JPH06184731A - 意匠性に優れた硬質材料 - Google Patents
意匠性に優れた硬質材料Info
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- JPH06184731A JPH06184731A JP33731392A JP33731392A JPH06184731A JP H06184731 A JPH06184731 A JP H06184731A JP 33731392 A JP33731392 A JP 33731392A JP 33731392 A JP33731392 A JP 33731392A JP H06184731 A JPH06184731 A JP H06184731A
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- hard material
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
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- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 硬質材料基板の表面上に比較的高いガラス
転移温度を有する耐熱性の樹脂の薄膜を形成し、その表
面に所望の模様を刻設・形成し、さらにこの上に表面薄
膜を形成してなる意匠性に優れた硬質材料。 【効果】 高強度で意匠性に優れた模様付き硬質材料
が提供される。
転移温度を有する耐熱性の樹脂の薄膜を形成し、その表
面に所望の模様を刻設・形成し、さらにこの上に表面薄
膜を形成してなる意匠性に優れた硬質材料。 【効果】 高強度で意匠性に優れた模様付き硬質材料
が提供される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は意匠性に優れた模様付き
硬質材料に関し、とくに高強度で装飾性に優れた材料に
関する。
硬質材料に関し、とくに高強度で装飾性に優れた材料に
関する。
【０００２】
【従来の技術】金属薄膜の形成方法としては蒸着やメッ
キなどがあり、古来から資源を節約しつつ装飾性を維持
する方法として有効に用いられてきた。しかしながら、
従来、空隙の多い硬質材料には、５００μｍ以上のマク
ロな空隙が存在するため、蒸着により薄膜を形成するこ
とが困難であった。従って蒸着等の有効な技術は使用さ
れていなかった。また薄膜が形成できても接着強度が弱
いため二次加工が困難であり、そもそも装飾性を付与す
ることなど、思いもよらず全く試みられていなかった。
空隙の少ない樹脂を基材に用いて薄膜を形成する技術と
しては、真空蒸着、スパッタリング、無電解メッキ、電
解メッキ等の方法が多数報告されている。例えば、特開
平２−９８９９４号公報には、ポリイミドフィルム上に
クロム薄膜を形成した後、銅薄膜を形成する方法が報告
され、２層構造で薄膜の接着強度を改善している。また
特開昭６３−１８５０９１号公報にはポリイミドやガラ
ス等の凹凸基板の凹部に接着性の粒子を選択的に被着し
て平坦にした後、銅やアルミニウムの薄膜を形成する方
法等が開示されている。しかしながら、これらの空隙の
少ない材料と薄膜形成技術を用いても薄膜と基材の接着
強度が弱いため、二次加工が困難であり、そもそも装飾
性を付与することなど全く行われなかった。
キなどがあり、古来から資源を節約しつつ装飾性を維持
する方法として有効に用いられてきた。しかしながら、
従来、空隙の多い硬質材料には、５００μｍ以上のマク
ロな空隙が存在するため、蒸着により薄膜を形成するこ
とが困難であった。従って蒸着等の有効な技術は使用さ
れていなかった。また薄膜が形成できても接着強度が弱
いため二次加工が困難であり、そもそも装飾性を付与す
ることなど、思いもよらず全く試みられていなかった。
空隙の少ない樹脂を基材に用いて薄膜を形成する技術と
しては、真空蒸着、スパッタリング、無電解メッキ、電
解メッキ等の方法が多数報告されている。例えば、特開
平２−９８９９４号公報には、ポリイミドフィルム上に
クロム薄膜を形成した後、銅薄膜を形成する方法が報告
され、２層構造で薄膜の接着強度を改善している。また
特開昭６３−１８５０９１号公報にはポリイミドやガラ
ス等の凹凸基板の凹部に接着性の粒子を選択的に被着し
て平坦にした後、銅やアルミニウムの薄膜を形成する方
法等が開示されている。しかしながら、これらの空隙の
少ない材料と薄膜形成技術を用いても薄膜と基材の接着
強度が弱いため、二次加工が困難であり、そもそも装飾
性を付与することなど全く行われなかった。
【０００３】金属や合金、金属酸化物などへの蒸着やメ
ッキは経済性と実用性から、容易に装飾性を付与する方
法として用いられてきた。しかしながら、これらの表面
に凹凸や、幾何学模様などの装飾性を付与するには、予
め彫金や削り出しなどの方法で基材を加工する必要があ
り、広い面積にわたって細かい模様などを形成すること
は多くの手間と時間を必要とし困難であった。
ッキは経済性と実用性から、容易に装飾性を付与する方
法として用いられてきた。しかしながら、これらの表面
に凹凸や、幾何学模様などの装飾性を付与するには、予
め彫金や削り出しなどの方法で基材を加工する必要があ
り、広い面積にわたって細かい模様などを形成すること
は多くの手間と時間を必要とし困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する技術課題は、様々な種類の硬質材料並びに表面形態
の硬質材料の薄膜形成を可能にし、なおかつ意匠性に優
れた薄膜を形成することである。
する技術課題は、様々な種類の硬質材料並びに表面形態
の硬質材料の薄膜形成を可能にし、なおかつ意匠性に優
れた薄膜を形成することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、硬質材料基板
上に意匠性のある模様を施した耐熱性の樹脂層を設ける
ことにより、薄膜と硬質材料との接着性を保ちつつ装飾
性に優れた薄膜を形成できることを発見して、本発明を
完成するに至ったものである。すなわち、本発明は、基
本的に硬質材料基板の表面上に比較的高いガラス転移温
度を有する耐熱性の樹脂の薄膜を形成し、その表面に所
望の模様を刻設・形成し、さらにこの上に表面薄膜を形
成してなる意匠性に優れた硬質材料、であり、また好ま
しくは、ガラス転移温度が６０℃以上である硬質材料、
であり、また好ましくは、表面薄膜を金属材料で形成す
る硬質材料、であり、また好ましくは、表面薄膜の形成
をスパッタリングで行う硬質材料、を要旨とするもので
ある。
上に意匠性のある模様を施した耐熱性の樹脂層を設ける
ことにより、薄膜と硬質材料との接着性を保ちつつ装飾
性に優れた薄膜を形成できることを発見して、本発明を
完成するに至ったものである。すなわち、本発明は、基
本的に硬質材料基板の表面上に比較的高いガラス転移温
度を有する耐熱性の樹脂の薄膜を形成し、その表面に所
望の模様を刻設・形成し、さらにこの上に表面薄膜を形
成してなる意匠性に優れた硬質材料、であり、また好ま
しくは、ガラス転移温度が６０℃以上である硬質材料、
であり、また好ましくは、表面薄膜を金属材料で形成す
る硬質材料、であり、また好ましくは、表面薄膜の形成
をスパッタリングで行う硬質材料、を要旨とするもので
ある。
【０００６】図１は本発明の硬質材料の層構成の一例を
示す断面図であり、１は硬質材料基板、２は表面に模様
を刻設・形成した耐熱性の樹脂薄膜、３は表面薄膜を示
す。本発明で使用する硬質材料基板の材質は特に限定す
るものではないが、レンガ、タイル、コンクリートなど
の建材をはじめ樹脂板、金属板、耐熱ガラス、耐熱樹脂
など、要するにその表面に樹脂が塗布出来るものであれ
ばどんな材料かつ形状のものでもよいのである。
示す断面図であり、１は硬質材料基板、２は表面に模様
を刻設・形成した耐熱性の樹脂薄膜、３は表面薄膜を示
す。本発明で使用する硬質材料基板の材質は特に限定す
るものではないが、レンガ、タイル、コンクリートなど
の建材をはじめ樹脂板、金属板、耐熱ガラス、耐熱樹脂
など、要するにその表面に樹脂が塗布出来るものであれ
ばどんな材料かつ形状のものでもよいのである。
【０００７】本発明で使用する比較的高いガラス転移温
度を有する耐熱性の樹脂としては、好ましくはガラス転
移温度が６０℃以上の樹脂であり、例えば、ポリイミ
ド、ポリエステル、アクリル系樹脂、メタクリル系樹
脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂等があり、特に樹
脂の種類には限定されるものではない。ガラス転移温度
があまり低い樹脂を使用した場合は、以後の表面薄膜形
成工程で、特に金属薄膜をスパッター等で形成する時に
樹脂薄膜が変形したり変質する恐れ等があり、本発明の
効果を発揮することができない。
度を有する耐熱性の樹脂としては、好ましくはガラス転
移温度が６０℃以上の樹脂であり、例えば、ポリイミ
ド、ポリエステル、アクリル系樹脂、メタクリル系樹
脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂等があり、特に樹
脂の種類には限定されるものではない。ガラス転移温度
があまり低い樹脂を使用した場合は、以後の表面薄膜形
成工程で、特に金属薄膜をスパッター等で形成する時に
樹脂薄膜が変形したり変質する恐れ等があり、本発明の
効果を発揮することができない。
【０００８】これらの樹脂の薄膜の形成方法としては樹
脂を溶媒に溶かした溶液の状態や樹脂を加熱して溶融し
た状態で塗布する方法等を有効に用いることができる。
塗布方法としては、バーコート、スピンコート、ロール
コート、スプレーコート等が基材に応じて適宜選択され
れば良く、とくに限定されるものではない。塗布後の樹
脂の薄膜の乾燥、固化は適法に従って行われる。また、
これら湿式の方法の外に、真空蒸着、スパッタリング、
プラズマ重合、プラズマＣＶＤ（化学的蒸着法）等の乾
式方法による薄膜も有効に利用できる。樹脂の膜厚は表
面に施した模様にも依るが凹部で５０ｎｍ以上１０μｍ
以下で十分である。好ましくは１００ｎｍ以上１０μｍ
以下である。樹脂の膜厚が５０ｎｍ未満になると剥離強
度の低下が大きく本発明の効果を得ることが出来ない。
１０μｍ以上の樹脂の膜厚は本発明の効果を妨げるもの
ではないが、薄膜形成時の塗布回数の増加、乾燥時間の
増加、樹脂原料コストの増加等の実用性の観点から好ま
しい条件範囲を外れるものである。
脂を溶媒に溶かした溶液の状態や樹脂を加熱して溶融し
た状態で塗布する方法等を有効に用いることができる。
塗布方法としては、バーコート、スピンコート、ロール
コート、スプレーコート等が基材に応じて適宜選択され
れば良く、とくに限定されるものではない。塗布後の樹
脂の薄膜の乾燥、固化は適法に従って行われる。また、
これら湿式の方法の外に、真空蒸着、スパッタリング、
プラズマ重合、プラズマＣＶＤ（化学的蒸着法）等の乾
式方法による薄膜も有効に利用できる。樹脂の膜厚は表
面に施した模様にも依るが凹部で５０ｎｍ以上１０μｍ
以下で十分である。好ましくは１００ｎｍ以上１０μｍ
以下である。樹脂の膜厚が５０ｎｍ未満になると剥離強
度の低下が大きく本発明の効果を得ることが出来ない。
１０μｍ以上の樹脂の膜厚は本発明の効果を妨げるもの
ではないが、薄膜形成時の塗布回数の増加、乾燥時間の
増加、樹脂原料コストの増加等の実用性の観点から好ま
しい条件範囲を外れるものである。
【０００９】本発明において、斯くして形成した耐熱性
樹脂薄膜の表面に所望の模様を刻設・形成するが、模様
を形成する方法としては、スクライビング及び押し付け
による模様転写などの物理的な方法、溶剤を用いた表面
の侵食などの化学的な方法、スクリーン印刷などの印刷
技術による方法、樹脂膜作製時に発生する模様の使用な
ど、どの様な方法を用いてもよい。また通常のコーティ
ング方法に於て樹脂溶液等の粘度、チクソトロピーを変
化させることで容易に模様を施すこともできる。ここに
云う模様とは単なる艶消しも含まれる。
樹脂薄膜の表面に所望の模様を刻設・形成するが、模様
を形成する方法としては、スクライビング及び押し付け
による模様転写などの物理的な方法、溶剤を用いた表面
の侵食などの化学的な方法、スクリーン印刷などの印刷
技術による方法、樹脂膜作製時に発生する模様の使用な
ど、どの様な方法を用いてもよい。また通常のコーティ
ング方法に於て樹脂溶液等の粘度、チクソトロピーを変
化させることで容易に模様を施すこともできる。ここに
云う模様とは単なる艶消しも含まれる。
【００１０】以上のごとくして形成した模様の上に、表
面薄膜を形成する。薄膜としては好ましくは金属系のも
のである。金属薄膜については、銅、金、銀、白金、チ
タン、ニッケル、クロム、すず、ロジウム、パラジウム
やこれらの合金を有効に用いることができる。またこれ
らの金属の炭化物、窒化物等も表面硬度の改善と装飾性
を兼ねて表面薄膜形成材料として有効に用いることがで
きる。特に好ましくは、建築用の材料として、性能なら
びにコスト面から実用性に富む金属材料としての銅が用
いられる。また、表面薄膜は単独で用いることができる
他、必要に応じて、２種類以上の薄膜を積層して用いる
こともできる。なお、表面薄膜の厚みは特に限定される
ものでは無いが、実質的に均一な膜とするには、２０ｎ
ｍ以上とするのが好ましい。また電解メッキを適用する
場合は作業上１００ｎｍ以上程度であることが好まし
い。
面薄膜を形成する。薄膜としては好ましくは金属系のも
のである。金属薄膜については、銅、金、銀、白金、チ
タン、ニッケル、クロム、すず、ロジウム、パラジウム
やこれらの合金を有効に用いることができる。またこれ
らの金属の炭化物、窒化物等も表面硬度の改善と装飾性
を兼ねて表面薄膜形成材料として有効に用いることがで
きる。特に好ましくは、建築用の材料として、性能なら
びにコスト面から実用性に富む金属材料としての銅が用
いられる。また、表面薄膜は単独で用いることができる
他、必要に応じて、２種類以上の薄膜を積層して用いる
こともできる。なお、表面薄膜の厚みは特に限定される
ものでは無いが、実質的に均一な膜とするには、２０ｎ
ｍ以上とするのが好ましい。また電解メッキを適用する
場合は作業上１００ｎｍ以上程度であることが好まし
い。
【００１１】本発明の特徴は硬質材料基板の種類及び硬
質材料基板表面の形態にかかわらず、耐熱樹脂の薄膜を
下地層に用いることによって、接着強度が強く、且つ意
匠性のある表面薄膜特に金属の表面薄膜を形成できるこ
とである。斯くして看者をして視覚を通じて美観を起こ
さしめる美麗な意匠を表面に有する硬質材料が提供され
る。接着性や大面積の均一形成性、薄膜形成プロセスの
工業的完成度等の実用性を考慮すると、スパッタリング
法やイオン補助真空蒸着法を用いることが好ましい。ス
パッタリング方法としては特に限定されるものではな
い。薄膜を形成すべき材料で形成されるターゲットを用
いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング、高周波マグネ
トロンスパッタリング、イオンビームスパッタリング等
の薄膜形成技術が有効に用いられる。膜厚が１μｍ以上
のように厚い領域においては、無電解メッキ、電解メッ
キ等の湿式の薄膜形成方法が好ましく用いられる。乾式
の薄膜形成方法と湿式の薄膜形成方法を合わせて用いる
ことも勿論できる。たとえば、乾式の薄膜形成方法で１
μｍ以下の薄膜を形成しておき、この上に無電解メッ
キ、電解メッキ等で金属薄膜を重ねて膜厚を厚くできる
ことは本発明の特徴の一つである。以下、実施例をあげ
て本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の
実施例により、束縛されるものではない。
質材料基板表面の形態にかかわらず、耐熱樹脂の薄膜を
下地層に用いることによって、接着強度が強く、且つ意
匠性のある表面薄膜特に金属の表面薄膜を形成できるこ
とである。斯くして看者をして視覚を通じて美観を起こ
さしめる美麗な意匠を表面に有する硬質材料が提供され
る。接着性や大面積の均一形成性、薄膜形成プロセスの
工業的完成度等の実用性を考慮すると、スパッタリング
法やイオン補助真空蒸着法を用いることが好ましい。ス
パッタリング方法としては特に限定されるものではな
い。薄膜を形成すべき材料で形成されるターゲットを用
いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング、高周波マグネ
トロンスパッタリング、イオンビームスパッタリング等
の薄膜形成技術が有効に用いられる。膜厚が１μｍ以上
のように厚い領域においては、無電解メッキ、電解メッ
キ等の湿式の薄膜形成方法が好ましく用いられる。乾式
の薄膜形成方法と湿式の薄膜形成方法を合わせて用いる
ことも勿論できる。たとえば、乾式の薄膜形成方法で１
μｍ以下の薄膜を形成しておき、この上に無電解メッ
キ、電解メッキ等で金属薄膜を重ねて膜厚を厚くできる
ことは本発明の特徴の一つである。以下、実施例をあげ
て本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の
実施例により、束縛されるものではない。
【００１２】
実施例１ 硬質材料基板として、厚み１ｃｍのラワン合板を用い
た。この表面にガラス転移温度が６０℃のアクリル系の
樹脂をバーコーターを用いて塗布し、１００℃で急速に
乾燥して膜厚１０μｍのアクリル系の樹脂薄膜を形成し
た。この時、樹脂溶液の粘度を高くしてバー筋からなる
模様を美麗な意匠として残した。次いで、この樹脂被覆
基材をスパッタリング装置の真空室に導入した。まず、
グロー放電による酸素プラズマに暴露した後、銅をター
ゲットにして、ＤＣマグネトンスパッタリングにより、
平均膜厚が約２５０ｎｍの銅薄膜を積層した。この銅薄
膜形成ラワン合板を電解メッキ槽に導入して、該銅薄膜
を電極として３５μｍまで銅を厚膜化した。この銅膜の
剥離強度は１．０ｋｇ／ｃｍであった。また樹脂表面の
バー筋はスパッタリング後だけでなくメッキ後も銅表面
に正確に再現され、これにより銅表面に、看者をして視
覚を通じて美観を起こさしめる意匠性をもたせることが
出来た。
た。この表面にガラス転移温度が６０℃のアクリル系の
樹脂をバーコーターを用いて塗布し、１００℃で急速に
乾燥して膜厚１０μｍのアクリル系の樹脂薄膜を形成し
た。この時、樹脂溶液の粘度を高くしてバー筋からなる
模様を美麗な意匠として残した。次いで、この樹脂被覆
基材をスパッタリング装置の真空室に導入した。まず、
グロー放電による酸素プラズマに暴露した後、銅をター
ゲットにして、ＤＣマグネトンスパッタリングにより、
平均膜厚が約２５０ｎｍの銅薄膜を積層した。この銅薄
膜形成ラワン合板を電解メッキ槽に導入して、該銅薄膜
を電極として３５μｍまで銅を厚膜化した。この銅膜の
剥離強度は１．０ｋｇ／ｃｍであった。また樹脂表面の
バー筋はスパッタリング後だけでなくメッキ後も銅表面
に正確に再現され、これにより銅表面に、看者をして視
覚を通じて美観を起こさしめる意匠性をもたせることが
出来た。
【００１３】実施例２ 硬質材料基板として、厚み１．５ｃｍのラワン合板を用
いた。この表面にガラス転移温度が１２０℃のメタクリ
ル系の樹脂をバーコーターを用いて塗布し、１３０℃で
急速に乾燥して膜厚１０μｍの樹脂薄膜を形成した。こ
の時、数平均分子量１００万程度の高分子量分子を用い
ることにより、表面に亀の甲羅状の模様を美麗な意匠と
して形成した。次いで、この樹脂被覆基材をスパッタリ
ング装置の真空室に導入した。まず、グロー放電による
酸素プラズマに暴露した後、銅をターゲットにして、Ｄ
Ｃマグネトンスパッタリングにより、平均膜厚が約２５
０ｎｍの銅薄膜を積層した。この銅薄膜形成ラワン合板
を電解メッキ槽に導入して、該銅薄膜を電極として３５
μｍまで銅を厚膜化した。この銅膜の剥離強度は１．０
ｋｇ／ｃｍであった。また樹脂膜形成時に生成した美麗
な模様は、スパッタリング後だけでなくメッキ後も銅表
面に正確に再現され、これにより銅表面に、看者をして
視覚を通じて美観を起こさしめる意匠性をもたせること
が出来た。
いた。この表面にガラス転移温度が１２０℃のメタクリ
ル系の樹脂をバーコーターを用いて塗布し、１３０℃で
急速に乾燥して膜厚１０μｍの樹脂薄膜を形成した。こ
の時、数平均分子量１００万程度の高分子量分子を用い
ることにより、表面に亀の甲羅状の模様を美麗な意匠と
して形成した。次いで、この樹脂被覆基材をスパッタリ
ング装置の真空室に導入した。まず、グロー放電による
酸素プラズマに暴露した後、銅をターゲットにして、Ｄ
Ｃマグネトンスパッタリングにより、平均膜厚が約２５
０ｎｍの銅薄膜を積層した。この銅薄膜形成ラワン合板
を電解メッキ槽に導入して、該銅薄膜を電極として３５
μｍまで銅を厚膜化した。この銅膜の剥離強度は１．０
ｋｇ／ｃｍであった。また樹脂膜形成時に生成した美麗
な模様は、スパッタリング後だけでなくメッキ後も銅表
面に正確に再現され、これにより銅表面に、看者をして
視覚を通じて美観を起こさしめる意匠性をもたせること
が出来た。
【００１４】実施例３ 硬質材料基板として、厚み１ｃｍのセメント硬化体を用
いた。この表面にガラス転移温度が８０℃のメラミン硬
化型ポリエステル樹脂をバーコーターを用いて塗布し、
直後に１４０℃で急速乾燥して、表面に多数の細かい凹
凸模様のある膜厚１０μｍのポリエステル系の樹脂薄膜
を形成した。次いで、この樹脂被覆基材をスパッタリン
グ装置の真空室に導入した。まず、グロー放電による酸
素プラズマに暴露した後、銅をターゲットにして、ＤＣ
マグネトンスパッタリングにより、平均膜厚が約３００
ｎｍの銅薄膜を積層した。この銅薄膜形成セメント硬化
体を電解メッキ槽に導入して、該銅薄膜を電極として２
５μｍまで銅を厚膜化した。この銅膜の剥離強度は１．
５ｋｇ／ｃｍであった。また急激な乾燥により発生した
幾何学模様はスパッタリング後だけでなくメッキ後も銅
表面に正確に再現され、これにより銅表面に、看者をし
て視覚を通じて美観を起こさしめる意匠性をもたせるこ
とが出来た。この表面意匠を図２に示す。
いた。この表面にガラス転移温度が８０℃のメラミン硬
化型ポリエステル樹脂をバーコーターを用いて塗布し、
直後に１４０℃で急速乾燥して、表面に多数の細かい凹
凸模様のある膜厚１０μｍのポリエステル系の樹脂薄膜
を形成した。次いで、この樹脂被覆基材をスパッタリン
グ装置の真空室に導入した。まず、グロー放電による酸
素プラズマに暴露した後、銅をターゲットにして、ＤＣ
マグネトンスパッタリングにより、平均膜厚が約３００
ｎｍの銅薄膜を積層した。この銅薄膜形成セメント硬化
体を電解メッキ槽に導入して、該銅薄膜を電極として２
５μｍまで銅を厚膜化した。この銅膜の剥離強度は１．
５ｋｇ／ｃｍであった。また急激な乾燥により発生した
幾何学模様はスパッタリング後だけでなくメッキ後も銅
表面に正確に再現され、これにより銅表面に、看者をし
て視覚を通じて美観を起こさしめる意匠性をもたせるこ
とが出来た。この表面意匠を図２に示す。
【００１５】実施例４ 空隙の多い硬質基材基板として、厚み０．５ｃｍのセメ
ント硬化体を用いた。この表面にガラス転移温度が２５
０℃の熱可塑性ポリイミド樹脂フィルムを熱圧着し、同
時に幾何学模様を施した鉄鋼板により表面に模様を転写
した。これにより膜厚約２０μｍのポリイミド樹脂薄膜
を形成した。その後次いで、この樹脂被覆基材をスパッ
タリング装置の真空室に導入した。まず、グロー放電に
よる酸素プラズマに暴露した後、銅をターゲットにし
て、ＤＣマグネトンスパッタリングにより、平均膜厚が
約１μｍの銅薄膜を積層した。この銅薄膜形成セメント
硬化体を電解メッキ槽に導入して、該銅薄膜を電極とし
て２５μｍまで銅を厚膜化した。この銅膜の剥離強度は
２．５ｋｇ／ｃｍであった。また樹脂表面に転写した模
様はスパッタリング後だけでなくメッキ後も銅表面に正
確に再現され、これにより銅表面に、看者をして視覚を
通じて美観を起こさしめる意匠性をもたせることが出来
た。この表面意匠を図３に示す。
ント硬化体を用いた。この表面にガラス転移温度が２５
０℃の熱可塑性ポリイミド樹脂フィルムを熱圧着し、同
時に幾何学模様を施した鉄鋼板により表面に模様を転写
した。これにより膜厚約２０μｍのポリイミド樹脂薄膜
を形成した。その後次いで、この樹脂被覆基材をスパッ
タリング装置の真空室に導入した。まず、グロー放電に
よる酸素プラズマに暴露した後、銅をターゲットにし
て、ＤＣマグネトンスパッタリングにより、平均膜厚が
約１μｍの銅薄膜を積層した。この銅薄膜形成セメント
硬化体を電解メッキ槽に導入して、該銅薄膜を電極とし
て２５μｍまで銅を厚膜化した。この銅膜の剥離強度は
２．５ｋｇ／ｃｍであった。また樹脂表面に転写した模
様はスパッタリング後だけでなくメッキ後も銅表面に正
確に再現され、これにより銅表面に、看者をして視覚を
通じて美観を起こさしめる意匠性をもたせることが出来
た。この表面意匠を図３に示す。
【００１６】比較例１ 実施例３と同様のセメント硬化体の表面に、ガラス転移
温度が高くない、ガラス転移温度５５℃のエポキシ樹脂
をバーコーターを用いて塗布し、常温で乾燥して膜厚１
０μｍのエポキシ樹脂薄膜を形成した。この時樹脂溶液
の粘度を高くしてバー筋を残した。次いで、この樹脂被
覆基材を実施例２と同様の方法で銅膜を形成した。この
銅膜の剥離強度は０．０５ｋｇ／ｃｍであり、切断加工
の際に剥離してしまった。また樹脂表面に形成したバー
筋は一部が保持されたのみで模様の再現性は良くなかっ
た。
温度が高くない、ガラス転移温度５５℃のエポキシ樹脂
をバーコーターを用いて塗布し、常温で乾燥して膜厚１
０μｍのエポキシ樹脂薄膜を形成した。この時樹脂溶液
の粘度を高くしてバー筋を残した。次いで、この樹脂被
覆基材を実施例２と同様の方法で銅膜を形成した。この
銅膜の剥離強度は０．０５ｋｇ／ｃｍであり、切断加工
の際に剥離してしまった。また樹脂表面に形成したバー
筋は一部が保持されたのみで模様の再現性は良くなかっ
た。
【００１７】
【発明の効果】以上の実施例ならびに比較例から明らか
なように、本発明は様々な種類の硬質材料基板並びに種
々の表面形態の硬質材料基板に薄膜を形成することを可
能にするものであり、且つ意匠性に優れた材料を容易に
提供できるものである。よって建築、装飾等の産業にと
って極めて有用な発明である。
なように、本発明は様々な種類の硬質材料基板並びに種
々の表面形態の硬質材料基板に薄膜を形成することを可
能にするものであり、且つ意匠性に優れた材料を容易に
提供できるものである。よって建築、装飾等の産業にと
って極めて有用な発明である。
【図１】本発明の硬質材料の層構成の一例を示す断面
図。
図。
【図２】セメント硬化体上に形成した模様を示す平面
図。
図。
【図３】セメント硬化体上に形成した模様を示す平面
図。
図。
１ 硬質材料基板 ２ 表面に模様を刻設・形成した樹脂薄膜 ３ 表面薄膜
Claims (4)
- 【請求項１】 硬質材料基板の表面上に比較的高いガラ
ス転移温度を有する耐熱性の樹脂の薄膜を形成し、その
表面に所望の模様を刻設・形成し、さらにこの上に表面
薄膜を形成してなる意匠性に優れた硬質材料。 - 【請求項２】 ガラス転移温度が６０℃以上である請求
項１記載の材料。 - 【請求項３】 表面薄膜を金属材料で形成する請求項１
又は２記載の材料。 - 【請求項４】 表面薄膜の形成をスパッタリングで行う
請求項１乃至３の何れかに記載の材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33731392A JPH06184731A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 意匠性に優れた硬質材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33731392A JPH06184731A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 意匠性に優れた硬質材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06184731A true JPH06184731A (ja) | 1994-07-05 |
Family
ID=18307458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33731392A Pending JPH06184731A (ja) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | 意匠性に優れた硬質材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06184731A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013060477A1 (en) | 2011-10-27 | 2013-05-02 | Italcementi S.P.A. | Preparation of cementitious articles with a high surface finish for use in electrical devices |
| CN104130010A (zh) * | 2014-08-20 | 2014-11-05 | 南京倍立达新材料***工程股份有限公司 | 一种制备多彩面釉grc装饰建材的方法 |
-
1992
- 1992-12-17 JP JP33731392A patent/JPH06184731A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013060477A1 (en) | 2011-10-27 | 2013-05-02 | Italcementi S.P.A. | Preparation of cementitious articles with a high surface finish for use in electrical devices |
| CN104130010A (zh) * | 2014-08-20 | 2014-11-05 | 南京倍立达新材料***工程股份有限公司 | 一种制备多彩面釉grc装饰建材的方法 |
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