JPH06228037A - フッ素置換ベンゼン誘導体並びにそれらを含む液晶組成物 - Google Patents
フッ素置換ベンゼン誘導体並びにそれらを含む液晶組成物Info
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- JPH06228037A JPH06228037A JP34506893A JP34506893A JPH06228037A JP H06228037 A JPH06228037 A JP H06228037A JP 34506893 A JP34506893 A JP 34506893A JP 34506893 A JP34506893 A JP 34506893A JP H06228037 A JPH06228037 A JP H06228037A
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Abstract
(57)【要約】
一般式
【化１】
（式中、Ｒ１は炭素原子数１〜１４のアルキル基を表わ
し、Ｒ２は炭素原子数１〜８のアルキル基を表わし、Ａ
およびＢはそれぞれ独立に１，４−フェニレン、モノフ
ッ素置換１，４−フェニレンまたはジフッ素置換１，４
−フェニレンを表わし、ｎは０、１または２を表わし、
ｍは０または１を表わし、ｐは１〜５の整数を表わす。
但しｎとｍは同時に０ではなく、ＡとＢは同時に１，４
−フェニレンではないものとする）で表わされるフッ素
置換ベンゼン誘導体並びにそれらのフッ素置換ベンゼン
誘導体の少なくとも１種を含有する液晶組成物。
し、Ｒ２は炭素原子数１〜８のアルキル基を表わし、Ａ
およびＢはそれぞれ独立に１，４−フェニレン、モノフ
ッ素置換１，４−フェニレンまたはジフッ素置換１，４
−フェニレンを表わし、ｎは０、１または２を表わし、
ｍは０または１を表わし、ｐは１〜５の整数を表わす。
但しｎとｍは同時に０ではなく、ＡとＢは同時に１，４
−フェニレンではないものとする）で表わされるフッ素
置換ベンゼン誘導体並びにそれらのフッ素置換ベンゼン
誘導体の少なくとも１種を含有する液晶組成物。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、新規な液晶性化合物ならびにそ
れらの液晶性化合物の少なくとも１種を含有することを
特徴とする液晶組成物に関する。さらに詳しく言えば、
本発明は、ネマチック液晶組成物に関し、ネマチック液
晶組成物の調製の際、その組成成分として有用で、か
つ，化学的安定性に優れた新規なフッ素が置換されたベ
ンゼン環を有する液晶性化合物ならびにそれらの液晶性
化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする液
晶組成物に関する。
れらの液晶性化合物の少なくとも１種を含有することを
特徴とする液晶組成物に関する。さらに詳しく言えば、
本発明は、ネマチック液晶組成物に関し、ネマチック液
晶組成物の調製の際、その組成成分として有用で、か
つ，化学的安定性に優れた新規なフッ素が置換されたベ
ンゼン環を有する液晶性化合物ならびにそれらの液晶性
化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする液
晶組成物に関する。
【０００２】
【背景技術】液晶表示素子は、受光型で目が疲れない、
消費電力が少ない、薄型である等の優れた特徴を有して
いるため、従来より、時計、電卓、ワープロ、ポケット
テレビ等に広く用いられており、最近では画面サイズの
大きなもの、あるいは画素数の非常に多いディスプレイ
に応用されＣＲＴに替わる表示装置として注目されてい
る。これらの液晶表示装置はネマチック液晶相の電気光
学効果を利用したものが殆どであり、その表示方式とし
てはＴＮ型（ねじれネマチック型）、ＤＳＭ型（動的散
乱型）、ＧＨ型（ゲスト−ホスト型）等がある。
消費電力が少ない、薄型である等の優れた特徴を有して
いるため、従来より、時計、電卓、ワープロ、ポケット
テレビ等に広く用いられており、最近では画面サイズの
大きなもの、あるいは画素数の非常に多いディスプレイ
に応用されＣＲＴに替わる表示装置として注目されてい
る。これらの液晶表示装置はネマチック液晶相の電気光
学効果を利用したものが殆どであり、その表示方式とし
てはＴＮ型（ねじれネマチック型）、ＤＳＭ型（動的散
乱型）、ＧＨ型（ゲスト−ホスト型）等がある。
【０００３】表示素子に要求される特性としては、駆動
温度範囲、しきい値電圧（Ｖｔｈ）、応答時間、視角特
性およびコントラスト等があり、一品目の液晶化合物の
みで要求されるそれらの特性を満たすことが困難である
ため、多種の液晶物質を混合し、個々の物質の有する特
性を生かした液晶組成物を作成することにより、要求さ
れる性能を満たしている。従って、実用に供される液晶
組成物を作成するために、個々に特徴のある種々の液晶
化合物が必要であり、例えば、広い動作温度範囲を得る
には広い温度範囲でネマチック相を有する材料、結晶−
ネマチック相転移温度（ＴＣＮ）の低い材料あるいはネ
マチック相−等方性液体転移温度（ＴＮ Ｉ）の高い材料
等が必要であり、高速応答には低粘度な材料が、また、
低電圧駆動には低しきい値電圧材料が有効である。視野
角やコントラストには目的に応じて屈折率異方性（Δ
ｎ）の大きな材料や小さな材料が必要となる。
温度範囲、しきい値電圧（Ｖｔｈ）、応答時間、視角特
性およびコントラスト等があり、一品目の液晶化合物の
みで要求されるそれらの特性を満たすことが困難である
ため、多種の液晶物質を混合し、個々の物質の有する特
性を生かした液晶組成物を作成することにより、要求さ
れる性能を満たしている。従って、実用に供される液晶
組成物を作成するために、個々に特徴のある種々の液晶
化合物が必要であり、例えば、広い動作温度範囲を得る
には広い温度範囲でネマチック相を有する材料、結晶−
ネマチック相転移温度（ＴＣＮ）の低い材料あるいはネ
マチック相−等方性液体転移温度（ＴＮ Ｉ）の高い材料
等が必要であり、高速応答には低粘度な材料が、また、
低電圧駆動には低しきい値電圧材料が有効である。視野
角やコントラストには目的に応じて屈折率異方性（Δ
ｎ）の大きな材料や小さな材料が必要となる。
【０００４】このような状況から、本発明者らは、母体
液晶に添加して、ＴＮＩを上げて、動作温度範囲を拡げ
る材料、ＴＮＩを低下させることなく粘度を下げる材
料、あるいはしきい値電圧を下げる材料などを得ること
を主たる目的として、種々の構造化合物をデザインし、
合成して鋭意研究した結果、分子末端にアルコキシアル
キル基を、また、分子骨格側方にフッ素原子を有する構
造化合物がその目的を達成することを見いだし、本発明
を完成するに至った。
液晶に添加して、ＴＮＩを上げて、動作温度範囲を拡げ
る材料、ＴＮＩを低下させることなく粘度を下げる材
料、あるいはしきい値電圧を下げる材料などを得ること
を主たる目的として、種々の構造化合物をデザインし、
合成して鋭意研究した結果、分子末端にアルコキシアル
キル基を、また、分子骨格側方にフッ素原子を有する構
造化合物がその目的を達成することを見いだし、本発明
を完成するに至った。
【０００５】本発明は、一般式、
【化３】 （式中、Ｒ１は炭素原子数１〜１４のアルキル基を表わ
し、Ｒ２は炭素原子数１〜８のアルキル基を表わし、Ａ
およびＢはそれぞれ独立に１，４−フェニレン、モノフ
ッ素置換１，４−フェニレンまたはジフッ素置換１，４
−フェニレンを表わし、ｎは０、１または２を表わし、
ｍは０または１を表わし、ｐは１〜５の整数を表わす。
但しｎとｍは同時に０ではなく、Ｂが１，４−フェニレ
ンであるとき、ｍは０ではなく、かつ、Ａは１，４−フ
ェニレンではないものとする）で表わされるフッ素置換
ベンゼン誘導体を提供するものであり、また、それらの
液晶性化合物の少なくとも１種を含有することを特徴と
する液晶組成物を提供するものである。
し、Ｒ２は炭素原子数１〜８のアルキル基を表わし、Ａ
およびＢはそれぞれ独立に１，４−フェニレン、モノフ
ッ素置換１，４−フェニレンまたはジフッ素置換１，４
−フェニレンを表わし、ｎは０、１または２を表わし、
ｍは０または１を表わし、ｐは１〜５の整数を表わす。
但しｎとｍは同時に０ではなく、Ｂが１，４−フェニレ
ンであるとき、ｍは０ではなく、かつ、Ａは１，４−フ
ェニレンではないものとする）で表わされるフッ素置換
ベンゼン誘導体を提供するものであり、また、それらの
液晶性化合物の少なくとも１種を含有することを特徴と
する液晶組成物を提供するものである。
【０００６】本発明に係わる新規な液晶性化合物は、ネ
マチック液晶組成物作成時の組成成分としてそれらの化
合物を、組成物の所要の目的に応じ、母体液晶に対し、
適当な割合で混合することにより、ＴＮＩの上昇、ηの
低減、しきい値電圧の低減、Δｎの増減等の諸物性の調
整を行うことができ有用なものである。
マチック液晶組成物作成時の組成成分としてそれらの化
合物を、組成物の所要の目的に応じ、母体液晶に対し、
適当な割合で混合することにより、ＴＮＩの上昇、ηの
低減、しきい値電圧の低減、Δｎの増減等の諸物性の調
整を行うことができ有用なものである。
【０００７】以下に、本発明に係る液晶性化合物の合成
経路について説明し、さらに実施例等により、本発明を
詳細に説明する。
経路について説明し、さらに実施例等により、本発明を
詳細に説明する。
【０００８】以下に、合成経路を示すが、これらの合成
経路は、その一例であり、また、実施例とともに、これ
らの例により、本発明は制約されるものではない。 ［合成経路図］ 式中の各記号は前述の定義を有する。
ただし、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ水素原子もしくは
１〜２個のフッ素原子を表わす。経路１ 一般式（１）
においてｍ＝０の場合
経路は、その一例であり、また、実施例とともに、これ
らの例により、本発明は制約されるものではない。 ［合成経路図］ 式中の各記号は前述の定義を有する。
ただし、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ水素原子もしくは
１〜２個のフッ素原子を表わす。経路１ 一般式（１）
においてｍ＝０の場合
【０００９】
【化４】
【００１０】
【化５】
【化６】
【００１１】
【００１２】
【化７】
【００１３】
【化８】
【００１４】
【化９】
【００１５】
【化１０】
【００１６】以下に前記合成経路について概略説明す
る。 経路１について：一般式２で表される化合物をアルキル
リチウムでリチオ化し、これに塩化亜鉛を加えて得られ
るアリールジンククロライドを、あるいは一般式３で表
される化合物をマグネシウムと反応させて得られるアリ
ールマグネシウムブロマイドをジクロルビストリフェニ
ルフォスフィンパラジウム［ＰｄＣｌ２（ＰＰ
ｈ３）２］並びにジイソブチルアルミニウムハイドライ
ド［（ｉｓｏ−Ｃ４Ｈ９）２ＡｌＨ］の存在下に一般式
１で表される化合物とカップリング反応させることによ
り一般式４で表される化合物が得られる。
る。 経路１について：一般式２で表される化合物をアルキル
リチウムでリチオ化し、これに塩化亜鉛を加えて得られ
るアリールジンククロライドを、あるいは一般式３で表
される化合物をマグネシウムと反応させて得られるアリ
ールマグネシウムブロマイドをジクロルビストリフェニ
ルフォスフィンパラジウム［ＰｄＣｌ２（ＰＰ
ｈ３）２］並びにジイソブチルアルミニウムハイドライ
ド［（ｉｓｏ−Ｃ４Ｈ９）２ＡｌＨ］の存在下に一般式
１で表される化合物とカップリング反応させることによ
り一般式４で表される化合物が得られる。
【００１７】一般式４で表される化合物を硫酸水素カリ
ウムで脱水して得られる一般式５で表される化合物をパ
ラジウム／炭素（Ｐｄ／Ｃ）を触媒とした水添反応によ
り一般式６で表される化合物が得られる。これをアルキ
ルリチウムでリチオ化し、次いでＮ，Ｎ−ジメチルフォ
ルムアミド［（ＣＨ３）２ＮＣＯＨ］を用いてホルミル
化の後、トランス体を単離し、一般式７で表されるホル
ミル化令物が得られる。このホルミル化合物をＳＢＨ
（ＮａＢＨ４）で還元して得られる一般式８で表される
化合物を塩化チオニルで塩素化することにより一般式９
で表される化合物が得られる。
ウムで脱水して得られる一般式５で表される化合物をパ
ラジウム／炭素（Ｐｄ／Ｃ）を触媒とした水添反応によ
り一般式６で表される化合物が得られる。これをアルキ
ルリチウムでリチオ化し、次いでＮ，Ｎ−ジメチルフォ
ルムアミド［（ＣＨ３）２ＮＣＯＨ］を用いてホルミル
化の後、トランス体を単離し、一般式７で表されるホル
ミル化令物が得られる。このホルミル化合物をＳＢＨ
（ＮａＢＨ４）で還元して得られる一般式８で表される
化合物を塩化チオニルで塩素化することにより一般式９
で表される化合物が得られる。
【００１８】一般式９で表される化合物をソジウムアル
コキサイド（Ｒ２ＯＮａ）とエーテル化反応させるか、
あるいは一般式８で表される化合物をＮａＨ存在下にＲ
２Ｉとエーテル化反応することにより本発明による一般
式１０で表される化合物を得ることができる。
コキサイド（Ｒ２ＯＮａ）とエーテル化反応させるか、
あるいは一般式８で表される化合物をＮａＨ存在下にＲ
２Ｉとエーテル化反応することにより本発明による一般
式１０で表される化合物を得ることができる。
【００１９】また、一般式１１で表される化合物を出発
原料とし、これをマグネシウムと反応させて得られるグ
リニャール試薬を用い、前記した一般式４、５並びに６
で表される化合物の合成の場合と同様の方法で一般式１
４で表される化合物が得られる。
原料とし、これをマグネシウムと反応させて得られるグ
リニャール試薬を用い、前記した一般式４、５並びに６
で表される化合物の合成の場合と同様の方法で一般式１
４で表される化合物が得られる。
【００２０】一般式１４で表される化合物をＮ−ブロム
サクシンイミドで臭素化し、トランス体単離の後、前記
した一般式９で表される化合物から一般式１０で表され
る化合物を合成する方法と同様にして一般式１０で表さ
れる化合物を得ることができる。
サクシンイミドで臭素化し、トランス体単離の後、前記
した一般式９で表される化合物から一般式１０で表され
る化合物を合成する方法と同様にして一般式１０で表さ
れる化合物を得ることができる。
【００２１】一般式９並びに１５で表される化合物をシ
アン化カリウムでシアノ化し、アルカリ加水分解、リチ
ウムアルミニウムハイドライド（ＬｉＡｌＨ４）還元、
塩化チオニルによる塩素化を順次行うことにより一般式
１９で表される化合物が得られる。この化合物を式Ｒ２
ＯＮａで表わされる化合物を用いてエーテル化すること
により一般式２０におけるＰ＝２の化合物が得られる。
アン化カリウムでシアノ化し、アルカリ加水分解、リチ
ウムアルミニウムハイドライド（ＬｉＡｌＨ４）還元、
塩化チオニルによる塩素化を順次行うことにより一般式
１９で表される化合物が得られる。この化合物を式Ｒ２
ＯＮａで表わされる化合物を用いてエーテル化すること
により一般式２０におけるＰ＝２の化合物が得られる。
【００２２】一般式１９で表される化合物を一般式９で
表される化合物に替えて前記同様にシアノ化、還元、塩
素化を行い、さらにまた、シアノ化、還元、塩素化を任
意に繰り返し行った後、式Ｒ２ＯＮａで表わされる化合
物を用いてエーテル化することによりｐが３から５であ
る一般式２０で表される化合物を得ることができる。
表される化合物に替えて前記同様にシアノ化、還元、塩
素化を行い、さらにまた、シアノ化、還元、塩素化を任
意に繰り返し行った後、式Ｒ２ＯＮａで表わされる化合
物を用いてエーテル化することによりｐが３から５であ
る一般式２０で表される化合物を得ることができる。
【００２３】合成経路２について：合成経路１におい
て、一般式１で表される化合物に替えて一般式２１で表
される化合物（今成経路３に記載）を用い、他は一般式
４あるいは１２で表される化合物を得る方法と同様にし
て、一般式２３あるいは２８で表される化合物が得られ
る。
て、一般式１で表される化合物に替えて一般式２１で表
される化合物（今成経路３に記載）を用い、他は一般式
４あるいは１２で表される化合物を得る方法と同様にし
て、一般式２３あるいは２８で表される化合物が得られ
る。
【００２４】また、一般式２８で表される化合物は一般
式２２で表される化合物（合成経路３に記載）と一般式
１１で表される化合物とをテトラキストリフェニルホス
フィンパラジウム［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］存在下にカッ
プリング反応することによっても得ることができる。
式２２で表される化合物（合成経路３に記載）と一般式
１１で表される化合物とをテトラキストリフェニルホス
フィンパラジウム［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］存在下にカッ
プリング反応することによっても得ることができる。
【００２５】合成経路１において、一般式６で表される
化合物に替えて一般式２３で表される化合物を用いる
か、あるいは一般式１４で表される化合物に替えて一般
式２８で表される化合物を用い、他は一般式１０を得る
方法と同様にして、一般式２７で表される化合物を得る
ことができる。
化合物に替えて一般式２３で表される化合物を用いる
か、あるいは一般式１４で表される化合物に替えて一般
式２８で表される化合物を用い、他は一般式１０を得る
方法と同様にして、一般式２７で表される化合物を得る
ことができる。
【００２６】さらに、合成経路１における一般式９ある
いは１５で表される化合物から一般式２０で表される化
合物を得る方法と同様にして、一般式２６あるいは２９
で表される化合物から一般式３４で表される化合物を得
ることができる。
いは１５で表される化合物から一般式２０で表される化
合物を得る方法と同様にして、一般式２６あるいは２９
で表される化合物から一般式３４で表される化合物を得
ることができる。
【００２７】合成経路３について：一般式１１で表され
る化合物をＮ−ブロモサクシンイミド（ＮＢＳ）で臭素
化して得られる一般式３５で表される化令物を、合成経
路１における一般式１５で表される化合物に替えて用
い、他は一般式２０を得る方法と同様にして一般式４１
で表される化合物が得られる。
る化合物をＮ−ブロモサクシンイミド（ＮＢＳ）で臭素
化して得られる一般式３５で表される化令物を、合成経
路１における一般式１５で表される化合物に替えて用
い、他は一般式２０を得る方法と同様にして一般式４１
で表される化合物が得られる。
【００２８】合成経路２の出発原料である一般式２１で
表される化合物のうち、ｎ＝０または１で
表される化合物のうち、ｎ＝０または１で
【００２９】
【化１１】
【００３０】である化合物は市販されており、その他の
化合物は、合成経路１における一般式２または３で表さ
れる化合物に替えて、一般式４２または４３で表される
化合物を用い、他は一般式６で表される化合物を得る方
法と同様にして一般式４６で表される化合物が得られ
る。これを臭素を用いて臭素化し一般式２１で表される
化合物が得られる。一般式２１で表される化合物をマグ
ネシウムと反応させて得られるグリニャール試薬にトリ
メチルボレート［Ｂ（ＯＣＨ３）３］を作用させ、次い
で酸で分解することにより一般式２２で表される化合物
が得られる。
化合物は、合成経路１における一般式２または３で表さ
れる化合物に替えて、一般式４２または４３で表される
化合物を用い、他は一般式６で表される化合物を得る方
法と同様にして一般式４６で表される化合物が得られ
る。これを臭素を用いて臭素化し一般式２１で表される
化合物が得られる。一般式２１で表される化合物をマグ
ネシウムと反応させて得られるグリニャール試薬にトリ
メチルボレート［Ｂ（ＯＣＨ３）３］を作用させ、次い
で酸で分解することにより一般式２２で表される化合物
が得られる。
【００３１】以下に実施例等によりさらに詳しく本発明
を説明する。なお、本明細書中に記載されている略記号
は下記に示す意味を有する。 ＧＬＣ： ガスクロマトグラフィー ＨＰＬＣ： 高速液体クロマトグラフィー ＩＲ： 赤外線吸収スペクトル Ｍａｓｓ： 質量分析 ｂ．ｐ．： 沸点 Ｃ： 結晶 ＳＢ： スメクチックＢ相 ＳＡ： スメクチックＡ相 Ｎｅ： ネマチック相 Ｉ： 等方性液体
を説明する。なお、本明細書中に記載されている略記号
は下記に示す意味を有する。 ＧＬＣ： ガスクロマトグラフィー ＨＰＬＣ： 高速液体クロマトグラフィー ＩＲ： 赤外線吸収スペクトル Ｍａｓｓ： 質量分析 ｂ．ｐ．： 沸点 Ｃ： 結晶 ＳＢ： スメクチックＢ相 ＳＡ： スメクチックＡ相 Ｎｅ： ネマチック相 Ｉ： 等方性液体
【００３２】
実施例１
【００３３】
【化１２】 反応器に２−フルオロ−４−ブロモトルエン３０ｇ、Ｎ
−ブロモサクシンイミド（ＮＢＳ）３０ｇ、過酸化ベン
ゾイル０．４ｇ並びに四塩化炭素（ＣＣｌ４）１００ｍ
ｌを仕込み、撹拌しながら徐々に昇温し、還流下に２時
間反応させた後、不溶物を濾過して除き、濾液を水洗
し、溶媒を留去し、残留分を減圧蒸留して２−フルオロ
−４−ブロモベンジルブロマイド２４．８ｇ（５８．６
％）を得た。ｂ．ｐ．１４２℃／２９ｍｍＨｇ
−ブロモサクシンイミド（ＮＢＳ）３０ｇ、過酸化ベン
ゾイル０．４ｇ並びに四塩化炭素（ＣＣｌ４）１００ｍ
ｌを仕込み、撹拌しながら徐々に昇温し、還流下に２時
間反応させた後、不溶物を濾過して除き、濾液を水洗
し、溶媒を留去し、残留分を減圧蒸留して２−フルオロ
−４−ブロモベンジルブロマイド２４．８ｇ（５８．６
％）を得た。ｂ．ｐ．１４２℃／２９ｍｍＨｇ
【００３４】
【化１３】 反応器にメタノール１００ｍｌを仕込み、これに金属ナ
トリウム３．２ｇを少しづつ加えて溶解し、これに
（ａ）で得た２−フルオロ−４−ブロモベンジルブロマ
イド２４．８ｇを還流撹拌下に滴下し、２時間反応させ
た後、反応液を濃縮し、希塩酸に注加し、トルエンで抽
出し、水洗し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し、残留分を
減圧蒸留して２−フルオロー４−ブロモーメトキシメチ
ルベンゼン１２ｇ（５９．６％）を得た。ｂ．ｐ．１０
０〜１１０℃／２９ｍｍＨｇ
トリウム３．２ｇを少しづつ加えて溶解し、これに
（ａ）で得た２−フルオロ−４−ブロモベンジルブロマ
イド２４．８ｇを還流撹拌下に滴下し、２時間反応させ
た後、反応液を濃縮し、希塩酸に注加し、トルエンで抽
出し、水洗し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し、残留分を
減圧蒸留して２−フルオロー４−ブロモーメトキシメチ
ルベンゼン１２ｇ（５９．６％）を得た。ｂ．ｐ．１０
０〜１１０℃／２９ｍｍＨｇ
【００３５】
【化１４】 反応器に、アルゴン雰囲気下金属マグネシウム（Ｍｇ）
３．７ｇおよびヨウ素の少量を仕込み、撹拌してＭｇを
活性化した。これに４−（トランス−４−プロピルシク
ロヘキシル）ブロムベンゼン３９ｇのテトラヒドロフラ
ン（ＴＨＦ）２００ｍｌ溶液の１／５量を加え加熱し
た。反応開始後、残りのＴＨＦ溶液を滴下し、還流撹拌
下に８時間反応してグリニャール試薬を調製した。
３．７ｇおよびヨウ素の少量を仕込み、撹拌してＭｇを
活性化した。これに４−（トランス−４−プロピルシク
ロヘキシル）ブロムベンゼン３９ｇのテトラヒドロフラ
ン（ＴＨＦ）２００ｍｌ溶液の１／５量を加え加熱し
た。反応開始後、残りのＴＨＦ溶液を滴下し、還流撹拌
下に８時間反応してグリニャール試薬を調製した。
【００３６】一方、別の反応器にアルゴン雰囲気下、ホ
ウ酸トリメチル［Ｂ（ＯＣＨ３）３］１２ｇのＴＨＦ４
０ｍｌ溶液を仕込み、０℃で先に調製したグリニャール
試薬を滴下し、徐々に室温に戻し、３時間撹拌した。反
応液に氷冷した１０％硫酸水溶液を加え、ベンゼンで抽
出し、水洗し、芒硝で乾燥し、溶媒を留去後、残留分を
ヘキサン／アセトンで再結晶して４−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）フェニルボロン酸２３．２ｇ
（６８％）を得た。
ウ酸トリメチル［Ｂ（ＯＣＨ３）３］１２ｇのＴＨＦ４
０ｍｌ溶液を仕込み、０℃で先に調製したグリニャール
試薬を滴下し、徐々に室温に戻し、３時間撹拌した。反
応液に氷冷した１０％硫酸水溶液を加え、ベンゼンで抽
出し、水洗し、芒硝で乾燥し、溶媒を留去後、残留分を
ヘキサン／アセトンで再結晶して４−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）フェニルボロン酸２３．２ｇ
（６８％）を得た。
【００３７】
【化１５】 反応器に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］１．５ｇ、（ｂ）で得た２−
フルオロ−４−ブロモメトキシメチルベンゼン１２ｇの
ベンゼン６０ｍｌ溶液、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液４８
ｍｌ、並びに（ｃ）で得た４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１５ｇのエタノー
ル６０ｍｌ溶液を仕込み、チッ素雰囲気下に６時間撹拌
還流した。反応液を水に注加し、ベンゼン層を水洗し、
芒硝で乾燥し、溶媒を留去後、残留分をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶離液トルエン／ヘキサン＝１
／１）で精製し、次いで、アセトンで再結晶して、４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−３′−フ
ルオロ−４′−メトキシメチルビフェニル３．６ｇ（１
９．６％）を得た。
ム［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］１．５ｇ、（ｂ）で得た２−
フルオロ−４−ブロモメトキシメチルベンゼン１２ｇの
ベンゼン６０ｍｌ溶液、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液４８
ｍｌ、並びに（ｃ）で得た４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１５ｇのエタノー
ル６０ｍｌ溶液を仕込み、チッ素雰囲気下に６時間撹拌
還流した。反応液を水に注加し、ベンゼン層を水洗し、
芒硝で乾燥し、溶媒を留去後、残留分をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶離液トルエン／ヘキサン＝１
／１）で精製し、次いで、アセトンで再結晶して、４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−３′−フ
ルオロ−４′−メトキシメチルビフェニル３．６ｇ（１
９．６％）を得た。
【００３８】この物の純度はＨＰＬＣで９９．８％であ
った。またＭａｓｓ分析で３４０に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３４０に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【００３９】実施例２
【化１６】 実施例１（ｃ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン３９ｇに替えて、４
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ブロムベ
ンゼン４２．８ｇを用い、他は実施例１（ｃ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）フェニルボロン酸２３．８ｇ（６２．７％）を得
た。
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン３９ｇに替えて、４
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ブロムベ
ンゼン４２．８ｇを用い、他は実施例１（ｃ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）フェニルボロン酸２３．８ｇ（６２．７％）を得
た。
【００４０】
【化１７】 実施例１（ｄ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１５ｇに替えて
（ａ）で得た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）フェニルボロン酸１６．２ｇを用い、他は実施例
１（ｄ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３′−フルオロ−４′−メトキ
シメチルビフェニル５．７ｇ（２５．６％）を得た。こ
の物の純度はＨＰＬＣで９９．８％であった。
ルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１５ｇに替えて
（ａ）で得た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）フェニルボロン酸１６．２ｇを用い、他は実施例
１（ｄ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３′−フルオロ−４′−メトキ
シメチルビフェニル５．７ｇ（２５．６％）を得た。こ
の物の純度はＨＰＬＣで９９．８％であった。
【００４１】またＭａｓｓ分析で３６８に分子イオンピ
ークが認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸
収波長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標
記化合物であることを確認した。この物をメトラーホッ
トステージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化
を観察した。その結果を表２に示す。
ークが認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸
収波長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標
記化合物であることを確認した。この物をメトラーホッ
トステージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化
を観察した。その結果を表２に示す。
【００４２】実施例３
【化１８】 実施例１（ｄ）において、２−フルオロ−４−ブロムメ
トキシメチルベンゼン１２ｇに替えて、３，５−ジフル
オロプロムベンゼン１０．５ｇを並びに４−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１５
ｇに替えて実施例２（ａ）で得られる４−（トランス−
４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１６．
８ｇを用い、他は実施例１（ｄ）と同様に操作して、４
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３′，
５′−ジフルオロビフェニル６．３ｇ（３３．３％）を
得た。
トキシメチルベンゼン１２ｇに替えて、３，５−ジフル
オロプロムベンゼン１０．５ｇを並びに４−（トランス
−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１５
ｇに替えて実施例２（ａ）で得られる４−（トランス−
４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１６．
８ｇを用い、他は実施例１（ｄ）と同様に操作して、４
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３′，
５′−ジフルオロビフェニル６．３ｇ（３３．３％）を
得た。
【００４３】
【化１９】 反応器に、アルゴン気流下（ａ）で得た４−（トランス
−４−ペンチルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフル
オロビフェニル５．８ｇ並びに脱水脱気したＴＨＦ３５
ｍｌを仕込み、これに撹拌下、−５５℃でｎ−Ｃ４Ｈ９
Ｌｉ／ヘキサン溶液１３ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ０．０
２１モル）を徐々に加え、同温度で２時間反応後、ジメ
チルホルムアミド２．５ｇのＴＨＦ５０ｍｌ溶液を１．
５時間を要して滴下した。滴下後、同温度で２時間、さ
らに−４０℃で１時間反応し、一夜放置した。反応液を
希塩酸に注加し、１時間室温で撹拌後、ベンゼンで抽出
し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥し、溶媒を留去して、
残留分［粗４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェ
ニル］６．４ｇを得た。ＧＬＣ ９５．３％
−４−ペンチルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフル
オロビフェニル５．８ｇ並びに脱水脱気したＴＨＦ３５
ｍｌを仕込み、これに撹拌下、−５５℃でｎ−Ｃ４Ｈ９
Ｌｉ／ヘキサン溶液１３ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ０．０
２１モル）を徐々に加え、同温度で２時間反応後、ジメ
チルホルムアミド２．５ｇのＴＨＦ５０ｍｌ溶液を１．
５時間を要して滴下した。滴下後、同温度で２時間、さ
らに−４０℃で１時間反応し、一夜放置した。反応液を
希塩酸に注加し、１時間室温で撹拌後、ベンゼンで抽出
し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥し、溶媒を留去して、
残留分［粗４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェ
ニル］６．４ｇを得た。ＧＬＣ ９５．３％
【００４４】
【化２０】 反応器に、ＴＨＦ１５０ｍｌ、（ｂ）で得た粗４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３′，５′−
ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル６．３ｇ、並び
にＮａＢＨ４（ＳＢＨ）２．１ｇを仕込み、撹拌還流下
にメタノール１０ｍｌを６時間を要して滴下し、滴下
後、２時間還流撹拌した。反応液を水に注加し、塩酸酸
性とした後、エーテルで抽出し、食塩水で洗浄後、芒硝
で乾燥し、溶媒を留去し、残留分をヘキサンで再結晶し
て４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
３′，５′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフ
ェニル５．９ｇ（９３．１％）を得た。ＧＬＣ ９８．
７％
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３′，５′−
ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル６．３ｇ、並び
にＮａＢＨ４（ＳＢＨ）２．１ｇを仕込み、撹拌還流下
にメタノール１０ｍｌを６時間を要して滴下し、滴下
後、２時間還流撹拌した。反応液を水に注加し、塩酸酸
性とした後、エーテルで抽出し、食塩水で洗浄後、芒硝
で乾燥し、溶媒を留去し、残留分をヘキサンで再結晶し
て４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
３′，５′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフ
ェニル５．９ｇ（９３．１％）を得た。ＧＬＣ ９８．
７％
【００４５】
【化２１】 反応器に、（ｃ）で得た４−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−ヒ
ドロキシメチルビフェニル５．９ｇ、ベンゼン１７０ｍ
ｌ並びに塩化チオニル４０ｍｌを仕込み、１２時間撹拌
還流した。反応液を希ＫＯＨ／氷水に撹拌しながら注加
し、ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥
し、溶媒を留去し、残留分［粗４−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−
４′−クロルメチルビフェニル］を得た。別の反応器
に、メタノール２０ｍｌを仕込み、撹拌下に金属Ｎａ
０．５ｇを加え、溶解後、先に得た粗４−（トランス−
４−ペンチルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオ
ロ−４′−クロルメチルビフェニルのベンゼン７０ｍｌ
溶液を加え、８時間撹拌還流した。反応液を水に注加
し、ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥
し、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液ベンゼン）で精製し、次いで、アセ
トンで再結晶して４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−メトキシ
メチルビフェニル２．１４ｇ（３４．６％）を得た。
シクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−ヒ
ドロキシメチルビフェニル５．９ｇ、ベンゼン１７０ｍ
ｌ並びに塩化チオニル４０ｍｌを仕込み、１２時間撹拌
還流した。反応液を希ＫＯＨ／氷水に撹拌しながら注加
し、ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥
し、溶媒を留去し、残留分［粗４−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−
４′−クロルメチルビフェニル］を得た。別の反応器
に、メタノール２０ｍｌを仕込み、撹拌下に金属Ｎａ
０．５ｇを加え、溶解後、先に得た粗４−（トランス−
４−ペンチルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオ
ロ−４′−クロルメチルビフェニルのベンゼン７０ｍｌ
溶液を加え、８時間撹拌還流した。反応液を水に注加
し、ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥
し、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液ベンゼン）で精製し、次いで、アセ
トンで再結晶して４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−メトキシ
メチルビフェニル２．１４ｇ（３４．６％）を得た。
【００４６】この物の純度はＨＰＬＣで９９．６％であ
った。またＭａｓｓ分析で３８６に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３８６に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【００４７】実施例４
【化２２】 反応器に、ｏ−ジフルオロベンゼン１０．２ｇ並びにＴ
ＨＦ６０ｍｌを仕込み、アルゴン気流下、−５０℃でｎ
−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ０．０４
４ｍｏｌ）溶液２２．８ｍｌを撹拌下に加え、−４０℃
で５時間反応後、無水塩化亜鉛６．０ｇを加え、２時間
反応し、徐々に昇温して、室温で一夜放置し、２，３−
ジフルオロフェニルジンククロライド溶液を調製した。
ＨＦ６０ｍｌを仕込み、アルゴン気流下、−５０℃でｎ
−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ０．０４
４ｍｏｌ）溶液２２．８ｍｌを撹拌下に加え、−４０℃
で５時間反応後、無水塩化亜鉛６．０ｇを加え、２時間
反応し、徐々に昇温して、室温で一夜放置し、２，３−
ジフルオロフェニルジンククロライド溶液を調製した。
【００４８】別の反応器に、アルゴン気流下、ＰｄＣｌ
２（ＰＰｈ３）２１．０ｇ、ＴＨＦ３０ｍｌ、１Ｍ（ｉ
ｓｏ−Ｃ４Ｈ９）２ＡｌＨ／ヘキサン溶液３ｍｌ並びに
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ブロム
ベンゼン１０．０ｇを仕込み、撹拌下に、４０℃で先に
調製した２，３−ジフルオロフェニルジンククロライド
溶液を滴下し、５０〜６０℃で４時間反応後、一夜放置
した。反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、食
塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し、残留分を
ＧＴＯで蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液ベンゼン）で精製し、さらに、アセトンで再結
晶して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロビフェニル７．９ｇ（６９．
９％）を得た。ＧＬＣ ８８．３％
２（ＰＰｈ３）２１．０ｇ、ＴＨＦ３０ｍｌ、１Ｍ（ｉ
ｓｏ−Ｃ４Ｈ９）２ＡｌＨ／ヘキサン溶液３ｍｌ並びに
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ブロム
ベンゼン１０．０ｇを仕込み、撹拌下に、４０℃で先に
調製した２，３−ジフルオロフェニルジンククロライド
溶液を滴下し、５０〜６０℃で４時間反応後、一夜放置
した。反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、食
塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し、残留分を
ＧＴＯで蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液ベンゼン）で精製し、さらに、アセトンで再結
晶して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロビフェニル７．９ｇ（６９．
９％）を得た。ＧＬＣ ８８．３％
【００４９】
【化２３】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ａ）で得た４−（トランス−４
−プロピルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ
ビフェニル５．３ｇを用い、他は実施例３（ｂ）と同様
に操作して、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフ
ェニルの粗製品５．８ｇを得た。ＧＬＣ ９２．８％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ａ）で得た４−（トランス−４
−プロピルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ
ビフェニル５．３ｇを用い、他は実施例３（ｂ）と同様
に操作して、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフ
ェニルの粗製品５．８ｇを得た。ＧＬＣ ９２．８％
【００５０】
【化２４】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｂ）で得た４
−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル５．８ｇ
を用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作して、４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル
５．５ｇ（９４．０％）を得た。ＧＬＣ ９６．６％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｂ）で得た４
−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル５．８ｇ
を用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作して、４−
（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル
５．５ｇ（９４．０％）を得た。ＧＬＣ ９６．６％
【００５１】
【化２５】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｃ）
で得た４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビ
フェニル５．５ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチル
ビフェニル１．８５ｇ（３２．４％）を得た。この物の
純度はＨＰＬＣで９９．９％であった。またＭａｓｓ分
析で３５８に分子イオンピークが認められたこと、並び
にＩＲ測定における特性吸収波長、さらに用いた原料か
らみて、得られた物質が標記化合物であることを確認し
た。この物をメトラーホットステージＦＰ−８２を用い
て、偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表２
に示す。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｃ）
で得た４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビ
フェニル５．５ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチル
ビフェニル１．８５ｇ（３２．４％）を得た。この物の
純度はＨＰＬＣで９９．９％であった。またＭａｓｓ分
析で３５８に分子イオンピークが認められたこと、並び
にＩＲ測定における特性吸収波長、さらに用いた原料か
らみて、得られた物質が標記化合物であることを確認し
た。この物をメトラーホットステージＦＰ−８２を用い
て、偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表２
に示す。
【００５２】実施例５
【化２６】 実施例４（ａ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１０．０ｇに替え
て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ブ
ロムベンゼン１１．０ｇを用い、他は実施例４（ａ）と
同様に操作して、４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−２′，３′．ジフルオロビフェニル９．１
ｇ（７３．８％）を得た。ＧＬＣ ９７．６％
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１０．０ｇに替え
て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ブ
ロムベンゼン１１．０ｇを用い、他は実施例４（ａ）と
同様に操作して、４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）−２′，３′．ジフルオロビフェニル９．１
ｇ（７３．８％）を得た。ＧＬＣ ９７．６％
【００５３】
【化２７】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ａ）で得た４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ
ビフェニル５．８ｇを用い、他は実施例３（ｂ）と同様
に操作して、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフ
ェニルの粗製品６．３ｇを得た。ＧＬＣ ９６．４％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ａ）で得た４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ
ビフェニル５．８ｇを用い、他は実施例３（ｂ）と同様
に操作して、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフ
ェニルの粗製品６．３ｇを得た。ＧＬＣ ９６．４％
【００５４】
【化２８】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｂ）で得た４
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル６．３ｇ
を用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作して、４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル
５．８ｇ（９０．０％）を得た。ＧＬＣ ９５．５％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｂ）で得た４
−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル６．３ｇ
を用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作して、４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル
５．８ｇ（９０．０％）を得た。ＧＬＣ ９５．５％
【００５５】
【化２９】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｃ）
で得た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビ
フェニル５．９ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチル
ビフェニル２．４０ｇ（３８．８％）を得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｃ）
で得た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビ
フェニル５．９ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチル
ビフェニル２．４０ｇ（３８．８％）を得た。
【００５６】この物の純度はＨＰＬＣで１００．０％で
あった。またＭａｓｓ分析で３８６に分子イオンピーク
が認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
あった。またＭａｓｓ分析で３８６に分子イオンピーク
が認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【００５７】実施例６
【化３０】 反応器に、実施例５（ｃ）で得た４−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−
４′−ヒドロキシメチルビフェニル３．０ｇおよびＤＭ
Ｆ２０ｍｌを仕込み、氷冷下、６０％ＮａＨ１．０ｇを
加え、次いで、１−ヨードヘキサン１．９ｇのＤＭＦ１
０ｍｌ溶液を滴下し、１２時間室温で撹拌した。
ペンチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−
４′−ヒドロキシメチルビフェニル３．０ｇおよびＤＭ
Ｆ２０ｍｌを仕込み、氷冷下、６０％ＮａＨ１．０ｇを
加え、次いで、１−ヨードヘキサン１．９ｇのＤＭＦ１
０ｍｌ溶液を滴下し、１２時間室温で撹拌した。
【００５８】反応液を水に注加し、塩酸酸性下にエーテ
ルで抽出し、油層を水洗し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去
し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液ヘキサン）精製し、ＧＴＯ蒸留、アセトンによる再
結晶を経て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヘキシルオキ
シメチルビフェニル１．２７ｇ（３４．８％）を得た。
この物の純度はＨＰＬＣで９９．４％であった。
ルで抽出し、油層を水洗し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去
し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液ヘキサン）精製し、ＧＴＯ蒸留、アセトンによる再
結晶を経て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヘキシルオキ
シメチルビフェニル１．２７ｇ（３４．８％）を得た。
この物の純度はＨＰＬＣで９９．４％であった。
【００５９】またＭａｓｓ分析で４５６に分子イオンピ
ークが認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸
収波長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標
記化合物であることを確認した。この物をメトラーホッ
トステージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化
を観察した。その結果を表２に示す。
ークが認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸
収波長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標
記化合物であることを確認した。この物をメトラーホッ
トステージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化
を観察した。その結果を表２に示す。
【００６０】実施例７
【化３１】 実施例４（ａ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１０．０ｇに替え
て、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）ブロ
ムベンゼン１０．５ｇを用い、他は実施例４（ａ）と同
様に操作して、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロビフェニル９．５ｇ
（８１．４％）を得た。ＨＰＬＣ ９８．２％
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１０．０ｇに替え
て、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）ブロ
ムベンゼン１０．５ｇを用い、他は実施例４（ａ）と同
様に操作して、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロビフェニル９．５ｇ
（８１．４％）を得た。ＨＰＬＣ ９８．２％
【００６１】
【化３２】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ａ）で得た４−（トランス−４
−ブチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロビ
フェニル５．６ｇを用い、他は実施例３（ｂ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェ
ニルの粗製品６．１ｇを得た。ＨＰＬＣ ９７．５％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ａ）で得た４−（トランス−４
−ブチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロビ
フェニル５．６ｇを用い、他は実施例３（ｂ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェ
ニルの粗製品６．１ｇを得た。ＨＰＬＣ ９７．５％
【００６２】
【化３３】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｂ）で得た４
−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル６．１ｇ
を用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作して、４−
（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−２′，３′
−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル５．
６ｇ（９１．３％）を得た。ＨＰＬＣ９８．８％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｂ）で得た４
−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル６．１ｇ
を用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作して、４−
（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−２′，３′
−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル５．
６ｇ（９１．３％）を得た。ＨＰＬＣ９８．８％
【００６３】
【化３４】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｃ）
で得た４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−
２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフ
ェニル５．７ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同様に操
作して、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチルビフ
ェニル２．３６ｇ（３９．８％）を得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｃ）
で得た４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−
２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフ
ェニル５．７ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同様に操
作して、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチルビフ
ェニル２．３６ｇ（３９．８％）を得た。
【００６４】この物の純度はＨＰＬＣで１００．０％で
あった。またＭａｓｓ分析で３７２に分子イオンピーク
が認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
あった。またＭａｓｓ分析で３７２に分子イオンピーク
が認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【００６５】実施例８
【化３５】 反応器に、ＬｉＡｌＨ４６８ｇ、ＴＨＦ７００ｍｌを仕
込み、１０℃まで冷却し、撹拌下、トランス−４−フェ
ニルシクロヘキサンカルボン酸３０６ｇのＴＨＦ１．５
リットル溶液を滴下し、２時間還流した。反応液を希塩
酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で乾燥
し、溶媒を留去後、残留物を減圧蒸留し、トランス−４
−ヒドロキシメチルシクロヘキシルベンゼン２７８ｇ
（９８％）を得た。ｂ．ｐ．１６５℃／８．０ｍｍＨｇ
ＧＬＣ ９９％
込み、１０℃まで冷却し、撹拌下、トランス−４−フェ
ニルシクロヘキサンカルボン酸３０６ｇのＴＨＦ１．５
リットル溶液を滴下し、２時間還流した。反応液を希塩
酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で乾燥
し、溶媒を留去後、残留物を減圧蒸留し、トランス−４
−ヒドロキシメチルシクロヘキシルベンゼン２７８ｇ
（９８％）を得た。ｂ．ｐ．１６５℃／８．０ｍｍＨｇ
ＧＬＣ ９９％
【００６６】
【化３６】 反応器に、（ａ）で得たトランス−４−ヒドロキシメチ
ルシクロヘキシルベンゼン１８７ｇ並びにピリジン５６
０ｍｌを仕込み、撹拌下に、０℃でｐ−トルエンスルホ
ニルクロライド３６０ｇを少量づつ添加し、同温度で２
時間、室温で６時間撹拌後、トルエン４００ｍｌを加
え、反応液を吸引濾過し、濾液を５％苛性ソーダ水溶液
で洗浄し、水洗し、芒硝で乾燥し、溶媒を留去し、トラ
ンス−４−トシルオキシメチルシクロヘキシルベンゼン
３１０ｇ（９２％）を得た。ＧＬＣ９８％
ルシクロヘキシルベンゼン１８７ｇ並びにピリジン５６
０ｍｌを仕込み、撹拌下に、０℃でｐ−トルエンスルホ
ニルクロライド３６０ｇを少量づつ添加し、同温度で２
時間、室温で６時間撹拌後、トルエン４００ｍｌを加
え、反応液を吸引濾過し、濾液を５％苛性ソーダ水溶液
で洗浄し、水洗し、芒硝で乾燥し、溶媒を留去し、トラ
ンス−４−トシルオキシメチルシクロヘキシルベンゼン
３１０ｇ（９２％）を得た。ＧＬＣ９８％
【００６７】
【化３７】 反応器に、マグネシウム末１０．２ｇを仕込み、これに
ヘプチルブロマイド７２ｇのＴＨＦ１．５リットル溶液
の少量を添加し、撹拌した。発泡して反応を開始してか
ら残りのＴＨＦ溶液を還流を保つように滴下し、滴下後
さらに２時間熟成してグリニャール試薬を調製した。
ヘプチルブロマイド７２ｇのＴＨＦ１．５リットル溶液
の少量を添加し、撹拌した。発泡して反応を開始してか
ら残りのＴＨＦ溶液を還流を保つように滴下し、滴下後
さらに２時間熟成してグリニャール試薬を調製した。
【００６８】これを０℃に冷却後、臭化第一銅０．３ｇ
を添加し、撹拌下に（ｂ）で得たトランス−４−トシル
オキシメチルシクロヘキシルベンゼン３７．８ｇのＴＨ
Ｆ３０ｍｌ溶液を滴下し、滴下後２０時間反応させた。
反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、
芒硝で乾燥し、溶媒を留去後、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶離液ヘキサン）にて精製し、
トランス−４−オクチルシクロヘキシルベンゼン１８．
０ｇ（３８％）を得た。ＧＬＣ ９８％
を添加し、撹拌下に（ｂ）で得たトランス−４−トシル
オキシメチルシクロヘキシルベンゼン３７．８ｇのＴＨ
Ｆ３０ｍｌ溶液を滴下し、滴下後２０時間反応させた。
反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、
芒硝で乾燥し、溶媒を留去後、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶離液ヘキサン）にて精製し、
トランス−４−オクチルシクロヘキシルベンゼン１８．
０ｇ（３８％）を得た。ＧＬＣ ９８％
【００６９】
【化３８】 反応器に、（ｃ）で得たトランス−４−オクチルシクロ
ヘキシルベンゼン１８．０ｇ、塩化メチレン６０ｍｌ並
びに硝酸タリウム１．５ｇを仕込み、撹拌下、０℃にて
臭素５．１ｇを滴下し、２時間反応させた。次いで、３
０％チオ硫酸ナトリウム１５ｍｌを注加し、撹拌し、塩
化メチレンで抽出後、水洗し、芒硝で乾燥し、溶媒を留
去し、得られた残留物をメタノール／アセトン混合溶媒
で再結晶して、４−（トランス−４−オクチルシクロヘ
キシル）ブロムベンゼン１２．６ｇ（６９％）を得た。
ＧＬＣ ９８％
ヘキシルベンゼン１８．０ｇ、塩化メチレン６０ｍｌ並
びに硝酸タリウム１．５ｇを仕込み、撹拌下、０℃にて
臭素５．１ｇを滴下し、２時間反応させた。次いで、３
０％チオ硫酸ナトリウム１５ｍｌを注加し、撹拌し、塩
化メチレンで抽出後、水洗し、芒硝で乾燥し、溶媒を留
去し、得られた残留物をメタノール／アセトン混合溶媒
で再結晶して、４−（トランス−４−オクチルシクロヘ
キシル）ブロムベンゼン１２．６ｇ（６９％）を得た。
ＧＬＣ ９８％
【００７０】
【化３９】 実施例４（ａ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１０．０ｇに替え
て、（ｄ）で得た４−（トランス−４−オクチルシクロ
ヘキシル）ブロムベンゼン１２・５ｇを用い、他は実施
例４（ａ）と同様に操作して、４−（トランス−４−オ
クチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロビフ
ェニル９．４ｇ（６８．３％）を得た。ＧＬＣ ９６％
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１０．０ｇに替え
て、（ｄ）で得た４−（トランス−４−オクチルシクロ
ヘキシル）ブロムベンゼン１２・５ｇを用い、他は実施
例４（ａ）と同様に操作して、４−（トランス−４−オ
クチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロビフ
ェニル９．４ｇ（６８．３％）を得た。ＧＬＣ ９６％
【００７１】
【化４０】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｅ）で得た４−（トランス−４
−オクチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ
ビフェニル６．５ｇを用い、他は実施例３（ｂ）と同様
に操作して、４−（トランス−４−オクチルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフ
ェニルの粗製品７．１ｇを得た。ＧＬＣ ９７．４％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｅ）で得た４−（トランス−４
−オクチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ
ビフェニル６．５ｇを用い、他は実施例３（ｂ）と同様
に操作して、４−（トランス−４−オクチルシクロヘキ
シル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフ
ェニルの粗製品７．１ｇを得た。ＧＬＣ ９７．４％
【００７２】
【化４１】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｆ）で得た４
−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル７．０ｇ
を用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作して、４−
（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル
６．２ｇ（８８．４％）を得た。ＧＬＣ ９６．４％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｆ）で得た４
−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル７．０ｇ
を用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作して、４−
（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル
６．２ｇ（８８．４％）を得た。ＧＬＣ ９６．４％
【００７３】
【化４２】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｇ）
で得た４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビ
フェニル６．２ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチル
ビフェニル２．３０ｇ（３５．５％）を得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｇ）
で得た４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビ
フェニル６．２ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同様に
操作して、４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチル
ビフェニル２．３０ｇ（３５．５％）を得た。
【００７４】この物の純度はＨＰＬＣで９９．９％であ
った。またＭａｓｓ分析で４２８に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で４２８に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【００７５】実施例９
【化４３】 反応器に、酢酸５リットル並びに４−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２
ｇを仕込み、溶解後、５％次亜塩素酸ソーダ水溶液５３
２ｇを室温撹拌下に３時間を要して滴下し、２時間反応
させた。反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出し、食塩
水で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去し、残留分をア
セトンで２回再結晶して４−（トランス−４−プロピル
シクロヘキシル）シクロヘキサノン５９．６ｇ（７５
％）を得た。ＧＬＣ ９８．８％
プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２
ｇを仕込み、溶解後、５％次亜塩素酸ソーダ水溶液５３
２ｇを室温撹拌下に３時間を要して滴下し、２時間反応
させた。反応液を水に注加し、ベンゼンで抽出し、食塩
水で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去し、残留分をア
セトンで２回再結晶して４−（トランス−４−プロピル
シクロヘキシル）シクロヘキサノン５９．６ｇ（７５
％）を得た。ＧＬＣ ９８．８％
【００７６】
【化４４】 反応器に、アルゴン気流下、ｏ−ジフルオロベンゼン３
０ｍｌ並びにＴＨＦ２５０ｍｌを仕込み、撹拌下に−７
０℃でｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン溶液１２９ｍｌ（ｎ
−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ０．２ｍｏｌ）を加え、３時間反応後、
同温度で（ａ）で得た４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇのＴＨＦ２
５０ｍｌ溶液を３時間を要して滴下した。滴下後、同温
度で２時間反応後、一夜放置した。
０ｍｌ並びにＴＨＦ２５０ｍｌを仕込み、撹拌下に−７
０℃でｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン溶液１２９ｍｌ（ｎ
−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ０．２ｍｏｌ）を加え、３時間反応後、
同温度で（ａ）で得た４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇのＴＨＦ２
５０ｍｌ溶液を３時間を要して滴下した。滴下後、同温
度で２時間反応後、一夜放置した。
【００７７】反応液を氷に注加し、塩酸酸性とした後、
ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶
媒を留去した。得られた残留分［４−（４−トランス−
プロピルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキサノール］、硫酸水素カリウム３
０ｇ並びにトルエン３００ｍｌを別の反応器に仕込み、
撹拌還流下に生成水を除去しながら脱水反応させた。反
応液を冷却し、濾過し、濾液を食塩水で洗浄後、芒硝で
乾燥し、溶媒を留去し、残留分を蒸留して４−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジ
フルオロフェニル）シクロヘキセン３９．６ｇを得た。
ＧＬＣ ９８．７％、ｂ．ｐ．１７３℃／０．０７ｍｍ
Ｈｇ
ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶
媒を留去した。得られた残留分［４−（４−トランス−
プロピルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキサノール］、硫酸水素カリウム３
０ｇ並びにトルエン３００ｍｌを別の反応器に仕込み、
撹拌還流下に生成水を除去しながら脱水反応させた。反
応液を冷却し、濾過し、濾液を食塩水で洗浄後、芒硝で
乾燥し、溶媒を留去し、残留分を蒸留して４−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジ
フルオロフェニル）シクロヘキセン３９．６ｇを得た。
ＧＬＣ ９８．７％、ｂ．ｐ．１７３℃／０．０７ｍｍ
Ｈｇ
【００７８】
【化４５】 オートクレーブに、（ｂ）で得た４−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキセン１７．６ｇ、Ｐｄ／Ｃ（パラ
ジウムカーボン）１．０ｇ、エタノール５０ｍｌ並びに
酢酸エチル７０ｍｌを仕込み、水素置換の後、水素圧力
３ｋｇ／ｃｍ２で、室温撹拌下に１日間反応させた。反
応液を濾過し、濾液中の溶媒を留去し、残留分をアセト
ンで再結晶して４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロ
ヘキサン１６．７ｇ（９５％）を得た。ＧＬＣ ｃｉｓ
−ｆｏｒｍ ４６．７％、ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ４
５．１％
プロピルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキセン１７．６ｇ、Ｐｄ／Ｃ（パラ
ジウムカーボン）１．０ｇ、エタノール５０ｍｌ並びに
酢酸エチル７０ｍｌを仕込み、水素置換の後、水素圧力
３ｋｇ／ｃｍ２で、室温撹拌下に１日間反応させた。反
応液を濾過し、濾液中の溶媒を留去し、残留分をアセト
ンで再結晶して４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロ
ヘキサン１６．７ｇ（９５％）を得た。ＧＬＣ ｃｉｓ
−ｆｏｒｍ ４６．７％、ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ４
５．１％
【００７９】
【化４６】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−プロピルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオ
ロフェニル）シクロヘキサン５．４４ｇを用い、他は実
施例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留分をアセト
ンで再結晶して、立体異性体を分離精製し、４−（トラ
ンス，トランス−４−プロピルジシクロヘキシル−４′
−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン２．２
６ｇ（３８．３％）を得た。ＧＬＣ ９９．６％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−プロピルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオ
ロフェニル）シクロヘキサン５．４４ｇを用い、他は実
施例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留分をアセト
ンで再結晶して、立体異性体を分離精製し、４−（トラ
ンス，トランス−４−プロピルジシクロヘキシル−４′
−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン２．２
６ｇ（３８．３％）を得た。ＧＬＣ ９９．６％
【００８０】
【化４７】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス，４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス，トランス−４−プロピルジシクロヘキシ
ル−４′−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼ
ン５．９３ｇを用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作
して、４−（トランス−トランス−４−プロピルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール５．６５ｇ（９４．７％）を得た。ＧＬＣ
９８．５％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス，トランス−４−プロピルジシクロヘキシ
ル−４′−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼ
ン５．９３ｇを用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作
して、４−（トランス−トランス−４−プロピルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール５．６５ｇ（９４．７％）を得た。ＧＬＣ
９８．５％
【００８１】
【化４８】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得た４−（トランス，トランス−４−プロピルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール５．５５ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と
同様に操作して、４−（トランス，トランス−４−プロ
ピルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフル
オロ−メトキシメチルベンゼン１．７０ｇ（２９．７
％）を得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得た４−（トランス，トランス−４−プロピルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール５．５５ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と
同様に操作して、４−（トランス，トランス−４−プロ
ピルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフル
オロ−メトキシメチルベンゼン１．７０ｇ（２９．７
％）を得た。
【００８２】この物の純度はＨＰＬＣで９９．２％であ
った。またＭａｓｓ分析で３６４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３６４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【００８３】実施例１０
【化４９】 実施例９（ａ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２ｇに替
えて、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
シクロヘキサノール９０．２ｇを用い、他は実施例９
（ａ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン７２．１ｇ（８
０．５％）を得た。ＧＬＣ ９８．４％
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２ｇに替
えて、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
シクロヘキサノール９０．２ｇを用い、他は実施例９
（ａ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン７２．１ｇ（８
０．５％）を得た。ＧＬＣ ９８．４％
【００８４】
【化５０】 実施例９（ｂ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇに替え
て、（ａ）で得た４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）シクロヘキサノン５０．０ｇを用い、他は実
施例９（ｂ）と同様に操作して、４−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキセン４６ｇ（６６．５％）を得
た。
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇに替え
て、（ａ）で得た４−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）シクロヘキサノン５０．０ｇを用い、他は実
施例９（ｂ）と同様に操作して、４−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキセン４６ｇ（６６．５％）を得
た。
【００８５】
【化５１】 実施例９（ｃ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキセン１７．６６ｇに替えて、（ｂ）で得
た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１
−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキセン１
９．１ｇを用い、他は実施例９（ｃ）と同様に操作し
て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
１−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキサン１
７．６ｇ（９１．７％）を得た。ＧＬＣ ｃｉｓ−ｆｏ
ｒｍ ４２％、ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ５６％
ルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキセン１７．６６ｇに替えて、（ｂ）で得
た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１
−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキセン１
９．１ｇを用い、他は実施例９（ｃ）と同様に操作し
て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
１−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキサン１
７．６ｇ（９１．７％）を得た。ＧＬＣ ｃｉｓ−ｆｏ
ｒｍ ４２％、ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ５６％
【００８６】
【化５２】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオ
ロフェニル）シクロヘキサン５．９ｇを用い、他は実施
例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留分をアセトン
で再結晶して、立体異性体を分離精製し、４−（トラン
ス，トランス−４−ペンチルジシクロヘキシル−４′−
イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン２．１８
ｇ（３４．２％）を得た。ＧＬＣ ９９．１％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオ
ロフェニル）シクロヘキサン５．９ｇを用い、他は実施
例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留分をアセトン
で再結晶して、立体異性体を分離精製し、４−（トラン
ス，トランス−４−ペンチルジシクロヘキシル−４′−
イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン２．１８
ｇ（３４．２％）を得た。ＧＬＣ ９９．１％
【００８７】
【化５３】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス，トランス−４−ペンチルジシクロヘキシ
ル−４′−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼ
ン６．４０ｇを用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作
して、４−（トランス，トランス−４−ペンチルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール５．９７ｇ（９２．８％）を得た。ＧＬＣ
９８．５％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス，トランス−４−ペンチルジシクロヘキシ
ル−４′−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼ
ン６．４０ｇを用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作
して、４−（トランス，トランス−４−ペンチルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール５．９７ｇ（９２．８％）を得た。ＧＬＣ
９８．５％
【００８８】
【化５４】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得た４−（トランス，トランス−４−ペンチルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール６．００ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と
同様に操作して、４−（トランス，トランス−４−ペン
チルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフル
オロ−メトキシメチルベンゼン１．８５ｇ（２９．７
％）を得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得た４−（トランス，トランス−４−ペンチルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール６．００ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と
同様に操作して、４−（トランス，トランス−４−ペン
チルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフル
オロ−メトキシメチルベンゼン１．８５ｇ（２９．７
％）を得た。
【００８９】この物の純度はＨＰＬＣで９９．６％であ
った。またＭａｓｓ分析で３９２に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３９２に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【００９０】実施例１１
【化５５】 実施例９（ａ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２ｇに替
えて、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）シ
クロヘキサノール８５．２ｇを用い、他は実施例９
（ａ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ブチル
シクロヘキシル）シクロヘキサノン６７．６ｇ（８０．
０％）を得た。ＧＬＣ ９０．０％
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２ｇに替
えて、４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）シ
クロヘキサノール８５．２ｇを用い、他は実施例９
（ａ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ブチル
シクロヘキシル）シクロヘキサノン６７．６ｇ（８０．
０％）を得た。ＧＬＣ ９０．０％
【００９１】
【化５６】 実施例９（ｂ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇに替え
て、（ａ）で得た４−（トランス−４−ブチルシクロヘ
キシル）シクロヘキサノン４７．２ｇを用い、他は実施
例９（ｂ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ブ
チルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェ
ニル）シクロヘキセン４６．５ｇ（７０．０％）を得
た。ＧＬＣ９６．８％
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇに替え
て、（ａ）で得た４−（トランス−４−ブチルシクロヘ
キシル）シクロヘキサノン４７．２ｇを用い、他は実施
例９（ｂ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ブ
チルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェ
ニル）シクロヘキセン４６．５ｇ（７０．０％）を得
た。ＧＬＣ９６．８％
【００９２】
【化５７】 実施例９（ｃ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキセン１７．６６ｇに替えて、（ｂ）で得
た４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−１−
（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキセン１８．
４ｇを用い、他は実施例９（ｃ）と同様に操作して、４
−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−１−
（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキサン１６．
６ｇ（８９．７％）を得た。ＧＬＣｃｉｓ−ｆｏｒｍ
５３．５％ ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ４５．９％
ルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキセン１７．６６ｇに替えて、（ｂ）で得
た４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−１−
（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキセン１８．
４ｇを用い、他は実施例９（ｃ）と同様に操作して、４
−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−１−
（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキサン１６．
６ｇ（８９．７％）を得た。ＧＬＣｃｉｓ−ｆｏｒｍ
５３．５％ ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ４５．９％
【００９３】
【化５８】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−ブチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキサン５．６６ｇを用い、他は実施
例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留分をアセトン
で再結晶して、立体異性体を分離精製し、４−（トラン
ス，トランス−４−ブチルジシクロヘキシル−４′−イ
ル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン２．３８ｇ
（３８．８％）を得た。ＧＬＣ ９９．１％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−ブチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキサン５．６６ｇを用い、他は実施
例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留分をアセトン
で再結晶して、立体異性体を分離精製し、４−（トラン
ス，トランス−４−ブチルジシクロヘキシル−４′−イ
ル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン２．３８ｇ
（３８．８％）を得た。ＧＬＣ ９９．１％
【００９４】
【化５９】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス，トランス−４−ブチルジシクロヘキシル
−４′−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン
６．１９ｇを用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作し
て、４−（トランス−トランス−４−ブチルジシクロヘ
キシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジルア
ルコール５．５８ｇ（９０．２％）を得た。ＧＬＣ ９
９．１％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス，トランス−４−ブチルジシクロヘキシル
−４′−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン
６．１９ｇを用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作し
て、４−（トランス−トランス−４−ブチルジシクロヘ
キシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジルア
ルコール５．５８ｇ（９０．２％）を得た。ＧＬＣ ９
９．１％
【００９５】
【化６０】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得た４−（トランス，トランス−４−ブチルジシクロ
ヘキシル−４′，イル）−２，３−ジフルオロベンジル
アルコール５．７７ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同
様に操作して、４−（トランス−トランス−４−ブチル
ジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロ
−メトキシメチルベンゼン２．１０ｇ（３５．０％）を
得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得た４−（トランス，トランス−４−ブチルジシクロ
ヘキシル−４′，イル）−２，３−ジフルオロベンジル
アルコール５．７７ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と同
様に操作して、４−（トランス−トランス−４−ブチル
ジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロ
−メトキシメチルベンゼン２．１０ｇ（３５．０％）を
得た。
【００９６】この物の純度はＨＰＬＣで１００．０％で
あった。またＭａｓｓ分析で３７８に分子イオンピーク
が認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
あった。またＭａｓｓ分析で３７８に分子イオンピーク
が認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【００９７】実施例１２
【化６１】 実施例９（ａ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２ｇに替
えて、４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）
シクロヘキサノール１００．２ｇを用い、他は実施例９
（ａ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ヘプチ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４３．３ｇ（４
３．５％）を得た。ＧＬＣ ９５．０％
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２ｇに替
えて、４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）
シクロヘキサノール１００．２ｇを用い、他は実施例９
（ａ）と同様に操作して、４−（トランス−４−ヘプチ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４３．３ｇ（４
３．５％）を得た。ＧＬＣ ９５．０％
【００９８】
【化６２】 実施例９（ｂ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇに替え
て、（ａ）で得た４−（トランス−４−ヘプチルシクロ
ヘキシル）シクロヘキサノン５５．６ｇを用い、他は実
施例９（ｂ）と同様に操作して、４−（トランス−４−
ヘプチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキセン３８．１ｇ（５０．９％）を
得た。ＧＬＣ ９７．８％
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇに替え
て、（ａ）で得た４−（トランス−４−ヘプチルシクロ
ヘキシル）シクロヘキサノン５５．６ｇを用い、他は実
施例９（ｂ）と同様に操作して、４−（トランス−４−
ヘプチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロ
フェニル）シクロヘキセン３８．１ｇ（５０．９％）を
得た。ＧＬＣ ９７．８％
【００９９】
【化６３】 実施例９（ｃ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキセン１７．６６ｇに替えて、（ｂ）で得
た４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−１
−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキセン２
０．８ｇを用い、他は実施例９（ｃ）と同様に操作し
て、４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−
１−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキサン１
９．８ｇ（９４．８％）を得た。ＧＬＣ ｃｉｓ−ｆｏ
ｒｍ ４２．０％ ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ５６．４％
ルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキセン１７．６６ｇに替えて、（ｂ）で得
た４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−１
−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキセン２
０．８ｇを用い、他は実施例９（ｃ）と同様に操作し
て、４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−
１−（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキサン１
９．８ｇ（９４．８％）を得た。ＧＬＣ ｃｉｓ−ｆｏ
ｒｍ ４２．０％ ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ５６．４％
【０１００】
【化６４】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−ヘプチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオ
ロフェニル）シクロヘキサン６．３８ｇを用い、他は実
施例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留物をアセト
ンで再結晶して立体異性体を分離精製し、４−（トラン
ス，トランス−４−ヘプチルジシクロヘキシル−４′−
イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン１．３７
ｇ（２０．０％）を得た。ＨＰＬＣ ９９．２％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−ヘプチルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオ
ロフェニル）シクロヘキサン６．３８ｇを用い、他は実
施例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留物をアセト
ンで再結晶して立体異性体を分離精製し、４−（トラン
ス，トランス−４−ヘプチルジシクロヘキシル−４′−
イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼン１．３７
ｇ（２０．０％）を得た。ＨＰＬＣ ９９．２％
【０１０１】
【化６５】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス，トランス−４−ヘプチルジシクロヘキシ
ル−４′−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼ
ン６．９ｇを用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作し
て、４−（トランス，トランス−４−ヘプチルジシクロ
ヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジル
アルコール６．３ｇ（９０．８％）を得た。ＨＰＬＣ
９６．５％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス，トランス−４−ヘプチルジシクロヘキシ
ル−４′−イル）−２，３−ジフルオロホルミルベンゼ
ン６．９ｇを用い、他は実施例３（ｃ）と同様に操作し
て、４−（トランス，トランス−４−ヘプチルジシクロ
ヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジル
アルコール６．３ｇ（９０．８％）を得た。ＨＰＬＣ
９６．５％
【０１０２】
【化６６】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得た４−（トランス，トランス−４−ヘプチルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール３．２７ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と
同様に操作して、４−（トランス，トランス−４−ヘプ
チルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフル
オロメトキシメチルベンゼン２．４ｇ（７０．９％）を
得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得た４−（トランス，トランス−４−ヘプチルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール３．２７ｇを用い、他は実施例３（ｄ）と
同様に操作して、４−（トランス，トランス−４−ヘプ
チルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフル
オロメトキシメチルベンゼン２．４ｇ（７０．９％）を
得た。
【０１０３】この物の純度はＨＰＬＣで９９．７％であ
った。またＭａｓｓ分析で４２０に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で４２０に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１０４】実施例１３
【化６７】 実施例９（ａ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２ｇに替
えて、４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シ
クロヘキサノール７５ｇを用い、他は、実施例９（ａ）
と同様に操作して得られる残留分を減圧蒸留して４−
（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキサ
ノン５１．２ｇ（６９％）を得た。ＧＬＣ ９２％、
ｂ．ｐ．１０６〜１１０℃／０．３ｍｍＨｇ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノール８０．２ｇに替
えて、４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シ
クロヘキサノール７５ｇを用い、他は、実施例９（ａ）
と同様に操作して得られる残留分を減圧蒸留して４−
（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキサ
ノン５１．２ｇ（６９％）を得た。ＧＬＣ ９２％、
ｂ．ｐ．１０６〜１１０℃／０．３ｍｍＨｇ
【０１０５】
【化６８】 実施例９（ｂ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇに替え
て、（ａ）で得た４−（トランス−４−エチルシクロヘ
キシル）シクロヘキサノン４１．６ｇを用い、他は、実
施例９（ｂ）と同様に操作して得られる蒸留分をアセト
ンより再結晶して、４−（トランス−４−エチルシクロ
ヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニル）シク
ロヘキセン４７ｇ（７７％）を得た。ＧＬＣ ９９％、
ｂ．ｐ．１５０〜１５７℃／０．２ｍｍＨｇ
ルシクロヘキシル）シクロヘキサノン４４．４ｇに替え
て、（ａ）で得た４−（トランス−４−エチルシクロヘ
キシル）シクロヘキサノン４１．６ｇを用い、他は、実
施例９（ｂ）と同様に操作して得られる蒸留分をアセト
ンより再結晶して、４−（トランス−４−エチルシクロ
ヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニル）シク
ロヘキセン４７ｇ（７７％）を得た。ＧＬＣ ９９％、
ｂ．ｐ．１５０〜１５７℃／０．２ｍｍＨｇ
【外１】
【０１０６】
【化６９】 実施例９（ｃ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキセン１７．６ｇに替えて、（ｂ）で得た
４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）−１−
（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキセン１７ｇ
を用い、他は、実施例９（ｃ）と同様に操作して得られ
る水素添加反応後の残留分へ、ジメチルスルホキシド７
０ｍｌ、カリウムターシャリーブトキシド７．５ｇを加
え、アルゴン気流下２４℃で３時間撹拌した。反応液を
希塩酸へ注加し、有機層をトルエンで抽出した。トルエ
ン層を食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去し、
残留分をアセトンより再結晶して１−（トランス，トラ
ンス−４−エチルジシクロヘキシル−４′−イル）−
２，３−ジフルオロベンゼン１４ｇ（８２％）を得た。
ＧＬＣ ９９％
ルシクロヘキシル）−１−（２，３−ジフルオロフェニ
ル）シクロヘキセン１７．６ｇに替えて、（ｂ）で得た
４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）−１−
（２，３−ジフルオロフェニル）シクロヘキセン１７ｇ
を用い、他は、実施例９（ｃ）と同様に操作して得られ
る水素添加反応後の残留分へ、ジメチルスルホキシド７
０ｍｌ、カリウムターシャリーブトキシド７．５ｇを加
え、アルゴン気流下２４℃で３時間撹拌した。反応液を
希塩酸へ注加し、有機層をトルエンで抽出した。トルエ
ン層を食塩水で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去し、
残留分をアセトンより再結晶して１−（トランス，トラ
ンス−４−エチルジシクロヘキシル−４′−イル）−
２，３−ジフルオロベンゼン１４ｇ（８２％）を得た。
ＧＬＣ ９９％
【外２】
【０１０７】
【化７０】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た１−（トランス，ト
ランス−４−エチルジシクロヘキシル−４′−イル）−
２，３−ジフルオロベンゼン５．２ｇを用い、他は、実
施例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留分をアセト
ンより再結晶して４−（トランス，トランス−４−エチ
ルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオ
ロベンズアルデヒド４．９ｇ（８７％）を得た。ＧＬＣ
９９％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た１−（トランス，ト
ランス−４−エチルジシクロヘキシル−４′−イル）−
２，３−ジフルオロベンゼン５．２ｇを用い、他は、実
施例３（ｂ）と同様に操作して得られる残留分をアセト
ンより再結晶して４−（トランス，トランス−４−エチ
ルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオ
ロベンズアルデヒド４．９ｇ（８７％）を得た。ＧＬＣ
９９％
【外３】
【０１０８】
【化７１】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得られ
た４−（トランス，トランス−４−エチルジシクロヘキ
シル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンズアルデ
ヒド５．７ｇを用い、他は、実施例３（ｃ）と同様に操
作して、４−（トランス，トランス−４−エチルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール５．４ｇ（９５％）を得た。ＧＬＣ ９９
％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得られ
た４−（トランス，トランス−４−エチルジシクロヘキ
シル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンズアルデ
ヒド５．７ｇを用い、他は、実施例３（ｃ）と同様に操
作して、４−（トランス，トランス−４−エチルジシク
ロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジフルオロベンジ
ルアルコール５．４ｇ（９５％）を得た。ＧＬＣ ９９
％
【外４】
【０１０９】
【化７２】 反応器に、（ｅ）で得た４−（トランス，トランス−４
−エチルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジ
フルオロベンジルアルコール５ｇ、テトラビトロフラン
３５ｍｌ、粉末状８５％苛性カリ２ｇ、１８−クラウン
−６ ０．６ｇ、ヨードメタン６．５ｇを仕込み、室温
下二日間撹拌した。反応液を希塩酸へ注加し有機層をト
ルエンで抽出した。トルエン層を食塩水、チオ硫酸ナト
リウム水溶液、食塩水の順で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶
媒を留去して得られた残留分をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶離液トルエン）で精製し、次いで減圧
蒸留し、アセトンより再結晶して４−（トランス，トラ
ンス−４−エチルジシクロヘキシル−４′−イル）−
２，３−ジフルオロメトキシメチルベンゼン３．５ｇ
（６８％）を得た。
−エチルジシクロヘキシル−４′−イル）−２，３−ジ
フルオロベンジルアルコール５ｇ、テトラビトロフラン
３５ｍｌ、粉末状８５％苛性カリ２ｇ、１８−クラウン
−６ ０．６ｇ、ヨードメタン６．５ｇを仕込み、室温
下二日間撹拌した。反応液を希塩酸へ注加し有機層をト
ルエンで抽出した。トルエン層を食塩水、チオ硫酸ナト
リウム水溶液、食塩水の順で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶
媒を留去して得られた残留分をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶離液トルエン）で精製し、次いで減圧
蒸留し、アセトンより再結晶して４−（トランス，トラ
ンス−４−エチルジシクロヘキシル−４′−イル）−
２，３−ジフルオロメトキシメチルベンゼン３．５ｇ
（６８％）を得た。
【０１１０】このものの純度は、ＨＰＬＣ、ＧＬＣで９
９％以上であった。また、Ｍａｓｓ分析で、３５０に分
子イオンピークが認められたこと、並びにＩＲ測定にお
ける特性吸収波長、さらに、用いた原料からみて得られ
た物質が標記化合物であることを確認した。このもの
を、メトラーホットステージＦＰ−８２を用いて、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表２に示す。
９％以上であった。また、Ｍａｓｓ分析で、３５０に分
子イオンピークが認められたこと、並びにＩＲ測定にお
ける特性吸収波長、さらに、用いた原料からみて得られ
た物質が標記化合物であることを確認した。このもの
を、メトラーホットステージＦＰ−８２を用いて、偏光
顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表２に示す。
【０１１１】実施例１４
【化７３】 反応器に、脱水したジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２
５ｍｌ、６０％水素化ナトリウム１．２０ｇ並びに実施
例８（ｇ）で得た４−（トランス−４−オクチルシクロ
ヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキ
シメチルビフェニル４．１５ｇを仕込み、１５分撹拌
後、１−ヨードペンタン７．５３ｇのＤＭＦ１２ｍｌ溶
液を滴下し、滴下後２時間撹拌した。反応液を希塩酸へ
注加し、有機層をベンゼンで抽出した。ベンゼン層を食
塩水で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去して得られた
残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液
ベンゼン／ヘキサン＝１／３）で精製し、次いでアセト
ンより再結晶し、減圧蒸留して４−（トランス−４−オ
クチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−
４′−ペンチルオキシメチルビフェニル４．４０ｇ（９
０．８％）を得た。
５ｍｌ、６０％水素化ナトリウム１．２０ｇ並びに実施
例８（ｇ）で得た４−（トランス−４−オクチルシクロ
ヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキ
シメチルビフェニル４．１５ｇを仕込み、１５分撹拌
後、１−ヨードペンタン７．５３ｇのＤＭＦ１２ｍｌ溶
液を滴下し、滴下後２時間撹拌した。反応液を希塩酸へ
注加し、有機層をベンゼンで抽出した。ベンゼン層を食
塩水で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去して得られた
残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液
ベンゼン／ヘキサン＝１／３）で精製し、次いでアセト
ンより再結晶し、減圧蒸留して４−（トランス−４−オ
クチルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−
４′−ペンチルオキシメチルビフェニル４．４０ｇ（９
０．８％）を得た。
【０１１２】この物の純度はＨＰＬＣで９９．４％であ
った。またＭａｓｓ分析で４８４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で４８４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１１３】実施例１５
【化７４】 実施例１４において、１−ヨードペンタン７．５３ｇに
替えて、１−ヨードオクタン９．１３ｇを用い、他は、
実施例１４と同様に操作して４−（トランス−４−オク
チルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−４′
−オクチルオキシメチルビフェニル４．８９ｇ（９２．
８％）を得た。
替えて、１−ヨードオクタン９．１３ｇを用い、他は、
実施例１４と同様に操作して４−（トランス−４−オク
チルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−４′
−オクチルオキシメチルビフェニル４．８９ｇ（９２．
８％）を得た。
【０１１４】この物の純度はＨＰＬＣで１００．０％で
あった。またＭａｓｓ分析で５２６に分子イオンピーク
が認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに、用いた原料からみて、得られた物質が標記
化合物であることを確認した。この物をメトラーホット
ステージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を
観察した。その結果を表２に示す。
あった。またＭａｓｓ分析で５２６に分子イオンピーク
が認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに、用いた原料からみて、得られた物質が標記
化合物であることを確認した。この物をメトラーホット
ステージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を
観察した。その結果を表２に示す。
【０１１５】実施例１６
【化７５】 実施例８（ｃ）において、ヘプチルブロマイド７２ｇに
替えて、ノニルブロマイド８３ｇを用い、他は、実施例
８（ｃ）と同様に操作してトランス−４−デシルシクロ
ヘキシルベンゼン８８ｇ（７３％）を得た。ＧＬＣ ９
６．５％
替えて、ノニルブロマイド８３ｇを用い、他は、実施例
８（ｃ）と同様に操作してトランス−４−デシルシクロ
ヘキシルベンゼン８８ｇ（７３％）を得た。ＧＬＣ ９
６．５％
【０１１６】
【化７６】 実施例８（ｄ）において、トランス−４−オクチルシク
ロヘキシルベンゼン１８ｇに替えて、（ａ）で得たトラ
ンス−４−デシルシクロヘキシルベンゼン２０ｇを用
い、他は、実施例８（ｄ）と同様に操作して４−（トラ
ンス−４−デシルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１４
ｇ（５６％）を得た。ＧＬＣ ９９．５％
ロヘキシルベンゼン１８ｇに替えて、（ａ）で得たトラ
ンス−４−デシルシクロヘキシルベンゼン２０ｇを用
い、他は、実施例８（ｄ）と同様に操作して４−（トラ
ンス−４−デシルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１４
ｇ（５６％）を得た。ＧＬＣ ９９．５％
【０１１７】
【化７７】 実施例４（ａ）において、４−（トランス−４−プロピ
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１０．０ｇに替え
て、（ｂ）で得た４−（トランス−４−デシルシクロヘ
キシル）ブロムベンゼン１３．５ｇを用い、他は実施例
４（ａ）と同様に操作して４−（トランス−４−デシル
シクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロビフェニル
１２．０ｇ（８３％）を得た。ＧＬＣ ９９．５％
ルシクロヘキシル）ブロムベンゼン１０．０ｇに替え
て、（ｂ）で得た４−（トランス−４−デシルシクロヘ
キシル）ブロムベンゼン１３．５ｇを用い、他は実施例
４（ａ）と同様に操作して４−（トランス−４−デシル
シクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロビフェニル
１２．０ｇ（８３％）を得た。ＧＬＣ ９９．５％
【０１１８】
【化７８】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−デシルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロビ
フェニル７．０ｇを用い、他は、実施例３（ｂ）と同様
に操作して４−（トランス−４−デシルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェ
ニルの粗生成物７．５ｇを得た。ＧＬＣ ９５．５％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｃ）で得た４−（トランス−４
−デシルシクロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロビ
フェニル７．０ｇを用い、他は、実施例３（ｂ）と同様
に操作して４−（トランス−４−デシルシクロヘキシ
ル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェ
ニルの粗生成物７．５ｇを得た。ＧＬＣ ９５．５％
【０１１９】
【化７９】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル７．５ｇ
を用い、他は、実施例３（ｃ）と同様に操作して４−
（トランス−４−デシルシクロヘキシル）−２′，３′
−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル４．
９ｇ（６５％）を得た。ＨＰＬＣ １００．０％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得た４
−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）−２′，
３′−ジフルオロ−４′−ホルミルビフェニル７．５ｇ
を用い、他は、実施例３（ｃ）と同様に操作して４−
（トランス−４−デシルシクロヘキシル）−２′，３′
−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビフェニル４．
９ｇ（６５％）を得た。ＨＰＬＣ １００．０％
【０１２０】
【化８０】 実施例１４において、４−（トランス−４−オクチルシ
クロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒド
ロキシメチルビフェニル４．１５ｇに替えて、（ｅ）で
得られる４−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビ
フェニル４．４２ｇを用い、他は、実施例１４と同様に
操作して４−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ペンチルオキシメチ
ルビフェニル３．５７ｇ（６９．７％）を得た。
クロヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒド
ロキシメチルビフェニル４．１５ｇに替えて、（ｅ）で
得られる４−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキシメチルビ
フェニル４．４２ｇを用い、他は、実施例１４と同様に
操作して４−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）
−２′，３′−ジフルオロ−４′−ペンチルオキシメチ
ルビフェニル３．５７ｇ（６９．７％）を得た。
【０１２１】この物の純度はＨＰＬＣで９９．７％であ
った。またＭａｓｓ分析で５１２に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物を、メトラーホット
ステージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を
観察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で５１２に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物を、メトラーホット
ステージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を
観察した。その結果を表２に示す。
【０１２２】実施例１７
【化８１】 実施例１４において、４−（トランス−４−オクチルシ
クロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−ヒド
ロキシメチルビフェニル４．１５ｇに替えて、実施例１
６（ｅ）で得られる４−（トランス−４−デシルシクロ
ヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキ
シメチルビフェニル４．４２ｇを用い、１−ヨードペン
タン７．５３ｇに替えて、１−ヨードオクタン９．１３
ｇを用い、他は、実施例１４と同様に操作して４−（ト
ランス−４−デシルシクロヘキシル）−２′，３′−ジ
フルオロ−４′−オクチルオキシメチルビフェニル５．
０６ｇ（９１．２％）を得た。
クロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−ヒド
ロキシメチルビフェニル４．１５ｇに替えて、実施例１
６（ｅ）で得られる４−（トランス−４−デシルシクロ
ヘキシル）−２′，３′−ジフルオロ−４′−ヒドロキ
シメチルビフェニル４．４２ｇを用い、１−ヨードペン
タン７．５３ｇに替えて、１−ヨードオクタン９．１３
ｇを用い、他は、実施例１４と同様に操作して４−（ト
ランス−４−デシルシクロヘキシル）−２′，３′−ジ
フルオロ−４′−オクチルオキシメチルビフェニル５．
０６ｇ（９１．２％）を得た。
【０１２３】この物の純度はＨＰＬＣで９９．３％であ
った。またＭａｓｓ分析で５５４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で５５４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１２４】実施例１８
【化８２】 反応器に、金属マグネシウム９．２ｇ並びにエーテル８
０ｍｌを仕込み、アルゴン気流下１−ブロモ−３，５−
ジフルオロベンゼン４４．４ｇのエーテル１００ｍｌ溶
液を撹拌下加え、１時間還流後実施例１０（ａ）で得た
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロ
ヘキサノン４０．０ｇを加え還流下１時間反応させた。
反応液を水に注加し、エーテルで抽出し、食塩水で洗浄
し、芒硝で乾燥後溶媒を留去した。得られた残留分にｐ
−トルエンスルホン酸１水和物４ｇ並びにトルエン８０
０ｍｌを仕込み、６時間還流下で共沸脱水を行った。反
応液を水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し、残留
分をアセトンで再結晶して１，３−ジフルオロ−５−
［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１
−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン４０．４ｇ（６
８．１％）を得た。ＧＬＣ ９８．６％
０ｍｌを仕込み、アルゴン気流下１−ブロモ−３，５−
ジフルオロベンゼン４４．４ｇのエーテル１００ｍｌ溶
液を撹拌下加え、１時間還流後実施例１０（ａ）で得た
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロ
ヘキサノン４０．０ｇを加え還流下１時間反応させた。
反応液を水に注加し、エーテルで抽出し、食塩水で洗浄
し、芒硝で乾燥後溶媒を留去した。得られた残留分にｐ
−トルエンスルホン酸１水和物４ｇ並びにトルエン８０
０ｍｌを仕込み、６時間還流下で共沸脱水を行った。反
応液を水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去し、残留
分をアセトンで再結晶して１，３−ジフルオロ−５−
［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１
−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン４０．４ｇ（６
８．１％）を得た。ＧＬＣ ９８．６％
【外５】
【０１２５】
【化８３】 オートクレーブに、（ａ）で得た１，３−ジフルオロ−
５−［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−１−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン３８．０
ｇ、Ｐｄ／Ｃ２．０ｇ、エタノール８０ｍｌ並びに酢酸
エチル２６０ｍｌを仕込み、水素置換の後、水素圧力３
ｋｇ／ｃｍ２で、室温撹拌下１日間反応させた。反応液
を濾過し、濾液中の溶媒を留去し、残留分にカリウムｔ
ｅｒｔ−ブトキシド１４．８ｇ並びにジメチルスルホキ
サイド１２０ｍｌを加え６０℃で１時間撹拌下反応させ
た。反応液に希塩酸水溶液を加え酸性とした後、有機層
をヘキサンで抽出した。ヘキサン層を食塩水で洗浄後、
芒硝で乾燥し、溶媒を留去して得られた残留分をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ヘキサン）で精
製後、ヘキサンより再結晶して１，３−ジフルオロ−５
−［トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）シクロヘキシル］ベンゼン２３．２ｇ（６０．
８％）を得た。ＧＬＣ ９９．５％
５−［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−１−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン３８．０
ｇ、Ｐｄ／Ｃ２．０ｇ、エタノール８０ｍｌ並びに酢酸
エチル２６０ｍｌを仕込み、水素置換の後、水素圧力３
ｋｇ／ｃｍ２で、室温撹拌下１日間反応させた。反応液
を濾過し、濾液中の溶媒を留去し、残留分にカリウムｔ
ｅｒｔ−ブトキシド１４．８ｇ並びにジメチルスルホキ
サイド１２０ｍｌを加え６０℃で１時間撹拌下反応させ
た。反応液に希塩酸水溶液を加え酸性とした後、有機層
をヘキサンで抽出した。ヘキサン層を食塩水で洗浄後、
芒硝で乾燥し、溶媒を留去して得られた残留分をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ヘキサン）で精
製後、ヘキサンより再結晶して１，３−ジフルオロ−５
−［トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘ
キシル）シクロヘキシル］ベンゼン２３．２ｇ（６０．
８％）を得た。ＧＬＣ ９９．５％
【外６】
【０１２６】
【化８４】 実施例３（ｂ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｂ）で得た１，３−ジフルオロ
−５−［トランス−４−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン５．９ｇを用
い、他は実施例３（ｂ）と同様に操作して２，６−ジフ
ルオロ−４−［トランス−４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンズアルデヒド
の粗生成物６．５ｇを得た。ＧＬＣ９４．８％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロビフェニ
ル５．８ｇに替えて、（ｂ）で得た１，３−ジフルオロ
−５−［トランス−４−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン５．９ｇを用
い、他は実施例３（ｂ）と同様に操作して２，６−ジフ
ルオロ−４−［トランス−４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンズアルデヒド
の粗生成物６．５ｇを得た。ＧＬＣ９４．８％
【０１２７】
【化８５】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｃ）で得られ
た２，６−ジフルオロ−４−［トランス−４−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベ
ンズアルデヒド６．５ｇを用い、他は、実施例３（ｃ）
と同様に操作して２，６−ジフルオロ−４−［トランス
−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シク
ロヘキシル］ベンジルアルコール６．２ｇ（９８．９
％）を得た。ＧＬＣ ９６．２％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｃ）で得られ
た２，６−ジフルオロ−４−［トランス−４−（トラン
ス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベ
ンズアルデヒド６．５ｇを用い、他は、実施例３（ｃ）
と同様に操作して２，６−ジフルオロ−４−［トランス
−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シク
ロヘキシル］ベンジルアルコール６．２ｇ（９８．９
％）を得た。ＧＬＣ ９６．２％
【０１２８】
【化８６】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｄ）
で得られる２，６−ジフルオロ−４−［トランス−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキ
シル］ベンジルアルコール６．２ｇを用い、他は、実施
例３（ｄ）と同様に操作して１，３−ジフルオロ−２−
メトキシメチル−５−［トランス−４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン
３．５８ｇ（５８．１％）を得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｄ）
で得られる２，６−ジフルオロ−４−［トランス−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキ
シル］ベンジルアルコール６．２ｇを用い、他は、実施
例３（ｄ）と同様に操作して１，３−ジフルオロ−２−
メトキシメチル−５−［トランス−４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン
３．５８ｇ（５８．１％）を得た。
【０１２９】この物の純度はＨＰＬＣで９９．３％であ
った。またＭａｓｓ分析で３９２に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３９２に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１３０】実施例１９
【化８７】 反応器に、アルゴン気流下１−ブロモ−２−フルオロベ
ンゼン３８．５ｇ並びに脱水したＴＨＦ２００ｍｌを仕
込み、これに撹拌下、−７８℃でｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘ
キサン溶液１２８ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ０．２１モ
ル）を徐々に加え、同温度で３０分反応後、実施例１０
（ａ）で得た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）シクロヘキサノン５１．６ｇのＴＨＦ１４０ｍｌ
溶液を４５分で滴下し、滴下後同温度で２時間反応し
た。
ンゼン３８．５ｇ並びに脱水したＴＨＦ２００ｍｌを仕
込み、これに撹拌下、−７８℃でｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘ
キサン溶液１２８ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ０．２１モ
ル）を徐々に加え、同温度で３０分反応後、実施例１０
（ａ）で得た４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）シクロヘキサノン５１．６ｇのＴＨＦ１４０ｍｌ
溶液を４５分で滴下し、滴下後同温度で２時間反応し
た。
【０１３１】反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出
し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去した。
得られた残留分にｐ−トルエンスルホン酸１水和物４ｇ
並びにトルエン８００ｍｌを仕込み、６時間還流下で共
沸脱水を行った。反応液を水で洗浄し、芒硝で乾燥後、
溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶離液ヘキサン）で精製して１−フルオロ−２
−［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
１−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン４６．４ｇ
（７０．６％）を得た。ＧＬＣ ９８．７％
し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去した。
得られた残留分にｐ−トルエンスルホン酸１水和物４ｇ
並びにトルエン８００ｍｌを仕込み、６時間還流下で共
沸脱水を行った。反応液を水で洗浄し、芒硝で乾燥後、
溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶離液ヘキサン）で精製して１−フルオロ−２
−［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
１−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン４６．４ｇ
（７０．６％）を得た。ＧＬＣ ９８．７％
【外７】
【０１３２】
【化８８】 実施例１８（ｂ）において、１，３−ジフルオロ−５−
［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１
−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン３８．０ｇに替
えて、（ａ）で得られる１−フルオロ−２−［４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘ
キセン−１−イル］ベンゼン３６．０ｇを用い、他は実
施例１８（ｂ）と同様に操作して１−フルオロ−２−
［トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）シクロヘキシル］ベンゼン２６．０ｇ（７１．６
％）を得た。ＧＬＣ ９９．８％
［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１
−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン３８．０ｇに替
えて、（ａ）で得られる１−フルオロ−２−［４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘ
キセン−１−イル］ベンゼン３６．０ｇを用い、他は実
施例１８（ｂ）と同様に操作して１−フルオロ−２−
［トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）シクロヘキシル］ベンゼン２６．０ｇ（７１．６
％）を得た。ＧＬＣ ９９．８％
【外８】
【０１３３】
【化８９】 反応器に、（ｂ）で得た１−フルオロ−２−［トランス
−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シク
ロヘキシル］ベンゼン１３．０ｇ、ジクロロメタン２６
０ｍｌ、硝酸タリウム３水和物１．３ｇを仕込み、０℃
で臭素６．２ｇを１０分で滴下し、同温度で４時間撹拌
した。反応液をチオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水の順
で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去して得られた残留
分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ヘキ
サン）で精製後、アセトンより再結晶して４−ブロモ−
２−フルオロ−１−［トランス−４−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン１
３．０ｇ（８１．４％）を得た。ＧＬＣ ９９．８％
−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シク
ロヘキシル］ベンゼン１３．０ｇ、ジクロロメタン２６
０ｍｌ、硝酸タリウム３水和物１．３ｇを仕込み、０℃
で臭素６．２ｇを１０分で滴下し、同温度で４時間撹拌
した。反応液をチオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水の順
で洗浄後、芒硝で乾燥し、溶媒を留去して得られた残留
分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液ヘキ
サン）で精製後、アセトンより再結晶して４−ブロモ−
２−フルオロ−１−［トランス−４−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン１
３．０ｇ（８１．４％）を得た。ＧＬＣ ９９．８％
【外９】
【０１３４】
【化９０】 反応器に、アルゴン気流下（ｃ）で得た４−ブロモ−２
−フルオロ−１−［トランス−４−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン８．
２ｇ、脱水したエーテル４０ｍｌ、並びに脱水したＴＨ
Ｆ１２０ｍｌを仕込み、これに撹拌下、−６０℃でｎ−
Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン溶液１８ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌ
ｉ０．０３モル）を徐々に加え、更に−７８℃冷却し１
時間反応後、ピペリジン−１−カルボアルデヒド４．５
ｇのエーテル１０ｍｌ溶液を１０分で滴下した。滴下
後、同温度で１時間反応し、一夜放置した。反応液に希
塩酸を注加し４時間撹拌後ベンゼンで抽出し、食塩水で
洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去した。得られた残留
分をヘキサンより再結晶して３−フルオロ−４−［トラ
ンス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
シクロヘキシル］ベンズアルデヒド５．８ｇ（８０．１
％）を得た。ＧＬＣ ９８．７％
−フルオロ−１−［トランス−４−（トランス−４−ペ
ンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン８．
２ｇ、脱水したエーテル４０ｍｌ、並びに脱水したＴＨ
Ｆ１２０ｍｌを仕込み、これに撹拌下、−６０℃でｎ−
Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン溶液１８ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌ
ｉ０．０３モル）を徐々に加え、更に−７８℃冷却し１
時間反応後、ピペリジン−１−カルボアルデヒド４．５
ｇのエーテル１０ｍｌ溶液を１０分で滴下した。滴下
後、同温度で１時間反応し、一夜放置した。反応液に希
塩酸を注加し４時間撹拌後ベンゼンで抽出し、食塩水で
洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去した。得られた残留
分をヘキサンより再結晶して３−フルオロ−４−［トラ
ンス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
シクロヘキシル］ベンズアルデヒド５．８ｇ（８０．１
％）を得た。ＧＬＣ ９８．７％
【０１３５】
【化９１】 実施例３（ｃ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得られ
た３−フルオロ−４−［トランス−４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンズア
ルデヒド５．７ｇを用い、他は、実施例３（ｃ）と同様
に操作して３−フルオロ−４−［トランス−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］
ベンジルアルコール５．７ｇ（９９．３％）を得た。Ｇ
ＬＣ ９９．２％
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ホルミルビフェニル６．３ｇに替えて、（ｄ）で得られ
た３−フルオロ−４−［トランス−４−（トランス−４
−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンズア
ルデヒド５．７ｇを用い、他は、実施例３（ｃ）と同様
に操作して３−フルオロ−４−［トランス−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］
ベンジルアルコール５．７ｇ（９９．３％）を得た。Ｇ
ＬＣ ９９．２％
【０１３６】
【化９２】 実施例３（ｄ）において、４−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得られる３−フルオロ−４−［トランス−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］
ベンジルアルコール５．７ｇを用い、他は、実施例３
（ｄ）と同様に操作して２−フルオロ−４−メトキシメ
チル−１−［トランス−４−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン２．５２ｇ
（４２．６％）を得た。
ルシクロヘキシル）−３′，５′−ジフルオロ−４′−
ヒドロキシメチルビフェニル５．９ｇに替えて、（ｅ）
で得られる３−フルオロ−４−［トランス−４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル］
ベンジルアルコール５．７ｇを用い、他は、実施例３
（ｄ）と同様に操作して２−フルオロ−４−メトキシメ
チル−１−［トランス−４−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）シクロヘキシル］ベンゼン２．５２ｇ
（４２．６％）を得た。
【０１３７】この物の純度はＨＰＬＣで９９％であっ
た。またＭａｓｓ分析で３７４に分子イオンピークが認
められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波長、
さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化合物
であることを確認した。この物をメトラーホットステー
ジＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観察し
た。その結果を表２に示す。
た。またＭａｓｓ分析で３７４に分子イオンピークが認
められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波長、
さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化合物
であることを確認した。この物をメトラーホットステー
ジＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観察し
た。その結果を表２に示す。
【０１３８】実施例２０
【化９３】 実施例１（ａ）において、２−フルオロ−４−ブロモト
ルエンに替えて、３−フルオロ−４−ブロモトルエンを
用い、他は、実施例１（ａ）と同様に操作して３−フル
オロ−４−ブロモベンジルブロマイド２５．２ｇ（５
９．３％）を得た。ｂ．ｐ．１４３〜１４６℃／ｍｍＨ
ｇ、ＧＬＣ ９９．７％
ルエンに替えて、３−フルオロ−４−ブロモトルエンを
用い、他は、実施例１（ａ）と同様に操作して３−フル
オロ−４−ブロモベンジルブロマイド２５．２ｇ（５
９．３％）を得た。ｂ．ｐ．１４３〜１４６℃／ｍｍＨ
ｇ、ＧＬＣ ９９．７％
【０１３９】
【化９４】 反応器にメタノール２５ｍｌを仕込み、これに金属ナト
リウム０．２４ｇを少しづつ加えて溶解し、これに
（ａ）で得た３−フルオロ−４−ブロモベンジルブロマ
イド２．６８ｇのメタノール１０ｍｌ溶液を滴下し、還
流撹拌下３時間反応させた後、反応液を濃縮し、希塩酸
に注加しトルエンで抽出し、水洗し、芒硝で乾燥後、溶
媒を留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶離液ベンゼン／ヘキサン＝１：２）で精製後、
減圧蒸留して３−フルオロ−４−ブロモ−１−メトキシ
メチルベンゼン１．８６ｇ（８４．９％）を得た。ＧＬ
Ｃ ９８．８％
リウム０．２４ｇを少しづつ加えて溶解し、これに
（ａ）で得た３−フルオロ−４−ブロモベンジルブロマ
イド２．６８ｇのメタノール１０ｍｌ溶液を滴下し、還
流撹拌下３時間反応させた後、反応液を濃縮し、希塩酸
に注加しトルエンで抽出し、水洗し、芒硝で乾燥後、溶
媒を留去し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶離液ベンゼン／ヘキサン＝１：２）で精製後、
減圧蒸留して３−フルオロ−４−ブロモ−１−メトキシ
メチルベンゼン１．８６ｇ（８４．９％）を得た。ＧＬ
Ｃ ９８．８％
【０１４０】
【化９５】 反応器に、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウ
ム［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］０．１２ｇ、（ｂ）で得た３
−フルオロ−４−ブロモ−１−メトキシメチルベンゼン
０．８８ｇのベンゼン７ｍｌ溶液、２Ｍ炭酸ナトリウム
水溶液５ｍｌ、並びに実施例２（ａ）で得た４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン酸
１．２０ｇのエタノール１２ｍｌ溶液を仕込み、窒素雰
囲気下６時間撹拌還流した。反応液を水に注加し、ベン
ゼン層を水洗し、芒硝で乾燥し、溶媒を留去後、残留分
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液トルエ
ン／ヘキサン＝１／１）で精製し、次いで、減圧蒸留し
て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
２′−フルオロ−４′−メトキシメチルビフェニル１．
３６ｇ（９１．９％）を得た。
ム［Ｐｄ（ＰＰｈ３）４］０．１２ｇ、（ｂ）で得た３
−フルオロ−４−ブロモ−１−メトキシメチルベンゼン
０．８８ｇのベンゼン７ｍｌ溶液、２Ｍ炭酸ナトリウム
水溶液５ｍｌ、並びに実施例２（ａ）で得た４−（トラ
ンス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン酸
１．２０ｇのエタノール１２ｍｌ溶液を仕込み、窒素雰
囲気下６時間撹拌還流した。反応液を水に注加し、ベン
ゼン層を水洗し、芒硝で乾燥し、溶媒を留去後、残留分
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液トルエ
ン／ヘキサン＝１／１）で精製し、次いで、減圧蒸留し
て、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−
２′−フルオロ−４′−メトキシメチルビフェニル１．
３６ｇ（９１．９％）を得た。
【０１４１】この物の純度はＨＰＬＣで９９．３％であ
った。またＭａｓｓ分析で３６８に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が目的物
であることを確認した。この物をメトラーホットステー
ジＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観察し
た。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３６８に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が目的物
であることを確認した。この物をメトラーホットステー
ジＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観察し
た。その結果を表２に示す。
【０１４２】実施例２１
【化９６】 実施例１９（ａ）において、４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）シクロヘキサノン５１．６ｇに替
えて４−ペンチルシクロヘキサノン３７．０ｇを用い、
他は、実施例１９（ａ）と同様に操作して１−フルオロ
−２−（４−ペンチルシクロヘキセン−１−イル）ベン
ゼン３９．６ｇ（８０．４％）を得た。ＧＬＣ ９６．
５％
チルシクロヘキシル）シクロヘキサノン５１．６ｇに替
えて４−ペンチルシクロヘキサノン３７．０ｇを用い、
他は、実施例１９（ａ）と同様に操作して１−フルオロ
−２−（４−ペンチルシクロヘキセン−１−イル）ベン
ゼン３９．６ｇ（８０．４％）を得た。ＧＬＣ ９６．
５％
【０１４３】
【化９７】 実施例１８（ｂ）において、１，３−ジフルオロ−５−
［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１
−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン３８．０ｇに替
えて、（ａ）で得られる１−フルオロ−２−（４−ペン
チルシクロヘキセン−１−イル）ベンゼン２７．０ｇを
用い、他は、実施例１８（ｂ）と同様に操作して得られ
る残留分より１−フルオロ−２−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）ベンゼン２７．９ｇ（９４．７
％）の粗生成物を得た。ＨＰＬＣｃｉｓ−ｆｏｒｍ
８．３％、ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ８４．２％
［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１
−シクロヘキセン−１−イル］ベンゼン３８．０ｇに替
えて、（ａ）で得られる１−フルオロ−２−（４−ペン
チルシクロヘキセン−１−イル）ベンゼン２７．０ｇを
用い、他は、実施例１８（ｂ）と同様に操作して得られ
る残留分より１−フルオロ−２−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）ベンゼン２７．９ｇ（９４．７
％）の粗生成物を得た。ＨＰＬＣｃｉｓ−ｆｏｒｍ
８．３％、ｔｒａｎｓ−ｆｏｒｍ ８４．２％
【０１４４】
【化９８】 実施例１９（ｃ）において、１−フルオロ−２−［トラ
ンス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
シクロヘキシル］ベンゼン１３．０ｇに替えて、（ｂ）
で得られる１−フルオロ−２−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）ベンゼンの粗生成物１４．５ｇを用
い、他は、実施例１８（ｂ）と同様に操作して５−ブロ
モ−１−フルオロ−２−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）ベンゼン１０．０ｇ（５６．６％）を得
た。ＧＬＣ ９９．５％
ンス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
シクロヘキシル］ベンゼン１３．０ｇに替えて、（ｂ）
で得られる１−フルオロ−２−（トランス−４−ペンチ
ルシクロヘキシル）ベンゼンの粗生成物１４．５ｇを用
い、他は、実施例１８（ｂ）と同様に操作して５−ブロ
モ−１−フルオロ−２−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）ベンゼン１０．０ｇ（５６．６％）を得
た。ＧＬＣ ９９．５％
【０１４５】
【化９９】 反応器に、アルゴン気流下（ｃ）で得られる５−ブロモ
−１−フルオロ−２−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）ベンゼン１０．０ｇ並びに脱水したＴＨＦ１
６０ｍｌを仕込み、これに撹拌下、−７８℃でｎ−Ｃ４
Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン溶液２８ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ
０．０５５モル）を徐々に加え、同温度で３０分反応
後、ホウ酸トリメチル５．８ｇのＴＨＦ１０ｍｌ溶液を
１０分で滴下し、その後同温度で１時間反応し一夜放置
した。反応液に氷冷した１０％硫酸水溶液を加え、ベン
ゼンで抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を
留去した。得られた残留分をヘキサンで再結晶し３−フ
ルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）フェニルボロン酸５．９０ｇ（７０．３％）を得
た。
−１−フルオロ−２−（トランス−４−ペンチルシクロ
ヘキシル）ベンゼン１０．０ｇ並びに脱水したＴＨＦ１
６０ｍｌを仕込み、これに撹拌下、−７８℃でｎ−Ｃ４
Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン溶液２８ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ
０．０５５モル）を徐々に加え、同温度で３０分反応
後、ホウ酸トリメチル５．８ｇのＴＨＦ１０ｍｌ溶液を
１０分で滴下し、その後同温度で１時間反応し一夜放置
した。反応液に氷冷した１０％硫酸水溶液を加え、ベン
ゼンで抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を
留去した。得られた残留分をヘキサンで再結晶し３−フ
ルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）フェニルボロン酸５．９０ｇ（７０．３％）を得
た。
【０１４６】
【化１００】 実施例１（ｂ）において、２−フルオロ−４−ブロモベ
ンジルブロマイド２４．８ｇに替えて４−ブロモベンジ
ルブロマイド２３．０ｇを用い、他は、実施例１（ｂ）
と同様に操作して４−ブロモメトキシメチルベンゼン１
５．０ｇを得た。ｂ．ｐ．１２５℃／２８ｍｍＨｇ、Ｇ
ＬＣ ９９．８％
ンジルブロマイド２４．８ｇに替えて４−ブロモベンジ
ルブロマイド２３．０ｇを用い、他は、実施例１（ｂ）
と同様に操作して４−ブロモメトキシメチルベンゼン１
５．０ｇを得た。ｂ．ｐ．１２５℃／２８ｍｍＨｇ、Ｇ
ＬＣ ９９．８％
【０１４７】
【化１０１】 実施例２０（ｃ）において、３−フルオロ−４−ブロモ
−１−メトキシメチルベンゼン０．８８ｇに替えて、
（ｅ）で得られる４−ブロモ−メトキシメチルベンゼン
０．８０ｇを用い、４−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）フェニルボロン酸１．１１ｇに替えて、
（ｄ）で得られる３−フルオロ−４−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１．１８ｇ
を用い、他は実施例２０（ｃ）と同様に操作して４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−フル
オロ−４′−メトキシメチルビフェニル１．１０ｇ（７
４．８％）を得た。
−１−メトキシメチルベンゼン０．８８ｇに替えて、
（ｅ）で得られる４−ブロモ−メトキシメチルベンゼン
０．８０ｇを用い、４−（トランス−４−ペンチルシク
ロヘキシル）フェニルボロン酸１．１１ｇに替えて、
（ｄ）で得られる３−フルオロ−４−（トランス−４−
ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１．１８ｇ
を用い、他は実施例２０（ｃ）と同様に操作して４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−フル
オロ−４′−メトキシメチルビフェニル１．１０ｇ（７
４．８％）を得た。
【０１４８】この物の純度はＨＰＬＣで９９．４％であ
った。またＭａｓｓ分析で３６８に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３６８に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１４９】実施例２２
【化１０２】 実施例２０（ｃ）において、３−フルオロ−４−ブロモ
−１−メトキシメチルベンゼンに替えて、実施例１
（ｂ）で得られる２−フルオロ−４−ブロモ−メトキシ
メチルベンゼンを用い、４−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）フェニルボロン酸１．１１ｇに替え
て、実施例２１（ｄ）で得られる３−フルオロ−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボ
ロン酸１．１８ｇを用い、他は実施例２０（ｃ）と同様
に操作して４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチルビ
フェニル１．４５ｇ（９３．８％）を得た。
−１−メトキシメチルベンゼンに替えて、実施例１
（ｂ）で得られる２−フルオロ−４−ブロモ−メトキシ
メチルベンゼンを用い、４−（トランス−４−ペンチル
シクロヘキシル）フェニルボロン酸１．１１ｇに替え
て、実施例２１（ｄ）で得られる３−フルオロ−４−
（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボ
ロン酸１．１８ｇを用い、他は実施例２０（ｃ）と同様
に操作して４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシ
ル）−３，３′−ジフルオロ−４′−メトキシメチルビ
フェニル１．４５ｇ（９３．８％）を得た。
【０１５０】この物の純度はＨＰＬＣで９９．３％であ
った。またＭａｓｓ分析で３８６に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３８６に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１５１】実施例２３
【化１０３】 実施例２０（ｃ）において、４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１．１１ｇに替
えて、実施例２１（ｄ）で得られる３−フルオロ−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン
酸１．１８ｇを用い、他は実施例２０（ｃ）と同様に操
作して４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−２′，３−ジフルオロ−４′−メトキシメチルビフェ
ニル１．２４ｇ（８０．２％）を得た。
チルシクロヘキシル）フェニルボロン酸１．１１ｇに替
えて、実施例２１（ｄ）で得られる３−フルオロ−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン
酸１．１８ｇを用い、他は実施例２０（ｃ）と同様に操
作して４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）
−２′，３−ジフルオロ−４′−メトキシメチルビフェ
ニル１．２４ｇ（８０．２％）を得た。
【０１５２】この物の純度はＨＰＬＣで９９．２％であ
った。またＭａｓｓ分析で３８６に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で３８６に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１５３】実施例２４
【化１０４】 反応器に、アルゴン気流下ジイソプロピルアミン９．１
１ｇ並びに脱水したＴＨＦ１６０ｍｌを仕込み、これに
撹拌下、−７８℃でｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン溶液２
８ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ ０．０５５モル）を徐々に
加え、０℃で３０分反応した。こうして調製したリチウ
ムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）溶液を−７８℃に冷
却し、１−ブロモ−２，３−ジフルオロベンゼン１４．
４８ｇのＴＨＦ３０ｍｌ溶液を２０分で滴下し、その後
同温度で１時間反応し、ジメチルホルムアミド８．２２
ｇのＴＨＦ３０ｍｌ溶液を２０分で滴下し、同温度で１
時間反応し、一夜放置した。
１ｇ並びに脱水したＴＨＦ１６０ｍｌを仕込み、これに
撹拌下、−７８℃でｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ／ヘキサン溶液２
８ｍｌ（ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ ０．０５５モル）を徐々に
加え、０℃で３０分反応した。こうして調製したリチウ
ムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）溶液を−７８℃に冷
却し、１−ブロモ−２，３−ジフルオロベンゼン１４．
４８ｇのＴＨＦ３０ｍｌ溶液を２０分で滴下し、その後
同温度で１時間反応し、ジメチルホルムアミド８．２２
ｇのＴＨＦ３０ｍｌ溶液を２０分で滴下し、同温度で１
時間反応し、一夜放置した。
【０１５４】反応液に希塩酸水溶液を加え、１時間撹拌
し、ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥
後、溶媒を留去した。得られた４−ブロモ−２，３−ジ
フルオロベンズアルデヒドの粗生成物、エタノール７０
ｍｌ、並びにＮａＢＨ４（ＳＢＨ）１．４２ｇを反応器
に仕込み、撹拌還流下３０分反応した。反応液を水に注
加し、塩酸酸性とした後、エーテルで抽出し、食塩水で
洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去した。残留分を減圧
下で蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、４−ブ
ロモ−２，３−ジフルオロベンジルアルコール８．３３
ｇ（７２．１％）を得た。ＧＬＣ ９７．６％
し、ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で乾燥
後、溶媒を留去した。得られた４−ブロモ−２，３−ジ
フルオロベンズアルデヒドの粗生成物、エタノール７０
ｍｌ、並びにＮａＢＨ４（ＳＢＨ）１．４２ｇを反応器
に仕込み、撹拌還流下３０分反応した。反応液を水に注
加し、塩酸酸性とした後、エーテルで抽出し、食塩水で
洗浄し、芒硝で乾燥後、溶媒を留去した。残留分を減圧
下で蒸留し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、４−ブ
ロモ−２，３−ジフルオロベンジルアルコール８．３３
ｇ（７２．１％）を得た。ＧＬＣ ９７．６％
【０１５５】
【化１０５】 反応器に、（ａ）で得た４−ブロモ−２，３−ジフルオ
ロベンジルアルコール６．６９ｇ、ピリジン２．８５
ｇ、並びにジクロロメタン６０ｍｌを仕込み、三臭化リ
ン３．２５ｇを滴下した。滴下後、室温で３０分撹拌
し、生成した沈殿を濾過した後、食塩水で洗浄し、芒硝
で乾燥後、溶媒を留去した。残留分をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液ヘキサン）で精製し４−ブ
ロモ−２，３−ジフルオロベンジルブロマイド４．２０
ｇ（４９．０％）を得た。ＧＬＣ ９８．０％
ロベンジルアルコール６．６９ｇ、ピリジン２．８５
ｇ、並びにジクロロメタン６０ｍｌを仕込み、三臭化リ
ン３．２５ｇを滴下した。滴下後、室温で３０分撹拌
し、生成した沈殿を濾過した後、食塩水で洗浄し、芒硝
で乾燥後、溶媒を留去した。残留分をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液ヘキサン）で精製し４−ブ
ロモ−２，３−ジフルオロベンジルブロマイド４．２０
ｇ（４９．０％）を得た。ＧＬＣ ９８．０％
【０１５６】
【化１０６】 実施例２０（ｂ）において、４−ブロモ−３−フルオロ
ベンジルブロマイド２．６８ｇに替えて、（ｂ）で得ら
れる４−ブロモ−２，３−ジフルオロベンジルブロマイ
ド２．８５ｇを用い、他は実施例２０（ｂ）と同様に操
作して４−ブロモ−２，３−ジフルオロ−１−メトキシ
メチルベンゼン１．７５ｇ（７３．８％）を得た。ＧＬ
Ｃ １００．０％
ベンジルブロマイド２．６８ｇに替えて、（ｂ）で得ら
れる４−ブロモ−２，３−ジフルオロベンジルブロマイ
ド２．８５ｇを用い、他は実施例２０（ｂ）と同様に操
作して４−ブロモ−２，３−ジフルオロ−１−メトキシ
メチルベンゼン１．７５ｇ（７３．８％）を得た。ＧＬ
Ｃ １００．０％
【０１５７】
【化１０７】 実施例２０（ｃ）において、３−フルオロ−４−ブロモ
−１−メトキシメチルベンゼン０．８８ｇに替えて、
（ｃ）で得られる４−ブロモ−２，３−ジフルオロ−１
−メトキシメチルベンゼン０．９５ｇを用い、４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン
酸１．１１ｇに替えて、実施例２１（ｄ）で得られる３
−フルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）フェニルボロン酸１．１８ｇを用い、他は実施例
２０（ｃ）と同様に操作して４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−２′，３，３′−トリフルオロ
−４′−メトキシメチルビフェニル１．５３ｇ（９４．
８％）を得た。
−１−メトキシメチルベンゼン０．８８ｇに替えて、
（ｃ）で得られる４−ブロモ−２，３−ジフルオロ−１
−メトキシメチルベンゼン０．９５ｇを用い、４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン
酸１．１１ｇに替えて、実施例２１（ｄ）で得られる３
−フルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）フェニルボロン酸１．１８ｇを用い、他は実施例
２０（ｃ）と同様に操作して４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−２′，３，３′−トリフルオロ
−４′−メトキシメチルビフェニル１．５３ｇ（９４．
８％）を得た。
【０１５８】この物の純度はＨＰＬＣで９９．２％であ
った。またＭａｓｓ分析で４０４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で４０４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１５９】実施例２５
【化１０８】 実施例２４（ａ）において、１−ブロモ−２，３−ジフ
ルオロベンゼンに替えて、１−ブロモ−３，５−ジフル
オロベンゼンを用い、他は実施例２４（ａ）と同様に操
作して、得られた残留分をＧＴＯで蒸留し、留分をクロ
ロホルムで再結晶して、４−ブロモ−２，６−ジフルオ
ロベンジルアルコール１０．２７ｇ（６１．４％）を得
た。ＧＬＣ ９９．７％
ルオロベンゼンに替えて、１−ブロモ−３，５−ジフル
オロベンゼンを用い、他は実施例２４（ａ）と同様に操
作して、得られた残留分をＧＴＯで蒸留し、留分をクロ
ロホルムで再結晶して、４−ブロモ−２，６−ジフルオ
ロベンジルアルコール１０．２７ｇ（６１．４％）を得
た。ＧＬＣ ９９．７％
【０１６０】
【化１０９】 実施例２４（ｂ）において、４−ブロモ−２，３−ジフ
ルオロベンジルアルコールに替えて、（ａ）で得た４−
ブロモ−２，６−ジフルオロベンジルアルコールを用
い、他は実施例２４（ｂ）と同様に操作して、４−ブロ
モ−２，６−ジフルオロベンジルブロマイド４．１８ｇ
（４８．７％）を得た。ＧＬＣ ９９．０％
ルオロベンジルアルコールに替えて、（ａ）で得た４−
ブロモ−２，６−ジフルオロベンジルアルコールを用
い、他は実施例２４（ｂ）と同様に操作して、４−ブロ
モ−２，６−ジフルオロベンジルブロマイド４．１８ｇ
（４８．７％）を得た。ＧＬＣ ９９．０％
【０１６１】
【化１１０】 実施例２０（ｂ）において、４−ブロモ−３−フルオロ
ベンジルブロマイド２．６８ｇに替えて、（ｂ）で得ら
れる４−ブロモ−２，６−ジフルオロベンジルブロマイ
ド２．８５ｇを用い、他は実施例２０（ｂ）と同様に操
作して４−ブロモ−２，６−ジフルオロ−１−メトキシ
メチルベンゼン１．６９ｇ（７１．４％）を得た。ＧＬ
Ｃ ９９．６％
ベンジルブロマイド２．６８ｇに替えて、（ｂ）で得ら
れる４−ブロモ−２，６−ジフルオロベンジルブロマイ
ド２．８５ｇを用い、他は実施例２０（ｂ）と同様に操
作して４−ブロモ−２，６−ジフルオロ−１−メトキシ
メチルベンゼン１．６９ｇ（７１．４％）を得た。ＧＬ
Ｃ ９９．６％
【０１６２】
【化１１１】 実施例２０（ｃ）において、３−フルオロ−４−ブロモ
−１−メトキシメチルベンゼン０．８８ｇに替えて、
（ｃ）で得られる４−ブロモ−２，６−ジフルオロ−１
−メトキシメチルベンゼン０．９５ｇを用い、４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン
酸１．１１ｇに替えて、実施例２１（ｄ）で得られる３
−フルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）フェニルボロン酸１．１８ｇを用い、他は実施例
２０（ｃ）と同様に操作して４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３，３′，５′−トリフルオロ
−４′−メトキシメチルビフェニル１．５３ｇ（９４．
８％）を得た。
−１−メトキシメチルベンゼン０．８８ｇに替えて、
（ｃ）で得られる４−ブロモ−２，６−ジフルオロ−１
−メトキシメチルベンゼン０．９５ｇを用い、４−（ト
ランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルボロン
酸１．１１ｇに替えて、実施例２１（ｄ）で得られる３
−フルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキ
シル）フェニルボロン酸１．１８ｇを用い、他は実施例
２０（ｃ）と同様に操作して４−（トランス−４−ペン
チルシクロヘキシル）−３，３′，５′−トリフルオロ
−４′−メトキシメチルビフェニル１．５３ｇ（９４．
８％）を得た。
【０１６３】この物の純度はＨＰＬＣで９９．５％であ
った。またＭａｓｓ分析で４０４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
った。またＭａｓｓ分析で４０４に分子イオンピークが
認められたこと、並びにＩＲ測定における特性吸収波
長、さらに用いた原料からみて、得られた物質が標記化
合物であることを確認した。この物をメトラーホットス
テージＦＰ−８２を用いて、偏光顕微鏡下で相変化を観
察した。その結果を表２に示す。
【０１６４】実施例２６ 市販液晶組成物であるＺＬＩ−１１３２（メルク社製）
に実施例４で得られた化合物を１０重量％添加して組成
物Ａを、また、実施例２０で得られた化合物を１０重量
％添加して組成物Ｂをそれぞれ作成し、それらのネマチ
ック相−等方性液体転移温度（ＴＮＩ）を測定した。同
時に、ＺＬＩ−１１３２自体についても同様に測定し
た。その結果、ＺＬＩ−１１３２のＴＮＩが７２．４℃
であるのに対し、組成物Ａのそれは７４．６℃、また組
成物Ｂのそれは７６．７℃とＮｅ相の上限温度が上昇し
た。
に実施例４で得られた化合物を１０重量％添加して組成
物Ａを、また、実施例２０で得られた化合物を１０重量
％添加して組成物Ｂをそれぞれ作成し、それらのネマチ
ック相−等方性液体転移温度（ＴＮＩ）を測定した。同
時に、ＺＬＩ−１１３２自体についても同様に測定し
た。その結果、ＺＬＩ−１１３２のＴＮＩが７２．４℃
であるのに対し、組成物Ａのそれは７４．６℃、また組
成物Ｂのそれは７６．７℃とＮｅ相の上限温度が上昇し
た。
【０１６５】実施例２７ ＺＬＩ−１１３２に実施例１０の液晶化合物を１０重量
％添加して組成物Ｃを作成しそのネマチック相−等方性
液体転移温度（ＴＮＩ）、粘度（η）、屈折率異方性
（Δｎ）を測定した。同時に、ＺＬＩ−１１３２自体に
ついても同様に測定した。その結果を表１に示す。
％添加して組成物Ｃを作成しそのネマチック相−等方性
液体転移温度（ＴＮＩ）、粘度（η）、屈折率異方性
（Δｎ）を測定した。同時に、ＺＬＩ−１１３２自体に
ついても同様に測定した。その結果を表１に示す。
【０１６６】
【表１】 このように、母体液晶のみに比べ、組成物Ｃは大幅にＴ
ＮＩが上昇し、且つ、ηは低下した。またΔｎも減少し
た。
ＮＩが上昇し、且つ、ηは低下した。またΔｎも減少し
た。
【０１６７】実施例２８ 市販液晶組成物であるＺＬＩ−１１３２（メルク社製）
に実施例１９で得られた化合物１０重量％を添加して組
成物Ｄを、また、実施例２２で得られた化合物を１０重
量％添加して組成物Ｅをそれぞれ作成し、それらのしき
い値電圧（Ｖｔｈ）およびΔｎを測定した。同時にＺＬ
Ｉ−１１３２自体についても同様に測定した。
に実施例１９で得られた化合物１０重量％を添加して組
成物Ｄを、また、実施例２２で得られた化合物を１０重
量％添加して組成物Ｅをそれぞれ作成し、それらのしき
い値電圧（Ｖｔｈ）およびΔｎを測定した。同時にＺＬ
Ｉ−１１３２自体についても同様に測定した。
【０１６８】その結果、ＺＬＩ−１１３２のＶｔｈが
１．７Ｖであるのに対し、組成物Ｄのそれは１．６Ｖ、
また組成物Ｅのそれは１．４ＶとＶｔｈは低下した。Δ
ｎはＺＬＩ−１１３２が０．１３８であるのに対して組
成物Ｄは０．１２４、組成物Ｅは０．１１８と減少し
た。
１．７Ｖであるのに対し、組成物Ｄのそれは１．６Ｖ、
また組成物Ｅのそれは１．４ＶとＶｔｈは低下した。Δ
ｎはＺＬＩ−１１３２が０．１３８であるのに対して組
成物Ｄは０．１２４、組成物Ｅは０．１１８と減少し
た。
【０１６９】このように、本発明化合物はネマチック液
晶組成物を作成する際に組成物の所要の特性を得るため
に、ＴＮＩの上昇、Δｎの減少、ηの低下、Ｖｔｈの低
下等の諸物性の調整を行うための成分として有用であ
る。
晶組成物を作成する際に組成物の所要の特性を得るため
に、ＴＮＩの上昇、Δｎの減少、ηの低下、Ｖｔｈの低
下等の諸物性の調整を行うための成分として有用であ
る。
【０１７０】
【表２】
フロントページの続き (72)発明者 藤井 恒宣 埼玉県草加市稲荷１−７−１ 関東化学株 式会社中央研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ１は炭素原子数１〜１４のアルキル基を表わ
し、Ｒ２は炭素原子数１〜８のアルキル基を表わし、Ａ
およびＢはそれぞれ独立に１，４−フェニレン、モノフ
ッ素置換１，４−フェニレンまたはジフッ素置換１，４
−フェニレンを表わし、ｎは０、１または２を表わし、
ｍは０または１を表わし、ｐは１〜５の整数を表わす。
但しｎとｍは同時に０ではなく、Ｂが１，４−フェニレ
ンであるときは、ｍは０ではなく、かつ、Ａは１，４−
フェニレンではないものとする）で表わされるフッ素置
換ベンゼン誘導体。 - 【請求項２】 前記一般式（１）のｐが１である請求項
１記載のフッ素置換ベンゼン誘導体。 - 【請求項３】 一般式 【化２】 （式中、Ｒ１は炭素原子数１〜１４のアルキル基を表わ
し、Ｒ２は炭素原子数１〜８のアルキル基を表わし、Ａ
およびＢはそれぞれ独立に１，４−フェニレン、モノフ
ッ素置換１，４−フェニレンまたはジフッ素置換１，４
−フェニレンを表わし、ｎは０、１または２を表わし、
ｍは０または１を表わし、ｐは１〜５の整数を表わす。
但しｎとｍは同時に０ではなく、Ｂが１，４−フェニレ
ンであるときは、ｍは０ではなく、かつ、Ａは１，４−
フェニレンではないものとする）で表わされるフッ素置
換ベンゼン誘導体を少なくとも１種含有することを特徴
とする液晶組成物。 - 【請求項４】 前記一般式（１）のｐが１であるフッ素
置換ベンゼン誘導体の少なくとも１種を含有することを
特徴とする請求項３記載の液晶組成物。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP34506893A JP3569871B2 (ja) | 1992-12-11 | 1993-12-10 | フッ素置換ベンゼン誘導体並びにそれらを含む液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35971592 | 1992-12-11 | ||
| JP4-359715 | 1992-12-11 | ||
| JP34506893A JP3569871B2 (ja) | 1992-12-11 | 1993-12-10 | フッ素置換ベンゼン誘導体並びにそれらを含む液晶組成物 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06228037A true JPH06228037A (ja) | 1994-08-16 |
| JP3569871B2 JP3569871B2 (ja) | 2004-09-29 |
Family
ID=26577956
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|---|---|---|---|
| JP34506893A Expired - Fee Related JP3569871B2 (ja) | 1992-12-11 | 1993-12-10 | フッ素置換ベンゼン誘導体並びにそれらを含む液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3569871B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5705095A (en) * | 1995-02-11 | 1998-01-06 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Partially fluorinated benzene derivatives |
| WO1999021816A1 (fr) * | 1997-10-24 | 1999-05-06 | Chisso Corporation | Nouveaux composes a cristaux liquides presentant une grande valeur negative d'anisotropie de permittivite, composition a cristaux liquides et element d'affichage a cristaux liquides |
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| CN105567251A (zh) * | 2016-01-13 | 2016-05-11 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 液晶组合物 |
| WO2017208953A1 (ja) * | 2016-06-03 | 2017-12-07 | Dic株式会社 | 液晶組成物用自発配向助剤、該自発配向助剤に好適な化合物、液晶組成物、及び液晶表示素子 |
-
1993
- 1993-12-10 JP JP34506893A patent/JP3569871B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| KR20160040249A (ko) * | 2013-07-30 | 2016-04-12 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 유기 화합물, 액정 조성물, 액정 소자, 및 액정 표시 장치 |
| US9580651B2 (en) | 2013-07-30 | 2017-02-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device |
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| JPWO2017208953A1 (ja) * | 2016-06-03 | 2018-11-08 | Dic株式会社 | 液晶組成物用自発配向助剤、該自発配向助剤に好適な化合物、液晶組成物、及び液晶表示素子 |
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