JP3367811B2 - Gas piping system certification system - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
設備等に用いられるガス配管系の検定システムに関し、
さらに詳細には、システム中に組み込んだ状態でマスフ
ローコントローラの流量精度の検定や遮断弁の漏れの検
定が可能なガス配管系の検定システムに関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a verification system for a gas pipe system used in, for example, semiconductor manufacturing equipment,
More specifically, the present invention relates to a verification system of a gas piping system capable of verifying a flow rate accuracy of a mass flow controller and a leak of a shutoff valve in a state of being incorporated in a system.

【０００２】[0002]

【従来の技術】半導体製造設備中の成膜装置、乾式エッ
チング装置等においては、例えばシランやホスフィン等
のいわゆる特殊材料ガスや塩素ガス等の腐食性ガスおよ
び水素ガス等の強燃性ガス等を使用する。これらのガス
は、その流量がプロセスの良否に直接影響すること、
排気系に設置される除害装置の負担、ガス自体が高
価であること、等の理由によりその流量を極めて厳格に
管理しなければならない。そしてプロセスで使用される
実際のガス流量は、多くても５００ｓｃｃｍ程度と小さ
いので、配管中に公知のマスフローコントローラを配置
して、ガス種およびプロセスレシピごとに最適の流量を
流すようにしている。ここでマスフローコントローラに
おける流量の設定は印加電圧の調節により行う。2. Description of the Related Art In a film forming apparatus or a dry etching apparatus in a semiconductor manufacturing facility, for example, so-called special material gas such as silane and phosphine, corrosive gas such as chlorine gas, and highly flammable gas such as hydrogen gas are used. use. The flow rate of these gases directly affects the quality of the process,
The flow rate must be controlled very strictly because of the burden of the detoxification device installed in the exhaust system and the fact that the gas itself is expensive. Since the actual gas flow rate used in the process is as small as about 500 sccm at most, a known mass flow controller is arranged in the pipe so that an optimum flow rate is flowed for each gas type and process recipe. Here, the flow rate in the mass flow controller is set by adjusting the applied voltage.

【０００３】ところでプロセスガスのうち特に成膜用材
料ガスは、その特性上ガスライン内でも固形物を析出す
る可能性があり、流量容量を変化させることがある。か
かる変化が起こればそのマスフローコントローラにおけ
る印加電圧と実流量との関係は当然変化し、流量設定に
変化がなくても実流量が変化するので、プロセスの安定
性を阻害することになる。現実にこのような変化が起こ
った場合には、正しいガス流量を流すべく印加電圧の設
定を修正しなければならない。このとき、マスフローコ
ントローラの流量を検定する必要が生ずる。特にマスフ
ローコントローラ内の細管部分では、他の部分と比較し
て固形物が析出する可能性や析出した場合の影響が大き
いのである。By the way, of the process gases, in particular, the film-forming material gas may deposit solid matter even in the gas line due to its characteristics, and the flow rate capacity may be changed. When such a change occurs, the relationship between the applied voltage and the actual flow rate in the mass flow controller naturally changes, and the actual flow rate changes even if there is no change in the flow rate setting, which impairs the stability of the process. When such a change actually occurs, it is necessary to correct the setting of the applied voltage so that the correct gas flow rate can be supplied. At this time, it becomes necessary to verify the flow rate of the mass flow controller. In particular, in the thin tube portion in the mass flow controller, the possibility of depositing the solid matter and the influence when it deposits are greater than in other portions.

【０００４】このマスフローコントローラの流量検定
は、基本的には膜流量計を使って行うが、この測定は配
管の一部をはずして行うものであり、測定後には再び配
管をもとの状態に組み付けて漏れチェックをしなければ
ならない。このため、作業には非常に手間がかかってし
まう。配管を組んだままの状態で流量検定を行う方法
（ビルドアップ方式）としては、プロセスチャンバに備
えられている真空計を利用することが考えられるが、こ
れも所要時間や精度の点で不十分である。The flow rate verification of this mass flow controller is basically performed using a membrane flow meter, but this measurement is performed by removing a part of the piping, and after the measurement, the piping is returned to the original state. You have to assemble and check for leaks. Therefore, the work is extremely troublesome. As a method for performing flow rate verification with the pipes assembled (build-up method), it is possible to use the vacuum gauge provided in the process chamber, but this is also insufficient in terms of required time and accuracy. Is.

【０００５】このような測定を可能とする従来のマスフ
ローコントローラの流量検定システムとしては、特開平
７−３０６０８４号公報に記載されたものが挙げられ
る。このシステムは、測定用ガスとして窒素ガスを用
い、ガスラインが所定圧の窒素ガスで満たされた状態か
らのマスフローコントローラを通しての圧力降下速度に
より流量検定を行うものである。このため、パージ用窒
素ガスを供給するために各プロセスガスラインの他に設
けられているパージラインを利用してここに遮断弁と圧
力センサとを設けている。このシステムでは、測定しよ
うとするマスフローコントローラのラインの遮断弁を閉
じた状態でパージラインから窒素ガスを導入しておき、
そして遮断弁を閉じて窒素ガスを排気系に放出するとき
の圧力降下速度を測定する。As a flow rate verification system of a conventional mass flow controller which enables such a measurement, there is a system described in Japanese Patent Laid-Open No. 306084/1995. This system uses nitrogen gas as a measurement gas and performs flow rate verification by the pressure drop rate through a mass flow controller when the gas line is filled with nitrogen gas at a predetermined pressure. Therefore, a shutoff valve and a pressure sensor are provided here by utilizing a purge line provided in addition to each process gas line in order to supply the nitrogen gas for purging. In this system, nitrogen gas was introduced from the purge line with the shutoff valve of the line of the mass flow controller to be measured closed.
Then, the shutoff valve is closed and the pressure drop rate when nitrogen gas is discharged to the exhaust system is measured.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プロセ
スガスとは異なる窒素ガスで測定を行う前記システムで
は、以下のような問題点があった。However, the above-mentioned system for measuring with nitrogen gas different from the process gas has the following problems.

【０００７】まず、前記システムでは窒素ガスで流量検
定した結果でマスフローコントローラの流量特性を代表
させているところ、窒素ガスで測定した流量特性と実際
に使用するプロセスガスでの流量特性とは一致するとは
限らないのである。このため、実プロセスを行っている
場合に対する検定データの信頼性が不十分な場合があ
る。また、前記システムではパージラインが不可欠であ
るが、半導体製造工程のガスシステムにはパージライン
の備えがないものも少なくない。First, in the above system, the flow rate characteristic of the mass flow controller is represented by the result of flow rate verification with nitrogen gas. When the flow rate characteristic measured with nitrogen gas and the flow rate characteristic of the process gas actually used are the same. Is not always the case. For this reason, the reliability of the verification data may be insufficient when performing the actual process. Further, although a purge line is indispensable in the above system, many gas systems in the semiconductor manufacturing process do not have a purge line.

【０００８】さらに、パージラインを備えたシステムで
あっても、ラインに窒素ガスを導入すればその後ライン
内でのプロセスガスの純度が回復するまでに時間を要
し、システムの稼動率が低下してしまう。通常この種の
ガスシステムで実際にガスラインのパージを行うのは年
１回程度ときわめて希であり、一方マスフローコントロ
ーラの流量検定はもっと高い頻度で行う必要があるた
め、検定のためにシステムの稼動率が低下する結果とな
ってしまう。Further, even if the system is equipped with a purge line, if nitrogen gas is introduced into the line, it will take time until the purity of the process gas in the line is recovered, and the operating rate of the system will decrease. Will end up. In general, it is extremely rare to actually purge the gas line with this type of gas system about once a year. On the other hand, the flow rate verification of the mass flow controller needs to be performed more frequently. This will result in a lower operating rate.

【０００９】また、前記システムでは圧力降下速度を測
定することになっているが、実際には圧力を２回測定
し、その値の差と時間間隔とから勾配を求めているに過
ぎず、いわば２点測定なので精度が低い。特に、圧力セ
ンサからのデータ取得系にリップルがある場合や、測定
時点でノイズが乗ってしまったような場合には真の値か
ら著しくはなれた測定結果が得られる場合があった。ま
た、測定の結果マスフローコントローラの流量特性が初
期状態からずれていることがわかっても、その更正は別
途作業者が行う必要があった。Further, in the above system, the pressure drop rate is to be measured, but in reality, the pressure is measured twice, and the gradient is obtained from the difference between the values and the time interval. The accuracy is low because it is a two-point measurement. In particular, when there is a ripple in the data acquisition system from the pressure sensor, or when noise is added at the time of measurement, a measurement result that is significantly different from the true value may be obtained. Further, even if the measurement result shows that the flow rate characteristic of the mass flow controller deviates from the initial state, it is necessary for the operator to separately perform the correction.

【００１０】そして、この種のガスシステムには不可避
的に多数の遮断弁が用いられているが、その漏れを検定
するためには、ブルドン管のような粗い測定しかできな
いものや、ヘリウムディテクターのような実際に稼動し
ているシステムには適用しにくいものしかなく、効率よ
くかつ微小な漏れを検知できる方法は存在しなかった。
その一方、プロセスガスのような特殊なガスを扱うガス
システムでは、ガス中に固形物等が生成しやすいことか
らその固形物を噛むことによる微小漏れが生じやすく、
問題であった。Although a large number of shut-off valves are inevitably used in this type of gas system, in order to verify the leak, a device such as a Bourdon tube that can only measure roughly or a helium detector is used. Such a system that is actually operating is only difficult to apply, and there was no method for efficiently detecting minute leaks.
On the other hand, in a gas system that handles a special gas such as a process gas, solids and the like are likely to be generated in the gas, and thus microleakage easily occurs by chewing the solids,
It was a problem.

【００１１】本発明は前記従来技術の各問題点を解決す
るためになされたものであり、（１）プロセスガスその
ものでマスフローコントローラの流量検定ができるガス
配管系の検定システムを提供すること、（２）精度の高
い流量検定ができるガス配管系の検定システムを提供す
ること、（３）マスフローコントローラの流量特性の変
化に対し自動的にこれを補償できるガス配管系の検定シ
ステムを提供すること、（４）遮断弁の漏れの有無の検
定ができるガス配管系の検定システムを提供すること、
の少なくとも１つを達成することを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art. (1) To provide a verification system of a gas pipe system capable of verifying the flow rate of a mass flow controller with the process gas itself. 2) To provide a verification system for gas piping system that can perform highly accurate flow verification, and (3) To provide a verification system for gas piping system that can automatically compensate for changes in mass flow controller flow characteristics. (4) To provide a verification system for a gas piping system that can verify whether or not the shutoff valve is leaking.
To achieve at least one of

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
第１遮断弁とその下流側のマスフローコントローラとそ
の下流側の終段遮断弁とを備えたガスラインを経由して
プロセスガス源からプロセスチャンバにプロセスガスを
供給するガス配管系の検定を行うシステムであって、前
記終段遮断弁の入側位置での圧力を計測する圧力計を有
し、前記第１遮断弁を開いて前記終段遮断弁を閉じ、前
記マスフローコントローラを通して前記終段遮断弁の上
流側にプロセスガスを導入したときの圧力上昇を前記圧
力計で測定することにより前記マスフローコントローラ
の流量を検定することを特徴とする。この発明は、前記
（１）の目的を達成するためのものである。The invention according to claim 1 is
System for verifying a gas piping system for supplying a process gas from a process gas source to a process chamber via a gas line equipped with a first cutoff valve, a mass flow controller on the downstream side thereof, and a final-stage cutoff valve on the downstream side thereof And having a pressure gauge for measuring the pressure at the inlet side position of the final stage shutoff valve, opening the first shutoff valve and closing the final stage shutoff valve, and passing the final stage shutoff valve through the mass flow controller. The flow rate of the mass flow controller is verified by measuring the pressure rise when the process gas is introduced on the upstream side of the above with the pressure gauge. The present invention is to achieve the above-mentioned object (1).

【００１３】この発明によれば、第１遮断弁と終段遮断
弁とをともに開けば、プロセスガス源からガスラインを
経由してプロセスチャンバにプロセスガスが供給され
る。このときのガス流量は、マスフローコントローラに
より所定の値に調整されており、従ってプロセスチャン
バにて所定の処理を行うことができる状態である。According to the present invention, the process gas is supplied from the process gas source to the process chamber via the gas line by opening both the first shutoff valve and the final-stage shutoff valve. The gas flow rate at this time is adjusted to a predetermined value by the mass flow controller, so that the process chamber is in a state where a predetermined process can be performed.

【００１４】マスフローコントローラの流量検定をする
ときは、まず、第１遮断弁と終段遮断弁とをともに開
く。このとき、プロセスガス源からプロセスガスが供給
される一方でマスフローコントローラより下流の部分は
プロセスチャンバに連通している。この種のガス配管系
では通常、プロセスチャンバのさらに下流に排気ポンプ
が設けられていることが多く、その場合には当該部分の
圧力は真空近くにまで下がる。排気ポンプが設けられて
いない場合には大気圧近辺まで下がる。その圧力は圧力
計により計測されている。次に終段遮断弁を閉じてプロ
セスチャンバ側への排気を遮断する。すると、マスフロ
ーコントローラによりガス流量が規制されるので、マス
フローコントローラと終段遮断弁との間の部分はプロセ
スガスにより徐々に圧力が上昇する。このため圧力計の
計測値が徐々に上昇するので、この上昇によりマスフロ
ーコントローラの流量が検定される。かくしてプロセス
ガスによる流量検定がなされる。When performing flow rate verification of the mass flow controller, first, both the first shutoff valve and the final stage shutoff valve are opened. At this time, the process gas is supplied from the process gas source, while the portion downstream of the mass flow controller communicates with the process chamber. In this type of gas piping system, an exhaust pump is usually provided further downstream of the process chamber, and in that case, the pressure of the portion is reduced to near vacuum. If no exhaust pump is provided, the pressure will drop to near atmospheric pressure. The pressure is measured by a pressure gauge. Next, the final stage shutoff valve is closed to shut off the exhaust to the process chamber side. Then, since the gas flow rate is regulated by the mass flow controller, the pressure between the mass flow controller and the final stage cutoff valve is gradually increased by the process gas. For this reason, the measured value of the pressure gauge gradually increases, and the flow rate of the mass flow controller is verified by this increase. Thus, the flow rate verification by the process gas is performed.

【００１５】請求項２に係る発明は、第１遮断弁とその
下流側のマスフローコントローラとその下流側の第２遮
断弁とをそれぞれ備えた複数のガスラインを経由して複
数のプロセスガス源からプロセスチャンバにプロセスガ
スを供給するガス配管系の検定を行うシステムであっ
て、前記各ガスラインの合流点より下流に設けられた終
段遮断弁と、前記終段遮断弁の入側位置での圧力を計測
する圧力計を有し、あるガスラインの前記第１遮断弁お
よび第２遮断弁を開いて前記終段遮断弁および他のすべ
てのガスラインの前記第２遮断弁を閉じ、そのガスライ
ンの前記マスフローコントローラを通して前記終段遮断
弁の上流側にそのプロセスガスを導入したときの圧力上
昇を前記圧力計で測定することによりそのガスラインの
前記マスフローコントローラの流量を検定することを特
徴とする。この発明は、複数のプロセスガスを扱う配管
系であって終段遮断弁より上流側で各ガスラインが合流
しているものにおいて、１つの圧力計で前記（１）の目
的を達成するためのものである。According to a second aspect of the present invention, a plurality of process gas sources are provided through a plurality of gas lines respectively provided with a first shutoff valve, a mass flow controller downstream thereof and a second shutoff valve downstream thereof. A system for calibrating a gas piping system for supplying a process gas to a process chamber, comprising: a final-stage shutoff valve provided downstream of a confluence point of the gas lines; and an inlet side position of the final-stage shutoff valve. A pressure gauge for measuring pressure, opening the first shutoff valve and the second shutoff valve of a gas line and closing the final shutoff valve and the second shutoff valves of all other gas lines, The mass flow controller for the gas line is measured by measuring the pressure rise with the pressure gauge when the process gas is introduced upstream of the final stage shutoff valve through the mass flow controller of the line. Characterized in that testing the flow rate of the roller. The present invention provides a pipe system for handling a plurality of process gases in which each gas line is joined upstream from the final stage shut-off valve in order to achieve the above-mentioned object (1) with one pressure gauge. It is a thing.

【００１６】この発明によれば、あるガスラインの第１
遮断弁と終段遮断弁とをともに開けば、そのプロセスガ
ス源からそのガスラインを経由してプロセスチャンバに
そのプロセスガスが供給される。２以上のプロセスガス
を同時に供給してもよい。このときの各ガス流量は、そ
れぞれマスフローコントローラにより所定の値に調整さ
れており、従ってプロセスチャンバにて所定の処理を行
うことができる状態である。According to the invention, the first of the gas lines is
When both the shutoff valve and the final stage shutoff valve are opened, the process gas is supplied from the process gas source to the process chamber via the gas line. Two or more process gases may be supplied simultaneously. The flow rate of each gas at this time is adjusted to a predetermined value by the mass flow controller, so that the process chamber can perform a predetermined process.

【００１７】マスフローコントローラの流量検定は、検
定を行うガスライン（検定ライン）を決め、検定ライン
の第２遮断弁を開き他のすべてのガスライン（非検定ラ
イン）の第２遮断弁を閉じた状態で行う。検定を行うと
きはまず、検定ラインの第１遮断弁と終段遮断弁とをと
もに開いて、プロセスガス源からプロセスガスを検定ラ
インに供給しつつマスフローコントローラ（検定コント
ローラ）より下流の部分をプロセスチャンバ側に排気す
る。その部分の圧力は圧力計により計測されている。次
に終段遮断弁を閉じて、マスフローコントローラと終段
遮断弁との間の部分の圧力をプロセスガスで上昇させ
る。このとき、マスフローコントローラによりガス流量
が規制されるので、圧力は徐々に上昇し、この上昇によ
り検定コントローラの流量が検定される。かくしてプロ
セスガスによる流量検定がなされる。ここで、非検定ラ
インの第２遮断弁がすべて閉じられているので、プロセ
スガスが他のマスフローコントローラに進入することは
ない。In the flow rate verification of the mass flow controller, the gas line (verification line) to be verified is determined, the second shutoff valve of the verification line is opened, and the second shutoff valves of all other gas lines (non-verification line) are closed. Do in the state. When performing the verification, first open both the first shut-off valve and the final-stage shut-off valve of the verification line to supply the process gas from the process gas source to the verification line and process the portion downstream of the mass flow controller (verification controller). Evacuate to the chamber side. The pressure in that part is measured by a pressure gauge. Next, the final stage shutoff valve is closed, and the pressure in the portion between the mass flow controller and the final stage shutoff valve is raised by the process gas. At this time, since the gas flow rate is regulated by the mass flow controller, the pressure gradually increases, and the flow rate of the verification controller is verified by this increase. Thus, the flow rate verification by the process gas is performed. Here, since the second shutoff valves of the non-verification line are all closed, the process gas does not enter another mass flow controller.

【００１８】なお、請求項１または請求項２の発明にお
いては、終段遮断弁の入側位置を排気口へ連通するベン
トラインと、このベントラインに設けられたベント遮断
弁とを有していてもよい。そしてこの場合の流量検定
は、終段遮断弁とベント遮断弁との双方を閉じた状態で
第１遮断弁を開くことにより行う。そして検定後は、終
段遮断弁の上流側の部分がかなりの高圧になっており、
いきなり終段遮断弁を開くとプロセスチャンバ内での種
々の悪影響が起こりうるので、まずベント遮断弁を開い
てそのガスをベントラインに排出して圧力を下げておく
のがよい。According to the first or second aspect of the present invention, there is provided a vent line connecting the inlet side position of the final stage shutoff valve to the exhaust port, and a vent shutoff valve provided in this vent line. May be. The flow rate verification in this case is performed by opening the first shutoff valve with both the final stage shutoff valve and the vent shutoff valve closed. And after the test, the upstream side of the final stage shut-off valve has become considerably high pressure,
Since opening the final stage shutoff valve suddenly may cause various adverse effects in the process chamber, it is preferable to first open the vent shutoff valve and discharge the gas to the vent line to reduce the pressure.

【００１９】請求項３に係る発明は、第１遮断弁とその
下流側のマスフローコントローラとその下流側の終段遮
断弁とをそれぞれ備えた複数のガスラインを経由して複
数のプロセスガス源からプロセスチャンバにプロセスガ
スを供給するガス配管系の検定を行うシステムであっ
て、前記各終段遮断弁の入流側位置を排気口へ連通する
ベントラインと、このベントラインに設けられたベント
遮断弁と、前記ベントラインと前記各ガスラインと間に
それぞれ設けられた第３遮断弁と、前記ベント遮断弁の
入側位置での圧力を計測する圧力計とを有し、あるガス
ラインの前記第１遮断弁および第３遮断弁を開いて前記
終段遮断弁および他のすべてのガスラインの前記第３遮
断弁および前記ベント遮断弁を閉じ、そのガスラインの
前記マスフローコントローラを通して前記ベント遮断弁
の上流側にそのプロセスガスを導入したときの圧力上昇
を前記圧力計で測定することによりそのガスラインの前
記マスフローコントローラの流量を検定することを特徴
とする。この発明は、複数のプロセスガスを扱う配管系
であってプロセスチャンバに至るまで各ガスラインが独
立しているものにおいて、１つの圧力計で前記（１）の
目的を達成するためのものである。According to a third aspect of the present invention, a plurality of process gas sources are provided via a plurality of gas lines respectively provided with a first shutoff valve, a mass flow controller on the downstream side thereof, and a final stage shutoff valve on the downstream side thereof. A system for verifying a gas piping system for supplying a process gas to a process chamber, the vent line connecting the inlet side position of each of the final stage shutoff valves to an exhaust port, and a vent shutoff valve provided in this vent line And a third shutoff valve provided between the vent line and each gas line, and a pressure gauge for measuring the pressure at the inlet side position of the vent shutoff valve. The first cutoff valve and the third cutoff valve are opened to close the final cutoff valve and the third cutoff valve and the vent cutoff valve of all other gas lines, and the mass flow controller of the gas line is closed. Characterized in that by measuring the pressure increase upon introduction of the process gas on the upstream side of the vent shut-off valve through rollers with said pressure gauge to test the flow rate of the mass flow controllers in the gas line. The present invention is for achieving the above-mentioned object (1) with a single pressure gauge in a piping system for handling a plurality of process gases, in which each gas line is independent up to the process chamber. .

【００２０】この発明によれば、第３遮断弁をすべて閉
じておいてあるガスラインの第１遮断弁とそのガスライ
ンの終段遮断弁とをともに開けば、そのプロセスガス源
からそのガスラインを経由してプロセスチャンバにその
プロセスガスが供給される。２以上のプロセスガスを同
時に供給してもよい。このときの各ガス流量は、それぞ
れマスフローコントローラにより所定の値に調整されて
おり、従ってプロセスチャンバにて所定の処理を行うこ
とができる状態である。According to the present invention, by opening both the first shutoff valve of the gas line and the final stage shutoff valve of the gas line in which all the third shutoff valves are closed, the gas line is removed from the process gas source. The process gas is supplied to the process chamber via the. Two or more process gases may be supplied simultaneously. The flow rate of each gas at this time is adjusted to a predetermined value by the mass flow controller, so that the process chamber can perform a predetermined process.

【００２１】マスフローコントローラの流量検定は、検
定ラインを決め、検定ラインの第３遮断弁を開きすべて
の非検定ラインの第３遮断弁を閉じた状態で行う。従っ
て、検定ラインのプロセスガスが非検定ラインに進入す
ることはなく、また非検定ラインのプロセスガスのみで
実施できる処理であれば検定と並行して行うこともでき
る。The flow rate verification of the mass flow controller is carried out with the verification line determined, the third cutoff valve of the verification line opened, and the third cutoff valves of all non-verification lines closed. Therefore, the process gas in the verification line does not enter the non-verification line, and if the process can be performed only with the process gas in the non-verification line, it can be performed in parallel with the verification.

【００２２】検定を行うときはまず、検定ラインの第１
遮断弁とベント遮断弁とをともに開いて、プロセスガス
源からプロセスガスを検定ラインに導入しつつマスフロ
ーコントローラより下流の部分をベントラインに排気す
る。その部分の圧力は圧力計により計測されている。そ
してベント遮断弁を閉じて、マスフローコントローラと
ベント遮断弁との間の圧力をプロセスガスにより徐々に
上昇させる。この圧力上昇を圧力計で測定することによ
り、マスフローコントローラの流量が検定される。かく
してプロセスガスによる流量検定がなされる。なお、ベ
ント遮断弁の代わりに終段遮断弁を用いても同様の検定
が可能である。When conducting the test, firstly, the first test line
Both the shutoff valve and the vent shutoff valve are opened to introduce the process gas from the process gas source into the verification line and exhaust the portion downstream of the mass flow controller to the vent line. The pressure in that part is measured by a pressure gauge. Then, the vent shutoff valve is closed, and the pressure between the mass flow controller and the vent shutoff valve is gradually increased by the process gas. The flow rate of the mass flow controller is verified by measuring this pressure rise with a pressure gauge. Thus, the flow rate verification by the process gas is performed. The same test can be performed by using a final-stage shutoff valve instead of the vent shutoff valve.

【００２３】請求項４に係る発明は、請求項１ないし請
求項３のいずれかに記載するガス配管系の検定システム
であって、前記圧力計の指示値を所定の時間間隔でサン
プリングし、サンプリングされたデータの相関係数の絶
対値が所定の値以上になるように対象範囲を定め、前記
対象範囲内のデータについて最小二乗法により傾きを求
めてこの傾きにより前記マスフローコントローラの流量
を検定することを特徴とする。この発明は、前記（１）
の目的の他に（２）の目的をも達成するためのものであ
る。The invention according to claim 4 is the verification system of the gas piping system according to any one of claims 1 to 3, wherein the indication value of the pressure gauge is sampled at a predetermined time interval and sampling is performed. The target range is determined so that the absolute value of the correlation coefficient of the obtained data is equal to or greater than a predetermined value, the slope is obtained by the least squares method for the data within the target range, and the flow rate of the mass flow controller is verified by this slope. It is characterized by This invention is based on the above (1).
In addition to the purpose (2), the purpose (2) is also achieved.

【００２４】この発明によれば、圧力計の指示値は所定
の時間間隔でサンプリングされており、そのうちある対
象範囲内のものについて最小二乗法により傾きが求めら
れる。その対象範囲は、対象範囲内のデータの相関係数
の絶対値が所定の値以上になるように定められる。所定
の値はもちろん１に近い値であり、範囲内でデータの時
間軸に対する直線性がよくなるように対象範囲が定めら
れるのである。対象範囲の決定手順は、具体的には次の
２通りがある。第１の手順は、はじめに圧力上昇開始前
から終了後までを含む広い範囲を設定しておいて、１ス
テップずつ範囲を狭めていき、相関係数の絶対値が所定
の値を初めて超えた時点で対象範囲を確定する手順であ
る。第２の手順は、はじめに圧力上昇開始と終了とのほ
ぼ中間に狭い範囲を設定しておいて、１ステップずつ範
囲を広げていき、相関係数の絶対値が所定の値を初めて
下回った時点でその直前の範囲を対象範囲として確定す
る手順である。かくして対象範囲が確定すると、最小二
乗法により傾きが求められこの傾きによりマスフローコ
ントローラの流量検定がなされる。従って、圧力計から
のデータ取得系にリップルがある場合でも高精度で検定
できる。また、データの中にノイズが乗ったものが含ま
れていても、それにより直ちに異常な結果が出ることは
ない。According to the present invention, the indicated value of the pressure gauge is sampled at a predetermined time interval, and the inclination of the object within a certain target range is obtained by the least square method. The target range is determined so that the absolute value of the correlation coefficient of the data within the target range is equal to or greater than a predetermined value. The predetermined value is, of course, a value close to 1, and the target range is determined so that the linearity of the data with respect to the time axis is improved within the range. Specifically, there are the following two procedures for determining the target range. The first procedure is to set a wide range from before the pressure rise starts to after the pressure rise, narrow the range step by step until the absolute value of the correlation coefficient exceeds a predetermined value for the first time. Is a procedure for determining the target range. The second procedure is to set a narrow range approximately at the middle of the pressure increase start and end and then expand the range step by step until the absolute value of the correlation coefficient falls below the predetermined value for the first time. Then, the procedure is to determine the range immediately before that as the target range. Thus, when the target range is determined, the slope is obtained by the least squares method, and the flow rate of the mass flow controller is verified by this slope. Therefore, even if there is a ripple in the data acquisition system from the pressure gauge, it can be verified with high accuracy. Moreover, even if the data includes noise, the abnormal results are not immediately obtained.

【００２５】請求項５に係る発明は、請求項１ないし請
求項４のいずれかに記載するガス配管系の検定システム
であって、前記マスフローコントローラの取付時に測定
を行いその結果を初期値として記憶し、ガス配管系稼動
後に再度測定を行いその結果の前記初期値からのずれを
補償するように前記マスフローコントローラの流量設定
を変更することを特徴とする。この発明は、前記（１）
の目的の他に（３）の目的をも達成するためのものであ
る。The invention according to claim 5 is the gas pipe system verification system according to any one of claims 1 to 4, wherein the measurement is carried out when the mass flow controller is attached, and the result is stored as an initial value. However, the flow rate setting of the mass flow controller is changed so that the measurement is performed again after the operation of the gas piping system and the deviation of the result from the initial value is compensated. This invention is based on the above (1).
In addition to the purpose (3), the purpose (3) is also achieved.

【００２６】この発明によれば、ガス配管系の立ち上げ
時やマスフローコントローラを交換した時等にまず測定
が行われその結果が初期値として記憶される。そしてあ
る程度の期間ガス配管系が稼動した後に再度測定が行わ
れる。その結果が初期値とずれている場合には、マスフ
ローコントローラの流量特性が変動していることになる
ので、その流量設定が変更されてずれが補償される。従
って、マスフローコントローラの特性変動が自動的に補
償されて正しいガス流量でガス配管系の稼動を続行する
ことができる。ただし、初期値からのずれがあまりに大
きくなったマスフローコントローラをそのまま使い続け
るとプロセスチャンバでの処理に悪影響を及ぼす場合が
あるので、ずれに上限値を定めてその上限値に達した場
合には警報を発してガス配管系の稼動を停止させるよう
にしておくことが好ましい。According to the present invention, when the gas piping system is started up or the mass flow controller is replaced, the measurement is first performed and the result is stored as the initial value. Then, the measurement is performed again after the gas piping system is operated for a certain period. If the result deviates from the initial value, it means that the flow rate characteristic of the mass flow controller is fluctuating, so that the flow rate setting is changed and the deviation is compensated. Therefore, the characteristic variation of the mass flow controller is automatically compensated, and the operation of the gas piping system can be continued at the correct gas flow rate. However, if you continue to use the mass flow controller whose deviation from the initial value is too large, it may adversely affect the processing in the process chamber.Therefore, set an upper limit on the deviation and give an alarm when the upper limit is reached. Is preferably generated to stop the operation of the gas piping system.

【００２７】請求項６に係る発明は、第１遮断弁とその
下流側のマスフローコントローラとを備えたガスライン
を経由してプロセスガス源からプロセスチャンバにプロ
セスガスを供給するガス配管系の検定を行うシステムで
あって、前記マスフローコントローラの入側位置での圧
力を計測する圧力計を備え、前記第１遮断弁を閉じ前記
マスフローコントローラを通して排気したときの圧力低
下を前記圧力計で測定しつつその指示値を所定の時間間
隔でサンプリングし、このサンプリング手段によりサン
プリングされたデータの相関係数の絶対値が所定の値以
上になるように対象範囲を定め、前記対象範囲内のデー
タについて最小二乗法により傾きを求めてこの傾きによ
り前記マスフローコントローラの流量を検定することを
特徴とする。この発明は、前記（２）の目的を達成する
ためのものである。The invention according to claim 6 certifies a gas piping system for supplying a process gas from a process gas source to a process chamber via a gas line equipped with a first cutoff valve and a mass flow controller downstream thereof. A system for performing the measurement, comprising a pressure gauge for measuring the pressure at the inlet side position of the mass flow controller, closing the first shutoff valve, and measuring the pressure drop when exhausted through the mass flow controller with the pressure gauge. The indicated value is sampled at a predetermined time interval, the target range is determined so that the absolute value of the correlation coefficient of the data sampled by the sampling means becomes a predetermined value or more, and the least squares method is applied to the data within the target range. Is obtained, and the flow rate of the mass flow controller is verified by this inclination. The present invention is to achieve the above-mentioned object (2).

【００２８】この発明でマスフローコントローラの流量
検定をするときは、まず、第１遮断弁を開いてプロセス
ガス源からプロセスガスをガスラインに導入する。この
とき、マスフローコントローラによりガス流量が規制さ
れるので、ガスラインのうち第１遮断弁とマスフローコ
ントローラとの間の部分がプロセスガス源からの供給圧
に保たれ、マスフローコントローラの規制流量のガスが
プロセスチャンバ側に流れる定常状態となる。そして第
１遮断弁を閉じてプロセスガスの供給を絶つと、当該部
分の圧力は徐々に下がる。この圧力の低下はマスフロー
コントローラの流量を示すものであり、圧力計により計
測されている。In the flow rate verification of the mass flow controller according to the present invention, first, the first shutoff valve is opened to introduce the process gas from the process gas source into the gas line. At this time, since the gas flow rate is regulated by the mass flow controller, the portion of the gas line between the first cutoff valve and the mass flow controller is kept at the supply pressure from the process gas source, and the gas of the regulated flow rate of the mass flow controller is kept. A steady state of flowing to the process chamber side is achieved. Then, when the first shutoff valve is closed and the supply of the process gas is cut off, the pressure in that portion gradually decreases. This decrease in pressure indicates the flow rate of the mass flow controller and is measured by the pressure gauge.

【００２９】そして圧力計の指示値は所定の時間間隔で
サンプリングされており、そのうちある対象範囲内のも
のについて最小二乗法により傾きが求められる。その対
象範囲は、対象範囲内のデータの相関係数の絶対値が所
定の値以上になるように定められる。所定の値はもちろ
ん１に近い値であり、範囲内でデータの時間軸に対する
直線性がよくなるように対象範囲が定められるのであ
る。対象範囲の決定手順は、具体的には次の２通りがあ
る。第１の手順は、はじめに圧力低下開始前から終了後
までを含む広い範囲を設定しておいて、１ステップずつ
範囲を狭めていき、相関係数の絶対値が所定の値を初め
て超えた時点で対象範囲を確定する手順である。第２の
手順は、はじめに圧力低下開始と終了とのほぼ中間に狭
い範囲を設定しておいて、１ステップずつ範囲を広げて
いき、相関係数の絶対値が所定の値を初めて下回った時
点でその直前の範囲を対象範囲として確定する手順であ
る。かくして対象範囲が確定すると、最小二乗法により
傾きが求められこの傾きによりマスフローコントローラ
の流量検定がなされる。従って、圧力計からのデータ取
得系にリップルがある場合でも高精度で検定できる。ま
た、データの中にノイズが乗ったものが含まれていて
も、それにより直ちに異常な結果が出ることはない。Then, the indicated value of the pressure gauge is sampled at a predetermined time interval, and the inclination within a certain target range is obtained by the least square method. The target range is determined so that the absolute value of the correlation coefficient of the data within the target range is equal to or greater than a predetermined value. The predetermined value is, of course, a value close to 1, and the target range is determined so that the linearity of the data with respect to the time axis is improved within the range. Specifically, there are the following two procedures for determining the target range. The first procedure is to set a wide range from before the pressure drop starts to after the pressure drop, and narrow the range step by step until the absolute value of the correlation coefficient exceeds the predetermined value for the first time. Is a procedure for determining the target range. The second procedure is to set a narrow range approximately at the middle of the pressure drop start and end, expand the range step by step, and when the absolute value of the correlation coefficient falls below the predetermined value for the first time. Then, the procedure is to determine the range immediately before that as the target range. Thus, when the target range is determined, the slope is obtained by the least squares method, and the flow rate of the mass flow controller is verified by this slope. Therefore, even if there is a ripple in the data acquisition system from the pressure gauge, it can be verified with high accuracy. Moreover, even if the data includes noise, the abnormal results are not immediately obtained.

【００３０】請求項７に係る発明は、第１遮断弁とその
下流側のマスフローコントローラとを備えたガスライン
を経由してプロセスガス源からプロセスチャンバにプロ
セスガスを供給するガス配管系の検定を行うシステムで
あって、前記マスフローコントローラの入側位置での圧
力を計測する圧力計を備え、前記第１遮断弁を閉じ前記
マスフローコントローラを通して排気したときの圧力低
下をマスフローコントローラの取付時に前記圧力計で測
定し、システム稼動後に再度測定を行いその結果の前記
初期値からのずれを補償するように前記マスフローコン
トローラの流量設定を変更することを特徴とする。この
発明は、前記（３）の目的を達成するためのものであ
る。なお、請求項６の発明と組み合わせてもよい。The invention according to claim 7 certifies a gas piping system for supplying a process gas from a process gas source to a process chamber via a gas line equipped with a first shutoff valve and a mass flow controller downstream thereof. A system for performing the measurement, comprising a pressure gauge for measuring a pressure at an inlet side position of the mass flow controller, wherein the pressure gauge when the mass flow controller is mounted is provided with a pressure drop when the first shutoff valve is closed and exhausted through the mass flow controller. It is characterized in that the flow rate setting of the mass flow controller is changed so as to compensate the deviation from the initial value as a result of the measurement. The present invention is to achieve the above-mentioned object (3). In addition, you may combine with invention of Claim 6.

【００３１】この発明によれば、ガス配管系の立ち上げ
時やマスフローコントローラを交換した時等にまず測定
が行われその結果が初期値として記憶される。そしてあ
る程度の期間ガス配管系が稼動した後に再度測定が行わ
れる。その結果が初期値とずれている場合には、マスフ
ローコントローラの流量特性が変動していることになる
ので、その流量設定が変更されてずれが補償される。従
って、マスフローコントローラの特性変動が自動的に補
償されて正しいガス流量でガス配管系の稼動を続行する
ことができる。ただし、初期値からのずれがあまりに大
きくなったマスフローコントローラをそのまま使い続け
るとプロセスチャンバでの処理に悪影響を及ぼす場合が
あるので、ずれに上限値を定めてその上限値に達した場
合には警報を発してガス配管系の稼動を停止させるよう
にしておくことが好ましい。According to the present invention, when the gas piping system is started up or when the mass flow controller is replaced, the measurement is first performed and the result is stored as the initial value. Then, the measurement is performed again after the gas piping system is operated for a certain period. If the result deviates from the initial value, it means that the flow rate characteristic of the mass flow controller is fluctuating, so that the flow rate setting is changed and the deviation is compensated. Therefore, the characteristic variation of the mass flow controller is automatically compensated, and the operation of the gas piping system can be continued at the correct gas flow rate. However, if you continue to use the mass flow controller whose deviation from the initial value is too large, it may adversely affect the processing in the process chamber.Therefore, set an upper limit on the deviation and give an alarm when the upper limit is reached. Is preferably generated to stop the operation of the gas piping system.

【００３２】請求項８に係る発明は、請求項６または請
求項７に記載するガス配管系の検定システムであって、
テストガス源から前記マスフローコントローラの入側位
置にテストガスを供給する遮断可能なテストガスライン
を備え、テストガスを用いて検定を行うことを特徴とす
る。この発明は、テストガスを用いて検定する配管系に
おいて前記（２）または（３）の目的を達成するための
ものである。The invention according to claim 8 is the gas pipe system verification system according to claim 6 or 7,
It is characterized in that a test gas line that can supply a test gas from the test gas source to the inlet side position of the mass flow controller is provided, and the test gas is used to perform the verification. The present invention is intended to achieve the above object (2) or (3) in a piping system that uses a test gas for verification.

【００３３】この発明でマスフローコントローラの流量
検定をするときは、プロセスガスを導入する代わりに第
１遮断弁を閉じた状態にしておき、まず、テストガスラ
インからテストガスをガスラインに導入する。このと
き、マスフローコントローラによりガス流量が規制され
るので、ガスラインのうち第１遮断弁とマスフローコン
トローラとの間の部分がテストガスラインからの供給圧
に保たれ、マスフローコントローラの規制流量のテスト
ガスがプロセスチャンバ側に流れる定常状態となる。そ
してテストガスの供給を絶つと、当該部分の圧力は徐々
に下がる。この圧力の低下はマスフローコントローラの
流量を示すものであり、圧力計により計測されている。
この計測値により、請求項６または請求項７の場合のよ
うに、マスフローコントローラの流量検定がなされる。
なお、ここで「テストガス」と称しているのは、プロセ
スガス源から供給されるプロセスガスとは別のガスとい
う意味であって、一般的にはパージガス（Ｎ₂ 等）とし
て用意されているものをこれに当てることができる。 When performing the flow rate verification of the mass flow controller according to the present invention, the first shutoff valve is closed instead of introducing the process gas, and first, the test gas is introduced into the gas line from the test gas line. At this time, since the gas flow rate is regulated by the mass flow controller, the portion of the gas line between the first cutoff valve and the mass flow controller is kept at the supply pressure from the test gas line, and the test gas of the regulated flow rate of the mass flow controller is maintained. Becomes a steady state in which flows to the process chamber side. Then, when the supply of the test gas is cut off, the pressure in the relevant portion gradually decreases. This decrease in pressure indicates the flow rate of the mass flow controller and is measured by the pressure gauge.
With this measured value, the flow rate verification of the mass flow controller is performed as in the case of claim 6 or claim 7.
The term "test gas" used herein means a gas different from the process gas supplied from the process gas source, and is generally prepared as a purge gas (N ₂ etc.). You can hit things on this .

【００３４】[0034]

【発明の実施の形態】以下、本発明のガス配管系の検定
システムを半導体製造設備におけるガスシステムに適用
して具体化した実施の形態を、図面を参照しつつ詳細に
説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION hereinafter, an embodiment in which the assay system of the gas pipe system embodying applied to a gas system in a semiconductor manufacturing apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【００３５】［第１の実施の形態］ 図１に、第１の実施の形態に係るガスシステムの構成を
示す。このガスシステムは、プロセスガスＡ、Ｂをガス
ライン２３Ａ、２３Ｂを経由して処理槽３７に供給する
ためのシステムである。処理槽３７は、半導体ウェハに
成膜やエッチング等の処理を施すＣＶＤ装置、エッチン
グ装置等である。プロセスガスは、ＣＶＤ用としてはシ
ラン（ＳｉＨ₄）、ホスフィン（ＰＨ₃）、６フッ化タン
グステン（ＷＦ₆）等があり、エッチング用としては塩
素ガス（Ｃｌ₂）や臭化水素ガス（ＨＢｒ）等がある。[First Embodiment] FIG. 1 shows the configuration of a gas system according to the first embodiment. This gas system is a system for supplying the process gases A and B to the processing tank 37 via the gas lines 23A and 23B. The processing tank 37 is a CVD device, an etching device, or the like that performs processes such as film formation and etching on a semiconductor wafer. Process gases include silane (SiH ₄ ), phosphine (PH ₃ ), tungsten hexafluoride (WF ₆ ) for CVD, and chlorine gas (Cl ₂ ) and hydrogen bromide gas (HBr) for etching. Etc.

【００３６】各ガスライン２３Ａ、２３Ｂには、上流側
から順に遮断弁２５Ａ、２５Ｂ、マスフローコントロー
ラ２７Ａ、２７Ｂ、遮断弁２９Ａ、２９Ｂが配置されて
いる。ここでマスフローコントローラ２７Ａ、２７Ｂ
は、各プロセスガスＡ、Ｂの流量調整を行うものであ
る。そして、遮断弁２９Ａ、２９Ｂの下流側でガスライ
ン２３Ａ、２３Ｂが集合管３１に合流して処理槽３７に
至るように組まれており、集合管３１にも遮断弁２１が
配置されている。遮断弁２１は、圧縮空気Ｐにより作動
するようにされており、その給排操作を行うソレノイド
バルブ１９が備えられている。Shutoff valves 25A and 25B, mass flow controllers 27A and 27B, and shutoff valves 29A and 29B are arranged in this order from the upstream side in each of the gas lines 23A and 23B. Here, the mass flow controllers 27A and 27B
Is for adjusting the flow rate of each process gas A, B. The gas lines 23A and 23B are assembled downstream of the shutoff valves 29A and 29B so as to join the collecting pipe 31 and reach the processing tank 37. The shutoff valve 21 is also arranged in the collecting pipe 31. The shutoff valve 21 is adapted to be operated by the compressed air P, and is provided with a solenoid valve 19 for supplying and discharging the compressed air P.

【００３７】また、集合管３１における遮断弁２１の上
流側には、圧力センサ１１及びベントライン３３が設け
られている。圧力センサ１１は、集合管３１内のガス圧
を測定するものである。ベントライン３３は、処理槽３
７を通さずに余分なプロセスガスを排気するためもので
あり、遮断弁３５を備えている。なお、図示しないが、
処理槽３７やベントライン３３の先方には排気ポンプや
除害装置等が設けられており、プロセスガスを無害化し
たうえで排出するようになっている。A pressure sensor 11 and a vent line 33 are provided upstream of the shutoff valve 21 in the collecting pipe 31. The pressure sensor 11 measures the gas pressure in the collecting pipe 31. The vent line 33 is the treatment tank 3
It is for exhausting excess process gas without passing through 7, and is provided with a shutoff valve 35. Although not shown,
An exhaust pump, a detoxifying device, and the like are provided in front of the processing tank 37 and the vent line 33 so that the process gas is detoxified and then discharged.

【００３８】そしてこのガスシステムは制御系として、
流量モニタリングシステム１３とその上位装置である本
体コントローラ１５とを備えている。本体コントローラ
１５は、ガスシステムの全体制御を行うマイクロコンピ
ュータであって、公知のＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等を組
み合わせて構成されている。前記したソレノイドバルブ
１９は、この本体コントローラ１５の指令により圧縮空
気Ｐの遮断弁２１への給排を行うようになっている。流
量モニタリングシステム１３は、マスフローコントロー
ラ２７Ａ、２７Ｂの流量検定を行うためのものであり、
圧力センサ１１の検出ガス圧の他、本体コントローラ１
５からソレノイドバルブ１９への指令信号をモニタする
ようになっている。本体コントローラ１５の代わりに流
量モニタリングシステム１３からソレノイドバルブ１９
へ指令信号を出力するようにしてもよい。また、流量モ
ニタリングシステム１３と本体コントローラ１５とはリ
モート信号線１７で接続されており、両者間でデータ転
送ができるようになっている。This gas system is used as a control system.
It is provided with a flow rate monitoring system 13 and a main body controller 15 which is an upper device thereof. The main body controller 15 is a microcomputer that controls the entire gas system, and is configured by combining known CPUs, ROMs, RAMs, and the like. The solenoid valve 19 is configured to supply and discharge the compressed air P to and from the shutoff valve 21 according to a command from the main body controller 15. The flow rate monitoring system 13 is for performing flow rate verification of the mass flow controllers 27A and 27B,
In addition to the gas pressure detected by the pressure sensor 11, the main body controller 1
A command signal from 5 to the solenoid valve 19 is monitored. Instead of the main body controller 15, the flow rate monitoring system 13 is connected to the solenoid valve 19
Alternatively, a command signal may be output to. Further, the flow rate monitoring system 13 and the main body controller 15 are connected by a remote signal line 17 so that data can be transferred between them.

【００３９】このガスシステムの動作を説明する。この
ガスシステムの動作には、通常のプロセス動作の他にマ
スフローコントローラ２７Ａ、２７Ｂの流量検定や遮断
弁２５Ａ、２５Ｂ、２９Ａ、２９Ｂ、２１の漏れ検定が
ある。通常のプロセス動作とは、処理槽３７で半導体ウ
ェハに成膜やエッチング等の処理を施す動作である。プ
ロセスガスＡを用いる処理であれば、遮断弁３５を閉じ
てベントライン３３を塞いでおいて、遮断弁２５Ａ、２
９Ａ、２１を開いてそしてマスフローコントローラ２７
Ａでガス流量を調整しつつ、ガスライン２３Ａ、集合管
３１を経由して処理槽３７にプロセスガスＡを導入し、
所定の処理を行う。プロセスガスＢを用いる処理であれ
ばガスライン２３Ｂについて同様の操作を行い処理槽３
７にプロセスガスＢを導入して処理を行う。プロセスガ
スＡ、Ｂの双方を用いる処理も可能である。The operation of this gas system will be described. In addition to normal process operation, the operation of this gas system includes flow rate verification of the mass flow controllers 27A and 27B and leak verification of the shutoff valves 25A, 25B, 29A, 29B, and 21. The normal process operation is an operation of performing processing such as film formation and etching on the semiconductor wafer in the processing tank 37. If the process gas A is used, the shutoff valve 35 is closed to close the vent line 33, and the shutoff valves 25A, 2
9A, open 21 and mass flow controller 27
While adjusting the gas flow rate with A, the process gas A is introduced into the processing tank 37 via the gas line 23A and the collecting pipe 31,
Perform predetermined processing. If the process uses the process gas B, the same operation is performed for the gas line 23B and the treatment tank 3
The process gas B is introduced into 7 for processing. Processing using both process gases A and B is also possible.

【００４０】次に流量検定動作について説明する。ここ
ではマスフローコントローラ２７Ａの流量検定を行う場
合について説明するが、マスフローコントローラ２７Ｂ
の流量検定も同様である。Next, the flow rate verification operation will be described. Here, the case of performing the flow rate verification of the mass flow controller 27A will be described.
The same applies to the flow rate verification.

【００４１】流量検定動作を行うときには、まず準備操
作として、遮断弁２９Ａを開き遮断弁２９Ｂを閉じる。
遮断弁２９Ｂを閉じるのは、プロセスガスＡがガスライ
ン２３Ｂに進入するのを防ぐためである。そして遮断弁
２５Ａと遮断弁３５（もしくは遮断弁２１）とをともに
開く。このとき、プロセスガスＡがガスライン２３Ａに
導入されるが、マスフローコントローラ２７Ａより下流
の部分の圧力は真空に近い低圧となっており、圧力セン
サ１１の指示値によりその圧力を知ることができる。When performing the flow rate verification operation, first, as a preparatory operation, the shutoff valve 29A is opened and the shutoff valve 29B is closed.
The shutoff valve 29B is closed to prevent the process gas A from entering the gas line 23B. Then, the shutoff valve 25A and the shutoff valve 35 (or the shutoff valve 21) are both opened. At this time, the process gas A is introduced into the gas line 23A, but the pressure of the portion downstream from the mass flow controller 27A is a low pressure close to vacuum, and the pressure can be known from the indicated value of the pressure sensor 11.

【００４２】そして遮断弁３５（もしくは遮断弁２１）
を閉じると、マスフローコントローラ２７Ａ以後の部分
において、プロセスガスが逃げ場を失うのでその部分の
圧力がプロセスガスによりその供給圧に達するまで上昇
する。このとき、マスフローコントローラ２７Ａにより
流量が規制されるので、圧力は徐々に上昇する。圧力セ
ンサ１１の指示値はこの徐々に上昇する圧力を示し、図
７に示すようなカーブを描く。そしてその傾きはマスフ
ローコントローラ２７Ａの流量に対応する。The shutoff valve 35 (or the shutoff valve 21)
When is closed, the process gas loses its escape area in the portion after the mass flow controller 27A, and the pressure in that portion rises until it reaches the supply pressure by the process gas. At this time, since the flow rate is regulated by the mass flow controller 27A, the pressure gradually rises. The indicated value of the pressure sensor 11 indicates this gradually increasing pressure and draws a curve as shown in FIG. The inclination corresponds to the flow rate of the mass flow controller 27A.

【００４３】圧力センサ１１の指示値は、流量モニタリ
ングシステム１３によりモニタされている。この流量モ
ニタリングシステム１３は、０．１ｍｓｅｃ程度の時間
間隔で圧力データをサンプリングしている（図９参
照）。そして検定は、図９のグラフのうち直線性がよい
範囲について最小二乗法により傾斜を演算することによ
り行われる。傾斜算出の対象となる範囲を図９中に「ｒ
を求める範囲」で示す。The indicated value of the pressure sensor 11 is monitored by the flow rate monitoring system 13. The flow rate monitoring system 13 samples pressure data at time intervals of about 0.1 msec (see FIG. 9). Then, the test is performed by calculating the slope by the least squares method in the range of good linearity in the graph of FIG. The range for which the slope is calculated is shown in FIG.
The range is shown below.

【００４４】当該範囲の決定について説明する。当該範
囲には、圧力上昇開始前や終了後を含めてはならないこ
とはもちろん、圧力上昇開始直後も含めるべきでない。
遮断弁２５Ａを開いた直後は流量が安定しないからであ
る。また、直線性がよい限りなるべく広い範囲をとった
方が検定精度はよい。The determination of the range will be described. The range must not include before or after the start of pressure increase, and of course, immediately after the start of pressure increase.
This is because the flow rate is not stable immediately after opening the shutoff valve 25A. In addition, the accuracy of the test is better when the linearity is as wide as possible.

【００４５】範囲の決定は相関係数により行い、２通り
の手順がある。第１の手順は、最初に圧力上昇開始前や
終了後をも含む広い範囲を仮に設定しておいて１ステッ
プずつ範囲を狭めていくものであり、その都度範囲内の
データについて相関係数を求める。範囲が広いうちは直
線性が良くないので相関係数は１から遠い値であるが、
範囲を狭めるにつれて少しずつ相関係数が上昇してい
く。そして、相関係数があらかじめ定めた所定値（例え
ば０．９５）を初めて超えたらそのときの範囲を傾斜算
出の対象範囲として確定する。第２の手順は、逆に最初
は圧力上昇開始と終了との中間付近にごく狭い範囲を仮
に設定しておいて１ステップずつ範囲を広げていくもの
である。範囲が狭いうちは直線性が良いので相関係数は
１にごく近い値であるが、範囲を広げるにつれて少しず
つ相関係数が低下していく。そして、相関係数が前記所
定値を初めて下回ったらその直前の範囲を傾斜算出の対
象範囲として確定する。かくして、直線性が良くかつな
るべく広い範囲が決定される。The range is determined by the correlation coefficient, and there are two procedures. The first procedure is to temporarily set a wide range including before and after the pressure rise and narrow the range step by step. At each time, the correlation coefficient is calculated for the data within the range. Ask. Since the linearity is not good while the range is wide, the correlation coefficient is far from 1.
The correlation coefficient gradually increases as the range is narrowed. Then, when the correlation coefficient exceeds a predetermined value (for example, 0.95) set in advance for the first time, the range at that time is determined as the target range for the slope calculation. On the contrary, in the second procedure, initially, a very narrow range is temporarily set near the middle of the pressure increase start and end, and the range is expanded step by step. Since the linearity is good when the range is narrow, the correlation coefficient is a value very close to 1, but as the range is widened, the correlation coefficient gradually decreases. When the correlation coefficient falls below the predetermined value for the first time, the range immediately before that is determined as the target range for the slope calculation. Thus, the linearity is good and the widest possible range is determined.

【００４６】範囲が確定したら、その範囲内のデータに
ついて最小二乗法により傾斜が算出される。そして算出
された傾斜により検定が行われる。具体的には、算出し
た傾斜を初期の値と比較することにより検定される。す
なわちこの配管系では、配管系の組立直後やマスフロー
コントローラの交換直後に上記のように流量検定をし
て、マスフローコントローラの新品時の傾斜が求められ
初期値として記録されることとなっているので、これと
比較するのである。傾斜が初期値と比べて変化していな
ければ、マスフローコントローラの流量特性には変化が
見られないことになるので、特に設定の変更をすること
なくそのままプロセスの稼動を続行してよい。傾斜が初
期値と比べて変化している場合にはマスフローコントロ
ーラの流量特性に変動が生じていることになるので、そ
の変動を相殺するようにマスフローコントローラの駆動
の設定を変更しなければならない。プロセスガスの流量
が狙いからはずれたまま実プロセスを実施すると、所定
の品質が得られないからである。When the range is determined, the slope is calculated by the least square method for the data within the range. Then, the verification is performed based on the calculated inclination. Specifically, it is tested by comparing the calculated slope with the initial value. That is, in this piping system, the flow rate verification is performed as described above immediately after the piping system is assembled or the mass flow controller is replaced, and the inclination of the mass flow controller when it is new is obtained and recorded as the initial value. , Compare with this. If the slope does not change from the initial value, the flow rate characteristic of the mass flow controller does not change, so the process operation may be continued without changing the setting. If the slope changes compared to the initial value, it means that the flow rate characteristic of the mass flow controller is fluctuating. Therefore, the drive setting of the mass flow controller must be changed to cancel the fluctuation. This is because if the actual process is carried out while the flow rate of the process gas is off target, the desired quality cannot be obtained.

【００４７】本検定システムによる検定の精度を図１
０、図１１のグラフにより説明する。図１０は、設定流
量が５０ｓｃｃｍであるマスフローコントローラに流量
変化が起こった場合について、本検定システムによる測
定結果と膜流量計の測定値から計算した結果とを対比し
たグラフである。図１０では両者が非常によく一致して
おり、本検定システムによる検定精度が高いことを示し
ている。図１１は、設定流量が１０００ｓｃｃｍである
マスフローコントローラについて同様の測定を行ったも
のであり、こちらも優れた結果が示されている。The accuracy of the test by this test system is shown in FIG.
0 will be described with reference to the graph of FIG. FIG. 10 is a graph comparing the measurement result of the present verification system with the result calculated from the measurement value of the membrane flow meter when the flow rate changes in the mass flow controller with the set flow rate of 50 sccm. In FIG. 10, the two match very well, indicating that the verification accuracy of this verification system is high. FIG. 11 shows a similar measurement performed on a mass flow controller having a set flow rate of 1000 sccm, which also shows excellent results.

【００４８】そして本実施の形態ではさらに、マスフロ
ーコントローラ２７Ａの流量に変化があった場合にその
変化を相殺するように駆動信号を調整するようにしてい
る。すなわち、マスフローコントローラ２７Ａの流量が
初期値より例えば５％減少していることが検定の結果判
明した場合には、その流量を５％増加させるように本体
コントローラ１５からの駆動信号を変更させるのであ
る。この場合の信号のやりとりを図１２のブロック図で
説明する。検定により流量の変動が発見されると、流量
モニタリングシステム１３から本体コントローラ１５
へ、その旨と変動量、変動の向き（増か減か）が伝達さ
れる（図１２中のａ）。従って本体コントローラ１５は
それ以後、その変化を打ち消すようにマスフローコント
ローラ２７Ａへの駆動信号を再調整し、本来の設定流量
で実プロセスを実施できるようにする（図１２中の
ｂ）。制御系の構成によっては、流量モニタリングシス
テム１３でマスフローコントローラ２７Ａを直接制御し
て同様のことを行ってもよい（図１２中のｃ）。Further, in the present embodiment, when the flow rate of the mass flow controller 27A changes, the drive signal is adjusted so as to cancel the change. That is, when it is found as a result of the verification that the flow rate of the mass flow controller 27A has decreased from the initial value by, for example, 5%, the drive signal from the main body controller 15 is changed so as to increase the flow rate by 5%. . The exchange of signals in this case will be described with reference to the block diagram of FIG. When the flow rate fluctuation is found by the verification, the flow rate monitoring system 13 to the main body controller 15
To that effect, the amount of fluctuation, and the direction of fluctuation (increase or decrease) are transmitted (a in FIG. 12). Therefore, the main body controller 15 thereafter readjusts the drive signal to the mass flow controller 27A so as to cancel the change so that the actual process can be performed at the original set flow rate (b in FIG. 12). Depending on the configuration of the control system, the flow rate monitoring system 13 may directly control the mass flow controller 27A to perform the same operation (c in FIG. 12).

【００４９】ただし、流量の初期値からの変動があまり
に大きくなった場合には、マスフローコントローラ２７
Ａがパーティクルを発生してプロセスチャンバ３７での
実プロセスに悪影響を及ぼすおそれがあるので、変動量
にある上限値を設けてこれを超えた場合にはなんらかの
警報を発してシステムを停止させるようにするのが望ま
しい。However, when the fluctuation of the flow rate from the initial value becomes too large, the mass flow controller 27
Since A may generate particles and adversely affect the actual process in the process chamber 37, an upper limit value is set for the fluctuation amount, and if it exceeds this value, some alarm is issued and the system is stopped. It is desirable to do.

【００５０】以上が流量検定であるが、検定後は図７、
９のグラフに見るように、集合管３１の内部が高圧にな
っているので、後の操作を行う前に遮断弁３５を開い
て、ガスをベントライン３３側へ排出しておくのがよ
い。いきなり遮断弁２１を開くと高圧のガスがプロセス
チャンバ３７に吹き込んで、内部のストレスやほこりの
巻き上げ等が起こるからである。The above is the flow rate verification. After the verification, FIG.
As shown in the graph of 9, since the inside of the collecting pipe 31 has a high pressure, it is preferable to open the shutoff valve 35 and discharge the gas to the vent line 33 side before performing the subsequent operation. This is because when the shut-off valve 21 is suddenly opened, high-pressure gas is blown into the process chamber 37, causing internal stress, winding up of dust, and the like.

【００５１】次に、漏れ検定の動作について説明する。
本システムでの漏れ検定には、遮断弁２１の漏れ検定
と、遮断弁２５Ａ、２５Ｂの漏れ検定と、遮断弁２９
Ａ、２９Ｂの漏れ検定とがある。Next, the operation of the leak test will be described.
The leak test in this system includes a leak test for the shutoff valve 21, a leak test for the shutoff valves 25A and 25B, and a shutoff valve 29.
There are A and 29B leak tests.

【００５２】まず遮断弁２１の漏れ検定を説明する。ま
ず準備操作として遮断弁２１及び遮断弁３５を閉じ、そ
して遮断弁２５Ａ、２９Ａをともに開いて集合管３１に
プロセスガスＡを導入する。このとき遮断弁２９Ｂは閉
じておく。またマスフローコントローラ２７Ａは全開状
態にしておく。すると、圧力センサ１１の指示値がプロ
セスガスＡの供給圧にまで上昇する。指示値が十分に上
昇したら遮断弁２９Ａを閉じる。この状態は、圧力セン
サ１１の計測位置を含む範囲が高圧の気密状態にされた
状態である。この状態で１日程度放置し、圧力センサ１
１の指示値の低下の有無により遮断弁２１の漏れを検定
する。First, the leak test of the shutoff valve 21 will be described. First, as a preparatory operation, the shutoff valves 21 and 35 are closed, and then the shutoff valves 25A and 29A are both opened to introduce the process gas A into the collecting pipe 31. At this time, the shutoff valve 29B is closed. Further, the mass flow controller 27A is kept fully open. Then, the indicated value of the pressure sensor 11 rises to the supply pressure of the process gas A. When the indicated value rises sufficiently, the shutoff valve 29A is closed. In this state, the range including the measurement position of the pressure sensor 11 is in a high-pressure airtight state. Leave the pressure sensor 1
The leakage of the shutoff valve 21 is verified by checking whether or not the indicated value of 1 has decreased.

【００５３】すなわち、指示値に低下がない場合には遮
断弁２１に漏れはないと判断され、指示値に低下があっ
た場合には、遮断弁２１を通してガスがプロセスチャン
バ３７の側へ逃げた、つまり閉じているはずの遮断弁２
１に漏れがあると判断される。ここで厳密には、指示値
の低下の原因が遮断弁２１でなく遮断弁３５の漏れであ
る可能性もある。しかしベントライン３３上に設けられ
ている遮断弁３５は、プロセスチャンバ３７の入口に設
けられている遮断弁２１と比較して実プロセス実施時に
おける開閉頻度が著しく低く、漏れが生じる可能性もそ
の分低い。なお、この検定をした後は集合管３１の内部
が高圧になっているので、後の操作を行う前に遮断弁３
５を開いて、ガスをベントライン３３側へ排出しておく
のがよい。That is, when there is no decrease in the indicated value, it is judged that there is no leak in the shutoff valve 21, and when there is a decrease in the indicated value, gas escapes to the process chamber 37 side through the shutoff valve 21. , That is, shut-off valve 2 that should be closed
It is judged that there is a leak in 1. Strictly speaking, it is possible that the cause of the decrease in the indicated value is not the shutoff valve 21 but the shutoff valve 35. However, the shutoff valve 35 provided on the vent line 33 has a significantly lower opening / closing frequency during actual process execution than the shutoff valve 21 provided at the inlet of the process chamber 37, and may cause leakage. It's low. Since the inside of the collecting pipe 31 is at a high pressure after this test, the shut-off valve 3 should be operated before the subsequent operation.
It is preferable to open 5 and discharge the gas to the vent line 33 side.

【００５４】続いて遮断弁２５Ａ、２５Ｂの漏れ検定を
説明する。まず準備操作として遮断弁２５Ａ、２５Ｂを
ともに閉じ、遮断弁２９Ａ、２９Ｂをともに開く。ま
た、マスフローコントローラ２７Ａ、２７Ｂはともに全
開状態にしておく。そして遮断弁２１または遮断弁３５
を開いて各ガスライン２３Ａ、２３Ｂ、集合管３１内の
残留ガスを排気する。すると、圧力センサ１１の指示値
が真空に近い低圧まで下がる。指示値が安定したら、遮
断弁２１および遮断弁３５をともに閉じる。この状態
は、圧力センサ１１の計測位置を含む範囲が低圧の気密
状態にされた状態である。この状態で１日程度放置し、
圧力センサ１１の指示値の上昇の有無により遮断弁２５
Ａ、２５Ｂの漏れを検定する。Next, the leak test of the shutoff valves 25A and 25B will be described. First, as a preparatory operation, both shutoff valves 25A and 25B are closed, and both shutoff valves 29A and 29B are opened. Further, both the mass flow controllers 27A and 27B are fully opened. And the shutoff valve 21 or the shutoff valve 35
To open the gas lines 23A, 23B and the residual gas in the collecting pipe 31. Then, the indicated value of the pressure sensor 11 drops to a low pressure close to vacuum. When the indicated value becomes stable, both the shutoff valve 21 and the shutoff valve 35 are closed. In this state, the range including the measurement position of the pressure sensor 11 is in a low pressure airtight state. Leave it in this state for about a day,
The shut-off valve 25 depends on whether or not the indicated value of the pressure sensor 11 has increased
Check for leaks in A, 25B.

【００５５】すなわち、指示値に上昇がない場合には遮
断弁２５Ａ、２５Ｂのいずれにも漏れはないと判断さ
れ、指示値に上昇があった場合には、遮断弁２５Ａ、２
５Ｂのいずれかまたは双方を通してプロセスガスが進入
した、つまり閉じているはずの遮断弁２５Ａ、２５Ｂの
いずれかまたは双方に漏れがあると判断される。なお、
遮断弁２５Ａ、２５Ｂのいずれかまたは双方から進入し
たプロセスガスは、マスフローコントローラ２７Ａ、２
７Ｂを経由して圧力センサ１１の計測位置に至るわけだ
が、マスフローコントローラ２７Ａ、２７Ｂがともに全
開状態とされているので、特に問題はない。That is, when there is no increase in the indicated value, it is judged that there is no leakage in either of the shutoff valves 25A and 25B, and when there is an increase in the indicated value, the shutoff valves 25A and 25B.
It is determined that the process gas enters through either or both of 5B, that is, there is a leak in either or both of the shutoff valves 25A and 25B that should have been closed. In addition,
The process gas that has entered from either or both of the shutoff valves 25A and 25B is removed by the mass flow controllers 27A and 2A.
Although it reaches the measurement position of the pressure sensor 11 via 7B, there is no particular problem because both the mass flow controllers 27A and 27B are in the fully opened state.

【００５６】続いて遮断弁２９Ａ、２９Ｂの漏れ検定を
説明する。まず準備操作として遮断弁２５Ａ、２５Ｂを
ともに開き、遮断弁２９Ａ、２９Ｂをともに閉じる。ま
た、マスフローコントローラ２７Ａ、２７Ｂはともに全
開状態にしておく。そして遮断弁２１または遮断弁３５
を開いて集合管３１内の残留ガスを排気する。すると、
圧力センサ１１の指示値が真空に近い低圧まで下がる。
指示値が十分に下がったら、遮断弁２１および遮断弁３
５をともに閉じる。この状態は、圧力センサ１１の計測
位置を含む範囲が低圧の気密状態にされた状態である。
この状態で１日程度放置し、圧力センサ１１の指示値の
上昇の有無により遮断弁２９Ａ、２９Ｂの漏れを検定す
る。Next, the leak test of the shutoff valves 29A and 29B will be described. First, as a preparatory operation, both shutoff valves 25A and 25B are opened, and both shutoff valves 29A and 29B are closed. Further, both the mass flow controllers 27A and 27B are fully opened. And the shutoff valve 21 or the shutoff valve 35
Is opened to exhaust the residual gas in the collecting pipe 31. Then,
The indicated value of the pressure sensor 11 drops to a low pressure close to vacuum.
When the indicated value is sufficiently lowered, the shutoff valve 21 and the shutoff valve 3
Close 5 together. In this state, the range including the measurement position of the pressure sensor 11 is in a low pressure airtight state.
In this state, it is left for about one day, and the leakage of the shutoff valves 29A and 29B is verified by the presence or absence of an increase in the indicated value of the pressure sensor 11.

【００５７】すなわち、指示値に上昇がない場合には遮
断弁２９Ａ、２９Ｂのいずれにも漏れはないと判断さ
れ、指示値に上昇があった場合には、遮断弁２９Ａ、２
９Ｂのいずれかまたは双方を通してプロセスガスが進入
した、つまり閉じているはずの遮断弁２９Ａ、２９Ｂの
いずれかまたは双方に漏れがあると判断される。なお、
遮断弁２９Ａ、２９Ｂのいずれかまたは双方から進入し
たプロセスガスは、マスフローコントローラ２７Ａ、２
７Ｂを経由したものであるが、マスフローコントローラ
２７Ａ、２７Ｂがともに全開状態とされているので、特
に問題はない。That is, when there is no increase in the indicated value, it is judged that there is no leakage in either of the shutoff valves 29A and 29B, and when there is an increase in the indicated value, the shutoff valves 29A, 29B.
It is determined that the process gas has entered through one or both of 9B, that is, there is a leak in one or both of the shutoff valves 29A and 29B that should have been closed. In addition,
The process gas that has entered from either or both of the shutoff valves 29A and 29B is transferred to the mass flow controllers 27A and 2A.
However, since the mass flow controllers 27A and 27B are both fully opened, there is no particular problem.

【００５８】上記の遮断弁２５Ａ、２５Ｂの漏れ検定で
も遮断弁２９Ａ、２９Ｂの漏れ検定でも、漏れがあると
判断された場合に、漏れのあるのは２つの遮断弁（Ａ、
Ｂ）のいずれなのかまたは双方なのかは、それだけでは
特定できない。しかし、遮断弁２５Ａ、２５Ｂにはいず
れも漏れがないが遮断弁２９Ａ、２９Ｂにはいずれかま
たは双方に漏れがあると判断された場合には、遮断弁２
５Ａ、２９Ｂを閉じ、遮断弁２５Ｂ、２９Ａを開いた状
態で同様に圧力センサ１１の指示値の上昇の有無を見れ
ば、遮断弁２９Ｂの漏れの有無を確認できる。（Ａ、
Ｂ）を逆にすれば遮断弁２９Ａの漏れの有無を確認でき
る。遮断弁２９Ａ、２９Ｂにはいずれも漏れがないが遮
断弁２５Ａ、２５Ｂにはいずれかまたは双方に漏れがあ
ると判断された場合も同様にして漏れのある弁を確認で
きる。When it is judged that there is a leak in both the leak test of the shutoff valves 25A and 25B and the leak test of the shutoff valves 29A and 29B, the two shutoff valves (A,
It is not possible to identify either of B) or both of them by themselves. However, if it is determined that the cutoff valves 25A and 25B have no leakage but the cutoff valves 29A and 29B have a leak to either or both, the cutoff valve 2
5A and 29B are closed and the shutoff valves 25B and 29A are opened, the presence or absence of an increase in the indicated value of the pressure sensor 11 can be checked to see if the shutoff valve 29B is leaking. (A,
By reversing B), it is possible to confirm whether or not there is a leak in the shutoff valve 29A. Even when it is determined that the cutoff valves 29A and 29B have no leaks but the cutoff valves 25A and 25B have leaks to either or both, the leaky valve can be similarly confirmed.

【００５９】以上詳細に説明したように本実施の形態に
係るガスシステムでは、各ガスライン２３Ａ、２３Ｂを
合流させた集合管３１の遮断弁２１の入側に圧力センサ
１１を設けてその位置の圧力をモニタするようにしたの
で、各マスフローコントローラを通して供給されるガス
の圧力上昇を測定することにより、１個の圧力センサで
各マスフローコントローラごとに流量検定ができるもの
である。As described in detail above, in the gas system according to the present embodiment, the pressure sensor 11 is provided on the inlet side of the shutoff valve 21 of the collecting pipe 31 which joins the gas lines 23A and 23B, and the position of that position is set. Since the pressure is monitored, the flow rate can be verified for each mass flow controller with one pressure sensor by measuring the pressure rise of the gas supplied through each mass flow controller.

【００６０】そして、圧力センサ１１の指示値を流量モ
ニタリングシステム１３でサンプリングし、相関係数が
所定の値以上となるなるべく広い範囲で最小二乗法によ
り傾斜を演算して検定することとしたので、２点測定で
検定するようなシステムと比較して著しく検定精度が高
い。特に、圧力センサ１１の指示値にリップルがあるよ
うな場合や、ノイズがあるような場合にも高精度な検定
ができるものである。また、算出した傾斜をあらかじめ
測定した初期値と比較して、変動がある場合にはその変
動を相殺するように本体コントローラ１５または流量モ
ニタリングシステム１３から各マスフローコントローラ
への駆動信号を調整するようにしたので、マスフローコ
ントローラの流量特性の変動を自動的に補正して、正し
いガス流量で実プロセスを続行することができる。Since the indicated value of the pressure sensor 11 is sampled by the flow rate monitoring system 13 and the slope is calculated by the least square method in a wide range as long as the correlation coefficient is not less than a predetermined value, the verification is performed. The accuracy of the test is remarkably higher than that of a system that tests by two-point measurement. In particular, even when the indicated value of the pressure sensor 11 has a ripple or has noise, a highly accurate verification can be performed. Further, the calculated inclination is compared with an initial value measured in advance, and if there is a variation, the drive signal from the main body controller 15 or the flow rate monitoring system 13 to each mass flow controller is adjusted so as to cancel the variation. Therefore, it is possible to automatically correct the fluctuation of the flow rate characteristic of the mass flow controller and continue the actual process with the correct gas flow rate.

【００６１】また、圧力センサ１１の取付位置を高圧ま
たは低圧の気密状態にして放置したときの指示値の変動
により各遮断弁の漏れ検定をするようにしたので、ブル
ドン管による測定よりもはるかに高精度で微小な漏れを
検出できる。また、気密状態とする部分の配管容積が既
知であればリークレートをも算出できる。また、ヘリウ
ムリークディテクタと異なり漏れ検定のために特別の配
管の接続を要することもなくかつそれより安価に構成で
きる。また、ベントライン３３が設けられているので、
検定により集合管３１の部分が高圧になっても、プロセ
スチャンバ３７に高圧ガスを流すことなく排出できるも
のである。Further, since leakage check of each shut-off valve is performed by the fluctuation of the indicated value when the pressure sensor 11 is left in a high-pressure or low-pressure airtight state, it is far more than the measurement by the Bourdon tube. It is possible to detect minute leaks with high accuracy. Further, if the pipe volume of the airtight portion is known, the leak rate can also be calculated. Further, unlike the helium leak detector, it does not require connection of a special pipe for leak verification and can be constructed at a lower cost. Moreover, since the vent line 33 is provided,
Even if the portion of the collecting pipe 31 becomes high pressure by the verification, the high pressure gas can be discharged without flowing into the process chamber 37.

【００６２】なお、本実施の形態は本発明を限定するも
のではないので、図中に示した各遮断弁やマスフローコ
ントローラ、圧力センサ等に加えてさらに必要に応じて
他のユニットなどを付加してもかまわない。また、各マ
スフローコントローラの入側位置等にパージガスを供給
するパージラインを付加することを妨げない。また、ベ
ントライン３３を省略した図２のような構成にしても、
種々の検定機能自体には影響はない。Since the present embodiment does not limit the present invention, in addition to each shutoff valve, mass flow controller, pressure sensor and the like shown in the drawing, other units etc. may be added if necessary. It doesn't matter. Further, addition of a purge line for supplying purge gas to the inlet side position of each mass flow controller or the like is not hindered. In addition, even when the vent line 33 is omitted as shown in FIG.
It does not affect the various verification functions themselves.

【００６３】［第２の実施の形態］ 図３に、第２の実施の形態に係るガスシステムの構成を
示す。このガスシステムは、各ガスライン２３Ａ、２３
Ｂが独立したままプロセスチャンバ３７に至っている点
で第１の実施の形態のものと異なるが、それ以外は大略
同一である。そこで相違点に絞って説明すると、各ガス
ライン２３Ａ、２３Ｂにそれぞれ遮断弁２１Ａ、２１Ｂ
が設けられている。また、マスフローコントローラ２７
Ａ、２７Ｂの直後の遮断弁２９Ａ、２９Ｂがなく、代わ
りに各ガスライン２３Ａ、２３Ｂとベントライン３３と
の連結箇所にそれぞれ遮断弁３９Ａ、３９Ｂが設けられ
ている。そして圧力センサ１１の取付位置は、ベントラ
イン３３の遮断弁３５のすぐ上流側とされている。なお
図示は省略するが、本体コントローラ１５、流量モニタ
リングシステム１３等の制御系は同一である。[Second Embodiment] FIG. 3 shows the configuration of a gas system according to a second embodiment. This gas system is equipped with gas lines 23A, 23
Although it is different from that of the first embodiment in that B reaches the process chamber 37 while being independent, it is almost the same except for that. Therefore, focusing on the difference, the shutoff valves 21A and 21B are respectively connected to the gas lines 23A and 23B.
Is provided. In addition, the mass flow controller 27
There are no shutoff valves 29A and 29B immediately after A and 27B, and instead, shutoff valves 39A and 39B are provided at the connection points between the gas lines 23A and 23B and the vent line 33, respectively. The pressure sensor 11 is attached to the vent line 33 immediately upstream of the shutoff valve 35. Although illustration is omitted, the control systems such as the main body controller 15 and the flow rate monitoring system 13 are the same.

【００６４】このガスシステムの動作を説明する。この
ガスシステムも、通常のプロセス動作の他にマスフロー
コントローラ２７Ａ、２７Ｂの流量検定や遮断弁２５
Ａ、２５Ｂ、２１Ａ、２１Ｂの漏れ検定が可能である。
通常のプロセス動作は、遮断弁３９Ａ、３９Ｂを閉じて
おいて、プロセスガスＡを用いる処理であれば、遮断弁
２５Ａ、２１Ａを開いてそしてマスフローコントローラ
２７Ａでガス流量を調整しつつ、ガスライン２３Ａを経
由して処理槽３７にプロセスガスＡを導入し、所定の処
理を行う。プロセスガスＢを用いる処理であればガスラ
イン２３Ｂについて同様の操作を行い処理槽３７にプロ
セスガスＢを導入して処理を行う。プロセスガスＡ、Ｂ
の双方を用いる処理も可能である。The operation of this gas system will be described. In addition to normal process operation, this gas system is also used for flow rate verification of the mass flow controllers 27A and 27B and the shutoff valve 25.
A, 25B, 21A, 21B leak test is possible.
In the normal process operation, if the shutoff valves 39A and 39B are closed and the process gas A is used for processing, the shutoff valves 25A and 21A are opened and the gas flow rate is adjusted by the mass flow controller 27A while the gas line 23A is adjusted. The process gas A is introduced into the processing tank 37 via the above to perform a predetermined processing. If the process gas B is used, the same operation is performed for the gas line 23B to introduce the process gas B into the processing tank 37 for processing. Process gas A, B
It is also possible to use both.

【００６５】次に流量検定動作について説明する。ここ
ではマスフローコントローラ２７Ａの流量検定を行う場
合について説明するが、マスフローコントローラ２７Ｂ
の流量検定も同様である。Next, the flow rate verification operation will be described. Here, the case of performing the flow rate verification of the mass flow controller 27A will be described.
The same applies to the flow rate verification.

【００６６】流量検定動作を行うときには、まず準備操
作として、遮断弁３９Ａを開き遮断弁３９Ｂを閉じる。
遮断弁３９Ａを開くのは、圧力センサ１１の取付位置を
ガスライン２３Ａに連通させ、遮断弁２１Ａの入側位置
での圧力を計測できるようにするためである。遮断弁３
９Ｂを閉じるのは、プロセスガスＡがガスライン２３Ｂ
に進入するのを防ぐためである。そして遮断弁２５Ａと
遮断弁３５（もしくは遮断弁２１Ａ）とをともに開く。
この状態では、プロセスガスＡがガスライン２３Ａに導
入される一方、マスフローコントローラ２７Ａ以後の部
分は真空に近い低圧となっており、圧力センサ１１の指
示値によりその圧力を知ることができる。When performing the flow rate verification operation, first, as a preparatory operation, the shutoff valve 39A is opened and the shutoff valve 39B is closed.
The reason why the shutoff valve 39A is opened is that the mounting position of the pressure sensor 11 is communicated with the gas line 23A so that the pressure at the inlet side position of the shutoff valve 21A can be measured. Shut-off valve 3
9B is closed because the process gas A is the gas line 23B.
This is to prevent entry into. Then, both the shutoff valve 25A and the shutoff valve 35 (or the shutoff valve 21A) are opened.
In this state, while the process gas A is introduced into the gas line 23A, the portion after the mass flow controller 27A is at a low pressure close to vacuum, and the pressure can be known from the indicated value of the pressure sensor 11.

【００６７】そして遮断弁３５（もしくは遮断弁２１
Ａ）を閉じると、マスフローコントローラ２７Ａ以後の
部分において、プロセスガスが逃げ場を失うのでその部
分の圧力がプロセスガスによりその供給圧に達するまで
上昇する。このとき、マスフローコントローラ２７Ａに
より流量が規制されるので、圧力は徐々に上昇する。圧
力センサ１１の指示値はこの徐々に上昇する圧力を示す
ので、第１の実施の形態の場合と同様に図７のようなグ
ラフが得られ、その傾斜によりマスフローコントローラ
２７Ａの流量検定がなされる。なお、この検定をした後
はガスライン２３Ａの内部が高圧になっているので、後
の操作を行う前に遮断弁３５を開いて、ガスをベントラ
イン３３側へ排出しておくのがよい。The shutoff valve 35 (or the shutoff valve 21)
When A) is closed, the process gas loses its escape area in the portion after the mass flow controller 27A, and the pressure in that portion rises until it reaches the supply pressure by the process gas. At this time, since the flow rate is regulated by the mass flow controller 27A, the pressure gradually rises. Since the indicated value of the pressure sensor 11 indicates this gradually increasing pressure, the graph as shown in FIG. 7 is obtained as in the case of the first embodiment, and the flow rate of the mass flow controller 27A is verified by the inclination thereof. . Since the inside of the gas line 23A is at a high pressure after this verification, it is preferable to open the shutoff valve 35 and discharge the gas to the vent line 33 side before performing the subsequent operation.

【００６８】その検定の詳細は、第１の実施の形態で説
明したのと同様で流量モニタリングシステム１３による
データサンプリング、範囲決定および最小二乗法による
傾斜算出（図９）、初期値との比較、自動補正（図１
２）を行うものである。The details of the verification are the same as those described in the first embodiment. Data sampling by the flow rate monitoring system 13, range determination and slope calculation by the least squares method (FIG. 9), comparison with initial values, Automatic correction (Fig. 1
2) is performed.

【００６９】次に、漏れ検定について説明する。本シス
テムでの漏れ検定は、ガスライン２３Ａと２３Ｂとで別
々に行われる。ここではガスライン２３Ａの漏れ検定を
行う場合について説明するが、ガスライン２３Ｂの漏れ
検定も同様である。そしてガスライン２３Ａの漏れ検定
には、遮断弁２１Ａの漏れ検定と、遮断弁２５Ａの漏れ
検定とがあり、いずれも遮断弁３９Ａを開いてガスライ
ン２３Ａとベントライン３３とを連通させ、そして遮断
弁３９Ｂを閉じてガスライン２３Ｂとベントライン３３
とを切り離して行う。Next, the leak test will be described. The leak test in this system is separately performed in the gas lines 23A and 23B. Here, a case will be described in which the leak check of the gas line 23A is performed, but the leak check of the gas line 23B is also the same. The leak test of the gas line 23A includes a leak test of the shutoff valve 21A and a leak test of the shutoff valve 25A. In both cases, the shutoff valve 39A is opened to communicate the gas line 23A with the vent line 33, and shut off. Close the valve 39B to close the gas line 23B and the vent line 33.
And are separated.

【００７０】まず遮断弁２１Ａの漏れ検定を説明する。
まず準備操作として遮断弁２１Ａ及び遮断弁３５を閉
じ、そして遮断弁２５Ａを開いてガスライン２３Ａにプ
ロセスガスＡを導入する。また、マスフローコントロー
ラ２７Ａは全開状態にしておく。すると、圧力センサ１
１の指示値がプロセスガスＡの供給圧にまで上昇する。
指示値が十分に上昇したら遮断弁２５Ａを閉じる。この
状態は、圧力センサ１１の計測位置を含む範囲が高圧の
気密状態にされた状態である。この状態で１日程度放置
し、圧力センサ１１の指示値の低下の有無により遮断弁
２１Ａの漏れを検定する。First, the leak test of the shutoff valve 21A will be described.
First, as a preparatory operation, the shutoff valve 21A and the shutoff valve 35 are closed, and the shutoff valve 25A is opened to introduce the process gas A into the gas line 23A. Further, the mass flow controller 27A is kept fully open. Then, the pressure sensor 1
The indicated value of 1 rises to the supply pressure of the process gas A.
When the indicated value rises sufficiently, the shutoff valve 25A is closed. In this state, the range including the measurement position of the pressure sensor 11 is in a high-pressure airtight state. In this state, it is left for about one day, and the leakage of the shutoff valve 21A is verified by checking whether or not the indicated value of the pressure sensor 11 has decreased.

【００７１】すなわち、指示値に低下がない場合には遮
断弁２１Ａに漏れはないと判断され、指示値に低下があ
った場合には、遮断弁２１Ａを通してガスがプロセスチ
ャンバ３７の側へ逃げた、つまり閉じているはずの遮断
弁２１Ａに漏れがあると判断される。ここで厳密には、
指示値の低下の原因が遮断弁２１でなく遮断弁３５や遮
断弁３９Ｂの漏れである可能性もある。しかしベントラ
イン３３上に設けられている遮断弁３５や遮断弁３９Ｂ
は、プロセスチャンバ３７の入口に設けられている遮断
弁２１Ａと比較して実プロセス実施時における開閉頻度
が著しく低く、漏れが生じる可能性もその分低い。な
お、この検定をした後はガスライン２３Ａの内部が高圧
になっているので、後の操作を行う前に遮断弁３５を開
いて、ガスをベントライン３３側へ排出しておくのがよ
い。That is, when there is no decrease in the indicated value, it is judged that there is no leakage in the shutoff valve 21A, and when there is a decrease in the indicated value, gas escapes to the process chamber 37 side through the shutoff valve 21A. That is, it is determined that there is a leak in the shutoff valve 21A that should have been closed. Strictly here
It is possible that the cause of the decrease in the indicated value is not the shutoff valve 21 but the shutoff valve 35 or the shutoff valve 39B. However, the shutoff valve 35 and the shutoff valve 39B provided on the vent line 33 are
In comparison with the shutoff valve 21A provided at the inlet of the process chamber 37, the frequency of opening and closing during actual process execution is extremely low, and the possibility of leakage is low accordingly. Since the inside of the gas line 23A is at a high pressure after this verification, it is preferable to open the shutoff valve 35 and discharge the gas to the vent line 33 side before performing the subsequent operation.

【００７２】続いて遮断弁２５Ａの漏れ検定を説明す
る。まず準備操作として遮断弁２５Ａを閉じ、そして遮
断弁２１Ａまたは遮断弁３５を開いてガスライン２３Ａ
内の残留ガスを排気する。また、マスフローコントロー
ラ２７Ａは全開状態にしておく。すると、圧力センサ１
１の指示値が真空に近い低圧まで下がる。指示値が安定
したら、遮断弁２１Ａおよび遮断弁３５をともに閉じ
る。この状態は、圧力センサ１１の計測位置を含む範囲
が低圧の気密状態にされた状態である。この状態で１日
程度放置し、圧力センサ１１の指示値の上昇の有無によ
り遮断弁２５Ａの漏れを検定する。Next, the leak test of the shutoff valve 25A will be described. First, as a preparatory operation, the shutoff valve 25A is closed, and then the shutoff valve 21A or the shutoff valve 35 is opened to open the gas line 23A.
Exhaust the residual gas inside. Further, the mass flow controller 27A is kept fully open. Then, the pressure sensor 1
The reading of 1 drops to low pressure close to vacuum. When the indicated value becomes stable, both the shutoff valve 21A and the shutoff valve 35 are closed. In this state, the range including the measurement position of the pressure sensor 11 is in a low pressure airtight state. In this state, it is left for about one day, and the leakage of the shutoff valve 25A is verified by the presence or absence of an increase in the indicated value of the pressure sensor 11.

【００７３】すなわち、指示値に上昇がない場合には遮
断弁２５Ａに漏れはないと判断され、指示値に上昇があ
った場合には、遮断弁２５Ａを通してプロセスガスが進
入した、つまり閉じているはずの遮断弁２５Ａに漏れが
あると判断される。ここで厳密には、指示値の上昇の原
因が遮断弁２５Ａでなく遮断弁３９Ｂの漏れである可能
性もある。しかしベントライン３３上に設けられている
遮断弁３９Ｂは、プロセスガスのライン上に設けられて
いる遮断弁２５Ａと比較して実プロセス実施時における
開閉頻度が著しく低く、漏れが生じる可能性もその分低
い。なお、遮断弁２５Ａから進入したプロセスガスは、
マスフローコントローラ２７Ａを経由して圧力センサ１
１の計測位置に至るわけだが、マスフローコントローラ
２７Ａが全開状態とされているので、特に問題はない。That is, when there is no increase in the indicated value, it is judged that there is no leak in the shutoff valve 25A, and when there is an increase in the indicated value, the process gas has entered through the shutoff valve 25A, that is, is closed. It is determined that the shutoff valve 25A, which is supposed to be present, has a leak. Strictly speaking, it is possible that the cause of the increase in the indicated value is not the cutoff valve 25A but the cutoff valve 39B. However, the shut-off valve 39B provided on the vent line 33 has a significantly lower opening / closing frequency during actual process execution than the shut-off valve 25A provided on the process gas line, and may cause leakage. It's low. The process gas that has entered through the shutoff valve 25A is
Pressure sensor 1 via mass flow controller 27A
Although the measurement position 1 is reached, there is no particular problem because the mass flow controller 27A is in the fully open state.

【００７４】以上詳細に説明したように本実施の形態に
係るガスシステムでは、各ガスライン２３Ａ、２３Ｂの
遮断弁２１Ａ、２１Ｂの入側位置に連通するベントライ
ン３３上に圧力センサ１１を設けてその位置の圧力をモ
ニタするようにしたので、各マスフローコントローラを
通して供給されるガスの圧力上昇を測定することによ
り、１個の圧力センサで各マスフローコントローラごと
に流量検定ができるものである。そして、第１の実施の
形態の場合と同様に圧力センサ１１の指示値を流量モニ
タリングシステム１３でサンプリングして最小二乗法等
の手法を用いて検定することとしたので、高精度な検定
ができ、またマスフローコントローラの流量特性の変動
を自動的に補正して、正しいガス流量で実プロセスを続
行することができるものである。As described in detail above, in the gas system according to the present embodiment, the pressure sensor 11 is provided on the vent line 33 communicating with the inlet side positions of the shutoff valves 21A and 21B of the gas lines 23A and 23B. Since the pressure at that position is monitored, the flow rate can be verified for each mass flow controller with one pressure sensor by measuring the pressure rise of the gas supplied through each mass flow controller. Then, as in the case of the first embodiment, the indication value of the pressure sensor 11 is sampled by the flow rate monitoring system 13 and is verified by using a method such as the least square method, so that a highly accurate verification can be performed. Moreover, the fluctuation of the flow rate characteristic of the mass flow controller can be automatically corrected, and the actual process can be continued at the correct gas flow rate.

【００７５】また、圧力センサ１１の取付位置を高圧ま
たは低圧の気密状態にして放置したときの指示値の変動
により各遮断弁の漏れ検定をするようにしたので、第１
の実施の形態の場合と同様に高精度にかつ簡易に漏れ検
定ができる。特に、各ガスラインごとに独立に漏れ検定
ができるので、漏れのある遮断弁を常に特定できるもの
である。Further, since the pressure sensor 11 is left in a high-pressure or low-pressure airtight state and left as it is, the leakage test of each shut-off valve is performed by the change of the indicated value.
Similar to the case of the above embodiment, the leak test can be performed with high accuracy and easily. In particular, since a leak test can be independently performed for each gas line, a shutoff valve having a leak can always be identified.

【００７６】さらに、流量検定も漏れ検定も、検定する
ガスラインと他のガスラインとを切り離した状態でなさ
れるので、あるガスラインで何らかの検定をしていると
きでも、他のガスラインは通常の稼動が可能である。従
って他のガスラインのプロセスガスのみで実施できる実
プロセスならば、検定と並行して実施可能である。ま
た、ベントライン３３が設けられているので、検定によ
りガスラインの内部が高圧になっても、プロセスチャン
バ３７に高圧ガスを流すことなく排出できるものであ
る。Further, since the flow rate test and the leak test are performed in a state in which the gas line to be verified is separated from the other gas line, even when some gas line is being tested, the other gas line is normally used. Can be operated. Therefore, if it is an actual process that can be performed only with the process gas of another gas line, it can be performed in parallel with the verification. Further, since the vent line 33 is provided, even if the inside of the gas line becomes high pressure by the verification, the high pressure gas can be discharged without flowing into the process chamber 37.

【００７７】なお、本実施の形態は本発明を限定するも
のではないので、図中に示した各遮断弁やマスフローコ
ントローラ、圧力センサ等に加えてさらに必要に応じて
他のユニットなどを付加してもかまわない。また、各マ
スフローコントローラの入側位置等にパージガスを供給
するパージラインを付加することを妨げない。Since the present embodiment does not limit the present invention, in addition to the shutoff valves, mass flow controllers, pressure sensors, etc. shown in the drawing, other units may be added if necessary. It doesn't matter. Further, addition of a purge line for supplying purge gas to the inlet side position of each mass flow controller or the like is not hindered.

【００７８】［第３の実施の形態］ 図４に、第３の実施の形態に係るガスシステムの構成を
示す。このガスシステムは、各ガスライン２３Ａ、２３
Ｂが独立したままプロセスチャンバ３７に至っている点
で第２の実施の形態のものと同一であるが、ベントライ
ン３３がなく代わりにパージライン４１が設けられてい
る点で相違する。パージライン４１は、各ガスライン２
３Ａ、２３Ｂにおけるマスフローコントローラ２７Ａ、
２７Ｂの入側にパージガスであるＮ₂ を供給するライン
であって、遮断弁４３が設けられている。また、パージ
ライン４１と各ガスライン２３Ａ、２３Ｂとの連結箇所
にそれぞれ遮断弁４５Ａ、４５Ｂが設けられている。ま
た、ベントライン３３がないことに伴い遮断弁３５、３
９Ａ、３９Ｂもない。そして圧力センサ１１の取付位置
は、パージライン４１上の遮断弁４３の出側位置とされ
ている。なお図示は省略するが、本体コントローラ１
５、流量モニタリングシステム１３等の制御系は同一で
ある。[Third Embodiment] FIG. 4 shows the configuration of a gas system according to a third embodiment. This gas system is equipped with gas lines 23A, 23
It is the same as that of the second embodiment in that B reaches the process chamber 37 while remaining independent, but is different in that the vent line 33 is not provided and a purge line 41 is provided instead. The purge line 41 is used for each gas line 2
Mass flow controller 27A in 3A, 23B,
A shutoff valve 43 is provided on the inlet side of 27B, which is a line for supplying N ₂ as a purge gas. In addition, shutoff valves 45A and 45B are provided at connection points between the purge line 41 and the gas lines 23A and 23B, respectively. Further, since the vent line 33 is not provided, the shutoff valves 35, 3
Neither 9A nor 39B. The mounting position of the pressure sensor 11 is the outlet side position of the shutoff valve 43 on the purge line 41. Although not shown, the main body controller 1
5, the control system such as the flow rate monitoring system 13 is the same.

【００７９】このガスシステムの動作を説明する。この
ガスシステムも、通常のプロセス動作の他にマスフロー
コントローラ２７Ａ、２７Ｂの流量検定や遮断弁２５
Ａ、２５Ｂ、２１Ａ、２１Ｂの漏れ検定が可能である。
通常のプロセス動作は、遮断弁４５Ａ、４５Ｂを閉じて
おいて、プロセスガスＡを用いる処理であれば、遮断弁
２５Ａ、２１Ａを開いてそしてマスフローコントローラ
２７Ａでガス流量を調整しつつ、ガスライン２３Ａを経
由して処理槽３７にプロセスガスＡを導入し、所定の処
理を行う。プロセスガスＢを用いる処理であればガスラ
イン２３Ｂについて同様の操作を行い処理槽３７にプロ
セスガスＢを導入して処理を行う。プロセスガスＡ、Ｂ
の双方を用いる処理も可能である。The operation of this gas system will be described. In addition to normal process operation, this gas system is also used for flow rate verification of the mass flow controllers 27A and 27B and the shutoff valve 25.
A, 25B, 21A, 21B leak test is possible.
In the normal process operation, if the shutoff valves 45A and 45B are closed and the process gas A is used for processing, the shutoff valves 25A and 21A are opened and the gas flow rate is adjusted by the mass flow controller 27A while the gas line 23A is adjusted. The process gas A is introduced into the processing tank 37 via the above to perform a predetermined processing. If the process gas B is used, the same operation is performed for the gas line 23B to introduce the process gas B into the processing tank 37 for processing. Process gas A, B
It is also possible to use both.

【００８０】次に流量検定動作について説明する。ここ
ではマスフローコントローラ２７Ａの流量検定を行う場
合について説明するが、マスフローコントローラ２７Ｂ
の流量検定も同様である。Next, the flow rate verification operation will be described. Here, the case of performing the flow rate verification of the mass flow controller 27A will be described.
The same applies to the flow rate verification.

【００８１】流量検定動作を行うときには、まず準備操
作として、遮断弁２５Ａと遮断弁４５Ｂとを閉じ、遮断
弁４３と遮断弁４５Ａと遮断弁２１Ａとを開く。遮断弁
４５Ｂを閉じるのは、ガスライン２３Ｂをパージライン
４１から切り離すためである。遮断弁４５Ａを開くの
は、ガスライン２３Ａをパージライン４１に連通させ、
マスフローコントローラ２７Ａの入側位置での圧力を圧
力センサ１１で計測できるようにするためである。この
とき、パージガスＮ₂ がパージライン４１からガスライ
ン２３Ａに供給され、マスフローコントローラ２７Ａと
プロセスチャンバ３７とを経由して排気される。この状
態で、流量が安定するまでしばらく待つ。流量が安定し
た状態では、圧力センサ１１はパージガスＮ₂ の供給圧
を指示しており、ガスライン２３Ａにはマスフローコン
トローラ２７Ａの規制流量のパージガスＮ₂ が流れてい
る。When performing the flow rate verification operation, first, as a preparatory operation, the shutoff valve 25A and the shutoff valve 45B are closed, and the shutoff valve 43, the shutoff valve 45A and the shutoff valve 21A are opened. The shutoff valve 45B is closed to disconnect the gas line 23B from the purge line 41. The shutoff valve 45A is opened by connecting the gas line 23A to the purge line 41,
This is to enable the pressure sensor 11 to measure the pressure at the inlet side position of the mass flow controller 27A. At this time, the purge gas N ₂ is supplied from the purge line 41 to the gas line 23A and is exhausted via the mass flow controller 27A and the process chamber 37. In this state, wait for a while until the flow rate stabilizes. When the flow rate is stable, the pressure sensor 11 indicates the supply pressure of the purge gas N ₂ , and the regulated flow rate of the purge gas N ₂ of the mass flow controller 27A is flowing through the gas line 23A.

【００８２】そして遮断弁４３を閉じてパージガスＮ₂
の供給を絶つと、圧力センサ１１の計測位置からはマス
フローコントローラ２７Ａを通じてパージガスＮ₂ が徐
々に排気されるので、圧力センサ１１の指示値は第１、
第２の実施の形態の場合と逆に徐々に低下する。従って
図６のようなグラフが得られる。このグラフの傾斜は図
７の場合とは逆に右下がりであるが、マスフローコント
ローラ２７Ａの流量を示していることに変わりはないの
で、これにより流量検定がなされる。その検定の内容の
詳細は、第１、第２の実施の形態で説明したのと同様で
流量モニタリングシステム１３によるデータサンプリン
グ、範囲決定および最小二乗法による傾斜算出（図
８）、初期値との比較、自動補正（図１２）を行うもの
である。なお、ここではパージガスＮ₂ を用いて流量検
定を行うこととしたが、プロセスガスＡで流量検定する
ことも可能である。Then, the shutoff valve 43 is closed and the purge gas N ₂
When the supply of the pressure sensor 11 is cut off, the purge gas N ₂ is gradually exhausted from the measurement position of the pressure sensor 11 through the mass flow controller 27A.
Contrary to the case of the second embodiment, it gradually decreases. Therefore, the graph as shown in FIG. 6 is obtained. Although the slope of this graph is lowering to the right as opposed to the case of FIG. 7, it still shows the flow rate of the mass flow controller 27A, and thus the flow rate verification is performed. The details of the verification are the same as those described in the first and second embodiments, and the data sampling by the flow rate monitoring system 13, the range determination and the slope calculation by the least squares method (FIG. 8) and the initial value are performed. Comparison and automatic correction (FIG. 12) are performed. Although the flow rate verification is performed using the purge gas N ₂ here, it is also possible to perform the flow rate verification using the process gas A.

【００８３】次に、漏れ検定について説明する。本シス
テムでの漏れ検定は、ガスライン２３Ａと２３Ｂとで別
々に行われる。ここではガスライン２３Ａの漏れ検定を
行う場合について説明するが、ガスライン２３Ｂの漏れ
検定も同様である。そしてガスライン２３Ａの漏れ検定
には、遮断弁２１Ａの漏れ検定と、遮断弁２５Ａの漏れ
検定とがあり、いずれも遮断弁４５Ａを開いてガスライ
ン２３Ａとパージライン４１とを連通させ、そして遮断
弁４５Ｂを閉じてガスライン２３Ｂとパージライン４１
とを切り離して行う。Next, the leak test will be described. The leak test in this system is separately performed in the gas lines 23A and 23B. Here, a case will be described in which the leak check of the gas line 23A is performed, but the leak check of the gas line 23B is also the same. The leak test of the gas line 23A includes a leak test of the shutoff valve 21A and a leak test of the shutoff valve 25A. In both cases, the shutoff valve 45A is opened to communicate the gas line 23A with the purge line 41, and shut off. The valve 45B is closed and the gas line 23B and the purge line 41 are closed.
And are separated.

【００８４】まず遮断弁２１Ａの漏れ検定を説明する。
まず準備操作として遮断弁２５Ａを閉じ、遮断弁４３を
開き遮断弁２１Ａを閉じて、ガスライン２３Ａ内にパー
ジガスＮ₂ を導入する。また、マスフローコントローラ
２７Ａは全開状態としておく。この状態で圧力センサ１
１の指示値が安定するとその指示値はパージガスＮ₂の
供給圧となる。そして遮断弁４３を閉じると、圧力セン
サ１１の計測位置を含む範囲が高圧の気密状態にされた
状態となる。この状態で１日程度放置し、圧力センサ１
１の指示値の低下の有無により遮断弁２１Ａの漏れを検
定する。First, the leak test of the shutoff valve 21A will be described.
First, as a preparatory operation, the shutoff valve 25A is closed, the shutoff valve 43 is opened, the shutoff valve 21A is closed, and the purge gas N ₂ is introduced into the gas line 23A. Further, the mass flow controller 27A is in a fully opened state. Pressure sensor 1 in this state
When the indicated value of 1 becomes stable, the indicated value becomes the supply pressure of the purge gas N ₂ . Then, when the shutoff valve 43 is closed, the range including the measurement position of the pressure sensor 11 is in a high-pressure airtight state. Leave the pressure sensor 1
The leakage of the shutoff valve 21A is verified by checking whether the indicated value of 1 is decreased.

【００８５】すなわち、指示値に低下がない場合には遮
断弁２１Ａに漏れはないと判断され、指示値に低下があ
った場合には、遮断弁２１Ａを通してガスがプロセスチ
ャンバ３７の側へ逃げた、つまり閉じているはずの遮断
弁２１Ａに漏れがあると判断される。ここで厳密には、
指示値の低下の原因が遮断弁２１でなく遮断弁４５Ｂの
漏れである可能性もある。しかし、プロセスチャンバ３
７の入口に設けられている遮断弁２１Ａと異なり遮断弁
４５Ｂは、パージライン４１に設けられており実プロセ
ス実施時における開閉頻度が著しく低く、また扱うガス
も原則的には不活性のＮ₂ のみであるため、漏れが生じ
る可能性もその分低い。なお、遮断弁２１Ａからガスが
漏れることによる圧力低下は、マスフローコントローラ
２７Ａを経由して圧力センサ１１の計測位置に伝達され
るわけだが、マスフローコントローラ２７Ａが全開状態
とされているので、特に問題はない。また、ここではパ
ージガスＮ₂ を用いて遮断弁２１Ａの漏れ検定を行うこ
ととしたが、プロセスガスＡで検定することも可能であ
る。That is, when there is no decrease in the indicated value, it is judged that there is no leak in the shutoff valve 21A, and when there is a decrease in the indicated value, gas escapes to the process chamber 37 side through the shutoff valve 21A. That is, it is determined that there is a leak in the shutoff valve 21A that should have been closed. Strictly here
There is a possibility that the cause of the decrease in the indicated value is not the shutoff valve 21 but the shutoff valve 45B. However, the process chamber 3
Unlike the shutoff valve 21A provided at the inlet of the No. 7 shutoff valve 45B, the shutoff valve 45B is provided at the purge line 41, the opening / closing frequency during the actual process is extremely low, and the gas to be handled is N ₂ which is basically inert. Therefore, the possibility of leakage is low. The pressure drop due to gas leakage from the shutoff valve 21A is transmitted to the measurement position of the pressure sensor 11 via the mass flow controller 27A, but since the mass flow controller 27A is fully opened, there is no particular problem. Absent. Further, here, the purge gas N ₂ is used to perform the leak check of the shutoff valve 21A, but it is also possible to perform the check using the process gas A.

【００８６】続いて遮断弁２５Ａの漏れ検定を説明す
る。まず準備操作として遮断弁２５Ａと遮断弁４３とを
閉じ、そして遮断弁２１Ａを開いてガスライン２３Ａ内
の残留ガスを排気する。また、マスフローコントローラ
２７Ａは全開状態としておく。すると、圧力センサ１１
の指示値が真空に近い低圧まで下がる。指示値が安定し
たら遮断弁２１Ａを閉じる。この状態は、圧力センサ１
１の計測位置を含む範囲が低圧の気密状態にされた状態
である。この状態で１日程度放置し、圧力センサ１１の
指示値の上昇の有無により遮断弁２５Ａの漏れを検定す
る。Next, the leak test of the shutoff valve 25A will be described. First, as a preparatory operation, the shutoff valve 25A and the shutoff valve 43 are closed, and the shutoff valve 21A is opened to exhaust the residual gas in the gas line 23A. Further, the mass flow controller 27A is in a fully opened state. Then, the pressure sensor 11
The indicated value of is lowered to low pressure close to vacuum. When the indicated value is stable, the shutoff valve 21A is closed. In this state, the pressure sensor 1
The range including the measurement position 1 is in a low-pressure airtight state. In this state, it is left for about one day, and the leakage of the shutoff valve 25A is verified by the presence or absence of an increase in the indicated value of the pressure sensor 11.

【００８７】すなわち、指示値に上昇がない場合には遮
断弁２５Ａに漏れはないと判断され、指示値に上昇があ
った場合には、遮断弁２５Ａを通してプロセスガスが進
入した、つまり閉じているはずの遮断弁２５Ａに漏れが
あると判断される。ここで厳密には、指示値の上昇の原
因が遮断弁２５Ａでなく遮断弁４３や遮断弁４５Ｂの漏
れである可能性もある。しかし、プロセスチャンバ３７
の入口に設けられている遮断弁２１Ａと異なり遮断弁４
３や遮断弁４５Ｂは、パージライン４１に設けられてお
り実プロセス実施時における開閉頻度が著しく低く、ま
た扱うガスも原則的には不活性のＮ₂ のみであるため、
漏れが生じる可能性もその分低い。That is, when there is no increase in the indicated value, it is judged that there is no leakage in the shutoff valve 25A, and when there is an increase in the indicated value, the process gas has entered through the shutoff valve 25A, that is, is closed. It is determined that the shutoff valve 25A, which is supposed to be present, has a leak. Strictly speaking, there is a possibility that the cause of the increase in the indicated value is not the cutoff valve 25A but the cutoff valve 43 or the cutoff valve 45B. However, the process chamber 37
Unlike the shutoff valve 21A provided at the inlet of the shutoff valve 4
3 and the shutoff valve 45B are provided in the purge line 41, the frequency of opening and closing during the actual process is extremely low, and the gas to be handled is basically only inert N ₂ .
The possibility of leakage is also low.

【００８８】以上詳細に説明したように本実施の形態に
係るガスシステムでは、各ガスライン２３Ａ、２３Ｂの
マスフローコントローラ２７Ａ、２７Ｂの入側位置に連
通するパージライン４１上に圧力センサ１１を設けてそ
の位置の圧力をモニタするようにし、そして圧力センサ
１１の指示値を流量モニタリングシステム１３でサンプ
リングして最小二乗法等の手法を用いて検定することと
したので、１個の圧力センサで各マスフローコントロー
ラごとに高精度な検定ができるものである。またマスフ
ローコントローラの流量特性の変動を自動的に補正し
て、正しいガス流量で実プロセスを続行することができ
るものである。As described in detail above, in the gas system according to this embodiment, the pressure sensor 11 is provided on the purge line 41 communicating with the inlet side positions of the mass flow controllers 27A and 27B of the gas lines 23A and 23B. Since the pressure at that position is monitored, and the indication value of the pressure sensor 11 is sampled by the flow rate monitoring system 13 and verified by using a method such as the least square method, each mass flow is measured by one pressure sensor. Highly accurate verification is possible for each controller. In addition, it is possible to automatically correct the fluctuation of the flow rate characteristic of the mass flow controller and continue the actual process at the correct gas flow rate.

【００８９】また、圧力センサ１１の取付位置を高圧ま
たは低圧の気密状態にして放置したときの指示値の変動
により各遮断弁の漏れ検定をするようにしたので、第
１、第２の実施の形態の場合と同様に高精度にかつ簡易
に漏れ検定ができる。特に、各ガスラインごとに独立に
漏れ検定ができるので、漏れのある遮断弁を常に特定で
きるものである。Further, since the pressure sensor 11 is left in a high-pressure or low-pressure airtight state and left to stand, the leakage check of each shutoff valve is performed by the change of the indicated value. Similar to the case of the form, the leak test can be performed with high accuracy and easily. In particular, since a leak test can be independently performed for each gas line, a shutoff valve having a leak can always be identified.

【００９０】なお、本実施の形態は本発明を限定するも
のではないので、図中に示した各遮断弁やマスフローコ
ントローラ、圧力センサ等に加えてさらに必要に応じて
他のユニットなどを付加してもかまわない。また、各マ
スフローコントローラの出側位置等からプロセスチャン
バ３７をバイパスして排気するベントラインを付加する
ことを妨げない。ベントラインがある場合には特に、あ
るガスラインでの何らかの検定と他のガスラインでの実
プロセスとを並行して実施できる利点がある。Since the present embodiment does not limit the present invention, in addition to each shutoff valve, mass flow controller, pressure sensor and the like shown in the drawing, other units etc. may be added if necessary. It doesn't matter. Further, addition of a vent line for bypassing the process chamber 37 and exhausting gas from the outlet side position of each mass flow controller or the like is not hindered. Especially when there is a vent line, there is an advantage that some verification in one gas line and an actual process in another gas line can be performed in parallel.

【００９１】［第４の実施の形態］ 図５に、第４の実施の形態に係るガスシステムの構成を
示す。このガスシステムは、各ガスライン２３Ａ、２３
Ｂが独立したままプロセスチャンバ３７に至っておりマ
スフローコントローラ２７Ａ、２７Ｂの入側に圧力セン
サが設けられている点で第３の実施の形態のものと同一
であるが、パージライン４１がない点と各ガスライン２
３Ａ、２３Ｂごとにそれぞれ圧力センサ１１Ａ、１１Ｂ
が設けられている点とで相違する。パージライン４１が
ないことにより、遮断弁４３や遮断弁４５Ａ、４５Ｂも
ない。また、圧力センサが複数あるので、それらからの
検知信号を取りまとめて流量モニタリングシステム１３
に入力するマルチポート１４が設けられている。[Fourth Embodiment] FIG. 5 shows the configuration of a gas system according to a fourth embodiment. This gas system is equipped with gas lines 23A, 23
B is independent and reaches the process chamber 37, and a pressure sensor is provided on the inlet side of the mass flow controllers 27A and 27B, which is the same as that of the third embodiment, but there is no purge line 41. Each gas line 2
Pressure sensors 11A and 11B for each 3A and 23B
Is provided. Since the purge line 41 is not provided, neither the shutoff valve 43 nor the shutoff valves 45A and 45B are provided. Further, since there are a plurality of pressure sensors, the detection signals from them are collected and the flow rate monitoring system 13
A multiport 14 is provided for inputting to.

【００９２】このガスシステムの動作を説明する。この
ガスシステムも、通常のプロセス動作の他にマスフロー
コントローラ２７Ａ、２７Ｂの流量検定や遮断弁２５
Ａ、２５Ｂ、２１Ａ、２１Ｂの漏れ検定が可能である。
通常のプロセス動作は、プロセスガスＡを用いる処理で
あれば、遮断弁２５Ａ、２１Ａを開いてそしてマスフロ
ーコントローラ２７Ａでガス流量を調整しつつ、ガスラ
イン２３Ａを経由して処理槽３７にプロセスガスＡを導
入し、所定の処理を行う。プロセスガスＢを用いる処理
であればガスライン２３Ｂについて同様の操作を行い処
理槽３７にプロセスガスＢを導入して処理を行う。プロ
セスガスＡ、Ｂの双方を用いる処理も可能である。The operation of this gas system will be described. In addition to normal process operation, this gas system is also used for flow rate verification of the mass flow controllers 27A and 27B and the shutoff valve 25.
A, 25B, 21A, 21B leak test is possible.
In the normal process operation, if the process gas A is used, the shutoff valves 25A and 21A are opened and the gas flow rate is adjusted by the mass flow controller 27A while the process gas A is supplied to the process tank 37 via the gas line 23A. Is introduced and predetermined processing is performed. If the process gas B is used, the same operation is performed for the gas line 23B to introduce the process gas B into the processing tank 37 for processing. Processing using both process gases A and B is also possible.

【００９３】次に流量検定動作について説明する。ここ
ではマスフローコントローラ２７Ａの流量検定を行う場
合について説明するが、マスフローコントローラ２７Ｂ
の流量検定も同様である。Next, the flow rate verification operation will be described. Here, the case of performing the flow rate verification of the mass flow controller 27A will be described.
The same applies to the flow rate verification.

【００９４】流量検定動作を行うときには、まず準備操
作として、遮断弁２５Ａと遮断弁２１Ａとを開きガスラ
イン２３ＡにプロセスガスＡを流す。このときの流量は
マスフローコントローラ２７Ａの規制流量である。この
状態で、流量が安定すると、圧力センサ１１Ａはプロセ
スガスＡの供給圧力を示す。そして遮断弁２５Ａを閉じ
てプロセスガスＡの供給を絶つと、圧力センサ１１Ａの
計測位置からはマスフローコントローラ２７Ａを通じて
プロセスガスＡが徐々に排気されるので、圧力センサ１
１Ａの指示値は第３の実施の形態の場合と同様に徐々に
低下する。従って第３の実施の形態の場合と同様に図６
のようなグラフが得られ、右下がりの傾斜により流量検
定がなされる。その検定の内容の詳細は、第１、第２の
実施の形態で説明したのと同様で流量モニタリングシス
テム１３によるデータサンプリング、範囲決定および最
小二乗法による傾斜算出（図８）、初期値との比較、自
動補正（図１２）を行うものである。When performing the flow rate verification operation, first, as a preparatory operation, the shutoff valve 25A and the shutoff valve 21A are opened, and the process gas A is flown to the gas line 23A. The flow rate at this time is the regulation flow rate of the mass flow controller 27A. When the flow rate is stable in this state, the pressure sensor 11A indicates the supply pressure of the process gas A. Then, when the shutoff valve 25A is closed to stop the supply of the process gas A, the process gas A is gradually exhausted from the measurement position of the pressure sensor 11A through the mass flow controller 27A.
The instruction value of 1A gradually decreases as in the case of the third embodiment. Therefore, as in the case of the third embodiment, FIG.
The following graph is obtained, and the flow rate is verified by the slope to the right. The details of the verification are the same as those described in the first and second embodiments, and the data sampling by the flow rate monitoring system 13, the range determination and the slope calculation by the least squares method (FIG. 8) and the initial value are performed. Comparison and automatic correction (FIG. 12) are performed.

【００９５】次に、漏れ検定について説明する。本シス
テムでの漏れ検定は、ガスライン２３Ａと２３Ｂとで別
々に行われる。ここではガスライン２３Ａの漏れ検定を
行う場合について説明するが、ガスライン２３Ｂの漏れ
検定も同様である。そしてガスライン２３Ａの漏れ検定
には、遮断弁２１Ａの漏れ検定と、遮断弁２５Ａの漏れ
検定とがある。Next, the leak test will be described. The leak test in this system is separately performed in the gas lines 23A and 23B. Here, a case will be described in which the leak check of the gas line 23A is performed, but the leak check of the gas line 23B is also the same. The leak test of the gas line 23A includes a leak test of the shutoff valve 21A and a leak test of the shutoff valve 25A.

【００９６】まず遮断弁２１Ａの漏れ検定を説明する。
まず準備操作として遮断弁２５Ａを開いてガスライン２
３Ａ内にプロセスガスＡを導入し、遮断弁２１Ａを閉じ
る。また、マスフローコントローラ２７Ａは全開状態に
しておく。この状態で圧力センサ１１Ａの指示値が安定
するとその指示値はプロセスガスＡの供給圧となる。そ
して遮断弁２５Ａを閉じると、圧力センサ１１Ａの計測
位置を含む範囲が高圧の気密状態にされた状態となる。
この状態で１日程度放置し、圧力センサ１１Ａの指示値
の低下の有無により遮断弁２１Ａの漏れを検定する。す
なわち、指示値に低下がない場合には遮断弁２１Ａに漏
れはないと判断され、指示値に低下があった場合には、
遮断弁２１Ａを通してガスがプロセスチャンバ３７の側
へ逃げた、つまり閉じているはずの遮断弁２１Ａに漏れ
があると判断される。なお、遮断弁２１Ａからガスが漏
れることによる圧力低下は、マスフローコントローラ２
７Ａを経由して圧力センサ１１Ａの計測位置に伝達され
るわけだが、マスフローコントローラ２７Ａが全開状態
とされているので、特に問題はない。First, the leak test of the shutoff valve 21A will be described.
First, as a preparatory operation, the shutoff valve 25A is opened to open the gas line 2
The process gas A is introduced into 3A, and the shutoff valve 21A is closed. Further, the mass flow controller 27A is kept fully open. When the indication value of the pressure sensor 11A is stable in this state, the indication value becomes the supply pressure of the process gas A. Then, when the shutoff valve 25A is closed, the range including the measurement position of the pressure sensor 11A is in a high-pressure airtight state.
In this state, it is left for about one day, and the leakage of the shutoff valve 21A is verified by the presence or absence of a decrease in the indicated value of the pressure sensor 11A. That is, when there is no decrease in the indicated value, it is determined that there is no leakage in the shutoff valve 21A, and when there is a decrease in the indicated value,
It is judged that gas has escaped to the process chamber 37 side through the shutoff valve 21A, that is, there is a leak in the shutoff valve 21A that should be closed. The pressure drop due to gas leakage from the shutoff valve 21A is caused by the mass flow controller 2
Although it is transmitted to the measurement position of the pressure sensor 11A via 7A, there is no particular problem because the mass flow controller 27A is fully opened.

【００９７】続いて遮断弁２５Ａの漏れ検定を説明す
る。まず準備操作として遮断弁２５Ａを閉じ、そして遮
断弁２１Ａを開いてガスライン２３Ａ内の残留ガスを排
気する。また、マスフローコントローラ２７Ａは全開状
態にしておく。すると、圧力センサ１１Ａの指示値が真
空に近い低圧まで下がる。指示値が安定したら遮断弁２
１Ａを閉じる。この状態は、圧力センサ１１Ａの計測位
置を含む範囲が低圧の気密状態にされた状態である。こ
の状態で１日程度放置し、圧力センサ１１Ａの指示値の
上昇の有無により遮断弁２５Ａの漏れを検定する。すな
わち、指示値に上昇がない場合には遮断弁２５Ａに漏れ
はないと判断され、指示値に上昇があった場合には、遮
断弁２５Ａを通してプロセスガスが進入した、つまり閉
じているはずの遮断弁２５Ａに漏れがあると判断され
る。Next, the leak test of the shutoff valve 25A will be described. First, as a preparatory operation, the shutoff valve 25A is closed, and then the shutoff valve 21A is opened to exhaust the residual gas in the gas line 23A. Further, the mass flow controller 27A is kept fully open. Then, the indicated value of the pressure sensor 11A drops to a low pressure close to vacuum. Shut-off valve 2 when the indicated value stabilizes
Close 1A. In this state, the range including the measurement position of the pressure sensor 11A is in a low pressure airtight state. In this state, it is left for about one day, and the leakage of the shutoff valve 25A is verified by the presence or absence of an increase in the indicated value of the pressure sensor 11A. That is, if there is no increase in the indicated value, it is determined that there is no leak in the shutoff valve 25A, and if there is an increase in the indicated value, the process gas has entered through the shutoff valve 25A, that is, the shutoff that should have been closed. It is determined that the valve 25A has a leak.

【００９８】以上詳細に説明したように本実施の形態に
係るガスシステムでは、各ガスライン２３Ａ、２３Ｂご
とに圧力センサ１１Ａ、１１Ｂを設けてその位置の圧力
をモニタするようにし、そしてその指示値を流量モニタ
リングシステム１３でサンプリングして最小二乗法等の
手法を用いて検定することとしたので、各マスフローコ
ントローラごとに高精度な検定ができるものである。ま
たマスフローコントローラの流量特性の変動を自動的に
補正して、正しいガス流量で実プロセスを続行すること
ができるものである。As described in detail above, in the gas system according to the present embodiment, the pressure sensors 11A and 11B are provided for each of the gas lines 23A and 23B to monitor the pressure at that position, and the indicated value is set. Is sampled by the flow rate monitoring system 13 and is verified by using a method such as the least square method. Therefore, highly accurate verification can be performed for each mass flow controller. In addition, it is possible to automatically correct the fluctuation of the flow rate characteristic of the mass flow controller and continue the actual process at the correct gas flow rate.

【００９９】また、圧力センサ１１の取付位置を高圧ま
たは低圧の気密状態にして放置したときの指示値の変動
により各遮断弁の漏れ検定をするようにしたので、第
１、第２の実施の形態の場合と同様に高精度にかつ簡易
に漏れ検定ができる。特に、各ガスラインごとに独立に
漏れ検定ができるので、漏れのある遮断弁を常に特定で
きるものである。Further, the leakage of each shutoff valve is checked by the fluctuation of the indicated value when the pressure sensor 11 is left in a high-pressure or low-pressure airtight state and left, so that the first and second embodiments are performed. Similar to the case of the form, the leak test can be performed with high accuracy and easily. In particular, since a leak test can be independently performed for each gas line, a shutoff valve having a leak can always be identified.

【０１００】なお、本実施の形態は本発明を限定するも
のではないので、図中に示した各遮断弁やマスフローコ
ントローラ、圧力センサ等に加えてさらに必要に応じて
他のユニットなどを付加してもかまわない。また、各マ
スフローコントローラの出側位置等からプロセスチャン
バ３７をバイパスして排気するベントラインを付加する
ことや、各マスフローコントローラの入側位置等にパー
ジガスを供給するパージラインを付加することを妨げな
い。ベントラインがある場合には特に、あるガスライン
での何らかの検定と他のガスラインでの実プロセスとを
並行して実施できる利点がある。Since the present embodiment does not limit the present invention, in addition to each shutoff valve, mass flow controller, pressure sensor and the like shown in the drawing, other units may be added as necessary. It doesn't matter. Further, addition of a vent line for bypassing the process chamber 37 from the outlet side position of each mass flow controller or the like for exhausting gas or addition of a purge line for supplying purge gas to the inlet side position or the like of each mass flow controller is not hindered. . Especially when there is a vent line, there is an advantage that some verification in one gas line and an actual process in another gas line can be performed in parallel.

【０１０１】また、各圧力センサ１１Ａ、１１Ｂをマス
フローコントローラ２７Ａ、２７Ｂの上流側に設けた
が、下流側に設けてもかまわない。ただしその場合の流
量検定は、第１、第２の実施の形態のように圧力上昇方
式（図７、図９）で行われることになる。さらに、圧力
センサの位置がガスラインごとに異なってもよく、マス
フローコントローラの上流側と下流側との双方に圧力セ
ンサを配置したガスラインがあってもよい。Although the pressure sensors 11A and 11B are provided on the upstream side of the mass flow controllers 27A and 27B, they may be provided on the downstream side. However, the flow rate verification in that case is performed by the pressure increase method (FIGS. 7 and 9) as in the first and second embodiments. Further, the position of the pressure sensor may be different for each gas line, and there may be a gas line in which the pressure sensor is arranged on both the upstream side and the downstream side of the mass flow controller.

【０１０２】なお、前記各実施の形態を組み合わせるこ
とも可能である。図１３に示すのはその一例であって、
２本のプロセスガスラインにより前記第３実施例のシス
テムを形成するＸ群と、２本のプロセスガスラインによ
り前記第４実施例のシステムを形成するＹ群と、３本の
プロセスガスラインにより前記第１実施例のシステムを
形成するＺ群とを１つのプロセスチャンバにつないだも
のである。It is also possible to combine the above embodiments. An example is shown in FIG.
The group X forming the system of the third embodiment by two process gas lines, the group Y forming the system of the fourth embodiment by two process gas lines, and the group Y by three process gas lines The Z group forming the system of the first embodiment is connected to one process chamber.

【０１０３】[0103]

【発明の効果】以上説明したことから明かなように請求
項１〜５の発明によれば、プロセスガスそのものでマス
フローコントローラの流量検定ができるガス配管系の検
定システムが提供されている。特に請求項２、３の発明
によれば、複数のガスラインが併置された配管系におい
てマスフローコントローラごとに流量検定ができるガス
配管系の検定システムが提供されている。As is apparent from the above description, according to the inventions of claims 1 to 5, there is provided a verification system of a gas piping system capable of verifying the flow rate of a mass flow controller with the process gas itself. In particular, according to the inventions of claims 2 and 3, there is provided a verification system of a gas piping system capable of carrying out a flow rate verification for each mass flow controller in a piping system in which a plurality of gas lines are juxtaposed.

【０１０４】また、請求項４、６の発明によれば、圧力
計のリップルやノイズ等に強く精度の高い流量検定がで
きるガス配管系の検定システムが提供されている。ま
た、請求項５、７の発明によれば、マスフローコントロ
ーラの流量特性の変化があっても自動的にこれを補償し
て正しいプロセスを実施できるガス配管系の検定システ
ムが提供されている。 Further, according to the inventions of claims 4 and 6, there is provided a verification system of a gas pipe system which is highly resistant to ripples, noises and the like of the pressure gauge and which is capable of highly accurate flow rate verification. According to the fifth and seventh aspects of the present invention, there is provided a gas pipe system verification system capable of automatically compensating for a change in the flow rate characteristic of the mass flow controller and performing a correct process .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】第１の実施の形態に係るガスシステムの構成図
である。FIG. 1 is a configuration diagram of a gas system according to a first embodiment.

【図２】図１のものからベントラインを省略したガスシ
ステムの構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a gas system in which a vent line is omitted from that of FIG.

【図３】第２の実施の形態に係るガスシステムの要部を
示す構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram showing a main part of a gas system according to a second embodiment.

【図４】第３の実施の形態に係るガスシステムの要部を
示す構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram showing a main part of a gas system according to a third embodiment.

【図５】第４の実施の形態に係るガスシステムの要部を
示す構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram showing a main part of a gas system according to a fourth embodiment.

【図６】マスフローコントローラの流量検定による圧力
降下を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing pressure drop due to flow rate verification of a mass flow controller.

【図７】マスフローコントローラの流量検定による圧力
上昇を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing a pressure increase due to flow rate verification of a mass flow controller.

【図８】マスフローコントローラの流量検定（降下方
式）による圧力計のデータを示すグラフである。FIG. 8 is a graph showing data of a pressure gauge according to a flow rate verification (descent method) of a mass flow controller.

【図９】マスフローコントローラの流量検定（上昇方
式）による圧力計のデータを示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing pressure gauge data obtained by flow rate verification (increase method) of a mass flow controller.

【図１０】マスフローコントローラの流量検定の精度を
説明するグラフである。FIG. 10 is a graph for explaining the accuracy of flow rate verification of the mass flow controller.

【図１１】マスフローコントローラの流量検定の精度を
説明するグラフである。FIG. 11 is a graph illustrating the accuracy of flow rate verification of the mass flow controller.

【図１２】マスフローコントローラとモニタリングシス
テムとのデータ転送を示すブロック図である。FIG. 12 is a block diagram showing data transfer between a mass flow controller and a monitoring system.

【図１３】複合的なガスシステムを示す構成図である。FIG. 13 is a configuration diagram showing a composite gas system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１１、１１Ａ、１１Ｂ 圧力センサ １３ 流量モニタリングシステム ２１、２１Ａ、２１Ｂ 遮断弁（終段遮断弁） ２３Ａ、２３Ｂ ガスライン ２５Ａ、２５Ｂ 遮断弁（第１遮断弁） ２７Ａ、２７Ｂ マスフローコントローラ ２９Ａ、２９Ｂ 遮断弁（第２遮断弁） ３３ ベントライン ３５ 遮断弁（ベント遮断弁） ３７ プロセスチャンバ ４１ パージライン（テストガスライ
ン）11, 11A, 11B Pressure sensor 13 Flow rate monitoring system 21, 21A, 21B Isolation valve (final stage isolation valve) 23A, 23B Gas lines 25A, 25B Isolation valve (first isolation valve) 27A, 27B Mass flow controller 29A, 29B Isolation valve (Second shutoff valve) 33 Vent line 35 Shutoff valve (vent shutoff valve) 37 Process chamber 41 Purge line (test gas line)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ // Ｈ０１Ｌ 21/02 Ｈ０１Ｌ 21/02 Ｚ (56)参考文献 特開 昭63−235800（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−285619（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−209300（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−111314（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−31596（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−33304（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−306084（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−263350（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−53103（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−300656（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−194500（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−175311（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭58−71143（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭57−123509（ＪＰ，Ｕ) 特許2982003（ＪＰ，Ｂ２) 特許2925052（ＪＰ，Ｂ２) 特許2692770（ＪＰ，Ｂ２) 特許2659334（ＪＰ，Ｂ２) 特許2542695（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭62−15797（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) F17D 5/00 F16K 37/00 F17D 3/00 G01F 1/00 G05D 7/06 H01L 21/02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. ⁷ Identification code FI // H01L 21/02 H01L 21/02 Z (56) Reference JP-A 63-235800 (JP, A) JP-A 62- 285619 (JP, A) JP 62-209300 (JP, A) JP 58-111314 (JP, A) JP 56-31596 (JP, A) JP 9-33304 (JP, A) JP-A-7-306084 (JP, A) JP-A-7-263350 (JP, A) JP-A-6-53103 (JP, A) JP-A-6-300656 (JP, A) JP-A-4-194500 (JP, A) Actually opened 62-175311 (JP, U) Actually opened 58-71143 (JP, U) Actually opened 57-123509 (JP, U) Patent 2982003 (JP, B2) Patent 2925052 (JP, B2) Patent 2692770 (JP, B2) Patent 2659334 (JP, B2) Patent 2542695 (JP, B2) Japanese Patent Publication Sho 62- 15797 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int.Cl. ⁷ , DB name) F17D 5/00 F16K 37/00 F17D 3/00 G01F 1/00 G05D 7/06 H01L 21/02

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 第１遮断弁とその下流側のマスフローコ
ントローラとその下流側の終段遮断弁とを備えたガスラ
インを経由してプロセスガス源からプロセスチャンバに
プロセスガスを供給するガス配管系の検定を行うシステ
ムにおいて、 前記終段遮断弁の入側位置での圧力を計測する圧力計を
有し、 前記第１遮断弁を開いて前記終段遮断弁を閉じ、前記マ
スフローコントローラを通して前記終段遮断弁の上流側
にプロセスガスを導入したときの圧力上昇を前記圧力計
で測定することにより前記マスフローコントローラの流
量を検定することを特徴とするガス配管系の検定システ
ム。1. A gas piping system for supplying a process gas from a process gas source to a process chamber via a gas line equipped with a first cutoff valve, a mass flow controller on the downstream side thereof, and a final stage cutoff valve on the downstream side thereof. In the system for certifying, the pressure gauge at the inlet side position of the final-stage shut-off valve has a pressure gauge, the first shut-off valve is opened, the final-stage shut-off valve is closed, and the final flow is performed through the mass flow controller. A verification system for a gas piping system, characterized in that the flow rate of the mass flow controller is verified by measuring the pressure rise when the process gas is introduced upstream of the stage shutoff valve with the pressure gauge. 【請求項２】 第１遮断弁とその下流側のマスフローコ
ントローラとその下流側の第２遮断弁とをそれぞれ備え
た複数のガスラインを経由して複数のプロセスガス源か
らプロセスチャンバにプロセスガスを供給するガス配管
系の検定を行うシステムにおいて、 前記各ガスラインの合流点より下流に設けられた終段遮
断弁と、 前記終段遮断弁の入側位置での圧力を計測する圧力計を
有し、 あるガスラインの前記第１遮断弁および第２遮断弁を開
いて前記終段遮断弁および他のすべてのガスラインの前
記第２遮断弁を閉じ、そのガスラインの前記マスフロー
コントローラを通して前記終段遮断弁の上流側にそのプ
ロセスガスを導入したときの圧力上昇を前記圧力計で測
定することによりそのガスラインの前記マスフローコン
トローラの流量を検定することを特徴とするガス配管系
の検定システム。2. Process gas from a plurality of process gas sources to a process chamber via a plurality of gas lines respectively provided with a first shutoff valve, a mass flow controller on the downstream side thereof and a second shutoff valve on the downstream side thereof. In a system for verifying a gas pipe system to be supplied, a final stage cutoff valve provided downstream from a confluence point of each of the gas lines, and a pressure gauge for measuring pressure at an inlet side position of the final stage cutoff valve are provided. Then, the first shutoff valve and the second shutoff valve of a gas line are opened, the final stage shutoff valve and the second shutoff valves of all other gas lines are closed, and the end flow is passed through the mass flow controller of the gas line. The flow rate of the mass flow controller in the gas line is verified by measuring the pressure rise when the process gas is introduced on the upstream side of the stage shutoff valve with the pressure gauge. A verification system for a gas pipe system characterized by: 【請求項３】 第１遮断弁とその下流側のマスフローコ
ントローラとその下流側の終段遮断弁とをそれぞれ備え
た複数のガスラインを経由して複数のプロセスガス源か
らプロセスチャンバにプロセスガスを供給するガス配管
系の検定を行うシステムにおいて、 前記各終段遮断弁の入側位置を排気口へ連通するベント
ラインと、 このベントラインに設けられたベント遮断弁と、 前記ベントラインと前記各ガスラインと間にそれぞれ設
けられた第３遮断弁と、 前記ベント遮断弁の入側位置での圧力を計測する圧力計
とを有し、 あるガスラインの前記第１遮断弁および第３遮断弁を開
いて前記終段遮断弁および他のすべてのガスラインの前
記第３遮断弁および前記ベント遮断弁を閉じ、そのガス
ラインの前記マスフローコントローラを通して前記ベン
ト遮断弁の上流側にそのプロセスガスを導入したときの
圧力上昇を前記圧力計で測定することによりそのガスラ
インの前記マスフローコントローラの流量を検定するこ
とを特徴とするガス配管系の検定システム。3. Process gas from a plurality of process gas sources to a process chamber via a plurality of gas lines respectively provided with a first shutoff valve, a mass flow controller on the downstream side thereof, and a final stage shutoff valve on the downstream side thereof. In a system for verifying a gas pipe system to be supplied, a vent line that connects the inlet side position of each of the final stage shutoff valves to an exhaust port, a vent shutoff valve provided in this vent line, the vent line and each of the above A third cutoff valve provided between the gas line and a pressure gauge for measuring the pressure at the inlet side position of the vent cutoff valve, and the first cutoff valve and the third cutoff valve of a certain gas line. To close the third-stage shutoff valve and the vent shutoff valve of the final stage shutoff valve and all other gas lines, and through the mass flow controller of the gas line to Test system of the gas pipe system, characterized in that testing the flow rate of the mass flow controllers in the gas lines by measuring the increase in pressure when introducing the process gas upstream of the cement shutoff valve in the pressure gauge. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記
載するガス配管系の検定システムにおいて、 前記圧力計の指示値を所定の時間間隔でサンプリング
し、 サンプリングされたデータの相関係数の絶対値が所定の
値以上になるように対象範囲を定め、 前記対象範囲内のデータについて最小二乗法により傾き
を求めてこの傾きにより前記マスフローコントローラの
流量を検定することを特徴とするガス配管系の検定シス
テム。4. The gas pipe system verification system according to claim 1, wherein the indicated value of the pressure gauge is sampled at a predetermined time interval, and the correlation coefficient of the sampled data is calculated. A gas piping system characterized in that a target range is determined so that an absolute value is equal to or greater than a predetermined value, a slope is obtained for the data within the target range by a least squares method, and the flow rate of the mass flow controller is verified by this slope. Certification system. 【請求項５】 請求項１ないし請求項４のいずれかに記
載するガス配管系の検定システムにおいて、 前記マスフローコントローラの取付時に測定を行いその
結果を初期値として記憶し、 ガス配管系稼動後に再度測定を行いその結果の前記初期
値からのずれを補償するように前記マスフローコントロ
ーラの流量設定を変更することを特徴とするガス配管系
の検定システム。5. The gas pipe system verification system according to claim 1, wherein the mass flow controller is measured when the mass flow controller is attached, the result is stored as an initial value, and the result is stored again after the gas pipe system is activated. A verification system of a gas piping system, characterized in that a flow rate setting of the mass flow controller is changed so as to compensate a deviation of the measurement result from the initial value. 【請求項６】 第１遮断弁とその下流側のマスフローコ
ントローラとを備えたガスラインを経由してプロセスガ
ス源からプロセスチャンバにプロセスガスを供給するガ
ス配管系の検定を行うシステムにおいて、 前記マスフローコントローラの入側位置での圧力を計測
する圧力計を備え、 前記第１遮断弁を閉じ前記マスフローコントローラを通
して排気したときの圧力低下を前記圧力計で測定しつつ
その指示値を所定の時間間隔でサンプリングし、 このサンプリング手段によりサンプリングされたデータ
の相関係数の絶対値が所定の値以上になるように対象範
囲を定め、 前記対象範囲内のデータについて最小二乗法により傾き
を求めてこの傾きにより前記マスフローコントローラの
流量を検定することを特徴とするガス配管系の検定シス
テム。6. A system for certifying a gas piping system for supplying a process gas from a process gas source to a process chamber via a gas line equipped with a first shutoff valve and a mass flow controller on the downstream side thereof, wherein the mass flow is provided. A pressure gauge for measuring the pressure at the inlet side position of the controller is provided, and the pressure drop when the first shutoff valve is closed and exhausted through the mass flow controller is measured by the pressure gauge, and the indicated value is measured at predetermined time intervals. Sampling is performed, the target range is determined so that the absolute value of the correlation coefficient of the data sampled by this sampling means is equal to or greater than a predetermined value, and the slope of the data within the target range is calculated by the least squares method. Gas pipe system verification system characterized by verifying the flow rate of the mass flow controller 【請求項７】 第１遮断弁とその下流側のマスフローコ
ントローラとを備えたガスラインを経由してプロセスガ
ス源からプロセスチャンバにプロセスガスを供給するガ
ス配管系の検定を行うシステムにおいて、 前記マスフローコントローラの入側位置での圧力を計測
する圧力計を備え、 前記第１遮断弁を閉じ前記マスフローコントローラを通
して排気したときの圧力低下をマスフローコントローラ
の取付時に前記圧力計で測定し、 システム稼動後に再度測定を行いその結果の前記初期値
からのずれを補償するように前記マスフローコントロー
ラの流量設定を変更することを特徴とするガス配管系の
検定システム。7. A system for certifying a gas piping system for supplying a process gas from a process gas source to a process chamber via a gas line equipped with a first cutoff valve and a mass flow controller on the downstream side thereof, wherein the mass flow is provided. A pressure gauge for measuring the pressure at the inlet side of the controller is provided, and the pressure drop when the first shutoff valve is closed and exhausted through the mass flow controller is measured by the pressure gauge when the mass flow controller is attached, and again after system operation. A verification system of a gas piping system, characterized in that a flow rate setting of the mass flow controller is changed so as to compensate a deviation of the measurement result from the initial value. 【請求項８】 請求項６または請求項７に記載するガス
配管系の検定システムにおいて、 テストガス源から前記マスフローコントローラの入側位
置にテストガスを供給する遮断可能なテストガスライン
を備え、 テストガスを用いて検定を行うことを特徴とするガス配
管系の検定システム。 8. The verification system for a gas piping system according to claim 6 or 7, further comprising a test gas line capable of shutting off a test gas from a test gas source to an inlet side position of the mass flow controller, and performing a test. A verification system for a gas piping system characterized by performing verification using gas .