JPH06280038A - 無電解ニッケルリンめっき液 - Google Patents

無電解ニッケルリンめっき液

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JPH06280038A
JPH06280038A JP7173093A JP7173093A JPH06280038A JP H06280038 A JPH06280038 A JP H06280038A JP 7173093 A JP7173093 A JP 7173093A JP 7173093 A JP7173093 A JP 7173093A JP H06280038 A JPH06280038 A JP H06280038A
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JP
Japan
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nickel
plating solution
acid
electroless nickel
mol
Prior art date
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Pending
Application number
JP7173093A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Yamamoto
弘 山本
Takeshi Shimazaki
威 嶋崎
Hiroaki Okudaira
弘明 奥平
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Hitachi Ltd
Hitachi Boden Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Boden Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 無電解ニッケルめっき液において、めっき副
生成物である亜リン酸の生成を抑制し、液安定性を向上
させる。 【構成】 ニッケルイオン、次亜リン酸塩、1種以上の
オキシカルボン酸、1種以上のジカルボン酸またはモノ
カルボン酸、微量の安定剤を含み、pH調整剤でpHを
4.0〜7.0に調整し、更に一般式(I) 【化1】 〔式中Xは、H、Cl、C1 〜C4 アルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基のうちのひとつ〕…(1) を1.0×10-3〜5.0×10-2mol/lを含有した無
電解ニッケルリンめっき液。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液安定性に優れた次亜
リン酸塩還元による無電解ニッケルリンめっき液に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】無電解ニッケルめっきは、被めっき材に
ニッケル皮膜を化学還元により析出させる方法で、装飾
用、電子部品用、最近ではディスク用、EMI用等に広
く使用されている。その方法及び有用な組成液は広く知
られており、また実用化されている。
【0003】公知の無電解ニッケルめっき液は、例え
ば、特公昭53−3326号公報、特公昭53−175
34号公報に明示されているように、 (1)硫酸ニッケル等のニッケルイオン源 (2)ニッケルイオンの還元剤としての次亜リン酸塩 (3)ニッケルイオンの錯化剤 (4)pH調整剤 を主成分とする水溶液である。しかし、これらの無電解
ニッケルめっき液は、液安定性に乏しく、ニッケルイオ
ンの化学還元により連鎖的に液分解が促進するため、特
公昭53−3326号公報に開示された技術では、不飽
和カルボン酸、二価の硫黄化合物、鉛イオン、ヨウ素化
合物、水溶性のアセチレン化合物等が微量添加され、ま
た特公昭53−17534号公報に開示された技術で
は、第一銅イオンが微量添加されており、液安定性を保
っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】無電解ニッケルめっき
液の液安定性は、不飽和カルボン酸、二価の硫黄化合
物、鉛イオン、ヨウ素化合物、水溶性のアセチレン化合
物、第一銅イオン等の微量安定剤により保たれている
が、無電解ニッケルめっき液を連続で使用する場合めっ
き副生成物として H2PO2 - +H2O→H2PO3 - +2H の反応で次亜リン酸から亜リン酸が生成し、液安定性が
著しく低下する。この亜リン酸はニッケルイオンと結合
し不溶性の亜リン酸ニッケルを形成するため、亜リン酸
濃度が許容量を越えると液が分解する。そのため、従来
の技術では亜リン酸生成により無電解ニッケルめっき液
の液寿命が制限されていた。
【0005】亜リン酸濃度増加を抑制し、液分解の原因
となる不溶性の亜リン酸ニッケルの生成を抑制する方法
としては、特開平2−66175号公報に明示されてい
るよな過酸化水素水添加浴がある。
【0006】この方法では、過酸化水素水によって亜リ
ン酸がオルトリン酸に酸化され、亜リン酸が一定濃度以
上蓄積せず、オルトリン酸はめっき反応の進行を防げな
いため、液の長寿命化が見込まれる。
【0007】しかし、過酸化水素水添加浴は過酸化水素
水の安定性が低いため、混合溶液中では過酸化水素水自
体が自己分解したり、他成分と反応したりして、長期の
安定性が期待できない。
【0008】このため、無電解ニッケルめっき処理を不
連続に行う場合や、長期液を保存する場合には、過酸化
水素水添加の十分な効果が得られない。
【0009】
【課題を解決するための手段】 本発明は、ニッケルイ
オンとニッケルイオンの還元剤として、次亜リン酸塩
と、ニッケルイオンの錯化剤として少なくとも1種以上
のオキシカルボン酸と少なくとも1種以上のジカルボン
酸またはモノカルボン酸とpH調整剤として、水酸化ナ
トリウムまたはアンモニア水とを含む無電解ニッケルめ
っき液であって、一般式(I)
【化2】 〔式中Xは、H、Cl、C1 〜C4 アルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基のうちのひとつ〕…(1) を含むことを特徴とする無電解ニッケルリンめっき液で
ある。ニッケルイオン源としては、硫酸ニッケル6水和
物、塩化ニッケル6水和物、酢酸ニッケル4水和物、硫
酸ニッケルアンモニウム6水和物、硝酸ニッケル6水和
物を使用する。
【0010】次亜リン酸塩としては、次亜リン酸ナトリ
ウム1水和物を使用する。
【0011】オキシカルボン酸としては、クエン酸1水
和物、乳酸、リンゴ酸、酒石酸を単独または併用して使
用する。
【0012】ジカルボン酸としては、マロン酸、シュウ
酸2水和物、コハク酸、マレイン酸、モノカルボン酸と
しては、酢酸、グリシンを単独または併用して使用す
る。
【0013】pHは、水酸化ナトリウムまたはアンモニ
ア水で4.00〜7.00、好ましくは5.50〜6.
50に調整する。pHが4.00以下ではめっき析出速
度が低下し、7.00以上では液安定性が低下する。
【0014】前記一般式(I)は、例えば、ヒドロキノ
ン、クロロヒドロキノン、ブロムヒドキノン、メチルヒ
ドロキノン、エチルヒドロキノン、プロピルヒドロキノ
ン、ブチルヒドロキノン、メトキシヒドロキノン、エト
キシヒドロキノン等を1.0×10-3〜5.0×10-2
mol/l添加して使用する。1.0×10-3mol/l以下で
は、亜リン酸を次亜リン酸に還元する効果がみられず、
5.0×10-2mol/l以上では、逆に液を不安定にす
る。
【0015】また上記組成物以外に二価のイオン化合
物、鉛イオン、ヨウ素化合物等の公知の液安定剤を1〜
20ppm 添加し、液安定性を向上させる。
【0016】本発明の無電解ニッケルリンめっき液は、
例えば次のようにして製造することができる。
【0017】先ず、800mlの水に硫酸ニッケル6水和
物を0.03〜0.24mol 溶解し、次にクエン酸1水
和物0.01〜0.20mol 、マロン酸0.01〜0.
21mol 、コハク酸0.01〜0.15mol を順次溶解
する。完全に溶解した後、水酸化ナトリウムでpHを
4.00〜7.00、好ましくは5.50〜6.50に
調整する。次に硫化カリウムを1.0×10-5〜1.8
〜10-4mol 溶解する。次に次亜リン酸ナトリウム1水
和物を0.05〜0.53mol 、ヒドロキノンを1.0
×10-3〜5.0×10-2mol 順次溶解する。最後に水
で液量を1lに調整する。
【0018】以上の方法で得られた無電解ニッケルリン
めっき液を85〜90℃に加温し、Pd置換処理した銅
板を浸漬すると、銅板上には光沢のある均一なニッケル
リン皮膜が析出する。
【0019】また、ここでヒドロキノン添加浴はヒドロ
キノン無添加浴に比べ、亜リン酸の生成速度が1/3〜
1/2と低く、無電解ニッケルめっき液建浴後、3カ月
放置後でも同様に亜リン酸の生成を抑制する効果がみら
れた。
【0020】
【実施例】 実施例1 硫酸ニッケル6水和物0.10mol 、次亜リン酸ナトリ
ウム1水和物0.25mol 、クエン酸1水和物0.07
mol 、マロン酸0.05mol 、コハク酸0.04mol 、
ヒドロキノン8.0×10-3mol 、硫化カリウム5.0
×10-5mol を含み、水酸化ナトリウムでpH5.80
に調整した無電解ニッケルリンめっき液1lを85℃に
加温し、そこにPd置換触媒メルプレートアクチベータ
350(メルテックス株式会社製商品名)処理した5cm
×10cmの銅板(板厚0.2mm)を20分毎に2枚ずつ
計12枚浸漬し、無電解めっき処理した。めっき開始2
時間後、液分解および槽へのニッケル析出は見られなか
った。また銅板上には光沢のある均一なニッケル皮膜が
得られた。
【0021】実施例2 硫酸ニッケル6水和物0.12mol 、次亜リン酸ナトリ
ウム1水和物0.25mol 、クエン酸1水和物0.10
mol 、マロン酸0.02mol 、コハク酸0.07mol 、
ヒドロキノン1.0×10-2mol 、硫化カリウム5.0
×10-5mol を含み、水酸化ナトリウムでpH6.00
に調整した無電解ニッケルリンめっき液1lを室温で放
置し、3カ月後放置していた無電解ニッケルリンめっき
液1lを85℃に加温し、そこにPd置換触媒メルプレ
ートアクチベータ350(メルテックス株式会社製商品
名)処理した5cm×10cmの銅板(板厚0.2mm)を2
0分毎に計12枚浸漬し、無電解めっき処理した。めっ
き開始2時間後、液分解および槽へのニッケル析出は見
られなかった。また銅板上には光沢のある均一なニッケ
ル皮膜が得られた。
【0022】比較例1 ヒドロキノンを除いた以外は実施例1と同じ。めっき開
始後1時間(銅板6枚目処理時)で槽底部にニッケルの
異常析出と亜リン酸ニッケルの付着と思われる銅板上へ
のめっきザラが発生した。
【0023】比較例2 ヒドロキノン1.0×10-2mol の代わりに過酸化水素
水5.0×10-2molを使用した以外は実施例2と同
じ。めっき開始後1時間40分(銅板10枚目処理時)
で槽底部にニッケルの異常析出と亜リン酸ニッケルの付
着と思われる銅板上のめっきザラが発生した。
【0024】
【発明の効果】本発明の無電解ニッケルリンめっき液
は、含有されている一般式(I)で示される物質は、液
安定性を低下させる亜リン酸を還元し、次亜リン酸にす
るため亜リン酸の生成が抑制され、液安定性に優れてい
る。
【0025】また、一般式(I)で示される物質は、無
電解ニッケルリンめっき液中で安定であるため、長期の
保存・放置に対し、変わらない効果が得られる。
フロントページの続き (72)発明者 嶋崎 威 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社電子部品事業部内 (72)発明者 奥平 弘明 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ニッケルイオンと、ニッケルイオンの還
    元剤として次亜リン酸塩と、ニッケルイオンの錯化剤と
    して少なくとも1種以上のオキシカルボン酸と少なくと
    も1種以上のジカルボン酸またはモノカルボン酸と、p
    H調整剤として水酸化ナトリウムまたはアンモニア水と
    を含む無電解ニッケルめっき液であって、以下の一般式
    (I) 【化1】 〔式中Xは、H、Cl、C1 〜C4 アルキル基、メトキ
    シ基、エトキシ基のうちのひとつ〕…(1) を含むことを特徴とする無電解ニッケルリンめっき液。
  2. 【請求項2】 前記式(I)で示す組成の含有量が1.
    0×10-3〜5.0×10-2モル/リットルであること
    を特徴とする請求項1に記載の無電解ニッケルリンめっ
    き液。
JP7173093A 1993-03-30 1993-03-30 無電解ニッケルリンめっき液 Pending JPH06280038A (ja)

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Cited By (4)

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