JPH06326071A - Wet cleaning apparatus of wafer - Google Patents
Wet cleaning apparatus of waferInfo
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- JPH06326071A JPH06326071A JP11478993A JP11478993A JPH06326071A JP H06326071 A JPH06326071 A JP H06326071A JP 11478993 A JP11478993 A JP 11478993A JP 11478993 A JP11478993 A JP 11478993A JP H06326071 A JPH06326071 A JP H06326071A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、半導体製造工程にお
いて用いられるウェハーのウェット洗浄装置に関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer wet cleaning apparatus used in a semiconductor manufacturing process.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ウェハーを加工してＩＣチップのような
半導体素子を製造する場合に、種々の段階においてウェ
ハーの薬液洗浄が必要となる。図３はこのようなウェハ
ーの薬液洗浄に用いられる従来のウェット洗浄装置の全
体構成を示す系統図である。2. Description of the Related Art When processing a wafer to manufacture a semiconductor device such as an IC chip, it is necessary to clean the wafer with a chemical solution at various stages. FIG. 3 is a system diagram showing an overall configuration of a conventional wet cleaning apparatus used for cleaning a wafer with a chemical solution.
【０００３】図において、１は例えばアンモニヤや過酸
化水素等を水（純水）に溶解した薬液Ｌが溜められ、ウ
ェハーの薬液洗浄がなされる薬液槽としての内槽、２は
内槽１の外周璧１ａに沿って設けられ、内槽１の四方か
らその外周璧１ａを越えてオーバーフローした薬液Ｌを
収容する外槽である。なお、内槽１からオーバーフロー
した薬液Ｌ中には、内槽１内でウェハーの薬液洗浄によ
りその薬液Ｌ中に流出した多数の異物を含んでいる。３
は内槽１内の薬液Ｌを排出管４を介して外方に排出する
アスピレータ、５は外槽２内の薬液Ｌを排出管６を介し
て外方に排出するアスピレータ、７は内槽１内に新たな
薬液を供給管８を介して供給する薬液供給弁である。In the figure, reference numeral 1 denotes an inner tank as a chemical solution tank for storing a chemical solution L in which water such as ammonia or hydrogen peroxide is dissolved in water (pure water) and cleaning the wafer with the chemical solution 2. Reference numeral 2 denotes an inner tank 1. The outer tank is provided along the outer peripheral wall 1a and stores the chemical liquid L overflowing from the four sides of the inner tank 1 over the outer peripheral wall 1a. The chemical liquid L overflowing from the inner tank 1 contains a large number of foreign substances which have flowed out into the chemical liquid L due to the chemical cleaning of the wafer in the inner tank 1. Three
Is an aspirator for discharging the chemical liquid L in the inner tank 1 to the outside via the discharge pipe 4, 5 is an aspirator for discharging the chemical liquid L in the outer tank 2 to the outside via the discharge pipe 6, and 7 is the inner tank 1 It is a chemical solution supply valve for supplying a new chemical solution into the inside through a supply pipe 8.
【０００４】９は内槽１と外槽２との下方に配設され、
この内槽１と外槽２間を連結する薬液Ｌの循環配管、１
０は循環配管９中に設けられたフィルターであり、この
フィルター１０によりウェハーから薬液Ｌ中に流出した
異物が除去される。１１は循環配管９のフィルター１０
の上流側に設けられ、外槽２内の薬液Ｌをフィルター１
０を通って内槽１側に循環させる循環ポンプ、１２は循
環配管９、フィルター１０および循環ポンプ１１から構
成され、薬液Ｌ中の異物を除去するためのフィルトレー
ション装置である。なお、循環配管９は外槽２から循環
ポンプ１１までの上流管９ａ、循環ポンプ１１からフィ
ルター１０までの中流管９ｂ、およびフィルター１０か
ら内槽１までの下流管９ｃとから構成されている。9 is disposed below the inner tank 1 and the outer tank 2,
Circulation piping for the chemical liquid L that connects the inner tank 1 and the outer tank 2
Reference numeral 0 denotes a filter provided in the circulation pipe 9, and this filter 10 removes foreign substances flowing out from the wafer into the chemical liquid L. 11 is a filter 10 of the circulation pipe 9
Which is provided on the upstream side of the
A circulation pump that circulates to the inner tank 1 side through 0, and 12 is a filtration device that includes a circulation pipe 9, a filter 10, and a circulation pump 11, and removes foreign substances in the chemical liquid L. The circulation pipe 9 is composed of an upstream pipe 9a from the outer tank 2 to the circulation pump 11, a middle-flow pipe 9b from the circulation pump 11 to the filter 10, and a downstream pipe 9c from the filter 10 to the inner tank 1.
【０００５】つぎにこのウェット洗浄装置の動作につい
て説明する。まず、ウェハーの薬液洗浄工程について説
明する。フィルトレーション装置１２の循環ポンプ１１
が作動することにより、外槽２内の薬液Ｌは循環ポンプ
１１とフィルター１０を通って循環配管９により内槽１
側に送られ、かつ内槽１内の薬液Ｌはその外周璧１ａを
越えて外槽２側にオーバーフローされることにより、内
槽１内の薬液はフィルトレーション装置１２を介して循
環される。この状態で、内槽１内でウェハーの薬液洗浄
がなされると、ウェハーに付着していた異物は内槽１内
の薬液Ｌ中に流出するとともに、内槽１からの薬液Ｌの
オーバーフローによって外槽２側へ移動する。Next, the operation of this wet cleaning apparatus will be described. First, the chemical cleaning process of the wafer will be described. Circulation pump 11 of filtration device 12
The chemical liquid L in the outer tank 2 passes through the circulation pump 11 and the filter 10 through the circulation pipe 9 by the operation of
The chemical liquid L in the inner tank 1 is circulated through the filtration device 12 by being sent to the inner tank 1 and overflowing to the outer tank 2 side beyond the outer peripheral wall 1a. . In this state, when the wafer is cleaned with the chemical solution in the inner tank 1, the foreign matter attached to the wafer flows out into the chemical solution L in the inner tank 1 and is removed by the overflow of the chemical solution L from the inner tank 1. Move to tank 2 side.
【０００６】そして、この異物は外槽２内の薬液Ｌがフ
ィルトレーション装置１２を通過中に、このフィルトレ
ーション装置１２のフィルター１０により除去され、異
物の除去された薬液Ｌは、クリーンな状態となって内槽
１側へ戻される。また、内槽１内の薬液レベルがウェハ
ーへの付着による持ち出しや蒸発によって低下すれば、
薬液供給弁７が開き供給管８を介して内槽１内に自動的
に薬液Ｌが補給される。そして、この状態で薬液Ｌの洗
浄能力が所定値以下に低下するまで所定量のウェハーの
洗浄処理がなされる。The foreign matter is removed by the filter 10 of the filtration apparatus 12 while the chemical solution L in the outer tank 2 is passing through the filtration apparatus 12, and the chemical solution L from which the foreign matter is removed is clean. The state is returned to the inner tank 1 side. Moreover, if the chemical level in the inner tank 1 is lowered due to carry-out or evaporation due to adhesion to the wafer,
The chemical liquid supply valve 7 is opened and the chemical liquid L is automatically replenished into the inner tank 1 via the supply pipe 8. Then, in this state, a predetermined amount of wafers are cleaned until the cleaning ability of the chemical liquid L drops below a predetermined value.
【０００７】つぎに薬液Ｌの交換工程について説明す
る。所定量のウェハーの薬液洗浄がなされ、薬液の洗浄
能力が所定値以下に低下すると、フィルトレーション装
置１２の循環ポンプ１１が停止し、アスピレータ３，５
が作動して内槽１および外槽２内の薬液Ｌが排出管４，
６を介して外方に排出される。そして、内槽１および外
槽２内の薬液Ｌが完全に排出されると、アスピレータ
３，５が停止するとともに、薬液供給弁７が開き、供給
管８を介して内槽１内に薬液Ｌが供給される。そして、
内槽１からのオーバーフローを介して外槽２内にも所定
量の薬液Ｌが供給されると、薬液供給弁７が閉じ、薬液
Ｌの交換工程は終了する。その後、フィルトレーション
装置１２の循環ポンプ１１が作動し、ウェハーの洗浄工
程が再開される。Next, the process of exchanging the chemical liquid L will be described. When a predetermined amount of wafers are cleaned with a chemical solution and the cleaning ability of the chemical solution drops below a predetermined value, the circulation pump 11 of the filtration device 12 is stopped and the aspirators 3, 5
Is activated to discharge the chemical liquid L in the inner tank 1 and the outer tank 2 to the discharge pipe 4,
It is discharged to the outside via 6. Then, when the chemical liquid L in the inner tank 1 and the outer tank 2 is completely discharged, the aspirators 3 and 5 are stopped and the chemical liquid supply valve 7 is opened, so that the chemical liquid L is introduced into the inner tank 1 through the supply pipe 8. Is supplied. And
When a predetermined amount of the chemical liquid L is supplied into the outer tank 2 through the overflow from the inner tank 1, the chemical liquid supply valve 7 is closed, and the chemical liquid L exchange process is completed. Then, the circulation pump 11 of the filtration device 12 is activated to restart the wafer cleaning process.
【０００８】なお、上記ウェハーの洗浄工程および薬液
Ｌの交換工程は制御装置（図示せず）を介して全て自動
で行なわれる。The wafer cleaning process and the chemical liquid L replacement process are all automatically performed through a controller (not shown).
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】従来のウェット洗浄装
置では薬液Ｌの交換工程において、フィルトレーション
装置１２の循環配管９中等の薬液Ｌは交換されないた
め、新しい薬液Ｌ中に古い薬液Ｌが混入してしまうとい
う課題があった。In the conventional wet cleaning apparatus, since the chemical liquid L in the circulation pipe 9 of the filtration device 12 is not exchanged in the process of exchanging the chemical liquid L, the old chemical liquid L is mixed into the new chemical liquid L. There was a problem of doing it.
【００１０】また、薬液Ｌの交換工程において、フィル
トレーション装置１２の循環ポンプ１１が停止するた
め、フィルター１０からその薬液流入面側に充分に付着
して捕捉されていない０．１μm レベルの異物が循環配
管９の上流管９ａや中流管９ｂおよび循環ポンプ１１側
等に流出してしまい、この部分の薬液Ｌ中の０．１μm
レベルの異物濃度が上昇してしまうという課題があっ
た。このため、ウェハーの洗浄工程の開始に伴ない循環
ポンプ１１が作動すると、この０．１μm レベルの異物
が一部フィルター１０を通過して内槽１側に運ばれ、内
槽１内の薬液中に０．１μm レベルの異物の増加をもた
らして、薬液交換直後のウェハーの洗浄時に、このウェ
ハーに異物を多く付着させてしまうという課題があっ
た。Further, since the circulation pump 11 of the filtration device 12 is stopped in the process of exchanging the chemical liquid L, foreign matter of a level of 0.1 μm which is not sufficiently captured and adhered from the filter 10 to the chemical liquid inflow side. Will flow out to the upstream pipe 9a and the middle flow pipe 9b of the circulation pipe 9 and the circulation pump 11 side, and 0.1 μm in the chemical liquid L in this portion
There was a problem that the level of foreign matter concentration would increase. For this reason, when the circulation pump 11 is activated along with the start of the wafer cleaning process, some of the 0.1 μm level foreign matter is partially passed through the filter 10 and carried to the inner tank 1 side. However, there is a problem in that the amount of foreign matter is increased to the level of 0.1 μm, and a large amount of foreign matter is attached to the wafer when cleaning the wafer immediately after the chemical solution exchange.
【００１１】この発明は、上記のような課題を解消する
ためになされたもので、薬液交換において、フィルトレ
ーション装置の循環配管が純水を用いて洗浄されるとと
もにフィルターが純水を用いて洗浄され、フィルトレー
ション装置から薬液槽側への異物の侵入を防止できるウ
ェハーのウェット洗浄装置を提供することを目的とす
る。The present invention has been made to solve the above problems, and in the chemical liquid exchange, the circulation pipe of the filtration apparatus is cleaned with pure water and the filter is purified water. An object of the present invention is to provide a wet cleaning apparatus for wafers that is cleaned and can prevent foreign matter from entering the chemical bath from the filtration apparatus.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】この発明は、フィルトレ
ーション装置のフィルター上流側の循環配管に設けら
れ、フィルターの薬液流入面側に純水を供給する純水切
替弁と、フィルターに設けられ、フィルターに付着した
異物を純水により外部に排出する排水弁とを備えたもの
である。According to the present invention, there is provided a pure water switching valve, which is provided in a circulation pipe upstream of a filter of a filtration device, and which supplies pure water to a chemical liquid inflow surface side of the filter, and a filter. And a drain valve for discharging foreign matter adhering to the filter to the outside with pure water.
【００１３】[0013]
【作用】この発明においては、ウェハーを薬液洗浄する
場合は、循環配管中にフィルターを有したフィルトレー
ション装置を介して、薬液槽内の薬液が循環される。そ
してフィルトレーション装置のフィルターによって、ウ
ェハーから薬液槽内の薬液中に流出した異物が除去され
つつ、ウェハーの薬液洗浄がなされる。また、薬液槽内
の薬液を交換する場合は、フィルトレーション装置を介
した薬液の循環が停止され、薬液槽内の薬液の排出およ
びこの薬液槽内への新たな薬液の供給がなされる。In the present invention, when cleaning a wafer with a chemical solution, the chemical solution in the chemical solution tank is circulated through a filtration device having a filter in the circulation pipe. Then, the filter of the filtration device removes the foreign substances flowing out from the wafer into the chemical liquid in the chemical liquid tank, and cleans the wafer with the chemical liquid. When exchanging the chemical liquid in the chemical liquid tank, the circulation of the chemical liquid via the filtration device is stopped, and the chemical liquid in the chemical liquid tank is discharged and a new chemical liquid is supplied to the chemical liquid tank.
【００１４】この場合、薬液交換にあたり純水切替弁が
純水供給側に切り替えられるとともに、排水弁が開けら
れ、純水切替弁を介してフィルトレーション装置のフィ
ルター側に純水が供給される。そしてこの純水によりフ
ィルター上流側の循環配管中の薬液が排水弁から排出さ
れて純水に置換されるとともに、この純水によりフィル
ターの薬液流入面側の洗浄がなされ、フィルターに付着
した異物はこの純水とともに排水弁を介して外部に排出
される。また、フィルターの洗浄等が終了すれば排水弁
を閉じ、純水切替弁を介して純水をフィルターを通って
薬液槽内に排出し、フィルター下流側の薬液を薬液層内
に排出する。この場合純水により押し出された薬液は薬
液槽内の薬液とともに外部に排出される。In this case, when exchanging the chemical liquid, the pure water switching valve is switched to the pure water supply side, the drain valve is opened, and the pure water is supplied to the filter side of the filtration device through the pure water switching valve. . The pure water causes the chemical solution in the circulation pipe on the upstream side of the filter to be discharged from the drain valve and replaced with pure water, and the pure water cleans the chemical solution inflow surface side of the filter, so that the foreign matters adhering to the filter are removed. The pure water is discharged to the outside through the drain valve. When cleaning of the filter is completed, the drain valve is closed, pure water is discharged through the filter through the pure water switching valve into the chemical solution tank, and the chemical solution on the downstream side of the filter is discharged into the chemical solution layer. In this case, the chemical solution pushed out by pure water is discharged to the outside together with the chemical solution in the chemical solution tank.
【００１５】[0015]
【実施例】以下にこの発明の実施例を図について説明す
る。 実施例１．図１はこの発明の一実施例に係るウェハーの
ウェット洗浄装置の全体構成を示す系統図である。図に
おいて、図３で示したウェット洗浄装置と同一または相
当部分には同一符号を付してその説明を省略する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Example 1. FIG. 1 is a system diagram showing the overall configuration of a wafer wet cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, the same or corresponding parts as those of the wet cleaning apparatus shown in FIG. 3 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
【００１６】図において、２０は純水供給用の純水管、
２１は純水管２０に取り付けられた純水供給弁、２２は
フィルトレーション装置１２の循環配管９の中流管９ｂ
中に、その第１弁部２２ａと第２弁部２２ｂを介して取
り付けられ、その第３弁部２２ｃが純水管２０に取り付
けられた三方弁の純水切替弁である。この純水切替弁２
２は第１および第２弁部２２ａ，２２ｂが開き、第３弁
部２２ｃが閉じた状態（以下この状態を薬液通水状態と
いう）では、循環ポンプ１１側からフィルター１０側に
薬液を流す状態となる。一方、第１および第３弁部２２
ａ，２２ｃが開き、第２弁部２２ｂが閉じた状態（以下
この状態を純水通水状態という）では、純水管２０側の
純水をフィルター１０の薬液流入面側にのみ流す状態と
なる。２３はフィルター１０の薬液流入面側に設けられ
た排水弁２３である。In the figure, 20 is a pure water pipe for supplying pure water,
Reference numeral 21 is a pure water supply valve attached to the pure water pipe 20, and 22 is a middle-flow pipe 9b of the circulation pipe 9 of the filtration device 12.
Inside is a three-way pure water switching valve that is attached via the first valve portion 22a and the second valve portion 22b, and the third valve portion 22c is attached to the pure water pipe 20. This pure water switching valve 2
2 is a state in which the chemical liquid flows from the circulation pump 11 side to the filter 10 side in a state in which the first and second valve portions 22a and 22b are opened and the third valve portion 22c is closed (hereinafter, this state is referred to as a chemical liquid flowing state). Becomes On the other hand, the first and third valve portions 22
In a state in which a and 22c are opened and the second valve portion 22b is closed (hereinafter, this state is referred to as pure water flow state), pure water on the pure water pipe 20 side flows only to the chemical liquid inflow side of the filter 10. . Reference numeral 23 is a drain valve 23 provided on the chemical solution inflow side of the filter 10.
【００１７】つぎにこのウェット洗浄装置の動作を純水
切替弁２２や排水弁２３との関連で説明する。ウェット
洗浄装置がウェハーの洗浄工程に切り替えられると、純
水供給弁２１および排水弁２３が閉じ、純水切替弁２２
が薬液通水状態に切り替わるとともに、フィルトレーシ
ョン装置１２の循環ポンプ１１が作動する。したがっ
て、内槽１からオーバーフローした薬液Ｌは外槽２を通
ってフィルトレーション装置１２側に供給され、このフ
ィルトレーション装置１２の循環ポンプ１１とフィルタ
ー１０中を通過しつつ、循環配管９によって内槽１側に
再び戻される。Next, the operation of this wet cleaning apparatus will be described in relation to the pure water switching valve 22 and the drain valve 23. When the wet cleaning apparatus is switched to the wafer cleaning process, the pure water supply valve 21 and the drain valve 23 are closed, and the pure water switching valve 22
Is switched to the chemical liquid flowing state, and the circulation pump 11 of the filtration device 12 is operated. Therefore, the chemical liquid L overflowing from the inner tank 1 is supplied to the filtration device 12 side through the outer tank 2, and while passing through the circulation pump 11 and the filter 10 of the filtration device 12, by the circulation pipe 9. It is returned to the inner tank 1 side again.
【００１８】つぎにウェット洗浄装置が薬液Ｌの交換工
程に切り替えられると、アスピレータ３，５が作動し
て、内槽１および外槽２内の薬液Ｌが外部に排出される
とともに、フィルトレーション装置１２の循環ポンプ１
１が停止する。そして、この動作と同時に排水弁２３が
開くとともに、純水切替弁２２が純水通水状態に切り替
わる。その後、純水供給弁２１が開き、純水管２０を介
してフィルター１０の薬液流入面側に純水が供給され
る。このことにより、フィルター１０の薬液流入面側は
純水によって洗浄され、このフィルター１０の薬液流入
面側に付着した異物は排水弁２３を介して外部に排出さ
れる。Next, when the wet cleaning device is switched to the process of exchanging the chemical liquid L, the aspirators 3 and 5 are activated to discharge the chemical liquid L in the inner tank 1 and the outer tank 2 to the outside and to perform filtration. Circulation pump 1 of device 12
1 stops. Simultaneously with this operation, the drain valve 23 opens and the pure water switching valve 22 switches to the pure water passing state. Then, the pure water supply valve 21 is opened, and pure water is supplied to the chemical liquid inflow surface side of the filter 10 through the pure water pipe 20. As a result, the chemical liquid inflow surface side of the filter 10 is washed with pure water, and the foreign matter attached to the chemical liquid inflow surface side of the filter 10 is discharged to the outside through the drain valve 23.
【００１９】そして、このフィルター１０の薬液流入面
側の洗浄が終了すれば、排水弁２３が閉じ、純水管２０
からの純水がフィルター１０を通って内槽１側に流出さ
れる。このことにより、、フィルター１０の下流側の循
環配管９内の薬液Ｌは純水により内槽１内に押し出さ
れ、フィルター１０の下流側の循環配管９内の洗浄が行
なわれる。そして内槽１内に流出したこの薬液Ｌや純水
は、アスピレータ３を介して外部に排出される。そし
て、アスピレータ３，５により内槽１および外槽２内の
薬液Ｌ等が完全に外部に排出されると、アスピレータ
３，５が作動を停止するとともに、純水切替弁２２が薬
液通水状態に切り替わり、かつ純水供給弁２１が閉じ
る。つぎに、薬液供給弁７が開き、内槽１および外槽２
の所定位置まで薬液Ｌが供給されると、薬液Ｌの交換工
程は終了する。When the cleaning of the chemical solution inflow side of the filter 10 is completed, the drain valve 23 is closed and the pure water pipe 20 is closed.
Pure water from the inside passes through the filter 10 and flows out to the inner tank 1 side. As a result, the chemical liquid L in the circulation pipe 9 on the downstream side of the filter 10 is pushed into the inner tank 1 by the pure water, and the inside of the circulation pipe 9 on the downstream side of the filter 10 is cleaned. Then, the chemical liquid L and pure water that have flowed out into the inner tank 1 are discharged to the outside through the aspirator 3. When the chemicals L and the like in the inner tub 1 and the outer tub 2 are completely discharged to the outside by the aspirators 3 and 5, the aspirators 3 and 5 stop operating and the pure water switching valve 22 is in the chemical liquid passing state. , And the pure water supply valve 21 is closed. Next, the chemical solution supply valve 7 is opened, and the inner tank 1 and the outer tank 2 are
When the chemical liquid L is supplied to the predetermined position of, the exchange process of the chemical liquid L ends.
【００２０】なお、純水切替弁２２や排水弁２３の開閉
や切り替え、およびこの開閉や切り替えのタイミングは
ウェット洗浄装置側の制御装置（図示せず）を介してす
べて自動でなされる。The opening / closing and switching of the pure water switching valve 22 and the drain valve 23, and the timing of opening / closing and switching are all automatically performed through a controller (not shown) on the wet cleaning device side.
【００２１】以上のように、フィルトレーション装置１
２のフィルター１０上流側の循環配管９中に、弁部の切
り替えによってフィルター１０側への薬液通水状態と純
水通水状態とを切り替えることができる純水切替弁２２
を設け、かつフィルター１０の薬液流入面側に排水弁２
３を設けたため、ウェット洗浄装置の薬液Ｌの交換工程
において、フィルター１０を純水で洗浄してこのフィル
ター１０に付着した異物を排水弁２３を介して外部に排
出することができ、薬液Ｌの交換工程直後に、０．１μ
m レベルの異物が内槽１側に流入し、この異物がウェハ
ーに付着してしまうことはない。また、フィルター１０
の下流側の循環配管９内の薬液は純水により内槽１内に
押し出され、フィルター１０の下流側の循環配管９内の
洗浄も行われる。As described above, the filtration device 1
In the circulation pipe 9 on the upstream side of the second filter 10, the pure water switching valve 22 capable of switching between the chemical liquid flowing state and the pure water passing state to the filter 10 side by switching the valve portion.
And a drain valve 2 on the side of the liquid inflow surface of the filter 10
3 is provided, it is possible to wash the filter 10 with pure water in the process of exchanging the chemical liquid L in the wet cleaning device and discharge the foreign matter attached to the filter 10 to the outside through the drain valve 23. Immediately after the replacement process, 0.1μ
The m level foreign matter does not flow into the inner tank 1 side, and the foreign matter does not adhere to the wafer. Also, the filter 10
The chemical liquid in the circulation pipe 9 on the downstream side of is filtered out of the inner tank 1 by pure water, and the inside of the circulation pipe 9 on the downstream side of the filter 10 is also cleaned.
【００２２】実施例２．図２はこの発明の他の実施例に
係るウェハーのウェット洗浄装置の全体構成を示す系統
図である。図において、２４は純水が一定量だけ貯えら
れる純水タンク、２５は純水タンク２４に純水を供給す
る純水供給管、２６は純水供給管２５中に設けられ、純
水タンク２４内に常に一定レベルの純水が貯められるよ
うに自動的に開閉作動する純水タンク供給弁である。ま
た、この実施例２のウェット洗浄装置では、純水切替弁
２２がフィルトレーション装置１２の循環配管９の上流
管９ａ中に取り付けられている。なお、他の構成は実施
例１のウェット洗浄装置と同一である。Example 2. FIG. 2 is a system diagram showing the overall configuration of a wafer wet cleaning apparatus according to another embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 24 is a pure water tank for storing a fixed amount of pure water, 25 is a pure water supply pipe for supplying pure water to the pure water tank 24, and 26 is provided in the pure water supply pipe 25. It is a pure water tank supply valve that automatically opens and closes so that a certain level of pure water can be stored inside. Further, in the wet cleaning apparatus according to the second embodiment, the pure water switching valve 22 is attached in the upstream pipe 9a of the circulation pipe 9 of the filtration device 12. The other configurations are the same as those of the wet cleaning apparatus of the first embodiment.
【００２３】この実施例２のウェット洗浄装置では、純
水切替弁２２がフィルトレーション装置１２の循環配管
９の最も上流側に取り付けられているため、この純水切
替弁２２を介して流入され純水によって循環配管９の中
流管９ｂや下流管９ｃ内のみでなく上流管９ａや循環ポ
ンプ１１内の薬液Ｌの排出も可能となり、フィルトレー
ション装置１２内の薬液Ｌを完全に純水に置換できる。
また純水タンク２４を設け、純水供給管２５を介してこ
の純水タンク２４内に所定量の純水を貯えるようにして
いるため、ウェット洗浄装置の薬液Ｌの交換工程時に必
要量の純水が得られない場合でも、この純水タンク２４
中の純水を使用してフィルトレーション装置１２側に純
水を供給することができる。In the wet cleaning apparatus according to the second embodiment, since the pure water switching valve 22 is attached to the most upstream side of the circulation pipe 9 of the filtration apparatus 12, the pure water switching valve 22 flows in through the pure water switching valve 22. The pure water can discharge the chemical liquid L not only in the middle flow pipe 9b and the downstream pipe 9c of the circulation pipe 9 but also in the upstream pipe 9a and the circulation pump 11, so that the chemical liquid L in the filtration device 12 can be completely purified. Can be replaced.
Further, since a pure water tank 24 is provided and a predetermined amount of pure water is stored in the pure water tank 24 through the pure water supply pipe 25, a pure water tank 24 of a necessary amount can be stored in the process of exchanging the chemical liquid L in the wet cleaning device. Even if water is not available, this pure water tank 24
Pure water can be used to supply pure water to the filtration device 12 side.
【００２４】なお、この実施例２のウェット洗浄装置に
おいても、純水切替弁２２および排水弁２３を有してお
り、実施例１のウェット洗浄装置と同様な効果を得るこ
とができる。The wet cleaning apparatus of the second embodiment also has the pure water switching valve 22 and the drain valve 23, and the same effect as the wet cleaning apparatus of the first embodiment can be obtained.
【００２５】[0025]
【発明の効果】以上の説明から明らかなようにこの発明
によれば、フィルトレーション装置のフィルター上流側
の循環配管に、ウェハーの洗浄時には循環配管に薬液を
通水するが、薬液の循環が停止される薬液槽内の薬液交
換時には循環配管を介してフィルターの薬液流入面側に
純水を供給する純水切替弁を設け、かつフィルターの薬
液流入面側に排水弁を設けたので、薬液交換時におい
て、フィルトレーション装置の循環配管が純水を用いて
洗浄されるとともにフィルターが純水を用いて洗浄さ
れ、フィルトレーション装置から薬液槽側への異物の侵
入を防止できる。As is apparent from the above description, according to the present invention, the chemical liquid is passed through the circulation pipe on the upstream side of the filter of the filtration device when the wafer is cleaned, but the chemical liquid is circulated. When changing the chemical liquid in the chemical liquid tank to be stopped, a pure water switching valve that supplies pure water to the chemical liquid inflow surface side of the filter via the circulation pipe and a drain valve on the chemical liquid inflow surface side of the filter are installed. At the time of replacement, the circulation pipe of the filtration device is washed with pure water and the filter is washed with pure water, so that foreign matter can be prevented from entering the chemical liquid tank side from the filtration device.
【図１】この発明の実施例１に係るウェハーのウェット
洗浄装置の全体構成を示す系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing an overall configuration of a wet cleaning apparatus for wafers according to a first embodiment of the present invention.
【図２】この発明の実施例２に係るウェハーのウェット
洗浄装置の全体構成を示す系統図である。FIG. 2 is a system diagram showing an overall configuration of a wafer wet cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention.
【図３】従来のウェハーのウェット洗浄装置の全体構成
を示す系統図である。FIG. 3 is a system diagram showing an overall configuration of a conventional wafer wet cleaning apparatus.
１ 内槽（薬液槽） ９ 循環配管 １０ フィルター １２ フィルトレーション装置 ２２ 純水切替弁 ２３ 排水弁 1 Inner tank (chemical solution tank) 9 Circulation piping 10 Filter 12 Filtration device 22 Pure water switching valve 23 Drain valve
Claims (1)
と、循環配管を介して前記薬液槽内の薬液を循環させつ
つ、この循環配管中に設けられたフィルターにより、洗
浄中のウェハーから薬液内に流出した異物を除去するフ
ィルトレーション装置とを有するとともに、前記薬液槽
内の薬液がウェハーの所定量処理ごとに交換されるウェ
ハーのウェット洗浄装置において、前記フィルトレーシ
ョン装置の前記フィルター上流側の前記循環配管に設け
られ、前記フィルターの薬液流入面側に純水を供給する
純水切替弁と、前記フィルターの薬液流入面側に設けら
れ、フィルターに付着した異物を前記純水により外部に
排出する排水弁とを備えたことを特徴とするウェハーの
ウェット洗浄装置。1. A chemical solution tank for cleaning a wafer with a chemical solution, and a chemical solution in the chemical solution tank is circulated through a circulation pipe, and a filter provided in the circulation pipe is used to clean the wafer from the wafer being cleaned. And a filtration device for removing foreign matter that has flowed out into the wafer, and a wet cleaning device for a wafer in which the chemical solution in the chemical solution tank is exchanged for each predetermined amount of processing of the wafer, the filter upstream side of the filtration apparatus. A pure water switching valve provided on the circulation pipe for supplying pure water to the chemical liquid inflow surface side of the filter, and a foreign substance attached to the filter to the outside by the pure water provided on the chemical liquid inflow surface side of the filter. A wet wafer cleaning apparatus comprising a drain valve for discharging.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11478993A JPH06326071A (en) | 1993-05-17 | 1993-05-17 | Wet cleaning apparatus of wafer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11478993A JPH06326071A (en) | 1993-05-17 | 1993-05-17 | Wet cleaning apparatus of wafer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06326071A true JPH06326071A (en) | 1994-11-25 |
Family
ID=14646725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11478993A Pending JPH06326071A (en) | 1993-05-17 | 1993-05-17 | Wet cleaning apparatus of wafer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06326071A (en) |
-
1993
- 1993-05-17 JP JP11478993A patent/JPH06326071A/en active Pending
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