JPH06298911A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
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- JPH06298911A JPH06298911A JP5089753A JP8975393A JPH06298911A JP H06298911 A JPH06298911 A JP H06298911A JP 5089753 A JP5089753 A JP 5089753A JP 8975393 A JP8975393 A JP 8975393A JP H06298911 A JPH06298911 A JP H06298911A
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- ether
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】カチオン重合性ビニルモノマーと開環重合性エ
ポキシモノマーを用いて紫外線（２００−４５０ｎｍの
波長）を照射することよりハイブリッドな重合体あるい
は、架橋化合物を得る組成物を提供する。 【構成】カチオン重合性不飽和ビニル化合物（Ａ）、エ
ポキシ化合物（Ｂ）、オニウム塩化合物（Ｃ）、及び光
重合開始剤（Ｄ）からなる感光性組成物である。 【効果】２００−４５０ｎｍの紫外線を照射することに
より重合あるいは硬化反応を起こす。このことから新し
いハイブリッドタイプの紫外線感光性材料を簡便に得る
ことが出来る。
ポキシモノマーを用いて紫外線（２００−４５０ｎｍの
波長）を照射することよりハイブリッドな重合体あるい
は、架橋化合物を得る組成物を提供する。 【構成】カチオン重合性不飽和ビニル化合物（Ａ）、エ
ポキシ化合物（Ｂ）、オニウム塩化合物（Ｃ）、及び光
重合開始剤（Ｄ）からなる感光性組成物である。 【効果】２００−４５０ｎｍの紫外線を照射することに
より重合あるいは硬化反応を起こす。このことから新し
いハイブリッドタイプの紫外線感光性材料を簡便に得る
ことが出来る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線（２００〜４５
０ｎｍ）で重合する複合系感光組成物に関するものであ
る。さらに詳しくは紫外線照射により、オニウム塩化合
物と光重合開始剤により生成するカチオン重合開始源に
より、それぞれカチオン重合性不飽和化合物はカチオン
重合し、エポキシ化合物は開環重合する２種の異なる重
合反応が同時に、あるいは後加熱などの処理により重合
が起こり、重合物あるいは架橋生成物を与える光重合開
始剤を含むことを特徴とする紫外線感光性組成物に関す
る。
０ｎｍ）で重合する複合系感光組成物に関するものであ
る。さらに詳しくは紫外線照射により、オニウム塩化合
物と光重合開始剤により生成するカチオン重合開始源に
より、それぞれカチオン重合性不飽和化合物はカチオン
重合し、エポキシ化合物は開環重合する２種の異なる重
合反応が同時に、あるいは後加熱などの処理により重合
が起こり、重合物あるいは架橋生成物を与える光重合開
始剤を含むことを特徴とする紫外線感光性組成物に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】カチオン重合性不飽和ビニル化合物（ビ
ニルエーテル化合物など）は、基材に対して接着性が良
くなるなどのために、他のビニルモノマーと共重合させ
接着剤として用られている。一般的には、ルイス酸系触
媒を用いて加熱重合法にて合成されている。またエポキ
シ化合物は、取扱いが容易で電気特性が良いなど電子材
料分野の封子材などに広く利用されているが、一般には
加熱硬化法にて硬化されている。またビニルエーテル化
合物は、オニウム塩化合物と光重合開始剤の共存下で紫
外線硬化あるいは重合することはP-E SUNDELL,S.JONSSO
N,AND A.HULT:J.POLYM.SCIE.POLYM.CHEM.ED.,29,1525(1
991)に報告されている。これは紫外線（４００ｎｍ以下
の波長）を用いたジビニルエーテルの紫外線カチオン重
合反応に関するものである。
ニルエーテル化合物など）は、基材に対して接着性が良
くなるなどのために、他のビニルモノマーと共重合させ
接着剤として用られている。一般的には、ルイス酸系触
媒を用いて加熱重合法にて合成されている。またエポキ
シ化合物は、取扱いが容易で電気特性が良いなど電子材
料分野の封子材などに広く利用されているが、一般には
加熱硬化法にて硬化されている。またビニルエーテル化
合物は、オニウム塩化合物と光重合開始剤の共存下で紫
外線硬化あるいは重合することはP-E SUNDELL,S.JONSSO
N,AND A.HULT:J.POLYM.SCIE.POLYM.CHEM.ED.,29,1525(1
991)に報告されている。これは紫外線（４００ｎｍ以下
の波長）を用いたジビニルエーテルの紫外線カチオン重
合反応に関するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は２００〜４５
０ｎｍの紫外光の光に感応して重合反応や光架橋反応を
起こし基材やフィルムによく接着する、あるいは硬化特
性に優れた高感度の感光性組成物を提供することを目的
とする。
０ｎｍの紫外光の光に感応して重合反応や光架橋反応を
起こし基材やフィルムによく接着する、あるいは硬化特
性に優れた高感度の感光性組成物を提供することを目的
とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、以上の諸点
を考慮し、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、本
発明に至った。すなわち、本発明は、カチオン重合性不
飽和ビニル化合物（Ａ）、エポキシ化合物（Ｂ）、オニ
ウム塩化合物（Ｃ）、及び必要に応じて光重合開始剤
（Ｄ）からなる２００〜４５０ｎｍの紫外線により光重
合することを特徴とする感光性組成物である。本発明に
おいては、オニウム塩化合物（Ｃ）の光分解で生成した
ルイス酸により、カチオン重合性不飽和ビニル化合物
（Ａ）が、カチオン重合反応を引き起こし重合あるい
は、架橋反応が起こる。また光分解で生成したルイス酸
によりエポキシ化合物の開環重合反応と、ビニルエーテ
ルのカチオンビニル重合反応が起こり、重合あるいは架
橋が起こるものである。これは２種の異なる重合反応が
同時あるいは同じ反応の場で起こることであり、新しい
ハイブリッドタイプ（複合型）の紫外線感光性組成物で
ある。
を考慮し、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、本
発明に至った。すなわち、本発明は、カチオン重合性不
飽和ビニル化合物（Ａ）、エポキシ化合物（Ｂ）、オニ
ウム塩化合物（Ｃ）、及び必要に応じて光重合開始剤
（Ｄ）からなる２００〜４５０ｎｍの紫外線により光重
合することを特徴とする感光性組成物である。本発明に
おいては、オニウム塩化合物（Ｃ）の光分解で生成した
ルイス酸により、カチオン重合性不飽和ビニル化合物
（Ａ）が、カチオン重合反応を引き起こし重合あるい
は、架橋反応が起こる。また光分解で生成したルイス酸
によりエポキシ化合物の開環重合反応と、ビニルエーテ
ルのカチオンビニル重合反応が起こり、重合あるいは架
橋が起こるものである。これは２種の異なる重合反応が
同時あるいは同じ反応の場で起こることであり、新しい
ハイブリッドタイプ（複合型）の紫外線感光性組成物で
ある。
【０００５】カチオン重合性不飽和ビニル化合物（Ａ）
には、特に制限はなく、例えばエチレングリコールジビ
ニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテ
ル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールモノビ
ニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、グリセ
ロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパンジ
ビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエ
ーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、
ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテト
ラビニルエーテル、アリルビニルエーテル、４−ビニル
エーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテル、
フェニルビニルエーテル、などのアリールビニルエーテ
ル類やｔ−ブチルビニルエーテルなどのアルキルビニル
エーテル類でビニルエーテル基を有する化合物、あるい
は水酸基をビニルエーテル変性したモノマーやポリマー
類、その他スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベ
ンゼン、ポリブタジエンなどのジエン系ポリマー類、ビ
ニルカルバゾールなどのカチオン重合性能を有するモノ
マーあるいはポリマー類で単独あるいは数種類混合して
用いても差し支えない。
には、特に制限はなく、例えばエチレングリコールジビ
ニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテ
ル、プロピレングリコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールモノビ
ニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、グリセ
ロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパンジ
ビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエ
ーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、
ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトールテト
ラビニルエーテル、アリルビニルエーテル、４−ビニル
エーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエーテル、
フェニルビニルエーテル、などのアリールビニルエーテ
ル類やｔ−ブチルビニルエーテルなどのアルキルビニル
エーテル類でビニルエーテル基を有する化合物、あるい
は水酸基をビニルエーテル変性したモノマーやポリマー
類、その他スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベ
ンゼン、ポリブタジエンなどのジエン系ポリマー類、ビ
ニルカルバゾールなどのカチオン重合性能を有するモノ
マーあるいはポリマー類で単独あるいは数種類混合して
用いても差し支えない。
【０００６】本発明において、エポキシ化合物（Ｂ）と
しては特に制限はなく例えば、エチレングリコールジグ
リシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジル
エーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ネ
オペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペン
チルグリコールモノグリシジルエーテル、グリセロール
ジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエ
ーテル、グリセロールモノグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグ
リシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエー
テル、アリルグリシジルエーテル、２ーエチルヘキシル
グリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ビ
ニルシクロヘキセンジオキサイド、３、４ーエポキシシ
クロヘキシルメチルー３、４ーエポキシシクロヘキセン
カルボキシレート、ビス（３、４ーエポキシシクロヘキ
シルメチル）アジペート、ビス（３、４ーエポキシー６
ーメチルーシクロヘキシルメチル）アジペート、ビスフ
ェノール−Ａージグリシジルエーテル、シクロヘキセン
オキサイド、２ーフェニルエチレンオキサイド、トリグ
リシジルイソシアネート、テトラグリシジルアミノジフ
ェニルメタン、とりぐりしじるーパラアミノフェノー
ル、トリグリシジルーメタフェノール、ジグリシジルア
ニリン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキ
サン等のエポキシモノマー類で単独あるいは数種類混合
して用いても差し支えない。またエポキシ変性ポリブタ
ジエンなどのエポキシ変性ポリマー類を単独あるいはエ
ポキシモノマー類と混合して用いることも可能である。
特殊な例としてエポキシ基とビニルエーテル基を有する
モノマー類や変性ポリマー類を用いることも可能であ
る。
しては特に制限はなく例えば、エチレングリコールジグ
リシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジル
エーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ネ
オペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペン
チルグリコールモノグリシジルエーテル、グリセロール
ジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエ
ーテル、グリセロールモノグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグ
リシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエー
テル、アリルグリシジルエーテル、２ーエチルヘキシル
グリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ビ
ニルシクロヘキセンジオキサイド、３、４ーエポキシシ
クロヘキシルメチルー３、４ーエポキシシクロヘキセン
カルボキシレート、ビス（３、４ーエポキシシクロヘキ
シルメチル）アジペート、ビス（３、４ーエポキシー６
ーメチルーシクロヘキシルメチル）アジペート、ビスフ
ェノール−Ａージグリシジルエーテル、シクロヘキセン
オキサイド、２ーフェニルエチレンオキサイド、トリグ
リシジルイソシアネート、テトラグリシジルアミノジフ
ェニルメタン、とりぐりしじるーパラアミノフェノー
ル、トリグリシジルーメタフェノール、ジグリシジルア
ニリン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキ
サン等のエポキシモノマー類で単独あるいは数種類混合
して用いても差し支えない。またエポキシ変性ポリブタ
ジエンなどのエポキシ変性ポリマー類を単独あるいはエ
ポキシモノマー類と混合して用いることも可能である。
特殊な例としてエポキシ基とビニルエーテル基を有する
モノマー類や変性ポリマー類を用いることも可能であ
る。
【０００７】本発明においてオニウム塩化合物（Ｃ）と
しては、一般にルイス酸のオニウム塩を挙げることが出
来る。ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨウドニ
ウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩が用いられる。これ
らの化合物の一例として四フッ化ホウ素のフェニルジア
ゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム
塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、
六フッ化ヒ素のトリ−４−メチルフェニルスルホニウム
塩、四フッ化アンチモンのトリ−４−メチルフェニルス
ルホニウム塩、アセチルアセトンアルミニウム塩とオル
トニトロベンジルシリルエーテル混合体、フェニルチオ
ピリリウム塩、六フッ化リンアレン−鉄錯体、でありこ
れに限定されることはなく光反応にてルイス酸を生成す
る化合物であれば用いることが出来る。
しては、一般にルイス酸のオニウム塩を挙げることが出
来る。ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨウドニ
ウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩が用いられる。これ
らの化合物の一例として四フッ化ホウ素のフェニルジア
ゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム
塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、
六フッ化ヒ素のトリ−４−メチルフェニルスルホニウム
塩、四フッ化アンチモンのトリ−４−メチルフェニルス
ルホニウム塩、アセチルアセトンアルミニウム塩とオル
トニトロベンジルシリルエーテル混合体、フェニルチオ
ピリリウム塩、六フッ化リンアレン−鉄錯体、でありこ
れに限定されることはなく光反応にてルイス酸を生成す
る化合物であれば用いることが出来る。
【０００８】光重合開始剤（Ｄ）は、組成物を光硬化さ
せる上で必須ではないが、硬化速度を早めるため使用す
ることが好ましい。このような光重合開始剤（Ｄ）とし
ては、２００〜４５０ｎｍの波長の光を照射する事によ
りラジカル重合する光開始剤であれば用いることができ
る。代表例としてはベンゾインエーテル系として例えば
ベンジル、ベンゾイン、ベンジルジアルキルケタール、
アセトフェノン系としては２ーヒドロキシー２ーメチル
プロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロロアセトフ
ェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンゾフ
ェノン系としてはベンゾフェノン、４ークロロベンゾフ
ェノン、ｏーベンゾイル安息香酸メチル、４ー４’ージ
アルキルアミノベンゾフェノン、チオキサントン系とし
てはチオキサントン、２ークロロチオキサントン、２ー
アルキルチオキサントン、その他として２ーアルキルア
ントラキノンなどがあるがこれに限定する必要はなく、
紫外線によりラジカル重合反応が開始する物であれば良
い、またこれら光重合開始剤を２種以上混合して用いる
ことが出来る。
せる上で必須ではないが、硬化速度を早めるため使用す
ることが好ましい。このような光重合開始剤（Ｄ）とし
ては、２００〜４５０ｎｍの波長の光を照射する事によ
りラジカル重合する光開始剤であれば用いることができ
る。代表例としてはベンゾインエーテル系として例えば
ベンジル、ベンゾイン、ベンジルジアルキルケタール、
アセトフェノン系としては２ーヒドロキシー２ーメチル
プロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロロアセトフ
ェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンゾフ
ェノン系としてはベンゾフェノン、４ークロロベンゾフ
ェノン、ｏーベンゾイル安息香酸メチル、４ー４’ージ
アルキルアミノベンゾフェノン、チオキサントン系とし
てはチオキサントン、２ークロロチオキサントン、２ー
アルキルチオキサントン、その他として２ーアルキルア
ントラキノンなどがあるがこれに限定する必要はなく、
紫外線によりラジカル重合反応が開始する物であれば良
い、またこれら光重合開始剤を２種以上混合して用いる
ことが出来る。
【０００９】本発明の感光性組成物は、カチオン重合性
不飽和ビニル化合物（Ａ）１〜９９重量％、エポキシ化
合物（Ｂ）１〜９９重量％、オニウム塩化合物（Ｃ）
０．１〜１０重量％および光重合開始剤（Ｄ）０〜１０
重量％、好ましくは、０．１〜１０重量％を配合するこ
とが好ましい。本発明の感光性組成物には、必要に応じ
て通常の染料、顔料、添加剤、樹脂化合物、禁止剤等や
適当な希釈溶剤を加えても差し支えない。本発明の感光
性組成物の各添加量に関しては、光重合するに適した重
量部であればよく、その量に関しては特に限定するもの
でない。
不飽和ビニル化合物（Ａ）１〜９９重量％、エポキシ化
合物（Ｂ）１〜９９重量％、オニウム塩化合物（Ｃ）
０．１〜１０重量％および光重合開始剤（Ｄ）０〜１０
重量％、好ましくは、０．１〜１０重量％を配合するこ
とが好ましい。本発明の感光性組成物には、必要に応じ
て通常の染料、顔料、添加剤、樹脂化合物、禁止剤等や
適当な希釈溶剤を加えても差し支えない。本発明の感光
性組成物の各添加量に関しては、光重合するに適した重
量部であればよく、その量に関しては特に限定するもの
でない。
【００１０】また本発明に関して必要に応じて用いる希
釈溶剤としては、可視光感光性組成物を溶解あるいは分
散する溶剤であれば使用することが出来る。本発明に必
要に応じて用いる樹脂化合物としては、ポリスチレン、
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニ
トリル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルクロライド、ポリ酢酸ビニル、ナイロン
樹脂、ポリエステル樹脂、その他ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどのポリビニル系ポリマー類、セルロース、
リグニン等の天然樹脂など溶剤、または水可溶または溶
剤あるいは水分散可能な樹脂なら用いることが出来る。
釈溶剤としては、可視光感光性組成物を溶解あるいは分
散する溶剤であれば使用することが出来る。本発明に必
要に応じて用いる樹脂化合物としては、ポリスチレン、
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニ
トリル、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルクロライド、ポリ酢酸ビニル、ナイロン
樹脂、ポリエステル樹脂、その他ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどのポリビニル系ポリマー類、セルロース、
リグニン等の天然樹脂など溶剤、または水可溶または溶
剤あるいは水分散可能な樹脂なら用いることが出来る。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこの例に限定されるものでない。な
お、例中「部」とは重量部を示す。 実施例１ ジエチレングリコールジビニルエーテル １５部 ３、５ーエポキシシクロヘキシルメチルー３’、４’エポキシシクロヘキシルカ ルボキシレート（ＥＲＬ４２２１ ＵＣＣ社製） ２５部 トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェイト ５部 ベンゾフェノン ５部 ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール １０部 ジオキサン ４００部 上記組成からなる感光液を５０×５０×２ｍｍのガラス
板上に、感光液乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように４
ＭＩＬアプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、感光板
を作成した。オゾンレスタイプ紫外線照射装置にて８０
ｗ／ｃｍ（１灯）、５ｍ／ｍｉｎの条件で紫外線照射
し、照射後３０分間１００℃で後処理した後ジオキサン
で現像した結果、未反応部は殆ど無くガラス板上に硬化
フィルムが得られた。
するが、本発明はこの例に限定されるものでない。な
お、例中「部」とは重量部を示す。 実施例１ ジエチレングリコールジビニルエーテル １５部 ３、５ーエポキシシクロヘキシルメチルー３’、４’エポキシシクロヘキシルカ ルボキシレート（ＥＲＬ４２２１ ＵＣＣ社製） ２５部 トリフェニルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェイト ５部 ベンゾフェノン ５部 ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール １０部 ジオキサン ４００部 上記組成からなる感光液を５０×５０×２ｍｍのガラス
板上に、感光液乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように４
ＭＩＬアプリケーターを用いて塗布後、乾燥し、感光板
を作成した。オゾンレスタイプ紫外線照射装置にて８０
ｗ／ｃｍ（１灯）、５ｍ／ｍｉｎの条件で紫外線照射
し、照射後３０分間１００℃で後処理した後ジオキサン
で現像した結果、未反応部は殆ど無くガラス板上に硬化
フィルムが得られた。
【００１２】実施例２ ポリ−メチルメタアクリレート（東京化成工業（株）社製） ５０部 ビスフェノール−Ａ−ジグリシジルエーテル ４０部 ジエチレングリコールジビニルエーテル ２０部 チオキサントン ５部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ジオキサン ４００部 実施例１と同様にガラス板上に１０μｍの膜厚になるよ
うに塗布乾燥後、オゾンレスタイプ紫外線照射装置にて
８０ｗ／ｃｍ（１灯）、５ｍ／ｍｉｎの条件で照射し、
照射後２０分間１２０℃で後処理した後、ジオキサンで
現像した結果、不溶部が得られた。 光硬化物は、ジオ
キサン、トルエン、エタノールに不溶であった。この場
合はビニルエーテル基のカチオン重合とエポキシ基の開
環重合反応が同時に反応の系内で起こったものと推測で
きる。
うに塗布乾燥後、オゾンレスタイプ紫外線照射装置にて
８０ｗ／ｃｍ（１灯）、５ｍ／ｍｉｎの条件で照射し、
照射後２０分間１２０℃で後処理した後、ジオキサンで
現像した結果、不溶部が得られた。 光硬化物は、ジオ
キサン、トルエン、エタノールに不溶であった。この場
合はビニルエーテル基のカチオン重合とエポキシ基の開
環重合反応が同時に反応の系内で起こったものと推測で
きる。
【００１３】実施例３ ジエチレングリコールジビニルエーテル ２０部 フェニルビニルエーテル １０部 テトラグリシジルメタキシレンジアミン ２０部 ＥＲＬ４２２１（ＵＣＣ社製） ４０部 ミフィラーケトン（ニッソキュア ＭＡＢＰ） ５部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 上記組成物を高速撹拌機で撹拌・混合して感光性組成物
を得た。得られた乾燥膜を実施例２と同様に紫外線照射
装置にて８０ｗ／ｃｍ（１灯）、５ｍｉｎの条件での露
光量でライン照射した、露光後１００℃の熱処理を行っ
た後、現像を行なう事により強固な硬化フィルムを得る
ことが出来た。
を得た。得られた乾燥膜を実施例２と同様に紫外線照射
装置にて８０ｗ／ｃｍ（１灯）、５ｍｉｎの条件での露
光量でライン照射した、露光後１００℃の熱処理を行っ
た後、現像を行なう事により強固な硬化フィルムを得る
ことが出来た。
【００１４】実施例４ ジエチレングリコールジビニルエーテル １０部 ジビニルベンゼン ５部 ＥＲＬ４２２１（ＵＣＣ社製） ３０部 ベンゾイルメチルエーテル（ニッソキュア ＭＢＯ） ５部 ジフェニルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ビスフェノール−Ａ−ジアリレート １０部 ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール ２０部 ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ） １５部 ジオキサン ４００部 上記感光性組成物を厚さ２ｍｍの硬質ガラス板上にスピ
ーナで乾燥後の膜厚１μｍになるように塗布した。キセ
ノンランプで３６５ｎｍの波長の光を２５５ｍＪ／ｃｍ
2 の露光量で照射しスポットパターン像を描いた後、１
２０℃で３０分間熱処理後ジオキサン溶液で現像処理
し、スポットパターン像を得る事が出来た。
ーナで乾燥後の膜厚１μｍになるように塗布した。キセ
ノンランプで３６５ｎｍの波長の光を２５５ｍＪ／ｃｍ
2 の露光量で照射しスポットパターン像を描いた後、１
２０℃で３０分間熱処理後ジオキサン溶液で現像処理
し、スポットパターン像を得る事が出来た。
【００１５】この場合はカチオン重合反応と開環重合が
同時に起こることが推察できるまたエポキシの開環重合
反応とビニルエーテルのカチオン単独重合が反応系中で
起こっていると推測されるが架橋反応メカニズムは明確
でない。 実施例５ ジエチレングリコールジビニルエーテル ３０部 ビスフェノール−Ａ−ジグリシジルエーテル ２０部 ＥＲＬ４２２１（ＵＣＣ社製） １０部 ４、４’ジエチルアミノベンゾフェノン ５部 ジフェニルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ポリメチルメタアクリレート １５部 トルエン １１５部 上記感光性組成物をアルミ板の上に乾燥膜厚がスピーナ
で５μｍになるように塗布し乾燥後、３６５ｎｍの波長
のキセノンランプで露光量２５０ｍＪ／ｃｍ2で１ｃｍ
×１ｃｍの面積に光照射後、現像処理後、得られたパタ
ーン像を１００℃で１時間熱処理するとジエチレングリ
コールジビニルエーテルが後硬化することにより膜に屈
折差が生じ干渉縞が得られた。この場合はＥＲＬ４２２
１の開環重合反応がまず生じ後にカチオンビニル重合反
応が起こるものと推察されるが反応メカニズムは明確で
ない。
同時に起こることが推察できるまたエポキシの開環重合
反応とビニルエーテルのカチオン単独重合が反応系中で
起こっていると推測されるが架橋反応メカニズムは明確
でない。 実施例５ ジエチレングリコールジビニルエーテル ３０部 ビスフェノール−Ａ−ジグリシジルエーテル ２０部 ＥＲＬ４２２１（ＵＣＣ社製） １０部 ４、４’ジエチルアミノベンゾフェノン ５部 ジフェニルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ポリメチルメタアクリレート １５部 トルエン １１５部 上記感光性組成物をアルミ板の上に乾燥膜厚がスピーナ
で５μｍになるように塗布し乾燥後、３６５ｎｍの波長
のキセノンランプで露光量２５０ｍＪ／ｃｍ2で１ｃｍ
×１ｃｍの面積に光照射後、現像処理後、得られたパタ
ーン像を１００℃で１時間熱処理するとジエチレングリ
コールジビニルエーテルが後硬化することにより膜に屈
折差が生じ干渉縞が得られた。この場合はＥＲＬ４２２
１の開環重合反応がまず生じ後にカチオンビニル重合反
応が起こるものと推察されるが反応メカニズムは明確で
ない。
【００１６】以上本発明は、カチオンビニル重合反応と
エポキシの開環重合反応が共存するハイブリッド（複
合）タイプの新しい紫外線感光性組成物であり紫外線
（２００〜４５０ｎｍの波長領域）で硬化や重合反応が
起こる。 実施例６ ジエチレングリコールジビニルエーテル １５部 テトラグリシジルメタフェニレンジアミン ２０部 ＥＲＬ４２２１（ＵＣＣ社製） １０部 フタロシアニンテトラスルホン酸のナトリウム塩 ５部 ジフェニルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ポリビニルピロリドン １０部 ポリビニルアルコール １０部 エタノール １２５部 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ） １００部 上記感光性組成物をよく高速撹拌機にて分散溶解させ、
スピーナにてアルミニウム基材上に乾燥後膜厚１０μｍ
になるように塗布した。キセノンランプで３６５ｎｍの
波長の光を２６０ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照射した結
果、エタノール、ＤＭＦにも不溶化した。
エポキシの開環重合反応が共存するハイブリッド（複
合）タイプの新しい紫外線感光性組成物であり紫外線
（２００〜４５０ｎｍの波長領域）で硬化や重合反応が
起こる。 実施例６ ジエチレングリコールジビニルエーテル １５部 テトラグリシジルメタフェニレンジアミン ２０部 ＥＲＬ４２２１（ＵＣＣ社製） １０部 フタロシアニンテトラスルホン酸のナトリウム塩 ５部 ジフェニルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート ５部 ポリビニルピロリドン １０部 ポリビニルアルコール １０部 エタノール １２５部 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ） １００部 上記感光性組成物をよく高速撹拌機にて分散溶解させ、
スピーナにてアルミニウム基材上に乾燥後膜厚１０μｍ
になるように塗布した。キセノンランプで３６５ｎｍの
波長の光を２６０ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照射した結
果、エタノール、ＤＭＦにも不溶化した。
【００１７】比較例１ 実施例１のベンゾフェノンを含まない組成物を、実施例
１同じ条件にてキセノンランプで照射した後、ジオキサ
ンにて現像した結果すべて溶解してしまった。
１同じ条件にてキセノンランプで照射した後、ジオキサ
ンにて現像した結果すべて溶解してしまった。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、本感光性組成物は、２
００〜４５０ｎｍの紫外線に感応する感光組成物であ
り、ビニルエーテルモノマー等のカチオン重合反応とエ
ポキシモノマーの開環重合反応が同時あるいは同じ系中
で起こるハイブリッドタイプの新しい高感度感光性組成
物である。このため、カチオンビニル重合反応と開環重
合反応の反応性の違いをうまくコントロールすること
や、後処理することにより粘着性と接着性を併せ持つ接
着剤や粘接着剤への応用や、エンボス加工の分野にも提
供される。
００〜４５０ｎｍの紫外線に感応する感光組成物であ
り、ビニルエーテルモノマー等のカチオン重合反応とエ
ポキシモノマーの開環重合反応が同時あるいは同じ系中
で起こるハイブリッドタイプの新しい高感度感光性組成
物である。このため、カチオンビニル重合反応と開環重
合反応の反応性の違いをうまくコントロールすること
や、後処理することにより粘着性と接着性を併せ持つ接
着剤や粘接着剤への応用や、エンボス加工の分野にも提
供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 // Ｇ０３Ｈ 1/02 8106−2Ｋ
Claims (1)
- 【請求項１】 カチオン重合性不飽和ビニル化合物
（Ａ）、エポキシ化合物（Ｂ）、オニウム塩化合物
（Ｃ）、及び必要に応じて光重合開始剤（Ｄ）からなる
２００〜４５０ｎｍの紫外線により光重合することを特
徴とする感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089753A JPH06298911A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089753A JPH06298911A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | 感光性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06298911A true JPH06298911A (ja) | 1994-10-25 |
Family
ID=13979505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5089753A Pending JPH06298911A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06298911A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09157352A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-17 | Fujitsu Ltd | 感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法 |
| JPH11512847A (ja) * | 1995-10-06 | 1999-11-02 | ポラロイド コーポレイション | ホログラフィ媒体およびプロセス |
| WO2005019299A1 (ja) | 2003-08-21 | 2005-03-03 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 感光性組成物およびその硬化物 |
| WO2012133432A1 (ja) | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | オルガノポリシロキサン、その製造方法、及びオルガノポリシロキサンを含有する硬化性樹脂組成物 |
| JP2014232206A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物および硬化膜 |
| WO2017170182A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社Adeka | 感光性組成物及び新規化合物 |
-
1993
- 1993-04-16 JP JP5089753A patent/JPH06298911A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11512847A (ja) * | 1995-10-06 | 1999-11-02 | ポラロイド コーポレイション | ホログラフィ媒体およびプロセス |
| JPH09157352A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-17 | Fujitsu Ltd | 感光性屈折率分布形成材料及びその製造方法 |
| WO2005019299A1 (ja) | 2003-08-21 | 2005-03-03 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 感光性組成物およびその硬化物 |
| US7569260B2 (en) | 2003-08-21 | 2009-08-04 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive composition and cured products thereof |
| WO2012133432A1 (ja) | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | オルガノポリシロキサン、その製造方法、及びオルガノポリシロキサンを含有する硬化性樹脂組成物 |
| US9243007B2 (en) | 2011-03-30 | 2016-01-26 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Organopolysiloxane, method for producing the same, and curable resin composition containing the organopolysiloxane |
| JP2014232206A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 感光性樹脂組成物および硬化膜 |
| WO2017170182A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社Adeka | 感光性組成物及び新規化合物 |
| CN108473609A (zh) * | 2016-03-31 | 2018-08-31 | 株式会社艾迪科 | 感光性组合物及新型化合物 |
| JPWO2017170182A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2019-02-07 | 株式会社Adeka | 感光性組成物及び新規化合物 |
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