JPH06177B2 - Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 - Google Patents
Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法Info
- Publication number
- JPH06177B2 JPH06177B2 JP2024470A JP2447090A JPH06177B2 JP H06177 B2 JPH06177 B2 JP H06177B2 JP 2024470 A JP2024470 A JP 2024470A JP 2447090 A JP2447090 A JP 2447090A JP H06177 B2 JPH06177 B2 JP H06177B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clf
- exhaust gas
- oxide
- iron
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 17
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 claims description 5
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 29
- OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N fluoridochlorine Chemical compound ClF OMRRUNXAWXNVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 5
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910001902 chlorine oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- MAYPHUUCLRDEAZ-UHFFFAOYSA-N chlorine peroxide Chemical compound ClOOCl MAYPHUUCLRDEAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHXXPRJOPFJRHA-UHFFFAOYSA-K iron(iii) fluoride Chemical compound F[Fe](F)F SHXXPRJOPFJRHA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N Chlorine monoxide Chemical compound Cl[O] NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001341 alkaline earth metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005203 dry scrubbing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ClF3を含有する排ガスの処理方法に係り、特
に半導体工業で、ClF3により装置内面等をドライクリー
ニングする際、排出されるClF3とともにSiCl4、SiF4、C
l2、F2等の排ガスを除去して無害化する方法に関する。
に半導体工業で、ClF3により装置内面等をドライクリー
ニングする際、排出されるClF3とともにSiCl4、SiF4、C
l2、F2等の排ガスを除去して無害化する方法に関する。
近年、超ＬＳＩの微細化及び生産効率の向上要求によ
り、ＣＶＤ・ＰＶＤ装置の壁面及び関連治具類のオート
クリーニングのニーズが高まつている。
り、ＣＶＤ・ＰＶＤ装置の壁面及び関連治具類のオート
クリーニングのニーズが高まつている。
ClF3はプラズマレスで、しかも低濃度、低温でのクリー
ニングが可能のため、その有効性が注目されている。し
かし、ClF3はＴＬＶ値が０．１ppmときわめて毒性が強
く、その除害法の確立が急務とされている。
ニングが可能のため、その有効性が注目されている。し
かし、ClF3はＴＬＶ値が０．１ppmときわめて毒性が強
く、その除害法の確立が急務とされている。
ClF3の除外方法としては、アルカリ水溶液による湿式ス
クラバーやソーダ石灰、活性アルミナなどに乾式除害が
一般的に行われている。
クラバーやソーダ石灰、活性アルミナなどに乾式除害が
一般的に行われている。
従来技術では、アルカリ剤や活性アルミナ等の処理剤を
単独で用いても、ClF3自体の完全な除去が不可能である
ばかりでなく、処理剤との反応により酸化塩素が遊離す
る。また、ClF3と同時に排出されるSiCl4・SiF4・Cl2・
F2等の酸性ガスについても、一部は除去されないかまた
は処理量が少ないほどの問題点があつた。
単独で用いても、ClF3自体の完全な除去が不可能である
ばかりでなく、処理剤との反応により酸化塩素が遊離す
る。また、ClF3と同時に排出されるSiCl4・SiF4・Cl2・
F2等の酸性ガスについても、一部は除去されないかまた
は処理量が少ないほどの問題点があつた。
そこで、本発明は、酸性ガスが同時に排出されてもClF3
をＴＬＶ値以下に処理し、かつ共存する酸性ガスも合わ
せて有効に除去できる、ClF3含有排ガスの処理方法を提
供することを目的とする。
をＴＬＶ値以下に処理し、かつ共存する酸性ガスも合わ
せて有効に除去できる、ClF3含有排ガスの処理方法を提
供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では、ClF3を含有す
る排ガスを、鉄の酸化物と常温で接触させた後、水酸化
カルシウム、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、又
は酸化マグネシウムからなるアルカリ土類金属の化合物
の１種以上から選ばれるアルカリ剤と接触させることと
したものである。
る排ガスを、鉄の酸化物と常温で接触させた後、水酸化
カルシウム、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、又
は酸化マグネシウムからなるアルカリ土類金属の化合物
の１種以上から選ばれるアルカリ剤と接触させることと
したものである。
すなわち、本発明はClF3の他にSiCl4・SiFl4・Cl2・F2
等の酸性ガスを含む排ガスを処理するにあたつて、まず
第１番目に鉄の酸化物と常温で接触させてこれら排ガス
成分を鉄のふっ化物や塩化物として酸化物表面に固定す
る。次いで、副生物として発生するガス状のふっ化物や
塩化物を、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化
マグネシウム又は酸化マグネシウムから選ばれるアルカ
リ土類金属化合物の一種以上のアルカリ剤で完全に除去
して無害化する方法を提供するものである。
等の酸性ガスを含む排ガスを処理するにあたつて、まず
第１番目に鉄の酸化物と常温で接触させてこれら排ガス
成分を鉄のふっ化物や塩化物として酸化物表面に固定す
る。次いで、副生物として発生するガス状のふっ化物や
塩化物を、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、水酸化
マグネシウム又は酸化マグネシウムから選ばれるアルカ
リ土類金属化合物の一種以上のアルカリ剤で完全に除去
して無害化する方法を提供するものである。
上記において、鉄の酸化物としては３価の鉄を用いるも
のがよい。
のがよい。
ClF3を含む排ガス鉄の酸化物と接触させると、ClF3は鉄
の酸化物の表面に鉄のふっ化物や塩化物として固定され
る。ClF3と鉄の酸化物の反応例を次に示す。
の酸化物の表面に鉄のふっ化物や塩化物として固定され
る。ClF3と鉄の酸化物の反応例を次に示す。
3ClF3＋2Fe2O3→3FeF3＋FeCl3＋3O2 ClF3はFeF3・FeCl3に固定されるが、このときガス状の
ふっ化物や塩化物が遊離する。例えば、ClO2・FO2・HCl
・HF等である。これらガス成分はアルカリ剤と接触させ
ることにより、いずれも中和反応により除去される。一
方、他の酸性ガスは鉄の酸化物に接触させるだけで完全
に鉄のふっ化物と塩化物に固定される。
ふっ化物や塩化物が遊離する。例えば、ClO2・FO2・HCl
・HF等である。これらガス成分はアルカリ剤と接触させ
ることにより、いずれも中和反応により除去される。一
方、他の酸性ガスは鉄の酸化物に接触させるだけで完全
に鉄のふっ化物と塩化物に固定される。
本発明で使用される鉄の酸化物は、３価の酸化鉄（Fe2O
3）を主体とするものが好ましく、通常の市販品でもよ
く、また形状も粒状・棒状・板状等操作性がよければ特
に限定されず、特殊な処理・加工・純度等は必要でな
い。
3）を主体とするものが好ましく、通常の市販品でもよ
く、また形状も粒状・棒状・板状等操作性がよければ特
に限定されず、特殊な処理・加工・純度等は必要でな
い。
アルカリ剤はアルカリ土類金属の化合物のうち水酸化カ
ルシウム、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、又は
酸化マグネシウムの一種以上を用い、形状は特に限定す
るものではない。これら処理剤の粒度は排ガス通過時に
通気抵抗が上昇しない範囲であれば、接触面積を大きく
とるために細かい方がよく、７〜１６meshが望ましい。
ルシウム、酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、又は
酸化マグネシウムの一種以上を用い、形状は特に限定す
るものではない。これら処理剤の粒度は排ガス通過時に
通気抵抗が上昇しない範囲であれば、接触面積を大きく
とるために細かい方がよく、７〜１６meshが望ましい。
ガス処理時の温度は常温でよく、高温にすると装置の材
質や構造も耐熱性にする必要があるため経済的ではな
い。
質や構造も耐熱性にする必要があるため経済的ではな
い。
実際、これら排ガスと接触せしめる手段としては、充て
ん塔に、ガスの負荷量に応じて鉄の酸化物及びアルカリ
剤を必要な割合で２段に充てんし、ガスを下向流あるい
は上向流のいずれかで充てん塔に導入し、初めに鉄の酸
化物、次にアルカリ剤の順に排ガスと接触せしめるとよ
い。
ん塔に、ガスの負荷量に応じて鉄の酸化物及びアルカリ
剤を必要な割合で２段に充てんし、ガスを下向流あるい
は上向流のいずれかで充てん塔に導入し、初めに鉄の酸
化物、次にアルカリ剤の順に排ガスと接触せしめるとよ
い。
以下、本発明の実施例と比較例を記載するが、本発明は
この実施例に限定されない。
この実施例に限定されない。
比較例１〜４ ４０mmφのアクリル製容器に層高０mmｈになるように処
理剤を充てんし、常温でN2ガスで希釈したClF3を０．３
／minで流した。出口側のClF3濃度を追跡するため、
検知管で酸化塩素濃度を求め、定量下限０．１ppmを超
えるまで処理を行い、それまでに導入したClF3の容積と
処理を行い、それまでに導入したClF3の容積と処理剤の
充てん量から処理容量を求め比較した。また、同時に処
理剤層出口で処理反応により副生物として発生するガス
状のふっ素化合物量や塩素化合物量を、アルカリ溶液吸
収−イオンクロマトグラフィーより求めた。
理剤を充てんし、常温でN2ガスで希釈したClF3を０．３
／minで流した。出口側のClF3濃度を追跡するため、
検知管で酸化塩素濃度を求め、定量下限０．１ppmを超
えるまで処理を行い、それまでに導入したClF3の容積と
処理を行い、それまでに導入したClF3の容積と処理剤の
充てん量から処理容量を求め比較した。また、同時に処
理剤層出口で処理反応により副生物として発生するガス
状のふっ素化合物量や塩素化合物量を、アルカリ溶液吸
収−イオンクロマトグラフィーより求めた。
処理剤はいずれも市販品を用い、形状は粒状で粒径は７
〜１６meshとした。
〜１６meshとした。
その結果を表−１に示す。Fe2O3が１３−ClF3／と
最も高い処理容量があつたが、副生物としてふっ化物や
塩化物の発生が認められた。比較例として用いた、Al2O
3、CaO・NaOH、Ca(OH)2はいずれも処理容量も低く、副生
物の発生量も多かつた。
最も高い処理容量があつたが、副生物としてふっ化物や
塩化物の発生が認められた。比較例として用いた、Al2O
3、CaO・NaOH、Ca(OH)2はいずれも処理容量も低く、副生
物の発生量も多かつた。
比較例５〜８ 比較例１と同一装置で、Fe2O3による酸性排ガスの処理
能力を求めた。Fe2O3は比較例１と同一装置で、Fe2O3に
よる酸性ガスの処理能力を求めた。Fe2O3は実施例１と
同じものを用いた。常温にてN2ガスで希釈したSiCl4・S
iF4・Cl2・F2を０．３／minでそれぞれ単独で流し、
出口側でこれら成分が検出されるまでの導入量から処理
容量を求めた。結果を表−２に示す。Fe2O3で上記酸性
ガスがいずれも除去できることを確認した。
能力を求めた。Fe2O3は比較例１と同一装置で、Fe2O3に
よる酸性ガスの処理能力を求めた。Fe2O3は実施例１と
同じものを用いた。常温にてN2ガスで希釈したSiCl4・S
iF4・Cl2・F2を０．３／minでそれぞれ単独で流し、
出口側でこれら成分が検出されるまでの導入量から処理
容量を求めた。結果を表−２に示す。Fe2O3で上記酸性
ガスがいずれも除去できることを確認した。
実施例１ ４０mmφのアルカリ製容器を２段に分け、１段目に層高
２００mmｈになるようにFe2O3を、２段目に層高５０mm
ｈのCa(OH)2をそれぞれ充てんした。Fe2O3とCa(OH)2は
比較例１及び比較例４で用いたのと同じ処理剤とした。
常温でＮ２ガスで希釈したClF3及びSiF4の混合ガスを
０．３／minで、まず１段目のFe2O3、次に２段目のCa
(OH)2の順に流した。ClF3及びSiF4の入口ガス濃度はい
ずれも１％とした。
２００mmｈになるようにFe2O3を、２段目に層高５０mm
ｈのCa(OH)2をそれぞれ充てんした。Fe2O3とCa(OH)2は
比較例１及び比較例４で用いたのと同じ処理剤とした。
常温でＮ２ガスで希釈したClF3及びSiF4の混合ガスを
０．３／minで、まず１段目のFe2O3、次に２段目のCa
(OH)2の順に流した。ClF3及びSiF4の入口ガス濃度はい
ずれも１％とした。
２段目のCa(OH)2の出口で酸化塩素・ふっ化物・塩化物
の排出量を求めた。その結果、８３０minまで処理を行
い、これら成分がいずれも検出限界以下（ClF3換算で
０．１ppm）に除去されていることを確認した。
の排出量を求めた。その結果、８３０minまで処理を行
い、これら成分がいずれも検出限界以下（ClF3換算で
０．１ppm）に除去されていることを確認した。
本発明によれば、酸性ガスが同時に排出されてもClF3を
はじめ共存する酸性ガスも合わせて有効に除去でき、し
かも、処理容量が大きく、長時間にわたつて処理剤を交
換する必要がない。
はじめ共存する酸性ガスも合わせて有効に除去でき、し
かも、処理容量が大きく、長時間にわたつて処理剤を交
換する必要がない。
Claims (2)
- 【請求項１】ClF3を含有する排ガスを．鉄の酸化物と常
温で接触させた後、水酸化カルシウム、酸化カルシウ
ム、水酸化マグネシウム、又は酸化マグネシウムからな
るアルカリ土類金属の化合物の１種以上から選ばれるア
ルカリ剤と接触させることを特徴とする排ガス処理方
法。 - 【請求項２】鉄の酸化物が、３価の鉄からなる請求項１
記載の排ガス処理方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024470A JPH06177B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 |
| US07/647,352 US5094825A (en) | 1990-02-05 | 1991-01-29 | Process for treating waste gases containing clf3 |
| DE69102294T DE69102294T2 (de) | 1990-02-05 | 1991-01-30 | Verfahren zur Behandlung von Abgasen, die ClF3 enthalten. |
| EP91101192A EP0441236B1 (en) | 1990-02-05 | 1991-01-30 | Process for treating waste gases containing ClF3 |
| KR1019910001845A KR0173468B1 (ko) | 1990-02-05 | 1991-02-04 | ClF3를 함유한 폐가스 처리방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024470A JPH06177B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03229618A JPH03229618A (ja) | 1991-10-11 |
| JPH06177B2 true JPH06177B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=12139055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024470A Expired - Lifetime JPH06177B2 (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5094825A (ja) |
| EP (1) | EP0441236B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06177B2 (ja) |
| KR (1) | KR0173468B1 (ja) |
| DE (1) | DE69102294T2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW406028B (en) * | 1994-05-26 | 2000-09-21 | Toshiba Corp | Process for treating acidic exhaust gas |
| EP0702078B1 (en) * | 1994-09-14 | 2001-12-05 | Toda Kogyo Corporation | Method of incinerating combustible wastes and chlorine scavenger |
| JP3566995B2 (ja) * | 1994-10-05 | 2004-09-15 | 日本パイオニクス株式会社 | ハロゲンガスの精製方法 |
| GB9626327D0 (en) * | 1996-12-19 | 1997-02-05 | British Nuclear Fuels Plc | Improvements in and relating to the removal and re-use of chloride trifluoride |
| US6060034A (en) * | 1998-06-02 | 2000-05-09 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Abatement system for ClF3 containing exhaust gases |
| US6352676B1 (en) * | 1999-02-16 | 2002-03-05 | Air Products And Chemicals, Inc. | Abatement of F2 using small particle fluidized bed |
| US6309618B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-10-30 | Showa Denko K. K. | Method for treating exhaust gas containing fluorine-containing interhalogen compound, and treating agent and treating apparatus |
| JP4564242B2 (ja) * | 2003-05-30 | 2010-10-20 | 株式会社荏原製作所 | 三フッ化塩素を含む無機ハロゲン化ガス含有排ガスの処理方法、処理剤及び処理装置 |
| JP4459648B2 (ja) * | 2004-02-17 | 2010-04-28 | 株式会社荏原製作所 | フッ素含有化合物を含むガスの処理方法及び装置 |
| TWI302476B (en) * | 2005-07-06 | 2008-11-01 | Ind Tech Res Inst | Cleaning agent of treating acid gas and method for cleaning with the cleaning agent |
| JP2015112546A (ja) * | 2013-12-12 | 2015-06-22 | 宇部興産株式会社 | ガスの処理装置及びガスの処理カートリッジ |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3469936A (en) * | 1967-12-13 | 1969-09-30 | Atomic Energy Commission | Bromine pentafluoride disposal |
| DE2017531A1 (en) * | 1970-04-13 | 1971-05-06 | Steuler Industriewerke Gmbh | Hydrogen fluoride absorption from effluent - gases with iron salt solutions |
| US4201751A (en) * | 1975-05-06 | 1980-05-06 | Heinz Gresch | Gas purification |
| DD232030A1 (de) * | 1983-03-22 | 1986-01-15 | Radeberg Emailschmelze | Verfahren zur endreinigung fluorhaltiger abgase |
| AT379323B (de) * | 1983-10-07 | 1985-12-27 | Voest Alpine Ag | Verfahren zum abtrennen von schwefel oder schwefelverbindungen und anderen schadstoffen aus heissen gasen eines schmelzreduktionsreaktors |
| JPS6161619A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-03-29 | Asahi Glass Co Ltd | 排ガスの処理方法 |
| CA1298959C (en) * | 1985-09-28 | 1992-04-21 | Kohzo Hakuta | Method of refining rare gas halide excimer laser gas |
| JPS62152519A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-07 | Iwatani & Co | ハロゲン系廃ガスの乾式処理方法 |
| JPH0741145B2 (ja) * | 1986-11-28 | 1995-05-10 | 旭硝子株式会社 | エッチング排ガス除害方法 |
| JPS63151608A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 三弗化窒素ガスの精製方法 |
| JPH01301534A (ja) * | 1988-05-28 | 1989-12-05 | Hoya Corp | フッ化物ガラス中の酸化物および水酸基の除去方法 |
| JPH01309074A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-13 | Minolta Camera Co Ltd | 現像剤組成物 |
| JPH06212322A (ja) * | 1993-01-13 | 1994-08-02 | Mitsubishi Shindoh Co Ltd | すぐれた熱間加工性を有する洋白 |
-
1990
- 1990-02-05 JP JP2024470A patent/JPH06177B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-01-29 US US07/647,352 patent/US5094825A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-30 EP EP91101192A patent/EP0441236B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-01-30 DE DE69102294T patent/DE69102294T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-02-04 KR KR1019910001845A patent/KR0173468B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69102294T2 (de) | 1995-01-19 |
| JPH03229618A (ja) | 1991-10-11 |
| KR910015332A (ko) | 1991-09-30 |
| KR0173468B1 (ko) | 1999-02-18 |
| US5094825A (en) | 1992-03-10 |
| EP0441236B1 (en) | 1994-06-08 |
| EP0441236A1 (en) | 1991-08-14 |
| DE69102294D1 (de) | 1994-07-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3995005A (en) | Treatment of flue gases containing boron compounds | |
| US5779998A (en) | Method and apparatus for concentration and recovery of halocarbons from effluent gas streams | |
| JPH04156919A (ja) | ハロゲン系化合物を含有する排ガスの処理方法 | |
| JPH06177B2 (ja) | Ｃ１ｆ▲下３▼を含有する排ガスの処理方法 | |
| JP4488545B2 (ja) | フッ化ハロゲンを含む排ガスの処理方法、処理剤及び処理装置 | |
| TW542746B (en) | Disposition method of waste gas containing fluorine-containing compound | |
| US4474587A (en) | Process for the treatment of waste gases from a chlorination furnace | |
| JP4080336B2 (ja) | フッ素含有化合物の分解 | |
| JP2581642B2 (ja) | エッチング排ガス除害剤及び排ガス処理方法 | |
| JP4564242B2 (ja) | 三フッ化塩素を含む無機ハロゲン化ガス含有排ガスの処理方法、処理剤及び処理装置 | |
| JPH06263433A (ja) | 炭酸ナトリウム水溶液の製造法 | |
| JP4357018B2 (ja) | ハロゲン化ガスの処理剤を用いた無害化方法 | |
| JP3981206B2 (ja) | 無機ハロゲン化ガスを含有する排ガスの処理方法及び処理装置 | |
| JPH0716582B2 (ja) | ガス状酸性ハロゲン化合物の除去方法 | |
| JP5771896B2 (ja) | フッ化ヨウ素の除害方法 | |
| JP4037475B2 (ja) | ハロゲン系化合物を含有する排ガスの処理方法 | |
| JPH06198128A (ja) | ハロゲン系化合物を含有する排ガスの処理方法 | |
| JP4831924B2 (ja) | Ｈｆ含有ガスの乾式処理装置及び処理方法 | |
| JPH10216479A (ja) | 三弗化窒素ガスの除害方法 | |
| JP3667804B2 (ja) | 有害ガスの除害方法 | |
| JP4459648B2 (ja) | フッ素含有化合物を含むガスの処理方法及び装置 | |
| JP2004181299A (ja) | ベントガスの除害方法 | |
| JP5358139B2 (ja) | 含ハロゲン化合物の分解処理方法 | |
| Mori et al. | Process for treating waste gases containing ClF 3 | |
| JP5170040B2 (ja) | Ｈｆ含有ガスの乾式処理装置及び処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100105 Year of fee payment: 16 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110105 Year of fee payment: 17 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110105 Year of fee payment: 17 |