JPH0630338B2 - シランカツプリング済処理方法 - Google Patents
シランカツプリング済処理方法Info
- Publication number
- JPH0630338B2 JPH0630338B2 JP3119386A JP3119386A JPH0630338B2 JP H0630338 B2 JPH0630338 B2 JP H0630338B2 JP 3119386 A JP3119386 A JP 3119386A JP 3119386 A JP3119386 A JP 3119386A JP H0630338 B2 JPH0630338 B2 JP H0630338B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silane coupling
- coupling agent
- substrate
- decompression container
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0751—Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシランカップリング剤処理方法、特に、シラン
カップリング剤蒸気により基板を処理する方法に関す
る。
カップリング剤蒸気により基板を処理する方法に関す
る。
近年のフォトレジストによるパターン形成は微細化が進
み、そのためフォトレジストと基板との密着力即ち接着
力を強化する必要が生じている。特にノボラック系のポ
ジ型フォトレジストは高い解像度を有することにより広
く用いられているが、基板の表面がガラスあるいは二酸
化珪素などの酸化物の場合には、フォトレジストと基板
表面の接着力が小さく、その強化が必要であった。
み、そのためフォトレジストと基板との密着力即ち接着
力を強化する必要が生じている。特にノボラック系のポ
ジ型フォトレジストは高い解像度を有することにより広
く用いられているが、基板の表面がガラスあるいは二酸
化珪素などの酸化物の場合には、フォトレジストと基板
表面の接着力が小さく、その強化が必要であった。
一般に、フォトレジストなどの樹脂とガラス等の接着力
強化のために、前処理としてシランカップリング剤をガ
ラス等の表面にコーティングすることが知られている。
例えば米国特許 3,549,368号（R. H. Collins and F.T.
Deverse “Process for Improving Phtorcsist Adhesi
on”）に示されているようにフォトレジストの塗布前に
ヘキサメチルジシラザンなどのヘキサアルキルジシラザ
ンをスピンコートする前処理を行うことが知られてい
る。
強化のために、前処理としてシランカップリング剤をガ
ラス等の表面にコーティングすることが知られている。
例えば米国特許 3,549,368号（R. H. Collins and F.T.
Deverse “Process for Improving Phtorcsist Adhesi
on”）に示されているようにフォトレジストの塗布前に
ヘキサメチルジシラザンなどのヘキサアルキルジシラザ
ンをスピンコートする前処理を行うことが知られてい
る。
このシランカップリング剤による前処理は、親水性であ
る基板表面をカップリングにより疎水性に変換し、疎水
性の樹脂例えばフォトレジストとの親和性を高めること
によって接着力を強化するものである。
る基板表面をカップリングにより疎水性に変換し、疎水
性の樹脂例えばフォトレジストとの親和性を高めること
によって接着力を強化するものである。
従来のシランカップリング剤処理方法としては前述した
ようにスピナーによる塗布あるいは浸漬による塗布方法
が知られていた。
ようにスピナーによる塗布あるいは浸漬による塗布方法
が知られていた。
あるいは、第２図に示すようにシランカップリング剤１
０を収容した密閉容器２０の中に基板５を所定時間静置
することによって、シランカップリング剤蒸気中での処
理を行っていた。
０を収容した密閉容器２０の中に基板５を所定時間静置
することによって、シランカップリング剤蒸気中での処
理を行っていた。
上述した従来の処理方法の中では、シランカップリング
剤蒸気を用いた処理がシランカップリング剤中のゴミや
不純物の影響がなく、塗布や浸漬による処理よりも有利
である。
剤蒸気を用いた処理がシランカップリング剤中のゴミや
不純物の影響がなく、塗布や浸漬による処理よりも有利
である。
ところが、この蒸気による処理では密閉容器に基板を収
容する時、あるいは取り出す時に密閉容器を開放するた
め、密閉容器内のシランカップリング剤蒸気の濃度が低
下する。基板収容時の開放時間あるいは収容前の保持時
間によってシランカップリング剤蒸気の初期濃度が変動
するだけでなく、処理中も濃度が変化するため、シラン
カップリング剤処理条件の制御が困難であるという欠点
があった。
容する時、あるいは取り出す時に密閉容器を開放するた
め、密閉容器内のシランカップリング剤蒸気の濃度が低
下する。基板収容時の開放時間あるいは収容前の保持時
間によってシランカップリング剤蒸気の初期濃度が変動
するだけでなく、処理中も濃度が変化するため、シラン
カップリング剤処理条件の制御が困難であるという欠点
があった。
また、シランカップリング剤は空気中の水分と反応し、
劣化する。例えばヘキサメチルジシラザンでは空気中の
水分と反応して、アンモニアを生成する。
劣化する。例えばヘキサメチルジシラザンでは空気中の
水分と反応して、アンモニアを生成する。
従って、シランカップリング剤は水分のない雰囲気で保
管や使用することが必要であるが、従来の方法では操作
上空気中でしか処理できないという欠点もあった。
管や使用することが必要であるが、従来の方法では操作
上空気中でしか処理できないという欠点もあった。
本発明のシランカップリング剤処理方法は、シランカッ
プリング剤を収容した第１の減圧容器内を減圧してシラ
ンカップリング剤を気化せしめた後、該第１の減圧容器
内に乾燥不活性ガスを導入し、基板を収容し減圧した第
２の減圧容器内に前記不活性ガスと共にシランカップリ
ング剤蒸気を導入して、前記基板表面を所定時間処理し
た後、前記第２の減圧容器内を再度減圧し、乾燥不活性
ガスを導入して処理を停止すると共に処理された基板を
安定に保管することを特徴とする。
プリング剤を収容した第１の減圧容器内を減圧してシラ
ンカップリング剤を気化せしめた後、該第１の減圧容器
内に乾燥不活性ガスを導入し、基板を収容し減圧した第
２の減圧容器内に前記不活性ガスと共にシランカップリ
ング剤蒸気を導入して、前記基板表面を所定時間処理し
た後、前記第２の減圧容器内を再度減圧し、乾燥不活性
ガスを導入して処理を停止すると共に処理された基板を
安定に保管することを特徴とする。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図に示すように容器１１に入れたシランカップリン
グ剤１０を収容した減圧容器１を所定圧力まで真空ポン
プ（図示せず）で減圧し、シランカップリング剤を気化
させる。
グ剤１０を収容した減圧容器１を所定圧力まで真空ポン
プ（図示せず）で減圧し、シランカップリング剤を気化
させる。
次にガラス基板５を収容した減圧容器２を所定圧力まで
減圧する。減圧容器１内でシランカップリング剤の気化
が進み、所定圧力まで上昇した後、減圧容器１内に窒素
ガスを導入するとともに、２つの減圧容器１，２を接続
する配管３に設けられたバルブ４を開放して、減圧容器
１に導入した窒素ガスとともにシランカップリング剤蒸
気を減圧容器２内に導入する。
減圧する。減圧容器１内でシランカップリング剤の気化
が進み、所定圧力まで上昇した後、減圧容器１内に窒素
ガスを導入するとともに、２つの減圧容器１，２を接続
する配管３に設けられたバルブ４を開放して、減圧容器
１に導入した窒素ガスとともにシランカップリング剤蒸
気を減圧容器２内に導入する。
所定時間ガラス基板５の表面を処理した後、減圧容器１
への窒素導入を停止し、バルブ４を閉じる。次に減圧容
器２を再度減圧してシランカップリング剤蒸気を窒素ガ
スと共に排出した後、減圧容器２内に窒素ガスを導入
し、処理された基板５を使用するまで保管する。なお、
減圧容器１，２への窒素導入配管およびバルブは図示し
ていない。
への窒素導入を停止し、バルブ４を閉じる。次に減圧容
器２を再度減圧してシランカップリング剤蒸気を窒素ガ
スと共に排出した後、減圧容器２内に窒素ガスを導入
し、処理された基板５を使用するまで保管する。なお、
減圧容器１，２への窒素導入配管およびバルブは図示し
ていない。
本発明のシランカップリング剤処理方法は、処理前にシ
ランカップリング剤を収容した減圧容器内を減圧した
後、所定圧力までシランカップ剤を気化させることによ
り、初期のシランカップリング剤蒸気の量を一定にして
処理することができる。即ち、シランカップリング剤処
理が一定の条件のもとで安定に行えるという効果があ
る。
ランカップリング剤を収容した減圧容器内を減圧した
後、所定圧力までシランカップ剤を気化させることによ
り、初期のシランカップリング剤蒸気の量を一定にして
処理することができる。即ち、シランカップリング剤処
理が一定の条件のもとで安定に行えるという効果があ
る。
また乾燥不活性ガスを導入することにより、基板を収容
した第２の減圧容器へのシランカップリング剤蒸気の導
入がスムーズになり、処理時間の短縮の他、処理された
基板およびシランカップリング剤の保存や使用が乾燥不
活性ガス雰囲気となるので、水分による劣化が防止でき
るという効果がある。
した第２の減圧容器へのシランカップリング剤蒸気の導
入がスムーズになり、処理時間の短縮の他、処理された
基板およびシランカップリング剤の保存や使用が乾燥不
活性ガス雰囲気となるので、水分による劣化が防止でき
るという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す説明図、第２図は従来
の方法を示す説明図である。 １……第１の減圧容器、２……第２の減圧容器、３……
配管、４……バルブ、５……基板、１０……シランカッ
プリング剤、１１……シランカップリング剤容器。
の方法を示す説明図である。 １……第１の減圧容器、２……第２の減圧容器、３……
配管、４……バルブ、５……基板、１０……シランカッ
プリング剤、１１……シランカップリング剤容器。
Claims (1)
- 【請求項１】シランカップリング剤を収容した第１の減
圧容器内を減圧してシランカップリング剤を気化せしめ
た後、該第１の減圧容器内に乾燥不活性ガスを導入し、
基板を収容し減圧した第２の減圧容器内に前記不活性ガ
スと共にシランカップリング剤蒸気を導入して、前記基
板表面を所定時間処理した後、前記第２の減圧容器内を
再度減圧し、乾燥不活性ガスを導入して、処理を停止す
ると共に処理された基板を安定に保管することを特徴と
するシランカップリング剤処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3119386A JPH0630338B2 (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | シランカツプリング済処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3119386A JPH0630338B2 (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | シランカツプリング済処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62187845A JPS62187845A (ja) | 1987-08-17 |
| JPH0630338B2 true JPH0630338B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=12324587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3119386A Expired - Lifetime JPH0630338B2 (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | シランカツプリング済処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630338B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016174150A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド製造用基材とインプリントモールドの製造方法 |
| KR20210029915A (ko) * | 2019-09-09 | 2021-03-17 | 인천대학교 산학협력단 | 무용매 기상증착법을 이용한 실리카 분말의 표면 개질 방법 및 실리카-금속 코어-쉘 복합체 제조방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4881507B2 (ja) * | 2001-03-01 | 2012-02-22 | 株式会社アルバック | プラスチック成形品の表面処理方法及び蒸着膜の形成されたプラスチック成形品の製造方法 |
| KR20110086028A (ko) | 2008-10-21 | 2011-07-27 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 표면 처리액 및 표면 처리 방법, 그리고 소수화 처리 방법 및 소수화된 기판 |
-
1986
- 1986-02-14 JP JP3119386A patent/JPH0630338B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016174150A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド製造用基材とインプリントモールドの製造方法 |
| KR20210029915A (ko) * | 2019-09-09 | 2021-03-17 | 인천대학교 산학협력단 | 무용매 기상증착법을 이용한 실리카 분말의 표면 개질 방법 및 실리카-금속 코어-쉘 복합체 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62187845A (ja) | 1987-08-17 |
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