JPH0618068B2 - 磁気記録媒体およびベ−スフイルム - Google Patents

磁気記録媒体およびベ−スフイルム

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JPH0618068B2
JPH0618068B2 JP60200470A JP20047085A JPH0618068B2 JP H0618068 B2 JPH0618068 B2 JP H0618068B2 JP 60200470 A JP60200470 A JP 60200470A JP 20047085 A JP20047085 A JP 20047085A JP H0618068 B2 JPH0618068 B2 JP H0618068B2
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博嗣 高木
謙一 鈴木
晄 新見
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、磁気記録媒体用ベースフィルムおよび磁気記
録媒体に関するものであり、特にヘッドタッチ、耐久
性、走行性の改善に関するものである。
[開示の概要] 本明細書は、磁気記録媒体において、ベースフィルムを
高さ0.1μm以下の突起が1mm2当り平均105〜109
存在する、特定のポリイミドフィルムとすることによっ
て、走行特性、耐久性、ヘッドタッチに優れた高密度磁
気記録媒体を提供する技術を開示するものである。
[従来の技術] 強磁性金属薄膜、強磁性酸化物薄膜あるいは強磁性窒化
物薄膜を磁気記録層として形成した磁気記録媒体は高密
度記録用として優れた特性を有するものである。その例
をあげると、Co膜、Co-Ni膜、Co-Cr膜、Co酸化物膜、Ba
−フェライト膜等があるが、これらの薄膜は、生産性、
特性の制御性等の優れている真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法で代表される薄膜堆積法
により形成される。
これら薄膜堆積法を用いた磁気記録媒体の製造プロセス
においては、特性向上のためにベースフィルムが高温に
保持されたり、蒸発源からの輻射熱、入射粒子の衝撃に
より高温にさらされる。磁気テープあるいはフロッピー
ディスクタイプの磁気記録媒体の基体には可撓性の高分
子フィルムが用いられるが、上記理由により、従来専ら
使用されてきたポリエステルフィルムよりも耐熱性に優
れた高分子フィルムが必要である。そのような耐熱性樹
脂の候補として、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフ
ェニルサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリアミ
ド、ポリイミドが挙げられるが、中でもポリイミドフィ
ルムが最も耐熱性が高く、Co-Cr垂直磁気記録媒体の様
に薄膜形成時に基体を100℃以上に保持する必要のあ
る、磁気記録媒体用ベースフィルムとして最も適してい
る。
[発明が解決しようとする問題点] ところで、前述したような強磁性薄膜型磁気記録媒体で
は、従来の塗布型磁気記録媒体に比べて磁気記録層の厚
さが非常に薄いため、媒体の走行性やドロップアウトの
重要なファクターである磁気記録層の表面粗度は、ベー
スフィルムの表面粗度に依存する。しかしながら従来の
ポリイミドフィルムでは適当な表面粗度のものがなく、
摩擦が大きすぎて走行性の悪化を招いたり、ドロップア
ウト発生を惹き起していた。
本発明は上述した従来ポリイミドフィルムの問題点を除
去し、走行特性、耐久性、ヘッドタッチに優れた高密度
磁気記録媒体用ベースフィルムおよび磁気記録媒体を提
供するものである。
[問題点を解決するための手段および作用] 本発明は、高さ0.1μm以下の突起が1mm2当たり平
均105〜109個存在するポリイミドフィルムからなる
磁気記録媒体用ベースフィルムであって、該ポリイミド
フィルムが、全芳香族ジアミン成分に対して少なくとも
30モル%以上のパラフェニレンジアミン(以下PPD
と略す)および0〜70モル%のジアミノジフェニルエ
ーテル(以下DADEと略す)からなる芳香族ジアミン
成分と、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下B
PDAと略す)およびピロメリット酸二無水物(以下P
MDAと略す)とからなるテトラカルボン酸成分とを共
重合して得られた芳香族ポリアミック酸溶液から形成さ
れたことを特徴とするベースフィルム、さらには、前記
フィルム上に薄膜堆積法により強磁性薄膜を形成した磁
気記録媒体である。本発明において、PPD,DADE,BPDA
およびPMDAの3成分あるいは4成分からなるポリイミド
フィルムは熱膨張係数が1.0〜3.0×10-5であり、この
フィルム上に形成される磁気記録層の熱膨張係数に近
い。そのため磁気記録層形成時の熱応力、あるいは環境
温度の変化にともなう媒体のそりを緩和するように適切
な熱膨張係数のポリイミドフィルムを、前記3成分ある
いは4成分の配合比を変化することにより選択すること
が可能で、カールのない磁気記録媒体を製造できる。
表面突起物は流延ベルト上に微細な凹凸を形成し、この
凹凸をフィルム面に転写して形成することも可能である
が、ポリイミド溶液中にAl2O3,TiO2,MgO,C,SiO2
BaSO4,Cr2O3,CaCO3,Fe等の無機物微粒子を分散させ
る方が微小な凹凸の制御が可能である。表面突起の高さ
は40〜0.1μmが望ましく、さらには40〜300であ
ることが好ましい。高さ40以下の突起は摩擦係数減少
の効果が現われない。また突起物は表面1mm2当り105
〜109個であることが望ましい。105未満では突起1
個当りのヘッドとの接触圧力が大きくなるため、突起部
分が削り取られる。また109を超える場合において
は、粒子混合量が過大となり粒子が凝集し、粗大な突起
の発生を招く。さらに好ましくは1mm2当り106〜10
8個の突起密度であり、これにより媒体の摩擦係数を減
少させることができる。
上記ポリイミドフィルム上に形成する磁気記録層は、F
e,Co,Niを主成分とする強磁性合金膜、強磁性酸化物
膜あるいは強磁性窒化物膜である。これらの磁気記録層
は真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリン
グ法等の物理蒸着法、あるいはメッキ法等で形成され
る。
中でも真空蒸着あるいはスパッタリング法で形成したCr
15〜23wt%、残部CoからなるCo-Cr垂直磁化膜は従来の
面内磁化媒体に比べ、高密度記録用として非常に優れて
いる。
これら磁気記録層の下部は、ベースフィルムとの付着力
の向上、結晶配向性、磁気特性の向上を目的として、A
l,Ge,Cr,Ti,Sio2等の薄膜や、垂直磁化膜の裏打ち
層としてFe-Ni膜、Co-Zr膜等の高透磁率層が設けられる
場合もある。
また、磁気記録層上に、耐蝕性、耐摩耗性、潤滑性を向
上するために、Al2O3,SiO2,Si3N4,Mo,Ni等の無機物
層あるいはフッ素樹脂、脂肪酸エステル、ステアリン酸
等の有機物層が形成される場合もある。前記Co-Cr膜の
場合においては、Co酸化物層が耐久性の向上、摩擦の低
減に有効である。
[実施例] 実施例1 PPD 80モル%、DADE 20モル%からなるジアミン成分
と、BPDA 70モル%、PMDA 30モル%からなる酸二無水物
成分、および無機微粒子として平均粒径50μmのTiO2
子を原料として、厚み9μmのポリイミドフィルムを製
作した。このポリイミドフィルムの熱膨張係数は1.9×1
0-5、引張り弾性定数は624kg/mm2であった。また、タ
リステップ(テーラーホブソン製)で測定した最大粗さ
540、10点平均粗さ210であり、走査型電子顕微鏡
(SEM)による表面写真により突起密度は平均2×107
/mm2であった。
このポリイミドフィルム上に電子ビーム加熱連続蒸着装
置にて、Co 79wt%、Cr 21wt%のCo-Cr膜を0.4μm形成
した。さらにCo-Cr膜上に反応スパッタリング法によ
り、Co酸化物膜を60形成し、磁気テープを製造した。
比較例1 実施例1と同一組成のジアミン成分および酸二無水物成
分から9μmポリイミドフィルムを製作した。ただしこ
のフィルムにはTiO2の微粒子が含まれていない。このポ
リイミドフィルムの表面粗さは、最大粗さ470、10点
平均粗さ70であり、SEM観察による表面突起数は平均1
03個/mm2である。
このポリイミドフィルムに実施例1と同一方法でCo-Cr
膜およびCo酸化膜を形成し、磁気テープで製造した。
実施例1および比較例1の磁気テープの4mmφステンレ
ス棒(仕上げ精度0.2s)に対する摩擦係数はそれぞれ0.
29および0.42であった。すなわち実施例1の本発明磁気
テープはデッキにおいても走行がスムーズであるのに対
し、比較例1の磁気テープはテープ鳴きを生じ、走行が
不安定であった。
実施例2 PPD 50モル%およびDADE 50モル%からなるジアミン成
分と、BPDA 40モル%およびPMDA 60モル%からなるテト
ラカルボン酸成分、および無機微粒子として平均粒径30
μmのSiO2およびCを混合し重合流延して40μm厚のポ
リイミドフィルムを得た。このポリイミドフィルムの熱
膨張係数は2.6×10-5、引張り弾性率は396kg/mm2であ
った。このポリイミドフィルムの表面粗さは実施例1と
同一方法で測定し、最大粗さ410、10点平均粗さ150
であった。また突起密度は平均3.5×107個/mm2であっ
た。
このポリイミドフィルムを150℃に加熱した上に、Co 80
wt%−Cr 20wt%の合金ターゲットを使用し成膜速度0.2
μm/minでスパッタリングし、Co-Cr膜を0.5μm形成
した。さらにCo-Cr膜上に反応スパッタ法によりCo酸化
膜を80形成し、垂直磁気記録フロッピーディスクを製
作した。
比較例2 実施例2と同一成分でSiO2およびC微粒子を含まないポ
リイミドフィルム上に実施例2と同一方法、同一条件で
Co-Cr膜を0.5μm、Co-O膜を80形成し、垂直磁気記録
フロッピーディスクを製作した。このポリイミドフィル
ムの表面粗さは最大粗さ270、10点平均粗さ30であ
り、突起密度は平均2×102個/mm2であった。
上記実施例2および比較例2のフロッピーディスクをリ
ング型ヘッドで再生出力の耐久試験を行なった。100万
パス後、比較例2のフロッピーディスクの測定に使用し
たヘッドにはディスクとヘッドとの摩擦で生じた摩耗粉
が付着していたのに対し、実施例2の本発明ディスクの
測定に使用したヘッドに付着していた摩耗粉は微量であ
り、ヘッド、媒体の長寿命化に有効である。
[発明の効果] 以上、実施例により説明した様に本発明のベースフィル
ム上に強磁性薄膜を形成した本発明磁気記録媒体は、テ
ープの走行およびヘッドタッチの重要なファクターであ
る摩擦係数は小さく、走行性、耐久性に優れた磁気記録
媒体を提供するものである。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】高さ0.1μm以下の突起が1mm2当たり
    平均105〜109個存在するポリイミドフィルムからな
    る磁気記録媒体用ベースフィルムであって、該ポリイミ
    ドフィルムが、全芳香族ジアミン成分に対して少なくと
    も30モル%以上のパラフェニレンジアミンおよび0〜
    70モル%のジアミノジフェニルエーテルからなる芳香
    族ジアミン成分と、ビフェニルテトラカルボン酸二無水
    物およびピロメリット酸二無水物とからなるテトラカル
    ボン酸成分とを共重合して得られた芳香族ポリアミック
    酸溶液から形成されたことを特徴とするベースフィル
    ム。
  2. 【請求項2】高さ0.1μm以下の突起が1mm2当たり
    平均105〜109個存在するベースフィルム上に薄膜堆
    積法により強磁性薄膜を形成した磁気記録媒体であっ
    て、該ベースフィルムが、全芳香族ジアミン成分に対し
    て少なくとも30モル%以上のパラフェニレンジアミン
    および0〜70モル%のジアミノジフェニルエーテルか
    らなる芳香族ジアミン成分と、ビフェニルテトラカルボ
    ン酸二無水物およびピロメリット酸二無水物とからなる
    テトラカルボン酸成分とを共重合して得られた芳香族ポ
    リアミック酸溶液から形成されたポリイミドからなるこ
    とを特徴とする磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】磁気記録層の少なくとも一層がCo−Cr層合
    金膜であり、前記Co−Cr合金膜上にCo酸化物層を有する
    ことを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の磁気記
    録媒体。
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