JPH06166299A - Bright hologram ornamental transfer foil and it production - Google Patents
Bright hologram ornamental transfer foil and it productionInfo
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- JPH06166299A JPH06166299A JP31862892A JP31862892A JPH06166299A JP H06166299 A JPH06166299 A JP H06166299A JP 31862892 A JP31862892 A JP 31862892A JP 31862892 A JP31862892 A JP 31862892A JP H06166299 A JPH06166299 A JP H06166299A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、包装紙、包装袋、包装
箱、壁紙等、種々の分野の対象物に転写される光輝性装
飾転写箔に関し、詳しくは、外光が反射されて種々のホ
ログラム反射光模様が箔表面に形成される光輝性ホログ
ラム装飾転写箔に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glittering decorative transfer foil which is transferred to objects in various fields such as wrapping paper, wrapping bags, wrapping boxes, wallpaper, and more specifically, it reflects various kinds of external light and reflects it. And a glitter hologram decorative transfer foil having a hologram reflected light pattern formed on the foil surface.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、表面にホログラム反射光を形
成して意匠的効果を発揮させるたの光輝性ホログラム装
飾転写箔の製造方法として、たとえば、図１に示すよう
に、不図示の離型層と剥離層とが順次積層されたベース
フィルム６にＵＶ硬化型樹脂８を形成し、このＵＶ樹脂
層８にホログラムエンボス加工を施すべく、これを版胴
２と圧胴４との間に送り紫外線を照射して硬化させた
後、凹凸が形成されたホログラムエンボス層８aの面
に、さらに、不図示の光反射層と接着層とを、順次、形
成してなる光輝性ホログラム装飾転写箔の製造方法が知
られている。また、図２に示すように、不図示の離型層
と剥離層とが順次積層されたベースフィルム６の片面
に、押し出しダイ１２から押し出された溶融状態の合成
樹脂１０を、表面にレリーフホログラムが形成されてい
るスタンパ２bを備えた冷却ロール２aからなる版胴２
と、圧胴４との間でラミネートした後、表面に凹凸が形
成されたホログラムエンボス層１０aの面に、さらに、
不図示の光反射層と接着層とを、順次、形成してなる光
輝性ホログラム装飾転写箔の製造方法が知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for producing a glittering hologram decorative transfer foil in which hologram reflected light is formed on the surface to exert a design effect, for example, as shown in FIG. A UV curable resin 8 is formed on a base film 6 in which a layer and a release layer are sequentially laminated, and this UV resin layer 8 is fed between the plate cylinder 2 and the impression cylinder 4 in order to perform hologram embossing. After irradiating with ultraviolet rays to cure the hologram embossing layer 8a on which irregularities are formed, a light reflecting layer and an adhesive layer (not shown) are successively formed, and the glittering hologram decorative transfer foil is formed. Manufacturing methods are known. Further, as shown in FIG. 2, a synthetic hologram 10 in a molten state extruded from an extrusion die 12 is provided on one surface of a base film 6 on which a release layer and a release layer (not shown) are sequentially laminated, and a relief hologram is formed on the surface. Plate cylinder 2 comprising a cooling roll 2a having a stamper 2b formed with
Then, after laminating between the impression cylinder 4 and the surface of the hologram embossing layer 10a having irregularities formed thereon,
A method for producing a glitter hologram decorative transfer foil is known in which a light reflection layer and an adhesive layer (not shown) are sequentially formed.
【０００３】ところで、前者の製造方法による装飾転写
箔は、ホログラムエンボス層８aにＵＶ樹脂を使用して
いるため、該ＵＶ樹脂硬化後におけるホログラムエンボ
ス層８aの凹凸面はシャープに形成される反面、紫外線
を照射して該ホログラムエンボス層８aを硬化させてい
るために時間がかかり、作業能率を上げることが困難で
あった。By the way, in the decorative transfer foil manufactured by the former method, since the UV resin is used for the hologram embossing layer 8a, the uneven surface of the hologram embossing layer 8a after the UV resin is cured is sharply formed. Since the hologram embossed layer 8a is cured by being irradiated with ultraviolet rays, it takes time and it is difficult to improve work efficiency.
【０００４】一方、後者の製造方法による装飾転写箔
は、冷却ロール２aにより冷却されたスタンパ２bによ
り、高温溶融状態の樹脂１０を賦型すると同時に冷却す
ることによって製造されるため、ホログラムエンボス層
１０aを短時間で効率的に形成することができる。しか
し、上記スタンパ２bにより賦型・形成されたホログラ
ムエンボス面は型崩れを起こし易く、ホログラムエンボ
ス層１０a硬化後におけるその凹凸面をシャープに仕上
げることが困難であった。On the other hand, the decorative transfer foil produced by the latter production method is produced by imprinting and cooling the resin 10 in a high temperature molten state by the stamper 2b cooled by the cooling roll 2a, so that the hologram embossing layer 10a is produced. Can be efficiently formed in a short time. However, the hologram embossed surface formed / formed by the stamper 2b is likely to lose its shape, and it is difficult to sharply finish the uneven surface after the hologram embossed layer 10a is cured.
【０００５】また、上記各装飾転写箔の製造工程におい
ては、上記離型層と上記剥離層とが積層されたベースフ
ィルム６の製造ラインと、該ベースフィルム６に積層さ
れべきホログラムエンボス層８a,１０aの製造ラインと
が分離しており、仮に、ベースフィルム６の剥離層上
に、図の一点鎖線で示す如く絵柄層７を積層したとして
も、該絵柄層７の絵柄にタイミングを合わせてベースフ
ィルム６上にホログラムエンボス層８a,１０aを形成す
ることが大変困難であった。In the manufacturing process of each of the decorative transfer foils, the manufacturing line of the base film 6 in which the release layer and the release layer are laminated, and the hologram embossed layer 8a to be laminated on the base film 6, 10a is separated from the production line, and even if the pattern layer 7 is laminated on the release layer of the base film 6 as shown by the alternate long and short dash line in FIG. It was very difficult to form the hologram embossing layers 8a and 10a on the film 6.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明が解決
すべき主たる技術的課題は、ホログラムエンボス層が比
較的短時間で効率的に形成されるようにすると共に、ホ
ログラムエンボス層の凹凸面をシャープに仕上げること
が可能な製造方法を提供することである。Therefore, the main technical problem to be solved by the present invention is to enable the hologram embossing layer to be efficiently formed in a relatively short time, and to make the uneven surface of the hologram embossing layer It is to provide a manufacturing method capable of finishing sharply.
【０００７】また、他の一つの技術的課題は、絵柄層を
積層する場合、該絵柄層の絵柄に合わせてホログラムエ
ンボス層を形成できる製造方法を提供することである。[0007] Another technical problem is to provide a manufacturing method capable of forming a hologram embossing layer according to the pattern of the pattern layer when the pattern layers are laminated.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段・作用・効果】上記技術的
課題を解決するために、本発明によれば、以下の光輝性
ホログラム装飾転写箔の製造方法が提供される。Means, Actions and Effects for Solving the Problems In order to solve the above technical problems, the present invention provides the following method for producing a glitter hologram decorative transfer foil.
【０００９】すなわち、上記主たる技術的課題を解決す
るために、この光輝性ホログラム装飾転写箔の製造方法
は、離型層を有するベースフィルムに透明な剥離剤を塗
布する第１塗布工程と、該第１塗布工程で形成された剥
離層表面に透明な常温硬化型樹脂を塗布する第２塗布工
程と、該常温硬化型樹脂を半乾燥させる第１乾燥工程
と、半乾燥せしめられた常温硬化型樹脂表面にホログラ
ムエンボス版により所望のホログラム装飾パターンを賦
型してホログラムエンボス層を形成する賦型工程と、該
ホログラムエンボス層を、再度、乾燥させる第２乾燥工
程と、ついで、ホログラムエンボス層表面に光反射層を
形成する光反射層形成工程と、該光反射層表面に接着剤
を塗布する第３塗布工程とを有することを特徴とする。That is, in order to solve the above-mentioned main technical problems, the method for producing a glitter hologram decorative transfer foil comprises a first coating step of coating a transparent release agent on a base film having a release layer, and A second coating step of applying a transparent room temperature curable resin to the surface of the release layer formed in the first coating step, a first drying step of semi-drying the room temperature curable resin, and a semi-dried room temperature curable type A molding step of forming a desired hologram decoration pattern on the resin surface with a hologram embossing plate to form a hologram embossing layer, a second drying step of drying the hologram embossing layer again, and then a hologram embossing layer surface And a light reflection layer forming step of forming a light reflection layer, and a third application step of applying an adhesive to the surface of the light reflection layer.
【００１０】上記常温硬化型樹脂には、たとえば、常温
硬化型樹脂であるアクリル・ウレタン系樹脂等が好適に
使用され、上記光反射層には、たとえば、アルミ等の金
属材料を金属蒸着したものや、金インキや銀インキ等が
好適に使用される。For example, an acrylic urethane resin which is a room temperature curable resin is preferably used as the room temperature curable resin, and a metal material such as aluminum is vapor-deposited on the light reflecting layer. Gold ink, silver ink, etc. are preferably used.
【００１１】上記製造方法において、常温硬化型樹脂
は、半乾燥状態でホログラムエンボス面が形成されるた
め、賦型工程での賦型完了後、第２乾燥工程に至るまで
の間、ホログラムエンボス層の凹凸面の型崩れはより確
実に防止され、また、その凹凸面の形状が保持された状
態で、再度、ホログラムエンボス層が乾燥されるため、
第２乾燥工程終了後のホログラムエンボス層の凹凸面は
シャープに仕上げられる。In the above-mentioned manufacturing method, since the hologram embossing surface is formed in the semi-dry state in the room temperature curable resin, the hologram embossing layer is formed after the completion of the shaping in the shaping step and before the second drying step. The shape of the uneven surface is more surely prevented, and the hologram embossing layer is dried again while the shape of the uneven surface is maintained.
The uneven surface of the hologram embossing layer after the second drying step is finished sharply.
【００１２】また、上記製造方法においては、ホログラ
ムエンボス層を形成する材料として、常温硬化型樹脂が
使用されると共に、該樹脂を硬化させるために、複数の
乾燥工程(第１,２乾燥工程)が設けられており、これに
よって、ホログラムエンボス層を硬化させるための時間
を、前記従来例に係るＵＶ樹脂を使用したものと比較し
て短縮させることができる。Further, in the above manufacturing method, a room temperature curable resin is used as a material for forming the hologram embossing layer, and a plurality of drying steps (first and second drying steps) are used to cure the resin. By this, the time for curing the hologram embossing layer can be shortened as compared with the case where the UV resin according to the conventional example is used.
【００１３】また、上記主たる技術的課題を解決すると
共に、上記他の一つの技術的課題を解決するために、上
記ベースフィルムは連続ベースフィルムとして供給さ
れ、上記各工程(第１塗布工程・第２塗布工程・第１乾
燥工程・賦型工程・第２乾燥工程・光反射層形成工程・
第３塗布工程)は、この連続ベースフィルムが送られる
一製造ラインの流れに沿って、順次、インラインで行な
われるようにすることが好ましく、また、絵柄層を積層
する絵柄層積層工程は、上記第２塗布工程の前で行なわ
れるようにすることが好ましい。Further, in order to solve the above-mentioned main technical problem and one of the above-mentioned other technical problems, the above-mentioned base film is supplied as a continuous base film, and each of the above-mentioned steps (first coating step 2 coating step / first drying step / molding step / second drying step / light reflecting layer forming step /
The third coating step) is preferably performed sequentially in-line along the flow of one manufacturing line to which the continuous base film is sent. Further, the pattern layer laminating step of laminating the pattern layers is performed as described above. It is preferable to be performed before the second coating step.
【００１４】このようにすることによって、絵柄層とホ
ログラムエンボス層との見当合わせについて、絵柄層を
基準とするホログラムエンボス版による常温硬化型樹脂
に対する賦型タイミングを自在に調整することができ、
従って、絵柄層に、該絵柄層の絵柄と同調したホログラ
ムエンボス層を容易に形成することができる。By doing so, the registration timing of the pattern layer and the hologram embossing layer can be freely adjusted by the hologram embossing plate with the pattern layer as a reference to the room temperature curable resin.
Therefore, it is possible to easily form the hologram embossing layer on the design layer in synchronization with the design of the design layer.
【００１５】[0015]
【実施例】以下に、本発明の一実施例を図３,４に従っ
て詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS.
【００１６】図３は、本実施例に係る光輝性ホログラム
装飾転写箔の製造工程を示す製造工程図であり、図４
(I)〜(IV)は、図３に示した製造工程に従って製造され
る装飾転写箔の積層工程図である。このホログラム装飾
転写箔は、以下の方法により製造される。すなわち、先
ず、図４(I)に示すように、ポリエステルや延伸ナイロ
ンやポリエチレンナフタレート等、表面が滑らかで耐熱
性を有する基材１６に、離型層１８としてのメラミン樹
脂があらかじめ焼き付けコーティングされた連続ベース
フィルムＳを、図３のＡに示す如く第１塗布工程として
の剥離剤塗布工程に送り、ここで、透明なアクリル樹脂
よりなる剥離剤２０を離型層１８に塗布する。このよう
にしてベースフィルムＳの離型層１８に剥離層２０が積
層された第１中間積層体を図４(I)に示している。FIG. 3 is a manufacturing process diagram showing a manufacturing process of the glitter hologram decorative transfer foil according to this embodiment, and FIG.
(I)-(IV) is a lamination process drawing of the decorative transfer foil manufactured according to the manufacturing process shown in FIG. This hologram decorative transfer foil is manufactured by the following method. That is, first, as shown in FIG. 4 (I), a melamine resin as a release layer 18 is pre-baked and coated on a base material 16 having a smooth surface and heat resistance, such as polyester, stretched nylon or polyethylene naphthalate. The continuous base film S is sent to the release agent application step as the first application step as shown in FIG. 3A, and the release agent 20 made of a transparent acrylic resin is applied to the release layer 18 here. FIG. 4 (I) shows the first intermediate laminate in which the release layer 20 is laminated on the release layer 18 of the base film S in this manner.
【００１７】次いで、この第１中間積層体を、図３のＢ
に示す絵柄印刷工程に送り剥離層２０に所望の絵柄を有
する絵柄層２２を形成した後、さらに、Ｃに示す第２塗
布工程としての常温硬化型樹脂塗布工程に送り、ここ
で、絵柄層２２に透明な常温硬化型樹脂よりなる樹脂層
２４を積層する。このようにして形成された第２中間積
層体を図４(II)に示している。なお、本実施例において
使用される常温硬化型樹脂には、アクリル・ウレタン系
樹脂にセルロース樹脂を添加したものを用いている。Next, this first intermediate laminated body is taken as B in FIG.
After the pattern layer 22 having a desired pattern is formed on the peeling layer 20 in the pattern printing step shown in FIG. 2, the pattern layer 22 is further sent to the room temperature curable resin coating step as the second coating step shown in C. Then, a resin layer 24 made of a transparent room temperature curable resin is laminated. The second intermediate laminate body thus formed is shown in FIG. 4 (II). The room temperature curable resin used in this embodiment is an acrylic urethane resin to which a cellulose resin is added.
【００１８】次いで、この第２中間積層体を、図３のＤ
に示す第１乾燥工程に送り、常温硬化型樹脂に含まれる
溶剤の残留総量が１００〜１０００mg／m2程度となるま
で半乾燥させた後、Ｅに示す賦型工程に送り、ここで、
半乾燥した常温硬化型樹脂２４を、所望のホログラム装
飾パターンを有するホログラムエンボス版により賦型し
て、ホログラムエンボス層２４aを形成する。このよう
にして形成された第３中間積層体を図４(III)に示して
いる。なお、上記賦型は、たとえば、グラビア印刷機の
シリンダーに、ホログラムエンボス加工が施されたシー
トを予め巻き付けておき、これを賦形型として上記半乾
燥した常温硬化型樹脂に圧接して行うことができる。Next, this second intermediate laminated body is treated as shown in FIG.
Sent to the first drying step shown in, and semi-dried until the residual total amount of the solvent contained in the room temperature curable resin becomes about 100 to 1000 mg / m 2, and then sent to the shaping step shown in E, where:
The semi-dried room temperature curable resin 24 is shaped by a hologram embossing plate having a desired hologram decoration pattern to form a hologram embossing layer 24a. The third intermediate laminate body thus formed is shown in FIG. Note that the shaping is performed, for example, by wrapping a hologram-embossed sheet in advance around a cylinder of a gravure printing machine, and pressing this sheet as a shaping die to the semi-dried room temperature curable resin under pressure. You can
【００１９】次いで、この第３中間積層体を、図３のＦ
に示す第２乾燥工程に送り、ホログラムエンボス層２４
aをその内部まで完全に乾燥・硬化させた後、Ｇに示す
光反射層形成工程に送り、ここで、ホログラムエンボス
層２４aの全面に金属蒸着を施こして光反射層２６を形
成する。さらに、この第３中間積層体を、光反射層形成
工程Ｇから接着剤塗布工程Ｈに送り、ヒートシール用接
着剤を光反射層２６の全面に塗布して接着層２８を形成
する。このようにして製造された光輝性ホログラム装飾
転写箔を図４(IV)に示している。Next, this third intermediate laminated body is subjected to F of FIG.
The hologram embossing layer 24 is sent to the second drying step shown in FIG.
After completely drying and curing a, the light reflecting layer 26 is formed by performing metal deposition on the entire surface of the hologram embossing layer 24a. Further, this third intermediate laminate is sent from the light reflecting layer forming step G to the adhesive applying step H, and the heat sealing adhesive is applied to the entire surface of the light reflecting layer 26 to form the adhesive layer 28. The glitter hologram decorative transfer foil manufactured in this manner is shown in FIG. 4 (IV).
【００２０】この製造方法によれば、常温硬化型樹脂２
４は半乾燥状態で賦型されるため、上記賦型工程Ｅでの
賦型完了後、上記第２乾燥工程Ｆに至るまでの間、賦型
により形成されたホログラムエンボス層２４aの型崩れ
はより確実に防止され、その凹凸面の形状が保持された
状態で、再度、ホログラムエンボス層２４aは第２乾燥
工程Ｆで乾燥・硬化せしめられるため、該第２乾燥工程
Ｆ経過後のホログラムエンボス層２４aの凹凸面はシャ
ープに仕上げられる。また、この製造方法によれば、上
記各製造工程Ａ〜Ｈは、一つの製造ラインの流れに沿っ
て、順次、インラインにより行なわれるため、絵柄層２
２の絵柄に合わせて常温硬化型樹脂２４に賦型するため
の見当合わせは、絵柄層２２の絵柄を基準として極めて
容易に行うことができる。According to this manufacturing method, the room temperature curable resin 2 is used.
Since No. 4 is imprinted in a semi-dry state, the hologram embossed layer 24a formed by imprinting does not lose its shape after completion of imprinting in the imprinting step E and before reaching the second drying step F. Since the hologram embossing layer 24a is again dried and cured in the second drying step F in a state where it is more surely prevented and the shape of the uneven surface is maintained, the hologram embossing layer after the second drying step F has passed. The uneven surface of 24a is sharply finished. Further, according to this manufacturing method, each of the manufacturing steps A to H is sequentially performed in-line along the flow of one manufacturing line.
The registration for imprinting on the room temperature curable resin 24 according to the pattern 2 can be extremely easily performed with the pattern of the pattern layer 22 as a reference.
【００２１】なお、上記製造方法において、第１乾燥工
程Ｄと賦型工程Ｅとの間には、絵柄層２２の絵柄位置を
検出するためのセンサーを備えることが好ましく、これ
によって、半硬化状態にある常温硬化型樹脂２４に、絵
柄層２２の絵柄に合わせて上記ホログラムエンボス版に
よる賦型を自動的に効率的に行うことが可能となる。ま
た、上記各塗布工程Ａ,Ｃ,Ｈにおいて使用される各装置
に、輪転印刷機等、既設の印刷機を転用することによ
り、その作業効率を大幅に向上させることができる。In the above manufacturing method, a sensor for detecting the pattern position of the pattern layer 22 is preferably provided between the first drying step D and the shaping step E, whereby a semi-cured state is obtained. It is possible to automatically and efficiently imprint the room temperature curable resin 24 in (1) with the hologram embossing plate according to the design of the design layer 22. Further, by diverting an existing printing machine such as a rotary printing machine to each apparatus used in each of the coating steps A, C, H, the working efficiency can be significantly improved.
【００２２】本実施例においては、剥離剤塗布工程Ａに
引き続いて絵柄印刷工程Ｂを設けているが、絵柄層２２
を必要としない場合には、この絵柄印刷工程Ｂを省略す
ることができる。この場合、絵柄層２２に対する上記見
当合わせが当然のことながら必要でなくなるため、図４
に示した積層工程図から絵柄層２２を省いたものを、た
とえば、バッチ作業等により実施することもできる。In this embodiment, the pattern printing step B is provided subsequent to the release agent coating step A, but the pattern layer 22
If it is not necessary, the pattern printing step B can be omitted. In this case, the above registration for the pattern layer 22 is naturally unnecessary, and therefore, FIG.
It is also possible to carry out what is obtained by omitting the pattern layer 22 from the stacking process diagram shown in FIG.
【図１】 第１従来例に係る光輝性ホログラム装飾転写
箔の製造方法を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a method of manufacturing a glitter hologram decorative transfer foil according to a first conventional example.
【図２】 第２従来例に係る光輝性ホログラム装飾転写
箔の製造方法を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a method for manufacturing a glitter hologram decorative transfer foil according to a second conventional example.
【図３】 本発明の一実施例に係る光輝性ホログラム装
飾転写箔の製造工程図である。FIG. 3 is a manufacturing process diagram of a glitter hologram decorative transfer foil according to an embodiment of the present invention.
【図４】 (I)〜(IV)は、図３に示した製造工程に従っ
て製造される光輝性ホログラム装飾転写箔の積層工程図
である。4 (I) to (IV) are stacking process diagrams of a glitter hologram decorative transfer foil manufactured according to the manufacturing process shown in FIG.
１６ 基材 １８ 離型層 ２０ 剥離層 ２２ 絵柄層 ２４ 常温硬化型樹脂層 ２４a ホログラムエンボス層 ２６ 光反射層 ２８ 接着層 Ａ 第１塗布工程(剥離剤塗布工程) Ｂ 絵柄印刷工程 Ｃ 第２塗布工程(常温硬化型樹脂塗布工程) Ｄ 第１乾燥工程 Ｅ 賦型工程 Ｆ 第２乾燥工程 Ｇ 光反射層形成工程 Ｈ 第３塗布工程(接着剤塗布工程) Ｓ ベースフィルム Ｔ 転写層 16 Base Material 18 Release Layer 20 Release Layer 22 Pattern Layer 24 Room Temperature Curable Resin Layer 24a Hologram Embossing Layer 26 Light Reflecting Layer 28 Adhesive Layer A First Application Step (Release Agent Application Step) B Pattern Printing Step C Second Application Step (Cold-setting resin coating step) D First drying step E Imprinting step F Second drying step G Light reflection layer forming step H Third coating step (Adhesive coating step) S Base film T Transfer layer
Claims (3)
(Ｓ)に透明な剥離剤を塗布する第１塗布工程(Ａ)と、 該第１塗布工程(Ａ)で形成された剥離層(２０)表面に透
明な常温硬化型樹脂(２４)を塗布する第２塗布工程(Ｃ)
と、 該常温硬化型樹脂(２４)を半乾燥させる第１乾燥工程
(Ｄ)と、 半乾燥せしめられた常温硬化型樹脂(２４)表面にホログ
ラムエンボス版により所望のホログラム装飾パターンを
賦型してホログラムエンボス層(２４a)を形成する賦型
工程(Ｅ)と、 該ホログラムエンボス層(２４a)を、再度、乾燥させる
第２乾燥工程(Ｆ)と、 ついで、ホログラムエンボス層(２４a)表面に光反射層
(２６)を形成する光反射層形成工程(Ｇ)と、 該光反射層(２６)表面に接着剤(２８)を塗布する第３塗
布工程(Ｈ)とを有することを特徴とする光輝性ホログラ
ム装飾転写箔の製造方法。1. A base film having a release layer (18)
A first coating step (A) of applying a transparent release agent to (S), and a transparent room temperature curable resin (24) applied to the surface of the release layer (20) formed in the first application step (A). Second coating step (C)
And a first drying step of semi-drying the room temperature curable resin (24)
(D), a molding step (E) of forming a hologram embossing layer (24a) by forming a desired hologram decoration pattern on the surface of the semi-dried room temperature curable resin (24) with a hologram embossing plate, A second drying step (F) of drying the hologram embossing layer (24a) again, and then a light reflecting layer on the surface of the hologram embossing layer (24a).
(26) forming a light-reflecting layer (G), and a third coating step (H) of applying an adhesive (28) to the surface of the light-reflecting layer (26). Method for manufacturing hologram decorative transfer foil.
(Ｓ)と、その下に形成される転写層(Ｔ)とからなり、 該転写層(Ｔ)は、透明樹脂よりなる剥離層(２０)と、透
明な常温硬化型樹脂層(２４a)と、光反射層(２６)と、
接着層(２８)とが上から下に向かって順次積層された積
層構造を有する光輝性ホログラム装飾転写箔にして、 常温硬化型樹脂層(２４a)は、その下面に所望のホログ
ラム装飾パターンに対応した凹凸模様を備えてなること
を特徴とする光輝性ホログラム装飾転写箔。2. A base film having a release layer (18)
(S) and a transfer layer (T) formed below the transfer layer (T). The transfer layer (T) includes a release layer (20) made of a transparent resin, and a transparent room temperature curable resin layer (24a). , A light reflection layer (26),
A glittering hologram decorative transfer foil having a laminated structure in which an adhesive layer (28) is sequentially laminated from top to bottom, and the room temperature curable resin layer (24a) corresponds to a desired hologram decorative pattern on its lower surface. A glittering hologram decorative transfer foil, characterized in that it has an uneven pattern.
ム(Ｓ)が、第１塗布工程(Ａ)と、絵柄印刷工程(Ｂ)と、
第２塗布工程(Ｃ)と、第１乾燥工程(Ｄ)と、賦型工程
(Ｅ)と、第２乾燥工程(Ｆ)と、光反射層形成工程(Ｇ)
と、第３塗布工程(Ｈ)に、順次、連続的に送られる光輝
性ホログラム装飾転写箔の製造方法にして、 第１塗布工程(Ａ)で、ベースフィルム(Ｓ)の離型層(１
８)に透明な剥離剤(２０)を塗布し、 絵柄印刷工程(Ｂ)で、第１塗布工程(Ａ)で形成された剥
離層(２０)に絵柄層(２２)を積層し、 第２塗布工程(Ｃ)で、絵柄層(２２)表面に透明な常温硬
化型樹脂(２４)を塗布し、 第１乾燥工程(Ｄ)で、常温硬化型樹脂(２４)を半乾燥さ
せ、 賦型工程(Ｅ)で、半乾燥せしめられた常温硬化型樹脂
(２４)表面にホログラムエンボス版により所望のホログ
ラム装飾パターンを賦型してホログラムエンボス層(２
４a)を形成し、 第２乾燥工程(Ｆ)で、ホログラムエンボス層(２４a)
を、再度、乾燥させ、 光反射層形成工程(Ｇ)で、ホログラムエンボス層(２４
a)表面に光反射層(２６)を形成し、 第３塗布工程(Ｈ)で、光反射層(２６)表面に接着剤(２
８)を塗布することを特徴とする光輝性ホログラム装飾
転写箔の製造方法。3. A continuous base film (S) having a release layer (18), a first coating step (A), a pattern printing step (B),
Second coating step (C), first drying step (D), and imprinting step
(E), second drying step (F), and light reflecting layer forming step (G)
And a method for producing a glittering hologram decorative transfer foil, which is sequentially and continuously sent to the third coating step (H). In the first coating step (A), the release layer (1
8) is coated with a transparent release agent (20), and in the pattern printing step (B), the pattern layer (22) is laminated on the release layer (20) formed in the first coating step (A), In the coating step (C), the transparent room temperature-curable resin (24) is applied to the surface of the pattern layer (22), and in the first drying step (D), the room temperature-curable resin (24) is semi-dried to give a mold. Room-temperature curing resin that was semi-dried in step (E)
(24) A hologram embossing plate is used to form a desired hologram decoration pattern on the surface of the hologram embossing layer (2
4a) is formed, and in the second drying step (F), the hologram embossing layer (24a) is formed.
Again, and in the light reflecting layer forming step (G), the hologram embossing layer (24
a) A light reflection layer (26) is formed on the surface, and an adhesive (2) is applied to the surface of the light reflection layer (26) in the third coating step (H).
8) A method for producing a glitter hologram decorative transfer foil, which comprises applying
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31862892A JPH06166299A (en) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | Bright hologram ornamental transfer foil and it production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31862892A JPH06166299A (en) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | Bright hologram ornamental transfer foil and it production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06166299A true JPH06166299A (en) | 1994-06-14 |
Family
ID=18101262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31862892A Pending JPH06166299A (en) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | Bright hologram ornamental transfer foil and it production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06166299A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100353482B1 (en) * | 1999-12-17 | 2002-09-19 | 윤청일 | The stamping method of emboss hologram |
| WO2009107727A1 (en) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | 三菱重工業株式会社 | Process and apparatus for producing print changing in gloss, method of processing surface of pressure roll for use in the same, and print produced by the same |
| KR101027067B1 (en) * | 2009-08-26 | 2011-04-11 | 백상오 | Printing method of hologram for interior material and printed article manufactured by the method |
| WO2012096437A1 (en) * | 2011-01-13 | 2012-07-19 | (주)엘지하우시스 | Decorative sheet for decorating a surface of a three-dimensional molded material, method for manufacturing same, and method for decorating the surface of the molded material using same |
-
1992
- 1992-11-27 JP JP31862892A patent/JPH06166299A/en active Pending
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| WO2012096437A1 (en) * | 2011-01-13 | 2012-07-19 | (주)엘지하우시스 | Decorative sheet for decorating a surface of a three-dimensional molded material, method for manufacturing same, and method for decorating the surface of the molded material using same |
| US9321940B2 (en) | 2011-01-13 | 2016-04-26 | Lg Hausys, Ltd. | Decorative sheet for decorating a surface of a three-dimensional molded material, method for manufacturing the same, and method for decorating the surface of the molded material using the same |
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