JPH0628688U - Gas leak detection system - Google Patents
Gas leak detection systemInfo
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- JPH0628688U JPH0628688U JP7115092U JP7115092U JPH0628688U JP H0628688 U JPH0628688 U JP H0628688U JP 7115092 U JP7115092 U JP 7115092U JP 7115092 U JP7115092 U JP 7115092U JP H0628688 U JPH0628688 U JP H0628688U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低真空のチャンバー内のリークを出ガスの影
響を受けずにチャンバー内における特定ガスのリークを
精度良く測定できるようにする。
【構成】 エッチングチャンバー１１内に接続したガス
全てをマスフローコントローラ１５，１６と圧力計９に
て制御し、この時のガス分析のピーク値を校正値として
用いる手段と、エッチングチャンバー１１のガス出口と
出力を閉じた状態での圧力上昇によるガスリークの値と
前記校正値より絶対値としてのガスのリーク値を求める
手段とを設けた。
(57) [Summary] [Purpose] To enable accurate measurement of the leak of a specific gas in the chamber without being affected by the gas that leaks in the low vacuum chamber. [Structure] All the gases connected to the etching chamber 11 are controlled by the mass flow controllers 15 and 16 and the pressure gauge 9, and the peak value of the gas analysis at this time is used as a calibration value and a gas outlet of the etching chamber 11. A means for obtaining the gas leak value as an absolute value from the above-mentioned calibration value and the gas leak value due to the pressure increase with the output closed is provided.
Description
【０００１】[0001]
本考案は、ガスのリークを数Ｐａ（パスカル）の低真空チャンバーで、かつチ ャンバー内より出ガスしている真空装置において、特定ガスのリークを絶対値と して検出ができるガスリーク検出システムに関するものである。 The present invention relates to a gas leak detection system capable of detecting a leak of a specific gas as an absolute value in a low vacuum chamber of several Pa (Pascal) and a vacuum device which is discharging gas from inside the chamber. It is a thing.
【０００２】[0002]
従来、ガスリーク検出システムはチャンバー内の圧力を達成真空度まで低くし 、チャンバーのガスの入口と出口を閉じた状態で単位時間当りの圧力上昇を測定 することにより得ている。 この場合の測定では、複数のガスが混合使用されているような場合、その中の １つのガス、すなわち単一ガスについてだけの圧力測定はできなかった。 また、単独ガスだけが使用されている場合に、この単独ガスの測定を行うのに 、検出器として残留ガス分析装置を使用した方法がある。この方法の場合では次 の（１）ＵＮ〜（３）に述べるような特徴があった。 （１）検出器は、１０-2Ｐａ以下の圧力の時に作動する構造になっている。この ため、チャンバー真空度がこれよりも高い数Ｐａ程度にある場合は、このチャン バー内におけるガス分析による分圧測定はできない。 （２）単独ガス測定時には、他のガスとの相対値としてのガス圧、あるいはガス 量として表示する方法を取っているので絶対値が得られない。 （３）また、この単独ガス測定時に絶対値を測定する場合は、標準サンプルガス を必要とし、トータルシステムとしては複雑な構成となっていた。Conventionally, a gas leak detection system has been obtained by lowering the pressure in the chamber to the achieved vacuum level and measuring the pressure rise per unit time with the gas inlet and outlet of the chamber closed. In the measurement in this case, when a plurality of gases were mixed and used, it was not possible to measure the pressure of only one of the gases, that is, a single gas. In addition, there is a method of using a residual gas analyzer as a detector for measuring the single gas when only the single gas is used. This method had the following features (1) UN to (3). (1) The detector has a structure that operates at a pressure of 10 -2 Pa or less. For this reason, when the chamber vacuum is higher than a few Pa, the partial pressure in the chamber cannot be measured by gas analysis. (2) When measuring a single gas, the absolute value cannot be obtained because it is displayed as a gas pressure or a gas amount as a relative value to other gas. (3) In addition, when measuring the absolute value at the time of measuring this single gas, a standard sample gas was required, and the total system had a complicated configuration.
【０００３】[0003]
すなわち、従来の何れの方法も、真空度が数Ｐａのチャンバー内での出ガスの 影響を受けずに単独ガスのリーク量を絶対値測定することができず、混合ガスの 分圧値や相対値によってチャンバー内のリークを管理している。このため、リー クガスによるプロセス条件の影響を十分に考慮した装置管理が不可能であった。 また、チャンバー内の出ガスの多い場合においてはリークが出ガスと区別がで きない。このため、出ガスをなくすのに長時間の真空引き時間を要する等の問題 点があった。 That is, none of the conventional methods can measure the absolute value of the leak amount of a single gas without being affected by the gas discharged in the chamber having a degree of vacuum of several Pa, and the partial pressure value and the relative value of the mixed gas cannot be measured. The value controls the leak in the chamber. For this reason, it was impossible to manage the equipment with due consideration of the influence of process conditions due to leak gas. Also, when there is a large amount of gas emitted in the chamber, the leak cannot be distinguished from the gas emitted. Therefore, there is a problem that it takes a long vacuuming time to eliminate the outgassing.
【０００４】 本考案は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は低真空のチャ ンバー内における特定ガスのリークを精度良く測定することが可能な優れたガス リーク検出システムを提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide an excellent gas leak detection system capable of accurately measuring a leak of a specific gas in a low vacuum chamber. To do.
【０００５】[0005]
上記目的を達成するため、本考案に係るガスリーク検出システムは、チャンバ ー内における特定ガスのリークを測定するものであって、チャンバーの圧力によ ってオリフィスを変更してガス分析できるようにする手段と、チャンバー内に接 続したガス全てをマスフローと圧力計にて制御し、この時のガス分析のピーク値 を校正値として用いる手段と、チャンバーのガス出口と出力を閉じた状態での圧 力上昇によるガスリークの値と前記校正値より絶対値としてのガスのリーク値を 求める手段と、各ガス毎にガス圧力あるいは流量に対して信号強度の関係を関数 として処理するための手段とを設けたものである。 In order to achieve the above object, the gas leak detection system according to the present invention measures the leak of a specific gas in a chamber, and enables the gas analysis by changing the orifice depending on the pressure of the chamber. Means and all the gases connected to the chamber are controlled by mass flow and pressure gauge, and the peak value of the gas analysis at this time is used as a calibration value, and the pressure when the gas outlet and output of the chamber are closed. A means for obtaining the value of the gas leak due to the force increase and the leak value of the gas as an absolute value from the calibration value, and means for processing the relationship of the signal intensity with respect to the gas pressure or the flow rate for each gas as a function are provided. It is a thing.
【０００６】[0006]
この構成によれば、特定ガスのリークを絶対値として検出できる。 したがって、従来方法でのような低圧力状態のチャンバーを別のポンプシステ ムにて高真空状態まで引かねばならないと言うようなことがなくなり、従来これ に要していた時間と設備が不要になる。しかも、出ガスによる圧力上昇をバック グランドとして測定するので測定回数が少なくなり、測定時間の短縮ができる。 また、各ガスについて関数が設定できるので、ガス特性による圧力の誤差を少 なくできる。 さらに、相対値から絶対値の測定ができるので、チャンバー内に入っては困る ガスの微量リークの影響調査等に適用可能となる。 According to this configuration, the leak of the specific gas can be detected as an absolute value. Therefore, unlike the conventional method, it is no longer necessary to draw the low pressure chamber to a high vacuum state with another pump system, and the time and equipment required for the conventional method are not needed. . Moreover, since the pressure rise due to the discharged gas is used as the background for measurement, the number of measurements is reduced, and the measurement time can be shortened. Further, since the function can be set for each gas, the pressure error due to the gas characteristics can be minimized. Furthermore, since the absolute value can be measured from the relative value, it can be applied to the investigation of the influence of a minute leak of gas that is difficult to enter the chamber.
【０００７】[0007]
以下、本考案の実施例について図面を用いて詳細に説明する。 図１は、本考案の一実施例を示す概略構成図である。 図において、符号１は残留ガス測定器としての残留分析システムである。この 残留分析システム１は、分析室２と、分析室２を排気して圧力を１０-5Ｔｏｏｒ 以下にすることが可能なポンプユニット３と、このポンプユニット３と排気ライ ンを接続するためのフランジ４と、この残留分析システム１とエッチングチャン バー１１とを接続するためのフランジ５等が設けられている。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 1 is a residual analysis system as a residual gas measuring instrument. The residual analysis system 1 includes an analysis chamber 2, a pump unit 3 that can exhaust the analysis chamber 2 to a pressure of 10 −5 Toor or less, and connect the pump unit 3 and an exhaust line. A flange 4 and a flange 5 for connecting the residual analysis system 1 and the etching chamber 11 are provided.
【０００８】 また、フランジ５と分析室２との間には、エッチングチャンバー１１と残留分 析システム１との間を断続するためのマニュアルバルブ６と、このマニュアルバ ルブ６と分析室２の圧力が一定圧力（例えば１０Ｐａ程度）以下でないと開にな らないインターロック機能が設けられて分析室２内のマスフィルタ１０を保護す るエアバルブ７と、エッチングチャンバー１１側の圧力と分析室２の圧力差を設 けるオリフィス８と、マニュアルバルブ６とエアバルブ７間の圧力を測定する圧 力計（マノメータ）９等が配設されている。 そして、この残留分析システム１では、オリフィス８を変更することにより、 約数十Ｐａの高圧力から１０-5Ｔｏｏｒまでのチャンバー圧力で測定することが でき、またマニュアルバルブ６はフランジ５の部分より取り外し可能になってい る。Further, between the flange 5 and the analysis chamber 2, a manual valve 6 for connecting and disconnecting between the etching chamber 11 and the residual analysis system 1, and a pressure of the manual valve 6 and the analysis chamber 2 are provided. Is not below a certain pressure (for example, about 10 Pa), an interlock function is provided to protect the mass filter 10 in the analysis chamber 2, and the pressure on the etching chamber 11 side and the analysis chamber 2 are protected. An orifice 8 for providing a pressure difference, a pressure gauge (manometer) 9 for measuring the pressure between the manual valve 6 and the air valve 7, and the like are provided. Further, in this residual analysis system 1, by changing the orifice 8, it is possible to measure from a high pressure of about several tens Pa to a chamber pressure of 10 −5 Toor, and the manual valve 6 is installed from the flange 5 portion. It is removable.
【０００９】 エッチングチャンバー１１は、到達圧力が０．７５×１０-3Ｔｏｒｒとなるよ うに設定されており、バルブ１２と排気バルブ１３を介してポンプ１４と接続さ れている。そして、プロセス制御時には、ポンプ１４を駆動して排気し、内部を 数Ｐａの圧力にすることができる。また、エッチングチャンバー１１には、この エッチングチャンバー１１内に導入するガスのマスフローコントローラ（ＭＦＣ ）１５，１６がバルブ１７，１９を介して接続されている。The etching chamber 11 is set so that the ultimate pressure is 0.75 × 10 −3 Torr, and is connected to the pump 14 via the valve 12 and the exhaust valve 13. Then, during the process control, the pump 14 can be driven and exhausted, and the inside pressure can be set to several Pa. Further, mass flow controllers (MFC) 15 and 16 for the gas introduced into the etching chamber 11 are connected to the etching chamber 11 via valves 17 and 19.
【００１０】 次に、このシステムの操作方法について、（１）から（８）の順番で以下に説 明する。 まず、残留ガス測定器、すなわち残留分析システム１をエッチングチ ャンバー１１に取り付けてセットする場合について説明する。 （１）フランジ５を用いてエッチングチャンバー１１と残留分析システム１を接 続するとともに、この残留分析システム１をフランジ４を用いて排気系に接続す る。 （２）圧力計９が一定値以下のとき開可能となるインターロックが設けられたエ アバルブ７は閉のままで、マニュアルバルブ６を開けるとともに、エッチングチ ャンバー１１側のポンプ１４で排気する。そして、この排気でマニュアルバルブ ６とエアバルブ７の間の圧力計９が一定値以下になってエアバルブ７が開可能と なるまで真空状態にする。 （３）また、エアバルブ７が開可能となる真空状態になった後、エッチングチャ ンバー１１内をさらに約１０分程度排気する。 （４）ストップバルブ１７または１８を開放し、マスフローコントローラ１５ま たは１６で流量を制御しながら例えばＯ2 ガスをエッチングチャンバー１１内に 入れる。なお、本実施例ではエッチングチャンバー１１内にＯ2 ガスを入れたが 、勿論これ以外のガスであっても差し支えないものである。 （５）標準圧力を５Ｐａ程度に設定し、この標準圧力を基準にしてエッチングチ ャンバー１１内の圧力を一定にする。 （６）エアバルブ７を開け、エッチングチャンバー１１側より分圧計（分圧室２ 側）にＯ2 ガスを導入する。 （７）測定器の読みを５Ｐａ値として校正するように、この残留分析システム１ 側で判断し、これを図示せぬメモリに保存する。この場合、オリフィス８が固定 なのでオリフィス８を含んだ時の読み値を５Ｐａとして校正する。 （８）測定後、エアバルブ７を閉にする。また、分圧計の圧力が高真空になるの を確認する。Next, a method of operating this system will be described below in the order of (1) to (8). First, a case where the residual gas measuring device, that is, the residual analysis system 1 is attached to and set on the etching chamber 11 will be described. (1) The flange 5 is used to connect the etching chamber 11 and the residual analysis system 1 and the residual analysis system 1 is connected to the exhaust system using the flange 4. (2) The air valve 7 provided with an interlock that can be opened when the pressure gauge 9 is below a certain value is kept closed, the manual valve 6 is opened, and the pump 14 on the etching chamber 11 side is used to exhaust gas. Then, by this exhaust, the pressure gauge 9 between the manual valve 6 and the air valve 7 becomes a predetermined value or less, and the air valve 7 is kept in a vacuum state until it can be opened. (3) After the air valve 7 is in a vacuum state that can be opened, the inside of the etching chamber 11 is exhausted for about 10 minutes. (4) The stop valve 17 or 18 is opened and, for example, O 2 gas is introduced into the etching chamber 11 while controlling the flow rate with the mass flow controller 15 or 16. Although O 2 gas was introduced into the etching chamber 11 in this embodiment, other gases may be used as a matter of course. (5) The standard pressure is set to about 5 Pa, and the pressure in the etching chamber 11 is made constant based on this standard pressure. (6) The air valve 7 is opened, and O 2 gas is introduced from the etching chamber 11 side to the partial pressure gauge (the partial pressure chamber 2 side). (7) The residual analysis system 1 makes a judgment so as to calibrate the reading of the measuring instrument as a value of 5 Pa, and stores it in a memory (not shown). In this case, since the orifice 8 is fixed, the reading value including the orifice 8 is calibrated to 5 Pa. (8) After the measurement, the air valve 7 is closed. Also, make sure that the pressure of the partial pressure gauge becomes high vacuum.
【００１１】 次に、リークレート測定の方法について、（１）から（６）の順番で以下に説 明する。 （１）マニュアルバルブ６を開の状態で、エッチングチャンバー１１に接続して いるポンプ１４でエッチングチャンバー１１内のガスを排気し、これを到達真空 度に近い約１Ｐａの値まで引く。 （２）ストップバルブ１７，１８，排気バルブ１３を閉じるとともにエアバルブ ７を開き、残留分析システム１側のポンプユニット３のポンプでエッチングチャ ンバー１１内のガスを引く。 （３）図示せぬガス分析開始ボタンを押す。そして、例えば３分間での圧力上昇 によりＯ2 ガスのガス分圧値を測定する、いわゆる圧力上昇法にてＯ2 リークレ ートを見て、このときのＯ2 リークレートを図示せぬ表示部上に表示する。 （４）エアバルブ７を閉じる。 （５）排気バルブ１３を開き、ポンプ１４でエッチングチャンバー１１内を真空 引きにする。 （６）真空引き後、マニュアルバルブ６をマニュアルにて閉じる。すると、ここ で残留分析システム（残留ガス測定器）１の校正で、図２に示すグラフの圧力５ Ｐａの信号強度Ａとガス圧力あるいはガス流量Ｂを得ることができる。なお、図 ２は圧力が５Ｐａで、Ｏ2 ガス流量が１０ｃｃの時を一例としたものである。Next, the method of measuring the leak rate will be described below in the order of (1) to (6). (1) With the manual valve 6 open, the gas in the etching chamber 11 is exhausted by the pump 14 connected to the etching chamber 11, and this is pulled to a value of about 1 Pa close to the ultimate vacuum. (2) The stop valves 17, 18 and the exhaust valve 13 are closed and the air valve 7 is opened, and the gas in the etching chamber 11 is drawn by the pump of the pump unit 3 on the residual analysis system 1 side. (3) Press a gas analysis start button (not shown). Then, for example, to measure the gas partial pressure of O 2 gas by pressure increase at 3 minutes, watches O 2 Rikure over preparative at the so-called pressure rise method, a display unit (not shown) the O 2 leak rate at this time Display on top. (4) Close the air valve 7. (5) The exhaust valve 13 is opened, and the inside of the etching chamber 11 is evacuated by the pump 14. (6) After vacuuming, manually close the manual valve 6. Then, here, the signal strength A and the gas pressure or the gas flow rate B of the pressure 5 Pa in the graph shown in FIG. 2 can be obtained by the calibration of the residual analysis system (residual gas measuring device) 1. Note that FIG. 2 shows an example when the pressure is 5 Pa and the O 2 gas flow rate is 10 cc.
【００１２】 このとき、残留分析システム１の圧力あるいはガス流量と信号強度Ｃの関係を 関数値処理し、図２に示すように直線Ｅとなるような関数を持たせている。 すなわち、ここでは図２において、ＡとＢの値より直線になる次式（１）の傾 きとなるａとｂの値をその都度得ることができ、またエッチングチャンバー１１ 内での出ガスによりチャンバー雰囲気が変わっても補正できるようになっている 。At this time, the relationship between the pressure or gas flow rate of the residual analysis system 1 and the signal intensity C is processed by a function value, and a function is obtained so as to become a straight line E as shown in FIG. That is, here, in FIG. 2, it is possible to obtain the values of “a” and “b” that are the slopes of the following equation (1) which is a straight line from the values of “A” and “B”. Even if the chamber atmosphere changes, it can be corrected.
【００１３】[0013]
【数１】 ｙ＝ａｘ＋ｂ …（１）## EQU1 ## y = ax + b (1)
【００１４】 すなわち、図２の直線の傾きとなる値を計算より求める場合は、ａは図２にお いてＡとＢが分かることから求まり、ｂは残留分析システム１の定数よりＣが分 かり、上記ａとｂから計算によりＤが求まる。そして、この値はその都度図示せ ぬメモリに保存できるようになっている。That is, when the value that is the slope of the straight line in FIG. 2 is obtained by calculation, a is obtained because A and B are known in FIG. 2, and b is obtained from C by the constant of the residual analysis system 1. , D can be calculated from the above a and b. Then, this value can be saved in a memory (not shown) each time.
【００１５】 次に、上記リークレート測定の方法で得た３分間での圧力上昇によるＯ2 ガス の分圧あるいはガス流量を図示せぬメモリに保存し、上式（１）で得たｙに信号 値を入れて計算することによりガス分圧あるいはガス流量を得ることができる。 これらは、エッチングチャンバー１１にストップバルブ１７，１８及びマスフロ ーコントローラ１５，１６を介して接続されているガスの全てについて対応でき る。また、これらの処理は全てパソコンのソフトウエアにて対応できるため、そ れぞれのガスについて個別の関数を持つことが可能である。Next, the partial pressure of O 2 gas or the gas flow rate due to the pressure increase in 3 minutes obtained by the above leak rate measurement method is stored in a memory (not shown), and y obtained by the above equation (1) is stored. The gas partial pressure or gas flow rate can be obtained by including the signal value and calculating. These are applicable to all gases connected to the etching chamber 11 via the stop valves 17 and 18 and the mass flow controllers 15 and 16. Also, since all of these processes can be handled by the software of the personal computer, it is possible to have individual functions for each gas.
【００１６】 したがって、このガスリーク検出システムによれば、以下の（１）〜（９）が 可能になる。 （１）数Ｐａの低真空チャンバー内のガスリークが検出できる。 （２）絶対量を測定するのに標準サンプルを必要としない。すなわち、エッチン グチャンバー１１内に、マスフローコントローラ１５，１６と圧力計９により圧 力調整できるガスを使用することで、製造ガス以外のガスを使用することなく絶 対量が測定できる。 （３）比較ガスの流量と圧力を制御したいときの測定を行い、このときの値を残 留分析システム１内の図示せぬメモリに保存できる。 （４）エッチングチャンバー１１内を排気し、ストップバルブ１７，１８，排気 バルブ１３等を閉にした後の圧力上昇中の分析結果を、上記（３）のメモリの値 と比較することで、このときの比較ガスと同種のガスのリークが測定できる。 （５）比較ガスはエッチングチャンバー１１内にライン導入されているガスであ れば全てのガスについて、エッチングチャンバー１１外からのリークとエッチン グチャンバー１１内でのリークとが測定できる。 （６）エッチングチャンバー１１内部からの出ガスによって圧力が上昇したとし ても、上記（３）に述べたように、比較ガスの流量と圧力を制御したいときの測 定を行う測定方法なので、上記（４）に述べたように、エッチングチャンバー１ １内を排気し、ストップバルブ１７，１８，排気バルブ１３等を閉にした後の圧 力上昇中の分析結果を、上記（３）のメモリの値と比較することで、このときの 比較ガスと同種のガスのリークを測定した時にもバックグランドが同一なので出 ガスの多いエッチングチャンバー１１等を測定するにも絶対値測定ができる。 （７）分析室２の圧力が１０-2Ｐａ以下でないと分析できないので、マニュアル バルブ６とエアバルブ７の圧力を圧力計９で監視し、一定の圧力以下でないとエ アバルブ７を開にしないように設定して、分析室２内のマスフィルタ１０を保護 することができる。 （８）エッチングチャンバー１１と残留分析システム１はフランジ５で接続して いるので取り外しを自由に行うことができる。また、バルブ６としてマニュアル バルブを使用しているので、任意に閉状態にしてマニュアルバルブ６から排気ま での間を真空状態のままで分離できる。 （９）オリフィスを変更することで数１０Ｐａの高圧力から１０-5からＴｏｒｒ の低圧力までの分析が可能となる。Therefore, according to this gas leak detection system, the following (1) to (9) are possible. (1) A gas leak in a low vacuum chamber of several Pa can be detected. (2) No standard sample is required to measure absolute quantity. That is, by using the gas whose pressure can be adjusted by the mass flow controllers 15 and 16 and the pressure gauge 9 in the etching chamber 11, the absolute amount can be measured without using any gas other than the manufacturing gas. (3) The measurement can be performed when it is desired to control the flow rate and pressure of the reference gas, and the values at this time can be stored in a memory (not shown) in the residual analysis system 1. (4) By comparing the analysis result during the pressure increase after exhausting the inside of the etching chamber 11 and closing the stop valves 17, 18 and the exhaust valve 13 with the value of the memory in (3) above, The leak of the same kind of gas as the comparison gas at this time can be measured. (5) As long as the reference gas is the gas introduced into the etching chamber 11 through a line, the leak from the outside of the etching chamber 11 and the leak inside the etching chamber 11 can be measured for all the gases. (6) Even if the pressure rises due to the gas discharged from the inside of the etching chamber 11, as described in (3) above, it is a measurement method for performing measurement when it is desired to control the flow rate and pressure of the reference gas. As described in (4), the analysis result during the pressure increase after the etching chamber 11 is evacuated and the stop valves 17, 18 and the exhaust valve 13 are closed is stored in the memory of (3) above. By comparing it with the value, the absolute value can be measured even when measuring the etching chamber 11 or the like that emits a large amount of gas, because the background is the same even when the leak of the same kind of gas as the comparative gas at this time is measured. (7) Since the pressure cannot be analyzed unless the pressure in the analysis chamber 2 is 10 -2 Pa or less, monitor the pressures of the manual valve 6 and the air valve 7 with the pressure gauge 9, and do not open the air valve 7 unless the pressure is below a certain level. Can be set to protect the mass filter 10 in the analysis chamber 2. (8) Since the etching chamber 11 and the residual analysis system 1 are connected by the flange 5, they can be removed freely. Further, since the manual valve is used as the valve 6, it is possible to arbitrarily close it and separate the space from the manual valve 6 to the exhaust in a vacuum state. (9) By changing the orifice, analysis from a high pressure of several tens Pa to a low pressure of 10 −5 to Torr becomes possible.
【００１７】 なお、上記実施例ではエッチングチャンバー１１内における出ガスを検出する 場合について説明したが、これはエッチングチャンバー１１に限ることなく他の チャンバーにも同様にして使用できるものである。In the above embodiment, the case where the gas emitted in the etching chamber 11 is detected has been described, but this is not limited to the etching chamber 11 and can be similarly used in other chambers.
【００１８】[0018]
以上説明したとおり、本考案に係るガスリーク検出システムでは、ガスのリー クを数Ｐａの低真空チャンバーでも測定でき、しかもチャンバー内から出ガスし ている真空装置において特定ガスのリークを絶対値として検出できる。 したがって、従来方法でのような低圧力状態のチャンバーを別のポンプシステ ムにて高真空状態まで引かねばならないと言うようなことがなくなり、従来これ に要していた時間と設備が不要になる。しかも、本考案の場合では、出ガスによ る圧力上昇をバックグランドとして測定するので測定回数が少なくなり、測定時 間の短縮ができる。 また、各ガスについて関数が設定できるので、ガス特性による圧力の誤差を少 なくできる。 さらに、相対値から絶対値の測定ができるので、チャンバー内に入っては困る ガスの微量リークの影響調査等にも適用可能となる等の効果が期待できる。 As described above, in the gas leak detection system according to the present invention, the leak of gas can be measured even in a low vacuum chamber of several Pa, and the leak of a specific gas is detected as an absolute value in the vacuum device that is outgassing from the chamber. it can. Therefore, unlike the conventional method, it is no longer necessary to draw the low pressure chamber to a high vacuum state with another pump system, and the time and equipment required for the conventional method are not needed. . Moreover, in the case of the present invention, since the pressure rise due to the discharged gas is measured as the background, the number of measurements is reduced, and the measurement time can be shortened. Further, since the function can be set for each gas, the pressure error due to the gas characteristics can be minimized. Furthermore, since the absolute value can be measured from the relative value, it can be expected to have an effect that it can be applied to the investigation of the influence of a slight leak of gas which is difficult to enter the chamber.
【図１】本考案の一実施例を示すシステムの概略構成図
である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a system showing an embodiment of the present invention.
【図２】ガス分析計算のベースとなる関係図である。FIG. 2 is a relationship diagram serving as a base for gas analysis calculation.
１ 残留分析システム ２ 分析室 ３ ポンプユニット ６ マニュアル
バルブ ７ エアバルブ ８ オリフィス ９ 圧力計 １１ エッチン
グチャンバー １４ ポンプ １５ マスフロ
ーコントローラ １６ マスフローコントローラ1 Residual Analysis System 2 Analysis Room 3 Pump Unit 6 Manual Valve 7 Air Valve 8 Orifice 9 Pressure Gauge 11 Etching Chamber 14 Pump 15 Mass Flow Controller 16 Mass Flow Controller
Claims (1)
を測定するガスリーク検出システムにおいて、 チャンバーの圧力によってオリフィスを変更してガス分
析できるようにする手段と、 チャンバー内に接続したガス全てをマスフローと圧力計
にて制御し、この時のガス分析のピーク値を校正値とし
て用いる手段と、 チャンバーのガス出口と出力を閉じた状態での圧力上昇
によるガスリークの値と前記校正値より絶対値としての
ガスのリーク値を求める手段と、 各ガス毎にガス圧力あるいは流量に対して信号強度の関
係を関数として処理するための手段とを設けたことを特
徴とするガスリーク検出システム。1. In a gas leak detection system for measuring a leak of a specific gas in a chamber, means for changing the orifice according to the pressure of the chamber to allow gas analysis, and a mass flow and pressure gauge for all gases connected to the chamber. The means for using the peak value of the gas analysis at this time as the calibration value, and the gas leak value due to the pressure increase with the chamber gas outlet and output closed and the absolute value of the gas from the calibration value. A gas leak detection system comprising means for obtaining a leak value and means for processing the relationship of signal intensity as a function for gas pressure or flow rate for each gas.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7115092U JPH0628688U (en) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | Gas leak detection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7115092U JPH0628688U (en) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | Gas leak detection system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0628688U true JPH0628688U (en) | 1994-04-15 |
Family
ID=13452296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7115092U Pending JPH0628688U (en) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | Gas leak detection system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0628688U (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112432738A (en) * | 2020-11-24 | 2021-03-02 | 上海卫星装备研究所 | Mass spectrometry detection device and method for normal-pressure multi-gas leakage rate test |
-
1992
- 1992-09-16 JP JP7115092U patent/JPH0628688U/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112432738A (en) * | 2020-11-24 | 2021-03-02 | 上海卫星装备研究所 | Mass spectrometry detection device and method for normal-pressure multi-gas leakage rate test |
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