JPH06235863A - 反射屈折光学系 - Google Patents

反射屈折光学系

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JPH06235863A
JPH06235863A JP5023974A JP2397493A JPH06235863A JP H06235863 A JPH06235863 A JP H06235863A JP 5023974 A JP5023974 A JP 5023974A JP 2397493 A JP2397493 A JP 2397493A JP H06235863 A JPH06235863 A JP H06235863A
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JP
Japan
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optical system
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light
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JP5023974A
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English (en)
Inventor
Toshiro Ishiyama
敏朗 石山
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 反射屈折光学系から発生するフレアーやゴー
ストを低減させて、結像性能の向上を図ること。 【構成】 物体側から順に、正の屈折力を持ち物体の1
次像I1 を形成する第1部分光学系K1 と、正の屈折力
を持ち1次像I1 からの光により2次像I2 を形成する
第2部分光学系K2 とを有する反射屈折光学系におい
て、1次像I1 が形成される位置に、所定の形状の開口
部を有する視野絞りBを配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マスク上の回路パター
ンを感光基板上に投影転写するために好適な反射屈折光
学系に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、上述の如き反射屈折光学系とし
て、例えば特開昭61-29815号公報に開示されているもの
が知られている。この特開昭61-29815号公報に開示され
ている反射屈折光学系は、1次像を形成する部分光学系
と、この1次像からの光により2次像を形成する部分光
学系とを有するように構成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
如き特開昭61-29815号公報に開示された反射屈折光学系
においては、フレアーやゴーストの防止について何ら考
慮されていなかった。このため、像面上(2次像面上)
でフレアーやゴーストが発生し、結像性能が低下する問
題点がある。
【0004】そこで、本発明は、反射屈折光学系から発
生するフレアーやゴーストを低減させて、結像性能の向
上を図った反射屈折光学系を提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、例えば図1に示す如く、本発明による反射屈折光
学系は、物体側から順に、正の屈折力を持ち物体の1次
像I1 を形成する第1部分光学系K1 と、正の屈折力を
持ち1次像I1 からの光により2次像I2 を形成する第
2部分光学系K2 とを有するように構成され、1次像I
1 が形成される位置には、所定の形状の開口部を有する
視野絞りBが配置されるように構成される。
【0006】
【作用】上述の如く、本発明においては、物体面と2次
像面との共役点(1次像面)に所定形状の開口部を有す
る視野絞りを配置しているため、結像に寄与しない有害
光をこの視野絞りにて遮光することができる。従って、
フレアーやゴーストの影響が低減し、反射屈折光学系の
結像性能を向上させることができる。
【0007】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明による実施例
を説明する。図1は、本発明による反射屈折光学系の第
1実施例の構成と光路とを示す図である。この第1実施
例は、本発明による反射屈折光学系を投影露光装置の投
影光学系に適用した例である。なお、図1において、物
体面Oを照明するための照明光学系は図示省略してい
る。
【0008】そして、図2(a) に示す如く、物体面Oと
してのマスクMaには、所定の回路パターン領域PAが
形成されており、このマスクMaと、図示なき照明光学
系による円弧形状の照明領域LAとを走査方向に沿って
相対的に移動させる。このとき、マスクMaの回路パタ
ーン領域PAは、円弧状の照明領域LAにて走査されつ
つ照明される。
【0009】ここで、上述の円弧形状の照明領域LA
は、図2(a) に示す如く、所定の半径rの円弧と、上記
円弧から走査方向に距離a1 だけ平行移動された半径r
の円弧と、間隔b1 の直線とで囲まれる領域となる。こ
こで、上記距離a1 を円弧形状の照明領域LAのスリッ
ト幅a1 と呼び、上記間隔b1 を照明領域LAのスリッ
ト長b1 と呼ぶ。なお、円弧状の照明領域としては、所
定の点を中心とする同心円状の領域も考えられるが、ス
キャン露光する際の露光量が露光領域の中心と端部とで
とで異なるため望ましくない。
【0010】また、図1の反射屈折光学系において、2
次像I2 が形成される位置には、表面にフォトレジスト
等が塗布された感光基板が設けられている。そして、図
2(b) に示す如く、この感光基板上には、反射屈折光学
系により、上記照明領域LAにて照明された回路パター
ンPAが円弧形状の露光領域EAとなって投影される。
ここで、露光領域EAと感光基板とを走査方向に沿って
相対的に移動させれば、走査露光、いわゆるステップ・
アンド・スキャン方式の投影露光を実現できる。この走
査露光を行うことで、感光基板上には、ショット領域S
Aが形成される。なお、上記露光領域EAの形状は、照
明領域LAと相似形状となる。
【0011】図1に戻って、上述の如き照明領域にて照
明されたマスク面(物体面O)からの光は、光軸Ax1
沿って配置されたレンズ成分L1 〜L3 を介して、平面
反射鏡MP1 にて略45°偏向され、光軸Ax1 と垂直な
光軸Ax2 に沿って配置され凹面を光線の入射側に向けた
第1凹面反射鏡M1 にて反射される。そして、第1凹面
反射鏡M1 の反射側に、物体面Oの1次像I1 を形成す
る。ここで、レンズ成分L1 〜L3 と第1凹面反射鏡M
1 とが第1部分光学系K1 を構成している。
【0012】そして、1次像I1 からの光は、光軸Ax2
に沿って配置されたレンズ成分L4〜L6 を介して、平
面反射鏡MP2 にて略45°偏向される。この平面反射
鏡MP2 の反射側(光の射出側)には、光軸Ax2 と垂直
な(光軸Ax1 と平行な)光軸Ax3 に沿って、レンズ成分
7 と第2凹面反射鏡M2 とが配置されており、平面反
射鏡MP2 から射出した光は、レンズ成分L7 を介して
第2凹面反射鏡M2 にて反射された後、再びレンズ成分
7 を介してレンズ成分L8 〜L14へ向かう。このレン
ズ成分L8 〜L14は、全体として正の屈折力を有してお
り、レンズ成分L7 からの光によって、1次像I1 の縮
小像である2次像I2 を基板上に形成する。ここで、レ
ンズ成分L4 〜L6 、レンズ成分L7 、第2凹面反射鏡
2 及びレンズ成分L8 〜L14が第2部分光学系K2
構成している。なお、本実施例による反射屈折光学系全
体の結像倍率は、1/5倍の縮小倍率となっている。
【0013】さて、本実施例による反射屈折光学系にお
いては、1次像I1 が形成される位置に、所定形状の開
口部を有する視野絞りBを配置している。以下、この視
野絞りBの具体的な構成について説明する。図3は、視
野絞りBの開口部の形状を示す平面図である。この図3
において、円弧形状の開口部BAは、所定の半径Rの円
弧(部分円)と、この円弧から所定の距離a3 だけ平行
移動された円弧と、所定の間隔b3 の直線とで囲まれる
領域である。なお、上記距離a3 をスリット幅a3 、上
記間隔b3 をスリット長b3とする。
【0014】ここで、反射屈折光学系の光路内を通過す
る結像に寄与しない光線(有害光)は、視野絞りBの開
口部BAを通過しないため、2次像面I2 (感光基板)
上に到達しない。これにより、回路パターンPAの像
(2次像)は、フレアーやゴーストの影響が低減された
もとで結像される。また、この視野絞りBにより、感光
基板上のショット領域SA上に形成される露光領域EA
が周縁部のボケを生ずることなく、正確に規定される。
【0015】そして、図2(b) に示す露光領域EAのス
リット幅a2 は、図3に示す開口部BAのスリット幅a
3 により、一義的に定まる。ここで、開口部BAの幅a
3 を可変に構成すれば、露光領域のスリット幅a2 を可
変とすることができる。具体的には、図4に示す如く、
所定の半径の円弧を有する遮光部材10と、この遮光部
材10が有する円弧と同一半径の円弧を有する遮光部材
20とで視野絞りBを構成する。そして、遮光部材10
をモータ11と送りネジ12とで図中矢印方向(スリッ
ト幅方向)に可動に設け、遮光部材20をモータ21と
送りネジ22とで図中矢印方向(スリット幅方向)に可
動に設ければ、円弧形状の開口部のスリット幅を可変と
することができる。これにより、露光領域EAのスリッ
ト幅を変化させることが可能となる。
【0016】そして、本実施例においては、感光基板と
露光領域とを相対的に移動させつつ走査露光を行なって
いるため、露光領域EAのスリット幅を可変に構成する
と、感光基板上での露光量が調節できる。なお、視野絞
りBの開口部の幅を可変とするために、例えば、視野絞
りBを互いに異なる形状の複数の開口部をターレット状
に配置したもので構成し、複数の開口部のうちの1つを
1次像I1 が形成される位置に配置することも考えられ
る。このような手法によっても、視野絞りBの開口部の
形状を可変にすることができる。
【0017】また、照明領域LA内の照度均一性が悪い
場合、視野絞りBの開口部BAの形状は、照明領域LA
の照度分布に合わせた形状とすることが望ましい。例え
ば図5(a) に示すように、照明領域LAがスリット長の
方向(走査方向と直交する方向)で照度が低下する照度
分布である場合には、図5(b) に示すように、両端でス
リット幅が異なる形状である開口部BAを有する視野絞
りBを用いれば良い。これにより、走査露光される感光
基板上において、均一な露光量の分布を得ることができ
る。
【0018】次に、図6を参照して、本発明の第2実施
例を説明する。図6は、本実施例の構成及び光路を示す
図である。そして、本実施例は、特開昭61-29815号公報
の第1実施例に開示された反射屈折光学系に、本発明を
適用したものである。この図6において、物体面Oから
の光線は、第1凹面鏡M1 、第1凸面鏡M2により順次
反射され、第1凹面鏡M1 と同一曲率の第2凹面鏡に達
する。そして、第2凹面鏡にて反射された光線は、第1
レンズ群G1 を介して、レンズ群G1の射出側に1次像
1 を形成する。ここで、第1及び第2凹面鏡M1,
3 、第1凸面鏡M2 及びレンズ群G1 が第1部分光学
系K1 を構成している。
【0019】そして、第1部分光学系K1 により形成さ
れた1次像I1 からの光線は、第3凹面鏡M4 にて反射
された後、第2レンズ群G2 を介して、この第2レンズ
群G 2 の射出側に2次像I2 を形成する。ここで、第3
凹面鏡M4 と第2レンズ群G 2 とが第2部分光学系K2
を構成する。なお、本実施例による反射屈折光学系全体
の結像倍率は、1/2.25倍の縮小倍率となってい
る。
【0020】さて、本実施例においても、第1部分光学
系K1 により形成される1次像I1の位置には、所定形
状の開口部を有する視野絞りBが配置されている。この
視野絞りBにより、フレアーやゴーストとなる有害光を
遮光して、反射屈折光学系の結像性能を向上させること
ができる。また、前述の第1実施例と同様に2次像I 2
と感光基板とを走査する場合には、視野絞りBの開口部
の幅を変化させて、2次像面I2 での露光量を調節する
ことができる。さらに、物体面O上の照明領域の照度分
布に合わせて、視野絞りBの開口部の形状を規定すれ
ば、2次像面I2での露光量を均一とすることができ
る。
【0021】このように、本発明は、物体の1次像を形
成する第1部分光学系と、この1次像をリレーして2次
像を形成する第2部分光学系とを持つ反射屈折光学系で
あれば、どのようなものにでも適用することができる。
また、本実施例においては、1次像が形成される位置に
1組の視野絞りBを配置しているが、この視野絞りB
は、1組に限られることはなく、例えば第1及び第2部
分光学系の他に、第2部分光学系が形成する2次像をリ
レーして3次像を形成する第3部分光学系が設けられて
いる場合には、1次像が形成される位置と2次像が形成
される位置とに2組の視野絞りを配置できる。
【0022】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、反射屈折光
学系から発生するゴーストやフレアーの影響を低減でき
るので、反射屈折光学系の結像性能を向上を図ることが
できる。また、2次像面と共役な位置に視野絞りが配置
されているため、露光範囲を厳密に規定することができ
る。さらに、視野絞りの開口部の形状を変化させれば、
2次像面上の露光量の調節が可能となる。そして、視野
絞りの形状を物体面上の照度分布に対応させれば、2次
像面上での露光量を均一にできる効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による第1実施例の構成と光路とを示す
図。
【図2】物体面上の照明領域と像面上の露光領域との形
状を示す平面図。
【図3】視野絞りの構成を示す平面図。
【図4】視野絞りを可動絞りとした場合の構成を示す模
式図。
【図5】照度分布と視野絞りの開口部の形状との対応の
一例を示す図。
【図6】本発明による第2実施例の構成と光路とを示す
図。
【符号の説明】
1 ‥‥ 第1部分光学系、 K2 ‥‥ 第2部分光学系、 O ‥‥ 物体面、 I1 ‥‥ 1次像、 I2 ‥‥ 2次像、 B ‥‥ 視野絞り、

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】物体側から順に、正の屈折力を持ち前記物
    体の1次像を形成する第1部分光学系と、正の屈折力を
    持ち前記1次像からの光により2次像を形成する第2部
    分光学系とを有する反射屈折光学系において、 前記1次像が形成される位置には、所定の形状の開口部
    を有する視野絞りが配置されることを特徴とする反射屈
    折光学系。
  2. 【請求項2】前記視野絞りは、互いに異なる形状である
    複数の開口部を有し、前記1次像が形成される位置に
    は、前記複数の開口部のうちの1つが配置されることを
    特徴とする請求項1記載の反射屈折光学系。
  3. 【請求項3】前記視野絞りは、前記開口部の形状が可変
    となる如く構成されることを特徴とする請求項1記載の
    反射屈折光学系。
JP5023974A 1993-02-03 1993-02-12 反射屈折光学系 Pending JPH06235863A (ja)

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US08/187,484 US5592329A (en) 1993-02-03 1994-01-28 Catadioptric optical system

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3837566A1 (de) * 1987-11-06 1989-05-18 Seikosha Kk Verfahren zum einziehen von einzelblattpapier bei einem drucker
JP2003504687A (ja) * 1999-07-07 2003-02-04 ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション ブロードバンド紫外線カタディオプトリックイメージングシステム
JP2007502019A (ja) * 2003-08-12 2007-02-01 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー ミラーm3の前にレンズを伴う複数のミラーを含む投影対物レンズ
JP2008270568A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP2017201430A (ja) * 2005-06-02 2017-11-09 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影対物レンズ

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3837566A1 (de) * 1987-11-06 1989-05-18 Seikosha Kk Verfahren zum einziehen von einzelblattpapier bei einem drucker
JP2003504687A (ja) * 1999-07-07 2003-02-04 ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション ブロードバンド紫外線カタディオプトリックイメージングシステム
JP4761684B2 (ja) * 1999-07-07 2011-08-31 ケーエルエー−テンカー コーポレイション ブロードバンド紫外線カタディオプトリックイメージングシステム
JP2007502019A (ja) * 2003-08-12 2007-02-01 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー ミラーm3の前にレンズを伴う複数のミラーを含む投影対物レンズ
JP2017201430A (ja) * 2005-06-02 2017-11-09 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影対物レンズ
US10281824B2 (en) 2005-06-02 2019-05-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Microlithography projection objective
JP2008270568A (ja) * 2007-04-20 2008-11-06 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
US8035804B2 (en) 2007-04-20 2011-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and device manufacturing method

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