JPH0645577B2 - 光学活性アミン類の製造方法 - Google Patents
光学活性アミン類の製造方法Info
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- JPH0645577B2 JPH0645577B2 JP2749987A JP2749987A JPH0645577B2 JP H0645577 B2 JPH0645577 B2 JP H0645577B2 JP 2749987 A JP2749987 A JP 2749987A JP 2749987 A JP2749987 A JP 2749987A JP H0645577 B2 JPH0645577 B2 JP H0645577B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は光学活性アミン類の製造方法に関し、詳しくは
一般式(III) （式中、Ｒ６，Ｒ７はアルキル基が置換していることも
あるアリール基、アルキル基が置換していることもある
アラルキル基もしくはアルキル基を表わし同一であるこ
とはない。） で示される光学活性アミン類の製造方法に関するもので
ある。
一般式(III) （式中、Ｒ６，Ｒ７はアルキル基が置換していることも
あるアリール基、アルキル基が置換していることもある
アラルキル基もしくはアルキル基を表わし同一であるこ
とはない。） で示される光学活性アミン類の製造方法に関するもので
ある。
＜従来の技術、発明が解決しようとする問題点＞ 一般式(III)で示される光学活性アミン類は医薬、農薬
あるいはそれらの中間体等の光学分割剤などとして重要
な化合物であり、従来よりラセミ体を一旦製造し、次い
でこれを光学活性な酸等を用いて光学分割することによ
り製造されることも良く知られている （例えばOptical Resolution Procedures for Chemical
Compounds Vol 1）。
あるいはそれらの中間体等の光学分割剤などとして重要
な化合物であり、従来よりラセミ体を一旦製造し、次い
でこれを光学活性な酸等を用いて光学分割することによ
り製造されることも良く知られている （例えばOptical Resolution Procedures for Chemical
Compounds Vol 1）。
光学分割により光学活性アミン類を製造するという従来
法は、一旦ラセミ体を製造し、次いでこれに光学活性な
酸を作用させて塩を形成せしめ、生成したジアステレオ
マー塩の溶解度差を利用して一方のジアステレオマー塩
を晶析させ、次いで該塩を分離し、しかる後にアルカリ
を作用させて該塩を分解することにより一方の対掌体で
ある光学活性アミン類を分解回収するという方法であ
り、操作が繁雑で効率が悪い等の問題があった。
法は、一旦ラセミ体を製造し、次いでこれに光学活性な
酸を作用させて塩を形成せしめ、生成したジアステレオ
マー塩の溶解度差を利用して一方のジアステレオマー塩
を晶析させ、次いで該塩を分離し、しかる後にアルカリ
を作用させて該塩を分解することにより一方の対掌体で
ある光学活性アミン類を分解回収するという方法であ
り、操作が繁雑で効率が悪い等の問題があった。
一方、アセトフェノンの様な非対称ケトンのオキシム類
を不斉還元して光学活性アミンを合成する方法も試みら
れている。例えばJ.Chem.Soc.,Perkin I 1902(1974)に
は光学活性グルコフラノース類と水素化リチウムアルミ
ニウムから得られる不斉還元剤を用いる方法が、J.Che
m.Soc.,Perkin I 2039(1985)には光学活性α，α−ジフ
ェニル−β−アミノアルコール類と水素化ホウ素化合物
から得られる不斉還元剤を用いる方法が報告されてい
る。
を不斉還元して光学活性アミンを合成する方法も試みら
れている。例えばJ.Chem.Soc.,Perkin I 1902(1974)に
は光学活性グルコフラノース類と水素化リチウムアルミ
ニウムから得られる不斉還元剤を用いる方法が、J.Che
m.Soc.,Perkin I 2039(1985)には光学活性α，α−ジフ
ェニル−β−アミノアルコール類と水素化ホウ素化合物
から得られる不斉還元剤を用いる方法が報告されてい
る。
しかしながら前者の方法では光学収率が低いという問
題、後者の方法では不斉助剤すなわち、光学活性α，α
−ジフェニル−β−アミノアルコ−ル類の入手が工業的
に必ずしも容易ではないという問題の他に、ＲおよびＳ
の絶対立体配置を有する光学活性アミンを製造する場合
は、それぞれに対応した絶対立体配置を有する不斉助剤
が必要であると考えられ、ＲおよびＳの２種類の光学活
性α，α−ジフェニル−β−アミノアルコ−ルを常備し
なければならないという問題点を有していた。
題、後者の方法では不斉助剤すなわち、光学活性α，α
−ジフェニル−β−アミノアルコ−ル類の入手が工業的
に必ずしも容易ではないという問題の他に、ＲおよびＳ
の絶対立体配置を有する光学活性アミンを製造する場合
は、それぞれに対応した絶対立体配置を有する不斉助剤
が必要であると考えられ、ＲおよびＳの２種類の光学活
性α，α−ジフェニル−β−アミノアルコ−ルを常備し
なければならないという問題点を有していた。
＜問題を解決するための手段＞ 本発明者らは上記の種々の問題点を解決すべく、非対称
ケトンのオキシム類の不斉還元による光学活性アミンの
製法について鋭意検討を重ねた結果、一般式(I)で示さ
れる光学活性α，α−ジフェニル−β−アミノアルコー
ル類が不斉助剤として有効であり、しかも該化合物は工
業的にも容易に入手でき、さらに該化合物と水素化ホウ
素化合物から得られる還元剤は高い光学収率で容易に光
学活性アミンを与えること等を見い出すとともに、Ｒま
たはＳのうちの一方の不斉助剤を使用して、任意にＲと
Ｓの光学活性アルコールを作り分けることができる方法
を見い出した。
ケトンのオキシム類の不斉還元による光学活性アミンの
製法について鋭意検討を重ねた結果、一般式(I)で示さ
れる光学活性α，α−ジフェニル−β−アミノアルコー
ル類が不斉助剤として有効であり、しかも該化合物は工
業的にも容易に入手でき、さらに該化合物と水素化ホウ
素化合物から得られる還元剤は高い光学収率で容易に光
学活性アミンを与えること等を見い出すとともに、Ｒま
たはＳのうちの一方の不斉助剤を使用して、任意にＲと
Ｓの光学活性アルコールを作り分けることができる方法
を見い出した。
すなわち本発明は一般式(I) （式中、Ｒ１，Ｒ２は水素原子、アルキル基、アルコキ
シル基を、Ｒ３は水素原子またはアルキル基を、Ｒ４は
アルキル基を表わす。） で示される光学活性アミノアルコールと水素化ホウ素化
合物から得られる不斉還元剤を、一般式(II) （式中、Ｒ５はアルキル基、アラルキル基またはアルキ
ル置換シリル基を表わす。Ｒ６，Ｒ７はアルキル基が置
換していることもあるアリール基、アルキル基が置換し
ていることもあるアラルキル基、もしくはアルキル基を
表わし、同一であることはない。） で示されるオキシム誘導体のアンチ体またはシン体の一
方、もしくはそれ等いずれかに富んだ混合物に反応さ
せ、アンチ体またはアンチ体に富んだ混合物からは光学
活性アミノアルコール(I)のアミノ基置換炭素の絶対立
体配置と同一の、シン体またはシン体に富んだ混合物か
ら光学活性アミノアルコール(I)のアミノ基置換炭素の
絶対立体配置とは逆の絶対立体配置を有する一般式(II
I) （式中、Ｒ６，Ｒ７は前記と同じ意味を表わす。） で示される光学活性アミン類の製造方法を提供するもの
である。
シル基を、Ｒ３は水素原子またはアルキル基を、Ｒ４は
アルキル基を表わす。） で示される光学活性アミノアルコールと水素化ホウ素化
合物から得られる不斉還元剤を、一般式(II) （式中、Ｒ５はアルキル基、アラルキル基またはアルキ
ル置換シリル基を表わす。Ｒ６，Ｒ７はアルキル基が置
換していることもあるアリール基、アルキル基が置換し
ていることもあるアラルキル基、もしくはアルキル基を
表わし、同一であることはない。） で示されるオキシム誘導体のアンチ体またはシン体の一
方、もしくはそれ等いずれかに富んだ混合物に反応さ
せ、アンチ体またはアンチ体に富んだ混合物からは光学
活性アミノアルコール(I)のアミノ基置換炭素の絶対立
体配置と同一の、シン体またはシン体に富んだ混合物か
ら光学活性アミノアルコール(I)のアミノ基置換炭素の
絶対立体配置とは逆の絶対立体配置を有する一般式(II
I) （式中、Ｒ６，Ｒ７は前記と同じ意味を表わす。） で示される光学活性アミン類の製造方法を提供するもの
である。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明に用いられる光学活性アミノアルコールは一般式
(I)で示されるものであるが、ベンゼン環における置換
基Ｒ１およびＲ２としては、例えば水素原子、メチル、
エチル、プロピル、プチル、ペンチル、ヘキシル等の低
級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の低級アルコ
キシ基などを挙げることができ、その置換位置は特に限
定されない。
(I)で示されるものであるが、ベンゼン環における置換
基Ｒ１およびＲ２としては、例えば水素原子、メチル、
エチル、プロピル、プチル、ペンチル、ヘキシル等の低
級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等の低級アルコ
キシ基などを挙げることができ、その置換位置は特に限
定されない。
またＲ３としては、例えば水素原子、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキ
ル基を、Ｒ４としては例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基を
例示することができる。より具体的な化合物としては例
えば、光学活性なノルエフェドリン、エフェドリン、 ２−アミノ−１−（２−メチルフェニル）−１−プロパ
ノ−ル ２−アミノ−１−（２−エチルフェニル）−１−プロパ
ノ−ル ２−アミノ−１−（２−メトキシフェニル）−１−プロ
パノ−ル ２−アミノ−１−（２−エトキシフェニル）−１−プロ
パノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメチルフェニル）−１−
プロパノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジエチルフェニル）−１−
プロパノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメトキシフェニル）−１
−プロパノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジエトキシフェニル）−１
−プロパノ−ル ２−アミノ−１−（２−メトキシ−５−メチルフェニ
ル）−１−プロパノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−ブタノ−ル ２−アミノ−１−（２−メチルフェニル）−１−ブタノ
−ル ２−アミノ−１−（２−エチルフェニル）−１−ブタノ
−ル ２−アミノ−１−（２−メトキシフェニル）−１−ブタ
ノ−ル ２−アミノ−１−（２−エトキシフェニル）−１−ブタ
ノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメチルフェニル）−１−
ブタノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジエチルフェニル）−１−
ブタノール ２−アミノ−１−（２，５−ジメトシキフェニル）−１
−ブタノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジエトキシフェニル）−１
−ブタノ−ル ２−アミノ−１−（２−メトキシ−５−メチルフェニ
ル）−１−ブタノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−ペンタノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメチルフェニル）−１−
ペンタノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメトキシフェニル）−１
−ペンタノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−ヘキサノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−ヘプタノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−オクタノ−ル 等を例示できる。
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキ
ル基を、Ｒ４としては例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基を
例示することができる。より具体的な化合物としては例
えば、光学活性なノルエフェドリン、エフェドリン、 ２−アミノ−１−（２−メチルフェニル）−１−プロパ
ノ−ル ２−アミノ−１−（２−エチルフェニル）−１−プロパ
ノ−ル ２−アミノ−１−（２−メトキシフェニル）−１−プロ
パノ−ル ２−アミノ−１−（２−エトキシフェニル）−１−プロ
パノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメチルフェニル）−１−
プロパノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジエチルフェニル）−１−
プロパノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメトキシフェニル）−１
−プロパノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジエトキシフェニル）−１
−プロパノ−ル ２−アミノ−１−（２−メトキシ−５−メチルフェニ
ル）−１−プロパノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−ブタノ−ル ２−アミノ−１−（２−メチルフェニル）−１−ブタノ
−ル ２−アミノ−１−（２−エチルフェニル）−１−ブタノ
−ル ２−アミノ−１−（２−メトキシフェニル）−１−ブタ
ノ−ル ２−アミノ−１−（２−エトキシフェニル）−１−ブタ
ノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメチルフェニル）−１−
ブタノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジエチルフェニル）−１−
ブタノール ２−アミノ−１−（２，５−ジメトシキフェニル）−１
−ブタノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジエトキシフェニル）−１
−ブタノ−ル ２−アミノ−１−（２−メトキシ−５−メチルフェニ
ル）−１−ブタノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−ペンタノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメチルフェニル）−１−
ペンタノ−ル ２−アミノ−１−（２，５−ジメトキシフェニル）−１
−ペンタノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−ヘキサノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−ヘプタノ−ル ２−アミノ−１−フェニル−１−オクタノ−ル 等を例示できる。
本発明は上記のような光学活性アミノアルコール(I)と
水素化ホウ素化合物から得られる不斉還元剤を用いるも
のであるが、水素化ホウ素化合物としては、例えば水素
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム等の水素化
ホウ素アルカリ金属、ジボラン、ボランジメチルスルフ
ィド錯体、ボランテトラヒドロフラン錯体等のボラン類
が挙げられる。その使用量は光学活性アミノアルコール
(I)に対して通常１〜４モル倍、好ましくは２〜３モル
倍である。
水素化ホウ素化合物から得られる不斉還元剤を用いるも
のであるが、水素化ホウ素化合物としては、例えば水素
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム等の水素化
ホウ素アルカリ金属、ジボラン、ボランジメチルスルフ
ィド錯体、ボランテトラヒドロフラン錯体等のボラン類
が挙げられる。その使用量は光学活性アミノアルコール
(I)に対して通常１〜４モル倍、好ましくは２〜３モル
倍である。
不斉還元剤を調製するにあたっては、溶媒としてジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグラ
イム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の炭化水素、クロルベンゼン、クロロホルム、１，２−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、あるいはこれ
等の混合溶媒が通常用いられる。
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグラ
イム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の炭化水素、クロルベンゼン、クロロホルム、１，２−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、あるいはこれ
等の混合溶媒が通常用いられる。
ここで、水素化ホウ素化合物として水素化ホウ素アルカ
リ金属を用いる場合は、通常、光学活性アミノアルコー
ル(I)の溶液にこれを懸濁もしくは溶解させた後、塩化
水素等の鉱酸またはフッ化ホウ素、塩化ホウ素等のルイ
ス酸を添加することにより不斉還元剤が調製される。酸
の使用量は水素化ホウ素アルカリ金属に対し、通常0.8
〜２モル倍、好ましくは0.9〜1.5モル倍である。
リ金属を用いる場合は、通常、光学活性アミノアルコー
ル(I)の溶液にこれを懸濁もしくは溶解させた後、塩化
水素等の鉱酸またはフッ化ホウ素、塩化ホウ素等のルイ
ス酸を添加することにより不斉還元剤が調製される。酸
の使用量は水素化ホウ素アルカリ金属に対し、通常0.8
〜２モル倍、好ましくは0.9〜1.5モル倍である。
また水素化ホウ素化合物としてボラン類を用いる場合は
光学活性アミノアルコール(I)の溶液に、これを加える
ことにより不斉還元剤を調製することができる。調製温
度は、いずれの水素化ホウ素化合物を用いる場合でも通
常１００℃以下、好ましくは２０℃以下である。
光学活性アミノアルコール(I)の溶液に、これを加える
ことにより不斉還元剤を調製することができる。調製温
度は、いずれの水素化ホウ素化合物を用いる場合でも通
常１００℃以下、好ましくは２０℃以下である。
本発明はかくして得られる不斉還元剤を前記一般式(II)
で示されるオキシム誘導体のアンチ体またはシン体もし
くはこれ等いずれかに富んだ混合物に反応させることを
特徴とするものであるが、該オキシム誘導体におけるＲ
５としては例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、シクロオク
チル、ノニルデシル等炭素数１〜１０のアルキル、ベン
ジル、β−フェネチル、ナフチルメチル等炭素数７〜１
１のアラルキル基、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−
ブチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、トリ−ｎ−
ブチルシリル等の炭素数３〜１２のアルキルシリル基な
どが例示できる。
で示されるオキシム誘導体のアンチ体またはシン体もし
くはこれ等いずれかに富んだ混合物に反応させることを
特徴とするものであるが、該オキシム誘導体におけるＲ
５としては例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、ヘプチル、シクロヘプチル、オクチル、シクロオク
チル、ノニルデシル等炭素数１〜１０のアルキル、ベン
ジル、β−フェネチル、ナフチルメチル等炭素数７〜１
１のアラルキル基、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−
ブチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリル、トリ−ｎ−
ブチルシリル等の炭素数３〜１２のアルキルシリル基な
どが例示できる。
またＲ６，Ｒ７としては例えば、フェニル、ｏ−、ｍ
−、ｐ−メチルフェニル、ｏ−、ｍ−、ｐ−エチルフェ
ニル、ｏ−、ｍ−、ｐ−プロピルフェニル、２，３−、
２，４−、２，５−、２，６−ジメチルフェニル、α−
ナフチル、β−ナフチル基等ののアリール基、アルキル
アリール基およびメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル
等の低級アルキル基、ベンジル、ｏ−、ｍ−、ｐ−トリ
ルメチル、（ｏ−、ｍ−、ｐ−エチルフェニル）メチ
ル、（２，３−、２，４−、２，５−、２，６−ジメチ
ルフェニル）メチル、２−フェニルエチル、２−（ｏ
−、ｍ−、ｐ−トリル）エチル、（２，３−、２，４
−、２，５−、２，６−ジメチルフェニル）エチル、３
−フェニルプロピル等のアラルキル基、アルキル置換ア
ラルキル基が例示できる。
−、ｐ−メチルフェニル、ｏ−、ｍ−、ｐ−エチルフェ
ニル、ｏ−、ｍ−、ｐ−プロピルフェニル、２，３−、
２，４−、２，５−、２，６−ジメチルフェニル、α−
ナフチル、β−ナフチル基等ののアリール基、アルキル
アリール基およびメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル
等の低級アルキル基、ベンジル、ｏ−、ｍ−、ｐ−トリ
ルメチル、（ｏ−、ｍ−、ｐ−エチルフェニル）メチ
ル、（２，３−、２，４−、２，５−、２，６−ジメチ
ルフェニル）メチル、２−フェニルエチル、２−（ｏ
−、ｍ−、ｐ−トリル）エチル、（２，３−、２，４
−、２，５−、２，６−ジメチルフェニル）エチル、３
−フェニルプロピル等のアラルキル基、アルキル置換ア
ラルキル基が例示できる。
より具体的化合物としては例えばアセトフェノン、プロ
ピオフェノン、ブチロフェノン、イソブチロフェノン、
α−アセトナフトン、β−アセトナフトン、フェニルベ
ンジルケトン、フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン、
フェニル（ｍ−トリルメチル）ケトン、フェニル（ｏ−
トリルメチル）ケトン、フェニル（２−フェニルエチ
ル）ケトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、２−ヘキ
サノン、３−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３ヘプタノ
ン、３−オクタノン、シクロヘキシルメチルケトン、シ
クロヘキシルエチルケトン、α−フェニルアセトン、２
−フェニルエチルメチルケトン、２−フェニルエチルエ
チルケトン、３−フェニルプロピルメチルケトンなどの
ｏ−メチル、ｏ−オクチル、ｏ−シクロヘキシル、ｏ−
ベンジル、ｏ−トリメチルシリル等のオキシムであっ
て、これ等のシン体、アンチ体およびこれ等の一方に富
んだ混合物が挙げられる。
ピオフェノン、ブチロフェノン、イソブチロフェノン、
α−アセトナフトン、β−アセトナフトン、フェニルベ
ンジルケトン、フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン、
フェニル（ｍ−トリルメチル）ケトン、フェニル（ｏ−
トリルメチル）ケトン、フェニル（２−フェニルエチ
ル）ケトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、２−ヘキ
サノン、３−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３ヘプタノ
ン、３−オクタノン、シクロヘキシルメチルケトン、シ
クロヘキシルエチルケトン、α−フェニルアセトン、２
−フェニルエチルメチルケトン、２−フェニルエチルエ
チルケトン、３−フェニルプロピルメチルケトンなどの
ｏ−メチル、ｏ−オクチル、ｏ−シクロヘキシル、ｏ−
ベンジル、ｏ−トリメチルシリル等のオキシムであっ
て、これ等のシン体、アンチ体およびこれ等の一方に富
んだ混合物が挙げられる。
これ等のケトンオキシム類は対応するケトンより公知の
方法で容易に製造できる。またシン体またはアンチ体の
一方を用いる場合は分離した残りの異性体を公知の方法
でシン／アンチの異性化反応を行う事により、再び必要
な異性体に変換でき、原料を有効に使用し得る。
方法で容易に製造できる。またシン体またはアンチ体の
一方を用いる場合は分離した残りの異性体を公知の方法
でシン／アンチの異性化反応を行う事により、再び必要
な異性体に変換でき、原料を有効に使用し得る。
オキシム類(II)に前述の還元剤を反応させるにあたり、
用いる溶媒としてはジエチルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の炭化水素、クロルベンゼン、クロロホルム、１，２−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素等あるいはこれ
らの混合溶媒等が例示でき、その使用量はオキシム類(I
I)に対して通常２〜５０重量倍である。また用いる還元
剤はオキシム類(II)に対し光学活性アミノアルコ−ル
(I)換算で通常１〜６モル倍、好ましくは１〜３モル倍
量であり、反応温度は通常１００℃以下、好ましくは−
２０〜４０℃である。
用いる溶媒としてはジエチルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン等のエ−テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の炭化水素、クロルベンゼン、クロロホルム、１，２−
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素等あるいはこれ
らの混合溶媒等が例示でき、その使用量はオキシム類(I
I)に対して通常２〜５０重量倍である。また用いる還元
剤はオキシム類(II)に対し光学活性アミノアルコ−ル
(I)換算で通常１〜６モル倍、好ましくは１〜３モル倍
量であり、反応温度は通常１００℃以下、好ましくは−
２０〜４０℃である。
反応の進行はガスクロマトグラフィー等の分析手段によ
り確認することができる。
り確認することができる。
反応終了後、塩酸等の鉱酸を加えることによって還元剤
を失活させた後、苛性ソーダ等でアルカリ性にしてトル
エンのような溶媒を用いて抽出することにより、目的と
する光学活性アミン類(III)および不斉助剤として用い
た光学活性アミノアルコール(I)を得、次で蒸留等の通
常の分離手段を用いることによって目的物を得ることが
できる。
を失活させた後、苛性ソーダ等でアルカリ性にしてトル
エンのような溶媒を用いて抽出することにより、目的と
する光学活性アミン類(III)および不斉助剤として用い
た光学活性アミノアルコール(I)を得、次で蒸留等の通
常の分離手段を用いることによって目的物を得ることが
できる。
ここで目的とする光学活性アミン類(III)のＲ６がアリ
ール、Ｒ７がアラルキル基を有する場合は抽出液のpHを
単に調整するのみで容易に目的物(III)、不斉助剤(I)を
別々に順次分離回収することができる。例えばpHを8.5
〜9.5に調整することにより目的物(III)を選択的に回収
することができ、次いで例えばpHを１１以上に調整する
ことにより不斉助剤(I)を選択的に回収することができ
る。
ール、Ｒ７がアラルキル基を有する場合は抽出液のpHを
単に調整するのみで容易に目的物(III)、不斉助剤(I)を
別々に順次分離回収することができる。例えばpHを8.5
〜9.5に調整することにより目的物(III)を選択的に回収
することができ、次いで例えばpHを１１以上に調整する
ことにより不斉助剤(I)を選択的に回収することができ
る。
また抽出溶媒として前記トルエンの代りにヘキサン等を
用いて目的物(III)と不斉助剤(I)との溶解度差を利用す
ることにより、アルカリ性にした反応マスより目的物(I
II)を選択的に回収することもできる。
用いて目的物(III)と不斉助剤(I)との溶解度差を利用す
ることにより、アルカリ性にした反応マスより目的物(I
II)を選択的に回収することもできる。
上述のような方法で得られた目的物(III)は蒸留、カラ
ムクロマトグラフィー等の精製手段により更に一層精製
することもできる。
ムクロマトグラフィー等の精製手段により更に一層精製
することもできる。
＜発明の効果＞ かくして目的とする光学活性アミン類(III)が製造され
るが、本発明方法によれば、ＲまたはＳの一方の不斉助
剤を使用するだけでＲとＳの光学活性アミンを容易に作
り分けることができる。例えばＲの不斉助剤の場合、Ｒ
の光学活性アミンが必要であればアンチ体のオキシムエ
ーテルを、Ｓの光学活性アミンが必要であればシン体の
オキシムエーテルを用いることにより目的とする光学活
性アミンを得ることができる。
るが、本発明方法によれば、ＲまたはＳの一方の不斉助
剤を使用するだけでＲとＳの光学活性アミンを容易に作
り分けることができる。例えばＲの不斉助剤の場合、Ｒ
の光学活性アミンが必要であればアンチ体のオキシムエ
ーテルを、Ｓの光学活性アミンが必要であればシン体の
オキシムエーテルを用いることにより目的とする光学活
性アミンを得ることができる。
また本発明によれば、ＲおよびＳの不斉助剤を使用する
ことによりオキシムエーテルのアンチ体、シン体いずれ
からもＲまたはＳいずれか一方の光学活性アミンを得る
こともできる。例えばＲの光学活性アミンが必要な場合
は、アンチ体のオキシムエーテルとＲの不斉助剤を組合
わせ、シン体のオキシムエーテルとＳの不斉助剤を組合
わせることにより容易に目的を達成することがてきる。
ことによりオキシムエーテルのアンチ体、シン体いずれ
からもＲまたはＳいずれか一方の光学活性アミンを得る
こともできる。例えばＲの光学活性アミンが必要な場合
は、アンチ体のオキシムエーテルとＲの不斉助剤を組合
わせ、シン体のオキシムエーテルとＳの不斉助剤を組合
わせることにより容易に目的を達成することがてきる。
本発明は上記の他に目的物の光学収率が高い、使用する
不斉配位子が容易に入手できる等種々の利点をもたら
す。
不斉配位子が容易に入手できる等種々の利点をもたら
す。
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。
はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例１ エリスロ−（一）−２−アミノ−１−（２，５−ジメト
キシフェニル）−１−プロパノ−ル７０mg（0.33ミリモ
ル）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液を−７０℃に
冷却し、ボラン0.66ミリモルのＴＨＦ溶液を滴下した
後、徐々に室温迄昇温した。
キシフェニル）−１−プロパノ−ル７０mg（0.33ミリモ
ル）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液を−７０℃に
冷却し、ボラン0.66ミリモルのＴＨＦ溶液を滴下した
後、徐々に室温迄昇温した。
次いでアンチ−フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン
（ｏ−メチルオキシム）50.2mg（0.21ミリモル）のＴＨ
Ｆ溶液を滴下し、室温で１２時間攪拌した後、６０℃に
昇温して同温度で５時間攪拌した。
（ｏ−メチルオキシム）50.2mg（0.21ミリモル）のＴＨ
Ｆ溶液を滴下し、室温で１２時間攪拌した後、６０℃に
昇温して同温度で５時間攪拌した。
次いで１８％塩酸を加え同温度で１時間攪拌した後、減
圧下に濃縮した。次いで苛性ソーダ水溶液を加えてアル
カリ性にした後、トルエンを加え抽出を行ない、得られ
た有機層を濃縮後、アルミナカラムで精製し、光学活性
な１−フェニル−２−（ｐ−トリル）エチルアミンを得
た。
圧下に濃縮した。次いで苛性ソーダ水溶液を加えてアル
カリ性にした後、トルエンを加え抽出を行ない、得られ
た有機層を濃縮後、アルミナカラムで精製し、光学活性
な１−フェニル−２−（ｐ−トリル）エチルアミンを得
た。
光学純度は光学活性カラムを用いた液体クロマトグラフ
イーで測定した。
イーで測定した。
光学収率は９４％、絶対立体配置はＳであり収率は６８
％であった。
％であった。
（一）−ノルエフェドリン1.26g（8.3ミリモル）のＴＨ
Ｆ溶液を−７０℃に冷却し、これにボラン16.6ミリモル
のＴＨＦ溶液を滴下した後、徐々に室温迄昇温した。
Ｆ溶液を−７０℃に冷却し、これにボラン16.6ミリモル
のＴＨＦ溶液を滴下した後、徐々に室温迄昇温した。
次いでアンチ−フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン
（ｏ−メチルオキシム）0.67g（2.8ミリモル）のＴＨＦ
溶液を滴下し、室温で１２時間攪拌した後、６０℃に昇
温して同温度で５時間攪拌した。
（ｏ−メチルオキシム）0.67g（2.8ミリモル）のＴＨＦ
溶液を滴下し、室温で１２時間攪拌した後、６０℃に昇
温して同温度で５時間攪拌した。
次いで１８％塩酸を加え同温度で１時間攪拌した後、減
圧下に濃縮した。次いで苛性ソーダ水溶液を加えてpH＝
9.1に調整にした後、トルエンを加え抽出を行ない、得
られた有機層を濃縮することにより１−フェニル−２−
（ｐ−トリル）エチルアミンを得た。
圧下に濃縮した。次いで苛性ソーダ水溶液を加えてpH＝
9.1に調整にした後、トルエンを加え抽出を行ない、得
られた有機層を濃縮することにより１−フェニル−２−
（ｐ−トリル）エチルアミンを得た。
光学収率は９４％、絶対配置はＳであり、収率は６１％
であった。
であった。
実施例３ （一）−ノルエフエドリン２７８mg（1.84ミリモル）の
ＴＨＦ溶液を−３０℃に冷却し、これにボランのジメチ
ルスルフィド錯体４ミリモルを滴下した後、徐々に室温
まで昇温した。
ＴＨＦ溶液を−３０℃に冷却し、これにボランのジメチ
ルスルフィド錯体４ミリモルを滴下した後、徐々に室温
まで昇温した。
次いでアンチ−２−アセトンナフトン−ｏ−メチルオキ
シム１８３mgのＴＨＦ溶液を加えて室温で２０時間攪拌
し、これにボランのジメチル錯体５ミリモルを加えて６
０℃で５時間攪拌した。次いでこれに１８％塩酸を加え
同温度で１時間攪拌した後、クロロホルムを加えて分液
した。
シム１８３mgのＴＨＦ溶液を加えて室温で２０時間攪拌
し、これにボランのジメチル錯体５ミリモルを加えて６
０℃で５時間攪拌した。次いでこれに１８％塩酸を加え
同温度で１時間攪拌した後、クロロホルムを加えて分液
した。
分液した水層を水酸化ナトリウム水溶液を加えて塩基性
にした後、ヘキサンで抽出し、分液したヘキサン層を濃
縮して１−（２−ナフチル）エチルアミンを得た。
にした後、ヘキサンで抽出し、分液したヘキサン層を濃
縮して１−（２−ナフチル）エチルアミンを得た。
光学収率は９２％、絶対立体配置はＳであり、収率は７
８％であった。
８％であった。
実施例４ 実施例２において、ボランの代りにボランジメチルスル
フィド錯体16.6ミリモルを用いて，ＴＨＦの代りに１，
２−ジクロロエタンを用いる以外は実施例２と同様にし
て、１−フェニル−２−（ｐ−トリル）エチルアミンを
得た。
フィド錯体16.6ミリモルを用いて，ＴＨＦの代りに１，
２−ジクロロエタンを用いる以外は実施例２と同様にし
て、１−フェニル−２−（ｐ−トリル）エチルアミンを
得た。
光学収率は９１％、絶対立体配置はＳであり、収率は６
３％であった。
３％であった。
実施例５〜１３ 基質を種々変化させた場合の結果を表１に示した。実施
例５〜８は実施例２に、実施例９〜１３は実施例３に準
拠した。
例５〜８は実施例２に、実施例９〜１３は実施例３に準
拠した。
実施例１４ （一）−ノルエフェドリン１６３mg（1.08ミリモル）の
ＴＨＦ溶液に水素化ホウ素ナトリウム９２mg（2.48ミリ
モル）を加え−６５℃に冷却して三フッ化ホウ素エーテ
ラート４６０mg（3.24ミリモル）を滴下した後、約３時
間をかけて２０℃に昇温した。次いでこれにアンチ−フ
ェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン（ｏ−メチルオキシ
ム）１１５mg（0.48ミリモル）のＴＨＦ溶液を滴下し２
０℃で１２時間攪拌した後端、６０℃に昇温して同温度
で５時間攪拌した。
ＴＨＦ溶液に水素化ホウ素ナトリウム９２mg（2.48ミリ
モル）を加え−６５℃に冷却して三フッ化ホウ素エーテ
ラート４６０mg（3.24ミリモル）を滴下した後、約３時
間をかけて２０℃に昇温した。次いでこれにアンチ−フ
ェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン（ｏ−メチルオキシ
ム）１１５mg（0.48ミリモル）のＴＨＦ溶液を滴下し２
０℃で１２時間攪拌した後端、６０℃に昇温して同温度
で５時間攪拌した。
次いで１８％塩酸を加え同温度で１時間攪拌した後、減
圧下に濃縮した。次いで苛性ソーダ水溶液を加えてアル
カリ性にした後、トルエンを加えて抽出を行ない、得ら
れた有機層を濃縮後アルミナカラムで精製し光学活性１
−フェニル−２−（ｐ−トリル）エチルアミンを得た。
圧下に濃縮した。次いで苛性ソーダ水溶液を加えてアル
カリ性にした後、トルエンを加えて抽出を行ない、得ら
れた有機層を濃縮後アルミナカラムで精製し光学活性１
−フェニル−２−（ｐ−トリル）エチルアミンを得た。
光学収率は８１％、絶対立体配置はＳであり、収率は４
１％であった。
１％であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 211/30 9280−4Ｈ
Claims (1)
- 【請求項１】一般式(I) （式中、Ｒ１，Ｒ２は水素原子、アルキル基、アルコキ
シル基を、Ｒ３は水素原子またはアルキル基を、Ｒ４は
アルキル基を表わす。） で示される光学活性アミノアルコールと水素化ホウ素化
合物から得られる不斉還元剤を、一般式(II) （式中、Ｒ５はアルキル基、アラルキル基またはアルキ
ル置換シリル基を表わす。Ｒ６，Ｒ７はアルキル基が置
換していることもあるアリール基、アルキル基が置換し
ていることもあるアラルキル基、もしくはアルキル基を
表わし、同一であることはない。） で示されるオキシム誘導体のシン体またはアンチ体の一
方、もしくはそれらのいずれかに富んだ混合物に反応さ
せ、アンチ体またはアンチ体に富んだ混合物から光学活
性アミノアルコール(I)のアミノ基置換炭素の絶対立体
配置と同一の、シン体またはシン体に富んだ混合物から
光学活性アミノアルコール(I)のアミノ基置換炭素の絶
対立体配置とは逆の絶対立体配置を有する一般式(III) （式中、Ｒ６，Ｒ７は前記と同じ意味を表わす。） で示される光学活性アミン類の製造方法
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13400386 | 1986-06-10 | ||
| JP61-134003 | 1986-06-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6399041A JPS6399041A (ja) | 1988-04-30 |
| JPH0645577B2 true JPH0645577B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=15118104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2749987A Expired - Fee Related JPH0645577B2 (ja) | 1986-06-10 | 1987-02-09 | 光学活性アミン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645577B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0861386A (ja) * | 1994-08-18 | 1996-03-08 | Nsk Warner Kk | 湿式多板摩擦クラッチ及びその製造方法 |
| JP4835179B2 (ja) * | 2006-02-01 | 2011-12-14 | 日本精工株式会社 | ボールねじ装置 |
| JP6513499B2 (ja) * | 2015-06-15 | 2019-05-15 | 大豊工業株式会社 | ワッシャ及びワッシャの製造方法 |
-
1987
- 1987-02-09 JP JP2749987A patent/JPH0645577B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6399041A (ja) | 1988-04-30 |
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