行うためのスリット形状の開口部を有す
るものであり、シャッター部は、前記開口部に設けら
れ、基板の搬出入により開閉するものであり、搬送部
は、オーバーフロー槽の開口部間に基板を洗浄液に浸漬
して搬送するものであり、超音波発振部は、オーバーフ
ロー槽の洗浄液に超音波を作用するものであり、回転ブ
ラシ部は、前記オーバーフロー槽の洗浄液中で基板を洗
浄ブラシにより洗浄するものである。
め、本発明に係る基板洗浄装置は、オーバーフロー槽
と、シャッター部と、搬送部と、超音波発振部と、回転
ブラシ部とを有する基板洗浄装置であって、オーバーフ
ロー槽は、洗浄液を収容し、対向する側面の上縁付近に
基板の搬出入を行うためのスリット形状の開口部を有す
るものであり、シャッター部は、前記開口部に設けら
れ、基板の搬出入により開閉するものであり、搬送部
は、オーバーフロー槽の開口部間に基板を洗浄液に浸漬
して搬送するものであり、超音波発振部は、オーバーフ
ロー槽の洗浄液に超音波を作用するものであり、回転ブ
ラシ部は、前記オーバーフロー槽の洗浄液中で基板を洗
浄ブラシにより洗浄するものである。
【００１３】
【作用】洗浄ブラシを常時洗浄液中に浸漬させ、洗浄ブ
ラシを超音波洗浄することによりブラシ自身による汚染
を防止する。
ラシを超音波洗浄することによりブラシ自身による汚染
を防止する。
【００１４】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の一実施例を示す断面図である。
る。図１は本発明の一実施例を示す断面図である。
【００１５】図１において、洗浄液１１のオーバーフロ
ー槽１は、対向する側面の上部に基板１２を搬出入する
ためのスリット形状の開口部２と、開口部２に隣接して
基板１２の通過に同期して自重にて上下するロール形状
のシャッター部３と、槽１の底部に配置した超音波発振
器７とを有している。
ー槽１は、対向する側面の上部に基板１２を搬出入する
ためのスリット形状の開口部２と、開口部２に隣接して
基板１２の通過に同期して自重にて上下するロール形状
のシャッター部３と、槽１の底部に配置した超音波発振
器７とを有している。
【００１６】基板１２の搬送部としては、オーバーフロ
ー槽１の対向する開口部２を結ぶ直線上に基板１２の両
端を支持する搬送ローラ４を所定のピッチで配列して、
基板１２のパスラインを構成する。
ー槽１の対向する開口部２を結ぶ直線上に基板１２の両
端を支持する搬送ローラ４を所定のピッチで配列して、
基板１２のパスラインを構成する。
【００１７】回転ブラシ部５は、先端部に装着した洗浄
ブラシ６を下にして基板１２のパスラインに直交してオ
ーバーフロー槽１のほぼ中央部に配設する。
ブラシ６を下にして基板１２のパスラインに直交してオ
ーバーフロー槽１のほぼ中央部に配設する。
【００１８】オーバーフロー槽１の下部には貯液タンク
８を配置し、オーバーフロー槽１と貯液タンク８とは、
洗浄液１１の回収系の配管系及び循環ポンプ９やフィル
ター１０等を有する供給系の配管にて連結され循環シス
テムを構成している。
８を配置し、オーバーフロー槽１と貯液タンク８とは、
洗浄液１１の回収系の配管系及び循環ポンプ９やフィル
ター１０等を有する供給系の配管にて連結され循環シス
テムを構成している。
【００１９】次に洗浄動作について説明すると、基板１
２は、搬送ローラ４によりパスラインに沿って右方向に
搬送され、シャッター部３及び開口部２を経由してオー
バーフロー槽１の液中に搬送されて回転ブラシ部５の洗
浄ブラシ６によって基板１２の表面がスクラブ洗浄され
る。
２は、搬送ローラ４によりパスラインに沿って右方向に
搬送され、シャッター部３及び開口部２を経由してオー
バーフロー槽１の液中に搬送されて回転ブラシ部５の洗
浄ブラシ６によって基板１２の表面がスクラブ洗浄され
る。
【００２０】また基板１２の裏面及び洗浄ブラシ６は、
超音波発振器７による超音波作用（即ち、発振周波数が
２０〜４０ＫＨＺ帯の場合にはキャビテーション作用，
１ＭＨＺ帯近傍では振動加速度作用）によって洗浄され
る。
超音波発振器７による超音波作用（即ち、発振周波数が
２０〜４０ＫＨＺ帯の場合にはキャビテーション作用，
１ＭＨＺ帯近傍では振動加速度作用）によって洗浄され
る。
【００２１】尚、オーバーフロー槽１からオーバーフロ
ーした洗浄液は、貯液タンク８内に回収される。貯液タ
ンク８内の洗浄液は、循環ポンプ９にて供給され、フィ
ルター１０を通過して濾過されオーバーフロー槽１内に
補給される。
ーした洗浄液は、貯液タンク８内に回収される。貯液タ
ンク８内の洗浄液は、循環ポンプ９にて供給され、フィ
ルター１０を通過して濾過されオーバーフロー槽１内に
補給される。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、洗浄ブラ
シを常時オーバーフローしている洗浄液の中に浸漬した
状態で超音波発振器の超音波作用により洗浄する構成と
したので、洗浄処理時間の経過に伴う洗浄ブラシ自身の
汚染による洗浄能力の低下を防止することができ、従来
に比べて品質面での向上を図ることができる。
シを常時オーバーフローしている洗浄液の中に浸漬した
状態で超音波発振器の超音波作用により洗浄する構成と
したので、洗浄処理時間の経過に伴う洗浄ブラシ自身の
汚染による洗浄能力の低下を防止することができ、従来
に比べて品質面での向上を図ることができる。
【００２３】さらに、洗浄ブラシの交換頻度が少なくな
り、工数の削減を図ることができるという効果を有す
る。
り、工数の削減を図ることができるという効果を有す
る。
【図１】本発明の一実施例を示す断面図である。
【図２】従来の基板洗浄装置を示す断面図である。
１ オーバーフロー槽 ２ 開口部 ３ シャッター部 ４ 搬送ローラ ５ 回転ブラシ部 ６ 洗浄ブラシ ７ 超音波発振器 ８ 貯液タンク ９ 循環ポンプ １０ フィルター １１ 洗浄液 １２ 基板 １３ 受槽 １４ スプレーノズル
Claims (1)
- 【請求項１】 オーバーフロー槽と、シャッター部と、
搬送部と、超音波発振部と、回転ブラシ部とを有する基
板洗浄装置であって、 オーバーフロー槽は、洗浄液を収容し、対向する側面の
上縁付近に基板の搬出入を行うためのスリット形状の開
口部を有するものであり、 シャッター部は、前記開口部に設けられ、基板の搬出入
により開閉するものであり、 搬送部は、オーバーフロー槽の開口部間に基板を洗浄液
に浸漬して搬送するものであり、 超音波発振部は、オーバーフロー槽の洗浄液に超音波を
作用するものであり、 回転ブラシ部は、前記オーバーフロー槽の洗浄液中で基
板を洗浄ブラシにより洗浄するものであることを特徴と
する基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18186392A JP2897537B2 (ja) | 1992-06-16 | 1992-06-16 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18186392A JP2897537B2 (ja) | 1992-06-16 | 1992-06-16 | 基板洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH065577A true JPH065577A (ja) | 1994-01-14 |
| JP2897537B2 JP2897537B2 (ja) | 1999-05-31 |
Family
ID=16108161
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18186392A Expired - Lifetime JP2897537B2 (ja) | 1992-06-16 | 1992-06-16 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2897537B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001008200A1 (de) * | 1999-07-21 | 2001-02-01 | Steag Microtech Gmbh | Vorrichtung zum behandeln von substraten |
| US6247198B1 (en) | 1997-12-09 | 2001-06-19 | Tdk Corporation | Cleaning apparatus |
| KR100414540B1 (ko) * | 1999-12-17 | 2004-01-07 | 샤프 가부시키가이샤 | 초음파처리장치 및 이를 사용한 전자부품의 제조방법 |
| WO2004030838A1 (ja) * | 2002-10-07 | 2004-04-15 | Star Cluster Co., Ltd. | 超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法 |
| US6810548B2 (en) | 2000-03-08 | 2004-11-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Cleaning apparatus |
| JP2009070932A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ウェハー洗浄装置およびウェハー洗浄方法 |
| JP2011072918A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Nec Personal Products Co Ltd | 媒体洗浄装置 |
| JP2013101790A (ja) * | 2011-11-08 | 2013-05-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 透明導電性酸化物膜付基板の製造方法 |
| CN104971921A (zh) * | 2014-04-08 | 2015-10-14 | 麒麟电子（深圳）有限公司 | 玻璃基板清洗装置 |
| CN105032835A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-11-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 超声波清洗装置 |
| JP2017000317A (ja) * | 2015-06-08 | 2017-01-05 | サマンサジャパン株式会社 | タイルカーペット洗浄装置 |
| JP6892176B1 (ja) * | 2020-11-19 | 2021-06-23 | 不二越機械工業株式会社 | ワーク洗浄装置 |
-
1992
- 1992-06-16 JP JP18186392A patent/JP2897537B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6247198B1 (en) | 1997-12-09 | 2001-06-19 | Tdk Corporation | Cleaning apparatus |
| US6254688B1 (en) | 1997-12-09 | 2001-07-03 | Tdk Corporation | Cleaning method |
| WO2001008200A1 (de) * | 1999-07-21 | 2001-02-01 | Steag Microtech Gmbh | Vorrichtung zum behandeln von substraten |
| JP2003505881A (ja) * | 1999-07-21 | 2003-02-12 | ステアーグ ミクロテヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板を処理するための装置 |
| JP4651252B2 (ja) * | 1999-07-21 | 2011-03-16 | アイメック | 基板を処理するための装置 |
| KR100414540B1 (ko) * | 1999-12-17 | 2004-01-07 | 샤프 가부시키가이샤 | 초음파처리장치 및 이를 사용한 전자부품의 제조방법 |
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| JP2009070932A (ja) * | 2007-09-12 | 2009-04-02 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ウェハー洗浄装置およびウェハー洗浄方法 |
| JP2011072918A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Nec Personal Products Co Ltd | 媒体洗浄装置 |
| JP2013101790A (ja) * | 2011-11-08 | 2013-05-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 透明導電性酸化物膜付基板の製造方法 |
| CN104971921A (zh) * | 2014-04-08 | 2015-10-14 | 麒麟电子（深圳）有限公司 | 玻璃基板清洗装置 |
| JP2017000317A (ja) * | 2015-06-08 | 2017-01-05 | サマンサジャパン株式会社 | タイルカーペット洗浄装置 |
| CN105032835A (zh) * | 2015-08-19 | 2015-11-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 超声波清洗装置 |
| JP6892176B1 (ja) * | 2020-11-19 | 2021-06-23 | 不二越機械工業株式会社 | ワーク洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2897537B2 (ja) | 1999-05-31 |
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