JPH06223321A - マルチチャンネル薄膜磁気ヘッド - Google Patents
マルチチャンネル薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH06223321A JPH06223321A JP1319093A JP1319093A JPH06223321A JP H06223321 A JPH06223321 A JP H06223321A JP 1319093 A JP1319093 A JP 1319093A JP 1319093 A JP1319093 A JP 1319093A JP H06223321 A JPH06223321 A JP H06223321A
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- Japan
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- head
- magnetic
- core
- gap
- coil
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】良好なテープタッチをもち、かつギャップ深さ
の均一なマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドを提供するこ
とにより、均一な記録再生特性を得ることにある。 【構成】マルチチャンネルヘッドの各ヘッドを段差部に
形成する。または、上部コア形成面高さを各ヘッドで変
化させることにより、ギャップ深さ０の位置をヘッド毎
に異ならしめる。 【効果】テープタッチ向上のための研磨加工量分の段差
上にヘッドを形成、または、上部コア形成面高さを各ヘ
ッドで変化させることにより、ギャップ深さ０の位置を
ヘッド毎に異ならしめることで、テープタッチ向上のた
めの研磨加工後、マルチヘッドの各ヘッドで均一なギャ
ップ深さを得ることができる。
の均一なマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドを提供するこ
とにより、均一な記録再生特性を得ることにある。 【構成】マルチチャンネルヘッドの各ヘッドを段差部に
形成する。または、上部コア形成面高さを各ヘッドで変
化させることにより、ギャップ深さ０の位置をヘッド毎
に異ならしめる。 【効果】テープタッチ向上のための研磨加工量分の段差
上にヘッドを形成、または、上部コア形成面高さを各ヘ
ッドで変化させることにより、ギャップ深さ０の位置を
ヘッド毎に異ならしめることで、テープタッチ向上のた
めの研磨加工後、マルチヘッドの各ヘッドで均一なギャ
ップ深さを得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一体型マルチチャンネ
ル薄膜磁気ヘッドに係り、特に該マルチチャンネル薄膜
磁気ヘッドのギャップ深さの均一な制御に関する。
ル薄膜磁気ヘッドに係り、特に該マルチチャンネル薄膜
磁気ヘッドのギャップ深さの均一な制御に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録再生装置の高密度化に伴
い、記録周波数が増大する傾向にあり、１つの磁気ヘッ
ドで記録再生することは困難な状況にある。そこで、記
録再生の信号周波数を分割し、隣接して配設された複数
の磁気ヘッドを利用する手段が現在よく用いられてい
る。従来から知られているマルチチャンネル薄膜磁気ヘ
ッドとしては、特開平４−１１３１４では図１１に示す
様に、平板上の下部磁性層上に、複数個の上部ヘッド素
子およびコイル導体を同一平面上に間隔をおいて配列
し、上部ヘッド素子は一対の上部コア半体を磁気ギャッ
プを介して突き合わせて形成され、上部磁気コア半体の
突合せ面は下部磁性層の表面に対して略直交し、両上部
磁気コア半体の表面に記録媒体との摺動面が形成され
る、マルチチャンネル薄膜磁気ヘッドが提案されてい
る。これによれば、アジマス角度，トラック配置につい
て、自由に設定することができる。また、従来技術は、
上述説明より明らかなように、ギャップ深さゼロの位置
が全ヘッド素子とも同一平面上にある。すなわち、ウェ
ハー工程終了時点では全ヘッド素子のギャップ深さを簡
単に高精度にそろえることができる。
い、記録周波数が増大する傾向にあり、１つの磁気ヘッ
ドで記録再生することは困難な状況にある。そこで、記
録再生の信号周波数を分割し、隣接して配設された複数
の磁気ヘッドを利用する手段が現在よく用いられてい
る。従来から知られているマルチチャンネル薄膜磁気ヘ
ッドとしては、特開平４−１１３１４では図１１に示す
様に、平板上の下部磁性層上に、複数個の上部ヘッド素
子およびコイル導体を同一平面上に間隔をおいて配列
し、上部ヘッド素子は一対の上部コア半体を磁気ギャッ
プを介して突き合わせて形成され、上部磁気コア半体の
突合せ面は下部磁性層の表面に対して略直交し、両上部
磁気コア半体の表面に記録媒体との摺動面が形成され
る、マルチチャンネル薄膜磁気ヘッドが提案されてい
る。これによれば、アジマス角度，トラック配置につい
て、自由に設定することができる。また、従来技術は、
上述説明より明らかなように、ギャップ深さゼロの位置
が全ヘッド素子とも同一平面上にある。すなわち、ウェ
ハー工程終了時点では全ヘッド素子のギャップ深さを簡
単に高精度にそろえることができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】磁気記録の高密度化に
伴い開発されつつある薄膜磁気ヘッドは、その電磁変換
効率に大きな影響を及ぼすギャップ深さを１ミクロンの
精度で加工することが要求されている。 また、ヘッド
の摺動面は、テープタッチ向上のために、テープ摺動方
向に曲率Ｒｘの研磨加工を施している。
伴い開発されつつある薄膜磁気ヘッドは、その電磁変換
効率に大きな影響を及ぼすギャップ深さを１ミクロンの
精度で加工することが要求されている。 また、ヘッド
の摺動面は、テープタッチ向上のために、テープ摺動方
向に曲率Ｒｘの研磨加工を施している。
【０００４】従来、この曲率は１０ｍｍ前後で加工して
いるが、従来技術による一体型マルチチャンネル薄膜磁
気ヘッドでは、上述したように、全ヘッド素子のギャッ
プ深さゼロの位置が同一平面上にあるために摺動面加工
後にヘッドによってギャップ深さが異なってしまうとい
う問題がある。例えば、４チャンネルヘッドについて考
えると図１２に示すようにヘッドのギャップ間隔を０．
２ｍｍにできたとしても研磨加工後、ヘッドによるギャ
ップ深さの差は８μｍも生じ、均一な記録再生特性を得
ることができないという問題があった。
いるが、従来技術による一体型マルチチャンネル薄膜磁
気ヘッドでは、上述したように、全ヘッド素子のギャッ
プ深さゼロの位置が同一平面上にあるために摺動面加工
後にヘッドによってギャップ深さが異なってしまうとい
う問題がある。例えば、４チャンネルヘッドについて考
えると図１２に示すようにヘッドのギャップ間隔を０．
２ｍｍにできたとしても研磨加工後、ヘッドによるギャ
ップ深さの差は８μｍも生じ、均一な記録再生特性を得
ることができないという問題があった。
【０００５】本発明の目的は、各ヘッドのギャップ深さ
が均一なマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドを提供するこ
とにある。
が均一なマルチチャンネル薄膜磁気ヘッドを提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
の手段として、本発明では、（１）テープタッチ向上の
ための研磨加工による加工量に相当する段差部にヘッド
素子を形成する。または、（２）従来技術同様に平坦な
基板を用い、例えばヘッド毎に上部コアと導体コイルの
間の絶縁層膜厚、もしくはコイル膜厚、もしくは下部コ
アと導体コイル間の絶縁層膜厚、もしくは層間絶縁層の
合計膜厚、もしくは下部コア膜厚を上記加工量に相当す
る分異ならしめる等、ヘッド素子の構成膜厚をヘッド毎
に必要に応じて変える。
の手段として、本発明では、（１）テープタッチ向上の
ための研磨加工による加工量に相当する段差部にヘッド
素子を形成する。または、（２）従来技術同様に平坦な
基板を用い、例えばヘッド毎に上部コアと導体コイルの
間の絶縁層膜厚、もしくはコイル膜厚、もしくは下部コ
アと導体コイル間の絶縁層膜厚、もしくは層間絶縁層の
合計膜厚、もしくは下部コア膜厚を上記加工量に相当す
る分異ならしめる等、ヘッド素子の構成膜厚をヘッド毎
に必要に応じて変える。
【０００７】
【作用】テープタッチ向上のための研磨加工による加工
量に相当する段差部にヘッド素子を形成する。または、
ヘッド毎に上部コア形成面の高さを上記加工量に相当し
て変化させることにより、テープタッチ向上のための研
磨加工後、マルチチャンネルヘッドの各ヘッドで均一な
ギャップ深さを得ることができるので、均一な記録再生
特性を得ることができる。
量に相当する段差部にヘッド素子を形成する。または、
ヘッド毎に上部コア形成面の高さを上記加工量に相当し
て変化させることにより、テープタッチ向上のための研
磨加工後、マルチチャンネルヘッドの各ヘッドで均一な
ギャップ深さを得ることができるので、均一な記録再生
特性を得ることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の薄膜磁気ヘッドについて、図
面を参照しながら具体的に説明する。
面を参照しながら具体的に説明する。
【０００９】図１は、本発明の一実施例である薄膜磁気
ヘッドの平面図、図２は図１のＡ−Ａ’断面におけるギ
ャップ部のみを示す断面図、図３はテープタッチ向上の
ための研磨加工後のギャップ部の断面図である。ただ
し、保護膜、保護板は省略してある。
ヘッドの平面図、図２は図１のＡ−Ａ’断面におけるギ
ャップ部のみを示す断面図、図３はテープタッチ向上の
ための研磨加工後のギャップ部の断面図である。ただ
し、保護膜、保護板は省略してある。
【００１０】薄膜磁気ヘッド３は、研摩加工後の高さの
差ｈを考慮した段差を持つ非磁性基板上に下部コア５、
または、差ｈの段差をもつ磁性基板上に層間絶縁層９、
電磁変換のためのコイル１、一対の上部磁性コア半体を
磁気ギャップを介して突合せて形成され、上部コアの突
合せ面は、下部コアの表面に対して略直交し、両上部磁
性コア半体の表面が記録媒体との摺動面となる上部コア
２から形成されている。ｘ０はギャップ深さ０の位置、
ｘ１は所定のギャップ深さ位置を示している。従って、
ギャップ８はｘ０からｘ１までが電磁変換のための有効
間隙となる。第３図に示すように、研摩加工後の各ヘッ
ドのギャップ深さｄは等しくなる。なお、上、下部コア
は高透磁率磁性材、例えばＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルフ
ァスからなり、層間絶縁層９はＳｉＯ2、ギャップ８は
Ｃｒ、コイル１はＣｕ等からなる。
差ｈを考慮した段差を持つ非磁性基板上に下部コア５、
または、差ｈの段差をもつ磁性基板上に層間絶縁層９、
電磁変換のためのコイル１、一対の上部磁性コア半体を
磁気ギャップを介して突合せて形成され、上部コアの突
合せ面は、下部コアの表面に対して略直交し、両上部磁
性コア半体の表面が記録媒体との摺動面となる上部コア
２から形成されている。ｘ０はギャップ深さ０の位置、
ｘ１は所定のギャップ深さ位置を示している。従って、
ギャップ８はｘ０からｘ１までが電磁変換のための有効
間隙となる。第３図に示すように、研摩加工後の各ヘッ
ドのギャップ深さｄは等しくなる。なお、上、下部コア
は高透磁率磁性材、例えばＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルフ
ァスからなり、層間絶縁層９はＳｉＯ2、ギャップ８は
Ｃｒ、コイル１はＣｕ等からなる。
【００１１】ヘッド形成工程完了後、テープタッチ向上
のため所定のＲｘに研摩加工することにより各ヘッドの
ギャップ深さｄは等しくなる。
のため所定のＲｘに研摩加工することにより各ヘッドの
ギャップ深さｄは等しくなる。
【００１２】図４に、第１の実施例のその他の例を基板
形状とギャップ位置で示す。同図（１）は、基板に形成
した溝の斜面部にヘッドを形成する。斜面の傾斜は、テ
ープタッチ向上のための研摩加工量に相当するものとす
る。また、同図（２）はテープタッチ向上のための研磨
加工形状に加工した基板上にヘッドを形成する。
形状とギャップ位置で示す。同図（１）は、基板に形成
した溝の斜面部にヘッドを形成する。斜面の傾斜は、テ
ープタッチ向上のための研摩加工量に相当するものとす
る。また、同図（２）はテープタッチ向上のための研磨
加工形状に加工した基板上にヘッドを形成する。
【００１３】図５から図７に本発明の第２の実施例を示
す。
す。
【００１４】薄膜磁気ヘッド３は、平坦な非磁性基板上
に下部コア５、もしくは非磁性基板に埋め込まれた下部
コア５、または磁性基板上に層間絶縁層９、電磁変換の
ためのコイル１、コイルと上部コアの層間絶縁層、一対
の上部磁性コア半体を磁気ギャップを介して突合せて形
成され、上部コアの突合せ面は、下部コアの表面に対し
て略直交し、両上部磁性コア半体の表面が記録媒体との
摺動面となる上部コア２から形成されている。ｘ０はギ
ャップ深さ０の位置、ｘ１は所定のギャップ深さ位置を
示している。従って、ギャップ８はｘ０からｘ１までが
電磁変換のための有効間隙となる。図６に示すように、
コイル導体と上部コアとの層間絶縁層の膜厚がヘッド毎
にテープタッチ向上のための研磨加工量相当分異なる。
従って、上部コア形成面すなわちギャップ深さ０の位置
Ｘ０は、中央のヘッド（ｂ），（ｃ）と両端のヘッド
（ａ），（ｄ）では、図７に示すテープタッチ向上のた
めのＲｘ加工分ｈだけ異なるように形成される。このた
め図７に示すように研摩加工後の各ヘッドのギャップ深
さｄは等しくなる。なお、上、下部コアは高透磁率磁性
材、例えばＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルファスからなり、
層間絶縁層９はＳｉＯ2、ギャップ８はＣｒ、コイル１
はＣｕ等からなる。本実施例の説明では、上部コア形成
面を変える方法として導体コイルと上部コアとの層間絶
縁層の膜厚を変えて説明したが、下部コアと導体コイ
ル，導体コイル間の層間絶縁層、またはこれら層間絶縁
層の合計膜厚、コイル膜厚、下部コア膜厚をかえること
でも同様の効果を得られることはいうまでもない。
に下部コア５、もしくは非磁性基板に埋め込まれた下部
コア５、または磁性基板上に層間絶縁層９、電磁変換の
ためのコイル１、コイルと上部コアの層間絶縁層、一対
の上部磁性コア半体を磁気ギャップを介して突合せて形
成され、上部コアの突合せ面は、下部コアの表面に対し
て略直交し、両上部磁性コア半体の表面が記録媒体との
摺動面となる上部コア２から形成されている。ｘ０はギ
ャップ深さ０の位置、ｘ１は所定のギャップ深さ位置を
示している。従って、ギャップ８はｘ０からｘ１までが
電磁変換のための有効間隙となる。図６に示すように、
コイル導体と上部コアとの層間絶縁層の膜厚がヘッド毎
にテープタッチ向上のための研磨加工量相当分異なる。
従って、上部コア形成面すなわちギャップ深さ０の位置
Ｘ０は、中央のヘッド（ｂ），（ｃ）と両端のヘッド
（ａ），（ｄ）では、図７に示すテープタッチ向上のた
めのＲｘ加工分ｈだけ異なるように形成される。このた
め図７に示すように研摩加工後の各ヘッドのギャップ深
さｄは等しくなる。なお、上、下部コアは高透磁率磁性
材、例えばＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系アモルファスからなり、
層間絶縁層９はＳｉＯ2、ギャップ８はＣｒ、コイル１
はＣｕ等からなる。本実施例の説明では、上部コア形成
面を変える方法として導体コイルと上部コアとの層間絶
縁層の膜厚を変えて説明したが、下部コアと導体コイ
ル，導体コイル間の層間絶縁層、またはこれら層間絶縁
層の合計膜厚、コイル膜厚、下部コア膜厚をかえること
でも同様の効果を得られることはいうまでもない。
【００１５】その他、テープタッチ向上のための研摩加
工後のマルチチャンネルヘッドの各ヘッドのギャップ深
さが等しくなるように、ヘッド毎にギャップ深さゼロの
位置が決められる方法、手段であれば良いことはいうま
でもない。また、本説明では、４ヘッドのマルチチャン
ネルヘッドで説明したが、チャンネル数は、３チャンネ
ル以上いくつでも、同様の効果を得ることができること
は、いうまでもない。
工後のマルチチャンネルヘッドの各ヘッドのギャップ深
さが等しくなるように、ヘッド毎にギャップ深さゼロの
位置が決められる方法、手段であれば良いことはいうま
でもない。また、本説明では、４ヘッドのマルチチャン
ネルヘッドで説明したが、チャンネル数は、３チャンネ
ル以上いくつでも、同様の効果を得ることができること
は、いうまでもない。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によればテ
ープタッチ向上のための研磨加工後、薄膜マルチヘッド
を構成する各ヘッドで均一なギャップ深さを得ることが
できるため、均一な記録再生特性を得ることができる。
ープタッチ向上のための研磨加工後、薄膜マルチヘッド
を構成する各ヘッドで均一なギャップ深さを得ることが
できるため、均一な記録再生特性を得ることができる。
【図１】本発明の第１の実施例を示す斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’断面によるギャップ部のみを示
す断面図である。
す断面図である。
【図３】テープタッチ向上のための研磨加工後のギャッ
プ部を示す断面図である。
プ部を示す断面図である。
【図４】本発明による第１の実施例のその他の例を示す
図である。
図である。
【図５】本発明の第２の実施例による薄膜磁気ヘッドの
斜視図である。
斜視図である。
【図６】図５のＢ−Ｂ’断面による断面図である。
【図７】テープタッチ向上のための研摩加工後のマルチ
チャンネルヘッドの断面図である。
チャンネルヘッドの断面図である。
【図８】従来例を示す斜視図である。
【図９】テープタッチ向上のための加工と４ヘッドの場
合の各ヘッドのギャップ深さの差を示す図である。
合の各ヘッドのギャップ深さの差を示す図である。
１…導体コイル、２…上部コア、３…薄膜磁気ヘッド、
４…スルーホール、５…下部コア、６…ギャップ深さ零
位、７…コア接続部、８…ギャップ、９…層間絶縁層。
４…スルーホール、５…下部コア、６…ギャップ深さ零
位、７…コア接続部、８…ギャップ、９…層間絶縁層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小西 捷雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所映像メディア研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】非磁性基板上に下部コア、または磁性基板
上に第１の絶縁層、単層または、複数層のコイル導体層
及び該コイル導体層を絶縁する絶縁層、導体コイルと上
部コアを絶縁する絶縁層、一対の上部磁性コア半体を磁
気ギャップを介して突合せて形成され、上部コアの突合
せ面は、下部コアの表面に対して略直交し、両上部磁性
コア半体の表面が記録媒体との摺動面となる薄膜磁気ヘ
ッドをテープ摺動方向に３チャンネル以上複数配し、そ
の摺動面はある曲率をもったＲ形状に加工されているマ
ルチチャンネル薄膜磁気ヘッドにおいて、テープ摺動方
向の摺動面の中心を中心にして距離的に対称となる各ヘ
ッド毎に上記上部コアを形成する面の高さが異なり、テ
ープ摺動面から上記コア形成面までの距離が略等しくな
ることを特徴とするマルチチャンネル薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】各ヘッド素子が基板上に設けられた段差上
に形成され、該段差上から摺動面加工による加工面まで
の距離が各ヘッド素子とも略等しいことを特徴とする請
求項１記載のマルチチャンネル薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】各ヘッド素子の上部・下部コア間の層間絶
縁層の合計膜厚、もしくは導体コイルと上部コアをを絶
縁する絶縁層膜厚、もしくは導体コイル間の層間絶縁層
膜厚、もしくは下部コアと導体コイル間の層間絶縁層膜
厚が異なることにより、上部コア形成面からテープ摺動
面までの距離が各ヘッド素子とも略等しいことを特徴と
する請求項１記載のマルチチャンネル薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項４】各ヘッド素子のコイル膜厚もしくはコイル
膜厚の合計が異なることにより、上部コア形成面からテ
ープ摺動面までの距離が各ヘッド素子とも略等しいこと
を特徴とする請求項１記載のマルチチャンネル薄膜磁気
ヘッド。 - 【請求項５】各ヘッド素子の基板上に形成する下部コア
膜厚が異なることにより、上部コア形成面からテープ摺
動面までの距離が各ヘッド素子とも略等しいことを特徴
とする請求項１記載のマルチチャンネル薄膜磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319093A JPH06223321A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | マルチチャンネル薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319093A JPH06223321A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | マルチチャンネル薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06223321A true JPH06223321A (ja) | 1994-08-12 |
Family
ID=11826253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1319093A Pending JPH06223321A (ja) | 1993-01-29 | 1993-01-29 | マルチチャンネル薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06223321A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000060580A1 (en) * | 1999-04-01 | 2000-10-12 | Storage Technology Corporation | High track density magnetic recording head |
-
1993
- 1993-01-29 JP JP1319093A patent/JPH06223321A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000060580A1 (en) * | 1999-04-01 | 2000-10-12 | Storage Technology Corporation | High track density magnetic recording head |
| US7130152B1 (en) | 1999-04-01 | 2006-10-31 | Storage Technology Corporation | High track density magnetic recording head |
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