JPH06281807A - Manufacture of color filter - Google Patents
Manufacture of color filterInfo
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- JPH06281807A JPH06281807A JP6693793A JP6693793A JPH06281807A JP H06281807 A JPH06281807 A JP H06281807A JP 6693793 A JP6693793 A JP 6693793A JP 6693793 A JP6693793 A JP 6693793A JP H06281807 A JPH06281807 A JP H06281807A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はカラー液晶表示装置等に
用いられるカラーフィルターに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used in a color liquid crystal display device or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】カラーフィルターを採用したカラー液晶
表示装置が提案されているが、このカラー液晶表示装置
は、赤、緑、青等の顔料を含有する感光性着色樹脂を透
明基板上に塗布し、フォトリソグラフィー技術で微細な
カラーフィルターを格子状に形成するという技術により
製造され、この技術は通常「顔料分散法」と呼ばれる。
（特開昭５８−１０２９７６号参照）。また、このカラ
ーフィルターによる画素配列については、図６や図７に
示すようなストライプ配列が提案されているが（特開昭
６０−２０７１１８号参照）、製造歩留まり等の観点か
ら図６に示すストライプ配列が有利である。2. Description of the Related Art A color liquid crystal display device using a color filter has been proposed. In this color liquid crystal display device, a photosensitive coloring resin containing pigments such as red, green and blue is applied on a transparent substrate. It is manufactured by a technique of forming fine color filters in a grid pattern by a photolithography technique, and this technique is usually called a "pigment dispersion method".
(See JP-A-58-102976). A stripe arrangement as shown in FIGS. 6 and 7 has been proposed for the pixel arrangement using this color filter (see Japanese Patent Laid-Open No. 60-207118), but the stripe shown in FIG. 6 from the viewpoint of manufacturing yield and the like. Arrangement is advantageous.
【０００３】このカラー液晶表示装置に係るカラーフィ
ルターを図８〜図１１により説明する。図８において、
１はガラス等の透明基板であり、この透明基板１の上に
真空蒸着やスパッタリング等で金属クロム等の遮光膜２
を形成する。この遮光膜２は格子状に形成し、その各格
子が個々の画素に相当する。A color filter relating to this color liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. In FIG.
Reference numeral 1 is a transparent substrate such as glass, and a light-shielding film 2 made of metallic chromium or the like is formed on the transparent substrate 1 by vacuum deposition or sputtering.
To form. The light-shielding film 2 is formed in a grid shape, and each grid corresponds to an individual pixel.
【０００４】次いで図９に示すように例えば赤の顔料を
分散させた感光性樹脂３を印刷やスピンコートで全面に
塗布し、マスク４を介して露光すると、図１０のように
赤の画素５が形成される。Next, as shown in FIG. 9, for example, a photosensitive resin 3 in which a red pigment is dispersed is applied to the entire surface by printing or spin coating, and exposed through a mask 4. Then, as shown in FIG. Is formed.
【０００５】更に、この工程を緑、青という他の画素に
ついても、それぞれ繰り返し行うと図１１に示すように
緑の画素６と青の画素７ができる。Further, by repeating this process for other pixels of green and blue, respectively, a green pixel 6 and a blue pixel 7 are formed as shown in FIG.
【０００６】また、各画素５、６、７による凹凸を平坦
化するために、アクリル系樹脂等を塗布し、その樹脂層
の上に透明電極を形成し、これにより、カラーフィルタ
ーとなる。Further, in order to flatten the unevenness due to the pixels 5, 6, and 7, an acrylic resin or the like is applied and a transparent electrode is formed on the resin layer, thereby forming a color filter.
【０００７】そして、近年、上記構成のカラーフィルタ
ーを備えたカラー液晶表示装置は、表示情報の増大化に
伴って大型化しており、これにより、上記透明基板１も
大型化する。また、製造プロセス上、大型の透明基板１
からの多面取りにより製造効率を高めている。In recent years, the color liquid crystal display device provided with the color filter having the above-mentioned structure has become larger in size along with the increase in display information, and thus the transparent substrate 1 also becomes large in size. Also, due to the manufacturing process, a large transparent substrate 1
Manufacturing efficiency has been improved by multiple cuttings from.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、上記
のように大型化した透明基板１である場合、フォトリソ
グラフ工程における転写精度が低下するという問題点が
あった。即ち、その基板１が大型化すると、図１２に示
すように、基板１の反り、マスク８とのギャップのムラ
等により基板全面にわたって均一な露光ができず、基板
面での部分的なパターンのズレが発生していた。However, in the case of the large-sized transparent substrate 1 as described above, there is a problem that the transfer accuracy in the photolithographic process is lowered. That is, when the substrate 1 is increased in size, uniform exposure cannot be performed over the entire surface of the substrate due to warp of the substrate 1, unevenness of the gap with the mask 8 and the like, as shown in FIG. There was a gap.
【０００９】例えば、遮光膜２をパターン形成して、図
７に示すストライプ配列を形成するに当たって、図１２
のようにその基板１の一部でパターンのズレが発生した
場合、ドット単位で分割されているので、色画素形成の
際、図１３のように色画素のズレにより白抜けとして確
認できたが、図６に示すストライプ配列を形成するに当
たって、図１２のようにその基板１の一部でパターンの
ズレが発生した場合、一色の画素が一つのストライプパ
ターンで形成されているので、透明電極をパターン形成
したときに、初めて確認できる。For example, in forming the stripe array shown in FIG. 7 by patterning the light-shielding film 2, FIG.
When a pattern shift occurs in a part of the substrate 1 as described above, since it is divided in dot units, it can be confirmed as a white spot due to the color pixel shift as shown in FIG. 13 when forming color pixels. In forming the stripe array shown in FIG. 6, when a pattern shift occurs in a part of the substrate 1 as shown in FIG. 12, since pixels of one color are formed in one stripe pattern, transparent electrodes are formed. It can be confirmed only when the pattern is formed.
【００１０】したがって、図６に示すようなカラーフィ
ルターの製造方法においては、透明樹脂や透明電極の成
膜やパターニングした後に、その欠陥が確認しており、
製造コストが大きくなるという問題点があった。Therefore, in the method of manufacturing a color filter as shown in FIG. 6, after the transparent resin or the transparent electrode is formed or patterned, its defects are confirmed.
There is a problem that the manufacturing cost increases.
【００１１】[0011]
【問題点を解決するための手段】本発明のカラーフィル
ターの製造方法は、透明基板の表示領域に所定のパター
ンの遮光膜を形成すると同時に、表示領域の近傍にダミ
ーパターンも形成し、次いで表示領域に所定のパターン
の色画素を被着させると同時に、表示領域の近傍にダミ
ーパターンも形成し、両ダミーパターン間の位置関係に
より遮光膜と色画素との各パターンのズレを確認するよ
うにしたことを特徴とする。According to the method of manufacturing a color filter of the present invention, a light-shielding film having a predetermined pattern is formed in a display area of a transparent substrate, and at the same time a dummy pattern is formed in the vicinity of the display area. At the same time as applying color pixels of a predetermined pattern to the area, a dummy pattern is also formed in the vicinity of the display area, and the deviation between the light-shielding film and the color pixels is confirmed by the positional relationship between the dummy patterns. It is characterized by having done.
【００１２】[0012]
【作用】上記構成のカラーフィルターの製造方法であれ
ば、透明基板の表示領域に順次遮光膜と色画素を形成す
るに当たって、それぞれがダミーパターンも形成してい
るので、それら両ダミーパターン間の位置関係により遮
光膜と色画素との各パターンのズレが顕微鏡等により容
易に認識でき、良品検査を効果的に進めることができ
る。According to the method of manufacturing the color filter having the above structure, when the light-shielding film and the color pixels are sequentially formed in the display area of the transparent substrate, the dummy patterns are also formed in the respective regions. Due to the relationship, the deviation of each pattern of the light-shielding film and the color pixel can be easily recognized by a microscope or the like, and the non-defective product inspection can be effectively advanced.
【００１３】[0013]
【実施例】以下、本発明の実施例を述べる。図１は、実
施例の係るカラーフィルター９であり、図２と図３はそ
のダミーパターン拡大図である。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. FIG. 1 is a color filter 9 according to an embodiment, and FIGS. 2 and 3 are enlarged views of the dummy pattern thereof.
【００１４】図１によれば、透明基板１０に第１表示領
域１１と第２表示領域１２とを形成し、各表示領域１
１、１２の各辺に沿ってそれぞれ４個のダミーパターン
１３を形成した場合である。According to FIG. 1, a first display area 11 and a second display area 12 are formed on a transparent substrate 10, and each display area 1
This is a case where four dummy patterns 13 are formed along each side of 1 and 12.
【００１５】このカラーフィルター９は次のような工程
により順次作成する。The color filter 9 is sequentially manufactured by the following steps.
【００１６】先ず、ガラス等の透明基板１０は充分に洗
浄するとともに表面に析出したアルカリ成分や油分等を
除去して用いる。この透明基板１０の表示領域１１、１
２には真空蒸着やスパッタリング等で金属クロム等の遮
光膜（厚み１０００Ａ）を形成する。この遮光膜はフォ
トリソグラフィにより格子状に形成し、その各格子が個
々の画素に相当し、この遮光膜の線幅は例えば、３〜２
０μｍ、厚さは０．１〜０．３μｍである。そして、こ
の遮光膜を真空蒸着やスパッタリング等で形成する際
に、それと同時に、ダミーパターン１３も形成する。こ
のダミーパターン１３を示す図２と図３によれば、この
遮光膜形成時に第１パターン１３ａを形成した。First, the transparent substrate 10 made of glass or the like is used by thoroughly washing it and removing the alkaline components and oils deposited on the surface. Display areas 11, 1 of the transparent substrate 10
A light-shielding film (thickness: 1000 A) made of metallic chromium or the like is formed on 2 by vacuum deposition or sputtering. This light-shielding film is formed in a lattice shape by photolithography, and each lattice corresponds to an individual pixel, and the line width of this light-shielding film is, for example, 3 to 2.
The thickness is 0 μm and the thickness is 0.1 to 0.3 μm. Then, when this light-shielding film is formed by vacuum vapor deposition, sputtering or the like, at the same time, the dummy pattern 13 is also formed. According to FIGS. 2 and 3 showing the dummy pattern 13, the first pattern 13a was formed when the light shielding film was formed.
【００１７】次いで、赤の顔料を分散させた感光性樹脂
を印刷やスピンコートで全面に塗布し、マスクを介して
露光すると、表示領域１１、１２に赤の画素が形成され
る。そして、この赤の画素を形成する際に、それと同時
にダミーパターン１３も形成する。このダミーパターン
１３を示す図２と図３によれば、この赤の画素形成時に
第２パターン１３ｂを形成した。Next, a photosensitive resin in which a red pigment is dispersed is applied to the entire surface by printing or spin coating and exposed through a mask, whereby red pixels are formed in the display areas 11 and 12. Then, when forming the red pixel, the dummy pattern 13 is also formed at the same time. According to FIGS. 2 and 3 showing the dummy pattern 13, the second pattern 13b was formed when the red pixel was formed.
【００１８】以上のような２工程により、４個のダミー
パターン１３において、図２と図３に示すように第１パ
ターン１３ａと第２パターン１３ｂとの位置関係が確認
でき、これにより、両パターン間のズレ量でもって良否
の検査ができた。本実施例においては、図２はズレがな
い場合であり、これに対して図３はズレがある場合であ
る。By the above-mentioned two steps, the positional relationship between the first pattern 13a and the second pattern 13b can be confirmed in the four dummy patterns 13 as shown in FIGS. 2 and 3, whereby both patterns can be confirmed. It was possible to inspect the quality based on the deviation amount. In this embodiment, FIG. 2 shows the case where there is no deviation, while FIG. 3 shows the case where there is deviation.
【００１９】尚、上記の実施例においては、４個のダミ
ーパターン１３でもって、赤の画素を形成しただけで良
否判断したが、それだけでは良否判断が困難である場合
には、その後に更に緑、青という他の画素を形成する工
程についても、それぞれ同様に繰り返し行って良否の検
査ができる。また、４個のダミーパターン１３ではな
く、１個のダミーパターン１３でも簡易に判断できる。In the above embodiment, the pass / fail judgment is made only by forming the red pixels with the four dummy patterns 13, but if the pass / fail judgment is difficult only by that, green is further added after that. The process of forming the other pixels of blue and blue can be repeated in the same manner to inspect the quality. Further, it is possible to easily make a judgment with one dummy pattern 13 instead of four dummy patterns 13.
【００２０】本発明は上記実施例以外に次のようなダミ
ーパターンを形成してもよい。図４は他のダミーパター
ン１４であり、１４ａは遮光膜形成時の同様の第１パタ
ーン、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄはそれぞれ赤、緑、青の
各画素を形成した際の同様な第２パターン、第３パター
ン、第４パターンである。このように各パターンを重ね
合わさなくてもよい。The present invention may form the following dummy patterns in addition to the above embodiments. FIG. 4 shows another dummy pattern 14, where 14a is the same first pattern when forming the light-shielding film, 14b, 14c and 14d are the same second patterns when forming red, green and blue pixels, respectively. They are the third pattern and the fourth pattern. In this way, it is not necessary to overlap the patterns.
【００２１】また、図５に示すダミーパターン１５のよ
うに、遮光膜形成時の同様の第１パターン１５ａに対し
て、画素を形成した際の同様な第２パターン１５ｂが所
定間隔でもって離れていてもよい。Further, like the dummy pattern 15 shown in FIG. 5, the similar second pattern 15b when the pixel is formed is separated from the similar first pattern 15a when the light-shielding film is formed by a predetermined interval. May be.
【００２２】尚、本発明は上記実施例に限られず、本発
明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更、改良等は何
ら差し支えない。The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and improvements can be made without departing from the scope of the present invention.
【００２３】[0023]
【発明の効果】以上のように、本発明のカラーフィルタ
ーの製造方法は、透明基板の表示領域に所定のパターン
の遮光膜を形成すると同時に、表示領域の近傍にダミー
パターンも形成し、次いで表示領域に所定のパターンの
色画素を被着させると同時に、表示領域の近傍にダミー
パターンも形成し、両ダミーパターン間の位置関係によ
り遮光膜と色画素との各パターンのズレを確認するよう
にしたことにより、その位置関係により遮光膜と色画素
との各パターンのズレが顕微鏡等により容易に認識で
き、良品検査を効果的に進めることができ、製造歩留ま
りが高くなった。As described above, according to the method of manufacturing a color filter of the present invention, the light-shielding film having a predetermined pattern is formed in the display area of the transparent substrate, and at the same time, the dummy pattern is formed in the vicinity of the display area. At the same time as applying color pixels of a predetermined pattern to the area, a dummy pattern is also formed in the vicinity of the display area, and the deviation between the light-shielding film and the color pixels is confirmed by the positional relationship between the dummy patterns. By doing so, the deviation of each pattern of the light-shielding film and the color pixel can be easily recognized by a microscope or the like due to the positional relationship, the non-defective product inspection can be effectively advanced, and the manufacturing yield is increased.
【図１】実施例におけるカラーフィルターの平面図であ
る。FIG. 1 is a plan view of a color filter in an example.
【図２】実施例におけるダミーパターン拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a dummy pattern in the embodiment.
【図３】実施例におけるダミーパターン拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of a dummy pattern in the embodiment.
【図４】他の実施例におけるダミーパターン拡大図であ
る。FIG. 4 is an enlarged view of a dummy pattern according to another embodiment.
【図５】他の実施例におけるダミーパターン拡大図であ
る。FIG. 5 is an enlarged view of a dummy pattern according to another embodiment.
【図６】ストライプ配列の概略図である。FIG. 6 is a schematic view of a stripe array.
【図７】ストライプ配列の概略図である。FIG. 7 is a schematic view of a stripe array.
【図８】遮光膜が形成された従来における透明基板の断
面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of a conventional transparent substrate on which a light shielding film is formed.
【図９】従来例におけるフォトレジストの形成基板の断
面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a photoresist formation substrate in a conventional example.
【図１０】従来例における画素形成時の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view at the time of forming pixels in a conventional example.
【図１１】従来例におけるカラーフィルター形成後の断
面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view after forming a color filter in a conventional example.
【図１２】基板とマスクとのギャップのヅレの説明図で
ある。FIG. 12 is an explanatory diagram of a gap between a substrate and a mask.
【図１３】色画素のズレの説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram of color pixel misalignment.
９ カラーフィルター １１、１２ 表示領域 １３、１４、１５ ダミーパターン １３ａ 第１パターン １３ｂ 第２パターン 9 Color Filters 11 and 12 Display Areas 13 and 14 and 15 Dummy Pattern 13a First Pattern 13b Second Pattern
Claims (1)
光膜を形成すると同時に、表示領域の近傍にダミーパタ
ーンも形成し、次いで表示領域に所定のパターンの色画
素を被着させると同時に、表示領域の近傍にダミーパタ
ーンも形成し、両ダミーパターン間の位置関係により遮
光膜と色画素との各パターンのズレを確認するようにし
たことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。1. A light-shielding film having a predetermined pattern is formed on a display area of a transparent substrate, and at the same time, a dummy pattern is formed in the vicinity of the display area, and then color pixels having a predetermined pattern are deposited on the display area. A method of manufacturing a color filter, characterized in that a dummy pattern is also formed in the vicinity of the display area, and a shift between the patterns of the light-shielding film and the color pixels is confirmed by a positional relationship between the dummy patterns.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6693793A JPH06281807A (en) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | Manufacture of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6693793A JPH06281807A (en) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | Manufacture of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06281807A true JPH06281807A (en) | 1994-10-07 |
Family
ID=13330420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6693793A Pending JPH06281807A (en) | 1993-03-25 | 1993-03-25 | Manufacture of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06281807A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100778842B1 (en) * | 2001-12-13 | 2007-11-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Liquid Crystal Display Device |
| US7763672B2 (en) * | 2005-07-01 | 2010-07-27 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Red colored film, red colored composition, color filter and liquid crystal display device |
-
1993
- 1993-03-25 JP JP6693793A patent/JPH06281807A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100778842B1 (en) * | 2001-12-13 | 2007-11-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Liquid Crystal Display Device |
| US7763672B2 (en) * | 2005-07-01 | 2010-07-27 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Red colored film, red colored composition, color filter and liquid crystal display device |
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