JPH0615947A - 記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、加熱状態でかつ水などの接触材料
（Ｂ）と接触させた場合に後退接触角が低くなる性質を
もつ膜を表面に有する記録体（Ａ）に、選択的又は選択
的かつ可逆的に潜像を形成させ、これを顕像化せしめた
後、普通紙等へ非接触転写させるようにした記録装置を
提供するものである。 【構成】 記録体（Ａ）表面を例えば水性インク３ａの
接触下でサーマルヘッド４３で加熱することにより、潜
像形成ととも顕像化を行なった後、記録体表面（Ａ）に
付着された水性インク７３ａを記録紙に転写し、ついで
水性インク３ａの容器中に含まれる紙粉等をたとえばメ
カニカルフィルター５２ａで除去する。その結果、連続
記録においても多数枚の良質な鮮明が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規な記録装置に関し、
詳しくは、表面が特定性状を示す記録体のその表面に、
選択的に又は選択的かつ可逆的に、加熱温度に応じた後
退接触角を示す領域が形成されるようにし、この領域
(潜像)に顕色材を含有する記録剤を供給して顕像化せし
め、これを普通紙等に良好な状態で転写せしめるように
した記録方式に有用な装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】表面を液体付着性領域と非液体付着性領
域とに区分けして画像形成に供するようにした手段の代
表的なものとしては平版印刷版を用いたオフセット印刷
方式があげられる。だが、このオフセット印刷方式は原
版からの製版工程及び刷版(印刷版)からの印刷工程を一
つの装置内に組込むことが困難であり、製版印刷の装置
の小型化は勢い困難なものとなっている。例えば、比較
的小型化されている事務用オフセット製版印刷機におい
ても、製版装置と印刷装置とは別個になっているのが普
通である。

【０００３】このようなオフセット印刷方式の欠陥を解
消することを意図して、画像情報に応じた液体付着性領
域及び非液体付着性領域が形成でき、しかも、繰返し使
用が可能な(可逆性を有する)記録方法ないし装置が提案
されるようになってきている。その幾つかをあげれば次
のとおりである。 (1) 水性現像方式 疎水性の光導電体層に外部より電荷を与えた後、露光し
て光導電体層表面に疎水性部及び親水性部を有するパタ
ーンを形成し、親水性部のみに水性現像剤を付着させて
紙などに転写する(特公昭40-18992号、特公昭40-18993
号、特公昭44-9512号、特開昭63-264392号などの公
報)。 (2) フォトクロミック材料の光化学反応を利用した方式 スピロピラン、アゾ色素などの材料を含有した層に紫外
線を照射し、光化学反応により、これらフォトクロミッ
ク化合物を親水化する〔例えば「高分子論文集」第37巻4
号、287頁(1980)〕。 (3) 内部偏倚力の作用を利用した方式 不定形状態と結晶性状態とを物理的変化により形成し、
液体インクの付着・非付着領域を構成する(特公昭54-41
902号公報)。

【０００４】前記(1)の方式によれば、水性インクを紙
などに転写した後、除電により親水性部は消去され、別
の画像情報の記録が可能となる。即ち、一つの原版(光
導電体)で繰り返し使用が可能となる。だが、この方式
は電子写真プロセスを基本としているため帯電→露光→
現像→転写→除電という長いプロセスを必要とし、装置
の小型化やコストの低減、メンテナンスフリー化が困難
であるといった欠点をもっている。前記(2)の方式によ
れば、紫外線と可視光との照射を選択的にかえることに
よって親水性、疎水性を自由かつ可逆的に制御できるも
のの、量子効率が悪いため反応時間が非常に長くて記録
速度が遅く、また安定性に欠けるといった欠点をもって
おり、いまだ実用レベルには達していないのが実情であ
る。更に、前記（３）の方式によれば、そこで使用され
る情報記録部材は、記録後のものでは安定性があるが、
記録前のものでは温度変化により物理的構造変化が生じ
るおそれがあることから保存性に問題が残されている。
これに加えて、記録された情報パターンの消去には熱パ
ルスを与え、次いで急冷する手段が採用されることか
ら、繰り返しの画像形成は繁雑さをまねがれ得ないとい
った不都合がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、加熱
状態でかつ接触材料(B)と接触させた場合に後退接触角
が低くなる表面を有する部材(記録体(A))のその表面
に、容易な手段で選択的に又は選択的かつ可逆的に、所
望パターン領域(潜像)を形成させ、これを顕像化せしめ
普通紙等へ転写させる記録装置を提供するものである。
本発明の他の目的は、接触材料(B)及び記録剤を常時良
好な状態に維持することによって連続記録においても多
数枚の良質の転写画像が得られる新規な記録装置を提供
するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の記録装置は、下
記記録体(A)の表面を下記接触材料(B)と接触させた状態
で選択的に加熱することにより又は記録体(A)の表面を
選択的に加熱した状態で接触材料(B)と接触させること
により記録体(A)の表面に加熱温度に応じた後退接触角
を示す潜像領域を形成せしめる接触材料(B)を記録体(A)
表面に供給する手段と、記録体(A)の表面を加熱する手
段と、該潜像領域を顕像化させる記録剤付与手段と、記
録体(A)表面に付着された記録剤を記録紙に転写する手
段と、接触材料(B)及び/又は記録剤の清浄化手段とを設
けてなることを特徴としている。 (A)加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触角
が低下する表面を有する記録体。 (B)液体、蒸気又は記録体(A)にいう後退接触角の低下開
始温度以下で液体となるか液体もしくは蒸気を発生する
固体。 また、本発明の記録装置は下記記録体(A)の表面を下記
接触材料(B)と接触させた状態で選択的に加熱すること
により又は記録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で
接触材料(B)と接触させることにより記録体(A)の表面に
加熱温度に応じた後退接触角を示す潜像領域を形成せし
める接触材料(B)を記録体(A)表面に供給する手段と、記
録体(A)の表面を加熱する手段と、該潜像領域を顕像化
させる記録剤付与手段と、記録体(A)表面に付着された
記録剤を記録紙に転写する手段と、記録体(A)表面に形
成された潜像領域を加熱して該潜像領域を消去する手段
と、接触材料(B)及び／又は記録剤の清浄化手段とを設
けてなることを特徴としている。 (A)加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触角
が低下する表面を有する記録体。 (B)液体、蒸気又は記録体(A)にいう後退接触角の低下開
始温度以下で液体となるか液体もしくは蒸気を発生する
固体。

【０００７】かかる本発明装置では、記録剤として例え
ば液状インクのごときものを用いるようにすれば、接触
材料(B)の供給手段を省略することができ、また、接触
材料(B)として液状インクのごときものを用いるように
すれば潜像形成と同時に顕像化されるため記録剤付与手
段を省略することができる。なお、本発明装置において
は、前記潜像が形成された記録体(A)の表面を、接触材
料(B)の不存在下で加熱することによって潜像の消去が
行なえ、可逆的に画像形成がなし得るものである。

【０００８】本発明者らは、前記従来の技術に記述した
ごとき欠陥を解消し、新規な記録方式について多くの研
究・検討を行なった。その結果、液体に接した状態で加
熱されると冷却後においてもその後退接触角が低くな
り、かつ、液体不存在下の加熱により後退接触角が高く
なるという機能を表面に有する部材が記録体として有用
であることを見いだした。そして、このような機能を有
する記録体(A)はその表面が(1)疎水基の表面自己配向機
能をもつ有機化合物を含む部材、又は(2)疎水基をもつ
有機化合物であって疎水基を表面に配向した部材である
ことも併せて確めた(特願平2−43599号)。

【０００９】(1)にいう“表面自己配向機能"とは、ある
化合物を支持体上に形成した固体又は或る化合物自体に
よる固体を空気中で加熱すると、表面において疎水基が
空気側(自由表面側)に向いて配向する性質があることを
意味する。このことは、(2)においても同様にいえるこ
とである。一般に、有機化合物では疎水基は疎水性雰囲
気側へ向きやすい性質をもっている。これは、固-気界
面の界面エネルギーが低くなる方に向うために生じる現
象である。また、この現象は疎水基の分子長が長くなる
ほどその傾向がみられるが、これは分子長が長くなるほ
ど加熱における分子の運動性が上がるためである。

【００１０】更に具体的には、末端に疎水基を有する
(即ち表面エネルギーを低くする)分子であると、空気側
(自由表面側)を向いて表面配向しやすい。同様に(−CH₂
−)ｎを含む直鎖状分子では（−CH₂CH₂−）の部分が平
面構造をしており、分子鎖どうしが配向しやすい。ま
た、(−Ｐｈ−)ｎを含む分子も−Ｐｈ−の部分が平面構
造をしており、分子鎖どうしが配向しやすい。なお、−
Ph−はp-フェニレン基である（以下同じ）。殊に、弗素
などの電気陰性度の高い元素を含む直鎖状分子は自己凝
集性が高く、分子鎖どうしが配向しやすい。

【００１１】これらの検討結果をまとめると、より好ま
しくは、自己凝集性の高い分子を含んだり平面構造をも
つ分子を含み、かつ、末端に疎水基を有する直鎖状分
子、或いは、そうした直鎖状分子を含む化合物は表面自
己配向機能が高い化合物といえる。

【００１２】これまでの記述から明らかなように、表面
自己配向状態と後退接触角とは関連があり、また、後退
接触角と液体付着性との間にも関係がある。即ち、固体
表面での液体の付着は、液体の固体表面での主にタッキ
ングによって生じる。このタッキングはいわば液体が固
体表面を滑べる時の一種の摩擦力とみなすことができ
る。従って、本発明でいう“後退接触角"θrには、 cosθr＝γ（γs-γse-πe+γf)/γev (但し、 γ :真空中の固体の表面張力 γsｅ:固-液界面張力 γev液体がその飽和蒸気と接しているときの表面張力 πe :平衡表面張力 γf :摩擦張力 γs :吸着層のない固体の表面張力である) といった関係式が成立つ（斉藤、北崎ら「日本接着協会
誌」Vol.22、No.12，1986)。

【００１３】従って、θrの値が低くなるときγf値は大
きくなる。即ち、液体は固体面を滑べりにくくなり、そ
の結果、液体は固体面に付着するようになる。これら相
互の関連から推察しうるように、液体付着性は後退接触
角θrがどの程度であるかに左右され、その後退接触角
θrは表面自己配向機能を表面に有する部材の何如によ
り定められる。それ故、本発明装置においては、記録体
(A)はその表面に所望パターン領域の形成及び/又は記録
剤による顕像化の必要から、必然的に、表面自己配向機
能を表面に有する部材が選択されねばならばい。

【００１４】本発明装置で用いられる記録体(A)は、既
述のとおり、「加熱状態でかつ液体と接触した場合に後
退接触角θrが低下する表面」を有するものである。記録
体(A)はその表面が上記のような性状を有してさえいれ
ば、形状等は任意である。従って、記録体(A)はベルト
状(エンドレスベルト状を含む)であっても、適当な円筒
状支持体や成形体上に表面が上記のような性状を有する
別の塗工膜などが設けられていてもかまわない。成形体
自体であってもかまわないが、その表面は、全体又は一
部を除いて、上記のような性状を有していることが必要
である。

【００１５】この記録体(A)は、接触材料(B)の種類によ
っては潜像領域における液体付着性部分が親油性又は親
水性のいずれかになり、従って、複写物を得る際には油
性インク、水性インク、電子写真用液体現像剤などのい
ずれもが必要に応じて使いわけられる。但し、本発明装
置においては、前記のとおり、液体付着性部分が親水性
で、かつ、水性インクの使用が有利である。

【００１６】ここで、“加熱状態でかつ液体と接触させ
た場合に後退接触角θrが低下する表面を形成する"部材
ないし材料を幾つかに分類した例を図１に示す。

【００１７】図１(a)は自己配向機能を有する化合物の
例で、高分子重合体の側鎖に疎水基を有する化合物であ
り、主鎖Lと疎水基Rとは結合基Jにて結合している。

【００１８】図１(b)は、疎水基を有する有機化合物に
おいてその疎水基を表面に配向した部材の例で、有機又
は無機材料Mの表面に、物理的又は化学的結合により、
前記疎水基を有する化合物Oを形成した部材である。

【００１９】図１(c)は、図１(b)であげた疎水基を有す
る有機化合物Oのみからなる部材の例である。

【００２０】図１(d)は、直鎖状分子が高分子の側鎖に
ある例で、主鎖Lと前記分子を結合基Jによりつなぎ、末
端に疎水基Rをもつ自己凝集性又は平面構造を有する分
子鎖Nが中間にある化合物である。

【００２１】なお、図１(a)及び(d)の例においては、高
分子化合物の主鎖Lは直線状でも網かけ構造でもよい。
図１(b)の例においては、累積LB膜のように、疎水基含
有化合物Oの上にさらに疎水基含有化合物Oが積層されて
いてもよい。図１(c)の例においては、主鎖(L)をもつこ
となく又は有機・無機材料(M)などに結合することなく、
疎水基含有化合物Oのみによる構造である。

【００２２】前記の疎水基としては、分子の末端が好ま
しくは-CH₃や-CF₃、-CF₂H、-CFH₂、-C(CF₃)₃、-C(CH₃)₃
などによっており、より好ましくは、分子運動性が高い
点で分子長の長いものが有利である。中でも、前記疎水
基としては、-F及び/又は-Clが1つ以上ある置換アルキ
ル基(-CF₂CF₂C(Cl)FCF₂CF₂のようなものでもよい)或い
は無置換のアルキル基であって、炭素数4以上のものが
望ましい。弗素置換、塩素置換のいずれのものも用いれ
るが、弗素置換のものの方が効果的である。これらの材
料においては、アルキル基炭素数と機能との関係では、
炭素数が3以下であると、本発明の記録装置に適する機
能が低くなってしまう。

【００２３】この機能発現の原理はいまだ完全に明らか
にされた訳ではなく、従って、不明な点が多いが、以下
のことが推定される。

【００２４】まず、上記化合物により形成された記録体
(A)の表面は、前記疎水基がかなり配向した表面となっ
ていることが考えられる。従って、この表面は液体反撥
性を有する(疎水基は表面エネルギーが小さいため)。こ
の状態で、記録体(A)の表面が接触材料(B)に接して加熱
を受けると、加熱による疎水基の分子運動が活発とな
り、かつ、接触材料(B)との相互作用を受けて、記録体
(A)の表面の少なくとも一部の配向(整列)状態が別の状
態(即ち、別の配向状態又は配向が乱れた状態)にかわ
り、冷却後もその別の状態を維持するためと思われる。
なお、記録体(A)の表面に接触材料(B)が接した状態のも
とで加熱することは、接触材料(B)の形態いかんによ
り、記録体(A)の表面が加熱された状態のもとに液体を
接触させることになる。この加熱前は、疎水基が表面に
整列(配向)しているため、記録体(A)の表面の表面エネ
ルギーは極めて少ない。

【００２５】ところが、前記の接触材料(B)が接した状
態のものでの加熱により、配向状態は乱れて表面エネル
ギーが高まる。後退接触角θrは、液体の種類にかから
わず、固体と液体との表面エネルギーのバランスで決定
される。このため、固体の表面エネルギーが高まれば、
液体の種類にかかわらず、後退接触角θrは低くなる。
従って、液体に対する付着性は増大することになる。更
に、記録体(A)の表面が別の状態(元の配向状態とは異な
る「別の配向状態」又は「配向が乱れた状態」)で接触材料
(B)の不存在下に加熱を受けると、接触材料(B)との相互
作用が生じないため、元の整列(配向)状態にもどると思
われる。従って、接触材料(B)の存在は単なる記録体(A)
の表面を加熱後の急冷を行なうためのものではなく、記
録体(A)の表面の化合物との何らかの相互作用をおこす
ものであり、この相互作用があって、はじめて別の状態
(別の配向状態又は配向が乱れた状態)への変化がおこる
と思われる。

【００２６】前記のとおり、記録体(A)の表面を形成す
る部材(化合物)の疎水基として、アルキル基又は弗素置
換あるいは塩素置換のアルキル基が採用された場合に
は、アルキル基の炭素数が4以上であるのが望ましいの
は、記録体(A)の表面にアルキル基がある程度整列(配
向)し、しかも加熱時に活溌な分子運動をするのに必要
な数によるものと思われる。また、接触材料(B)が記録
体(A)の表面とともに加熱を受けた時、記録体(A)表面の
分子中に接触材料(B)の分子がとりこまれることも考え
られる。さらに、アルキル基中に電気陰性度の高いフッ
素や塩素があると、液体特に極性液体との相互作用が大
きくなるため、水素のみのアルキル基を含有する化合物
よりも大きな付着性変化が得られる。また、フッ素を含
有するアルキル基は、自己凝集性が強いため、表面自己
配向機能が高く、更に、表面エネルギーが低いため、地
肌よごれ防止の点ですぐれている。

【００２７】更にまた、記録体(A)の表面は液体反撥性
を有するが、これを固体の表面エネルギーで記述する
と、本発明者らの検討では、50dyn/ｃｍ以下であること
が本発明装置による記録方式として望ましいことをも確
めている。これ以上の高い値では記録剤に対して記録体
(A)の表面が、時として、ぬれてしまい、地肌よごれを
おこすおそれがある。

【００２８】ここで、記録体(A)の表面を形成する化合
物(記録体(A)表面を選択的に加熱した状態で接触材料
(B)と接触させた時、記録体(A)の表面に加熱温度に応じ
た後退接触角を示す潜像領域を形成せしめる化合物)の
詳細を述べる。まず、図１(a)及び(d)のタイプについて
ビニル系高分子側鎖にアルキル基(フッ素置換及び/又は
塩素置換のものも含む)を有する化合物などが考えられ
る。具体的には、式(Ｉ)(II)(III)(IV)(Ｖ)(VI)及び(VI
I) R:-H、-CH₃,-C₂H₅,-CF₃又は-C₂F₅ Rf:C₄以上のアルキル基又はフッ素置換若しくは塩素置
換アルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖中に(−C
F₂−)p、(−CH₂−)p又は―Ph―をもつ疎水基(P≧４) m:1以上の整数をモノマーとした重合体があげられる。

【００２９】その他のポリマーとしては、式(VIII)(IX)
及び(Ｘ)に示したごときものがあげられる。 R:-H、-CH₃、-C₂H₅、-CF₃又は-C₂F₅ Rf:C₄以上のアルキル基又はフッ素置換もしくは塩素置
換アルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖中に(-CF
₂-)p、(-CH₂-)p又は―Ph―を含む疎水基(P≧4) n:10以上の整数

【００３０】これら具体例でRfをより詳しくいえば下記
(1)から(20)までのものを例示することができる。

【００３１】これらの化合物のうちでも、特に、下記(X
I)の材料の使用が望ましい。 〔但し、R¹:水素、-CxHy又は-CxFy(n=1又は2以上の整
数、y=2x+1である。) R²:(-CH₂-)p(p≧1整数)又は(-CH₂-)q-N(R³)SO₂-(R³は-C
H₃又は-C₂H₅、q≧1の整数) m:6以上の整数である。〕

【００３２】従って、本発明における記録体(A)表面の
部材の最も好ましい具体的化合物としては などが挙げられる。

【００３３】さらに、これら式(Ｉ)(II)(III(IV)(Ｖ)(V
I)(VII)及び(XI)のモノマーどうし(2種以上のモノマー
の共重合体)の他に、他のモノマー例えばエチレン、塩
化ビニル、スチレン、ブタジエン、イソプレン、クロロ
プレン、ビニルアルキルエーテル、酢酸ビニル、ビニル
アルコールなどとの共重合体も上記化合物として適す
る。

【００３４】また、式(XI)のモノマーと官能基を有する
重合性モノマー例えば CH₂=C(CH₃)COO(CH₂)₂OH CH₂=C(CH₃)COOCH₂CH(OH)CH₃ CH₂=CHCOOCH₂CH(OH)C₈F₁₇ などの1種以上とで共重合物をつくり重合物中に官能基
を多数導入するか、式(XIのモノマーと官能基を有する
重合性モノマーとの共重合物をつくり、続いて、官能基
を多数含んだ共重合物どうしを架橋試薬をもちいて架橋
することにより製造した架橋性重合体も材料としてすぐ
れている。

【００３５】架橋試薬としては、ホルムアルデヒド、ジ
アルデヒド、N-メチロール化合物、ジカルボン酸、ジカ
ルボン酸クロライド、ビスハロゲン化合物、ビスエポキ
シド、ビスアジリジン、ジイソシアネートなどがあげら
れる。

【００３６】このようにして得られた架橋重合物の一例
を下記に示す。

【化１】

【００３７】化１で表わされる架橋重合物において、Ａ
ブロックは前記の熱的性質の変化をもたらすアルキル基
であり、一方、Bブロックは鎖状ポリマーどうしを架橋
している(架橋試薬としてジイソシアネートを用いて架
橋したもの)部位である。架橋体による膜を得るには、
前記の共重合物と架橋試薬とを混合した溶液をコート液
として基板上に塗布し、加熱又は電子線照射や光照射に
より架橋重合膜を得るようにすればよい。

【００３８】なお、上記モノマーから重合体を得るに
は、溶液重合、電解重合、乳化重合、光重合、放射線重
合、プラズマ重合、グラフト重合、プラズマ開始重合、
蒸着重合など、材料により適当な方法が選択される。

【００３９】次に、図１(b)に示した化合物について述
べる。ここでは、式(XII)、(XII)及び(XIV)に示す材料 Ｒf−ＣＯＯＨ ・・・(XII) Ｒf−ＯＨ ・・・(XIII) Ｒf−(ＣＨ₂)n−ＳｉＸ ・・・(XIV) (Rf:炭素数4以上のアルキル基又はフッ素置換又は塩素
置換のアルキル基を含有した基、もしくは、分子鎖中に
(-CF₂-)p、(-CH₂-)p又は―Ph―を含む疎水基(P≧4)) n:1以上の整数 X:塩素、メトキシ基又はエトキシ基)等をガラス、金、
銅などの無機材料やポリイミド、ポリエステル、ポリエ
チレンテレフタレートなどの有機材料表面に物理吸着又
は化学結合した材料(表面エネルギーが約50dyn/cm以下
であるのが好ましい)であることが望ましい。

【００４０】式(XII)(XIII)及び(XIV)の具体例としては ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₅−ＣＯＯＨ, ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₇−ＣＯＯＨ, ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₇−(ＣＨ₂)₂ＯＨ, Ｈ−(ＣＦ₂)₁₀−ＣＯＯＨ， Ｈ−(ＣＦ₂)₁₀−ＣＨ₂ＯＨ， Ｆ−(ＣＦ₂)₆−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｓｉ(ＣＨ₃)₂Ｃｌ, ＣＦ₂Ｃｌ(ＣＦ₃)ＣＦ(ＣＦ₂)₅ＣＯＯＨ， ＣＦ₃(ＣＦ₂)₇(ＣＨ₂)₂ＳｉＣｌ₃ などがあげられる。

【００４１】図１(c)に示す化合物としては式(XII)、式
(XIII)や式(XIV)の材料のみの構造体があげられる。

【００４２】続いて、上記化合物を用いた記録体(A)に
ついて述べる。記録体(A)の構成としては、先に触れた
とおり、前記の表面部材そのもので形成したもの、
支持体(好ましくは耐熱性支持体)上に前記の表面部材を
形成したもの、前記，にあって少なくとも潜像領
域を形成する接触材料(B)に接しこれに電荷を挿入せし
める導電性部材を有するもの、とに大別される。の態
様は上記化合物(表面部材)そのものをフィルム状あるい
は板状、あるいは、円柱状に成形したものである。この
際、フィルム状の場合は、フィルムの厚さは1μｍ〜5mm
が望ましい。の態様においては、上記化合物がある程
度支持体内部へ侵入していてもかまわない。記録体(A)
自体の膜厚は30Å〜1mmが望ましい。ただし、熱伝導性
の点では100Å〜10μｍ、耐摩耗性の点では10μｍ〜1mm
がすぐれている。支持体の耐熱温度としては、50℃〜30
0℃が望ましい。の態様においては、後に詳しく述べ
るように、最も小さいと思われる一つの潜像領域の大き
さに比べても十分小さな導電性部材を有し、この導電性
部材を通して顕像化に供された記録剤に電荷を注入せし
めるような工夫がなされている。なお、前記及びの
構成の記録体(A)の使用では、顕像化に供された記録剤
のみの先端を、例えば図１１に示したように、電圧が印
加された導電性細線16に接触させ、これを通して記録剤
３ａ′に電荷注入を行なう工夫が採用される。図１１の
（ａ）はその状態の概略斜視図、（ｂ）は概略断面図で
ある。の態様については後に詳述する。

【００４３】支持体の形状は、ベルト状(エンドレスベ
ルト状を含む)、板状、ドラム状いずれでもよく、装置
の使用用途に応じて選定する。特に、ドラム状のものは
装置における寸法精度を出せる点ですぐれている。エン
ドレスベルト状のものは装置の小型化に有利である。板
状のものは、記録紙サイズに応じてその大きさを決めれ
ばよい。

【００４４】さらに、上記化合物(記録体(A)の表面形成
材料)と他の部材、例えば疎水性ポリマー、疎水性無機
材料との混合物を支持体上に形成すると、印字における
地肌よごれ防止の点ですぐれている。また、熱伝導性を
上げるためには、金属粉を上記化合物に混入するとよ
い。更に、支持体と上記化合物との密着性を向上するた
めにプライマー層を支持体と化合物間にもうけることも
できる。耐熱性支持体としては、ポリイミド、ポリエス
テルなどの樹脂フィルムやガラスやNi、Aｌ、Cu、Cr、P
tなどの金属や金属酸化物等が好ましい。これら支持体
は平滑でも粗面や多孔質であってもよい。

【００４５】次に、接触材料(B)について説明する。接
触材料(B)は、先に記載したとおりであるが、端的にい
えば、当初から液体あるいは蒸気であるか、又は、記録
体(A)にいう後退接触角θrの低下開始温度以下で結果的
に液体を生じさせる固体である。ここでの蒸気は、記録
体(A)の表面又は表面近傍で、少なくともその一部が凝
縮して液体を生ぜしめ、その液体が記録体(A)の表面を
濡らすことができるものであれば充分である。一方、こ
こでの固体は、前記後退接触角θrの低下開始温度以下
で液体となるか、液体を発生させるか、又は、蒸気を発
生させるものである。固体から発生された蒸気は記録体
(A)の表面又はその近傍で凝縮して液体を生じさせるこ
とは前記の場合と同様である。

【００４６】これら接触材料(B)をより具体的にいえば
次のとおりである。

【００４７】即ち、接触材料(B)の一つである液体とし
ては、水の他に、電解質を含む水溶液、エタノール、n-
ブタノール等のアルコール、グリセリン、エチレングリ
コール等の多価アルコール、メチルエチルケトン等のケ
トン類のごとき有極性液体や、n-ノナン、n-オクタン等
の直鎖状炭化水素、シクロヘキサン等の環式状炭化水
素、m-キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素のごとき
無極性液体があげられる。また、これらの混合体でもよ
いし、各種分散液や液状インクも使用できる。さらに望
ましくは極性液体の方がよりすぐれている。

【００４８】接触材料（Ｂ）の他の一つである蒸気とし
ては水蒸気の外に、接触材料（Ｂ）の液体の蒸気であれ
ば使用できるが、特にエタノール蒸気やm-キシレン蒸気
などの有機化合物の蒸気(噴霧状態のものを含む)があげ
られる。この有機化合物蒸気の温度は記録体（Ａ）の表
面を形成する化合物の融点或いは軟化点以下である必要
がある。

【００４９】接触材料(B)の他のもう一つである固体と
しては、高級脂肪酸、低分子量ポリエチレン、高分子ゲ
ル(ポリアクリルアミドゲル、ポリビニルアルコールゲ
ル)、シリカゲル、結晶水を含んだ化合物などがあげら
れる。

【００５０】なお、後述するところからより明らかにな
るが、接触材料(B)として、前記液状インクのごとき
“顕色剤を含有した"記録剤を用いた場合には、潜像形
成と同時に顕像化が行なわれることになり、実用上極め
て有利である。

【００５１】続いて、加熱手段について説明する。

【００５２】潜像形成のための加熱手段としてはヒータ
ー、サーマルヘッドなどによる接触加熱の他に、電磁波
(レーザー光源、赤外線ランプなどの発光源からの光線
をレンズで集光する)による非接触加熱がある。

【００５３】図２(a)は基板1上に記録体(A)の表面を構
成する前記化合物の膜2が形成され、この膜面に接触材
料(B)のうちの例えば液体3が存在している状態を示して
いる。この状態において、膜2を加熱すると、膜2表面は
後退接触角θrが低下して著しい濡れを示し、液体付着
性を有してしまうのが認められる。更に、この液体付着
性を有する膜2を空気中、真空中又は不活性ガス雰囲気
中で再び加熱する(図２(b))と膜2表面は後退接触角θr
が高まってゆき再び液体反撥性を示すのが認められる。

【００５４】このような現象と幾分類似した現象を示す
ものとして、先にあげた特公昭54-41902号公報に記載さ
れた方法がある。だが、ここに開示されている方法では
記録材料は実質的にデイスオーダーでかつ一般的に不定
形のメモリ物質の層を得るようにしている点でメカニズ
ム上大きく相違したものとなっている。すなわち、本発
明では、接触材料(B)の存在なしでは、記録体(A)表面に
は状態変化がおこりえない。また、特公昭54-41902号公
報に記載された方法では、簡単な操作で可逆性を得るこ
とはできない。

【００５５】図３(a)のごとく、画像情報に応じて液体3
の接触下で膜2に熱を加える(図３の(b-1)及び(b-2)のよ
うに、液体不存在のものに膜2に画像情報に応じて熱を
加えた状態のもとで液体３と接触させても同様である)
と、加熱部分の膜2の表面が液体付着性化される。図
中、4はヒーター、31は液体供給口、41は赤外線ラン
プ、5はレンズ、6はシャッターを表わしている。図３
(a)は膜2の加熱は基板1を通して行なっている例である
が、図３(b-1)(b-2)に示した例は、直接膜2に加熱がな
されている例である。

【００５６】この膜2の水溶液接触下での加熱前後の水
溶液の接触角の変動、及び、このものを更に空気中で加
熱した場合の水溶液の接触角の変動の一例を図４に示し
た。図４において、○は前進接触角、△は後退接触角を
表わしている。一般に、後退接触角が90°以上の高い値
の場合、その表面は液体反撥性を示し、90°以下の低い
値の場合、その表面は液体付着性を示す。

【００５７】接触材料(B)に接した状態での記録体(A)表
面の加熱温度としては、50℃〜250℃の範囲が望まし
く、さらに望ましくは80℃〜150℃である。加熱時間は
0.1m秒〜1秒程度で望ましくは0.5m秒〜2m秒である。加
熱のタイミングとしては、記録体(A)表面を加熱した
後、冷めないうちに接触材料(B)に接触させる、記録
体(A)表面に接触材料(B)を接触させた状態のもとに記録
体(A)表面を加熱させる、のいずれかでもよい。

【００５８】一方、潜像消去の場合には、接触材料(B)
の不存在下で記録体(A)表面を50〜300℃、望ましくは10
0〜180℃に加熱すればよい。加熱時間は1m秒〜10秒程度
で好ましくは10m秒〜1秒である。

【００５９】続いて、記録体(A)表面に実際に画像情報
の記録を行なう手段についてより詳細に説明する。

【００６０】一つは、液体又は蒸気雰囲気下で画像信号
に応じて記録体(A)の表面を加熱して記録体(A)の表面に
液体付着領域を形成(潜像形成)し、その後、この潜像部
に記録剤を接触させる手段により潜像部に記録剤を付着
させ(現像)、この記録剤に電荷注入を行った後、記録紙
等に記録体(A)表面の記録剤を非接触転写する方法であ
る(間接記録方法)。さらに、上記の方法において、記録
剤を非接触転写後、再び潜像部に記録剤を接触させこれ
に電荷注入する手段を行えば、記録体(A)を印刷版とし
て用いた印刷方法となる。

【００６１】他の一つは、上記の方法において、記録剤
を転写後、液体又は蒸気の不存在下で潜像を形成した記
録体(A)の表面を加熱し潜像を消去することにより、記
録体(A)が再生可能な記録方法となる。図５(a),(b)に間
接記録方法(印刷法)、記録体の可逆的な記録方法(繰り
返し記録方法)の代表的なプロセスを示す。

【００６２】次に、記録体（Ａ）をはじめ、本発明装置
の構成をより理解しやすくするために(1)可視像を形成
した記録体(A)表面の記録剤に電荷を注入する手段を除
き、及び(2)その可視像を記録紙等に非接触転写する手
段を除いた状態の記録装置から先に説明を進める。

【００６３】記録体(A)は、既述のとおり、加熱状態で
かつ液体と接触させた場合に後退接触角が低下する表面
(前記と同様便宜上「膜2」又は「記録体(A)表面」を記すこ
とがある)を有しているものであれば、その形態にとら
われない。従って、記録体(A)の支持基板は、剛体円筒
形状であっても、柔軟性を有するフィルム形状であって
もかまわない。剛体円筒形状記録体(円筒状剛体の表面
に膜2が形成されたもの)は、記録体(A)を稼働する際位
置ずれ等が生じにくいため制御性に優れているので、望
ましくは剛体円筒形状の記録体(A)が良い。このような
記録体(A)の作製は膜2を基板上に成膜する方法や、成形
体そのもので作成する方法がよい。特に、前記成形体そ
のものによる記録体(A)は一般に機械強度が弱いため基
板上に成膜する方法が望ましい。なお、成形体そのもの
で記録体(A)をつくる場合においても、その表面には膜2
が形成されていなければならないことはいうまでもな
い。

【００６４】記録体(A)の支持基板に樹脂を用いた場
合、このものは熱の良導体とはいいがたく、基板側から
加熱を施すようなタイプのものでは、記録体(A)表面が
加熱され液体付着性を有するまでにはある程度の時間を
要する。そこで、熱の良導体を基板の全体に又は基板1
上の部分に用いることが考えられてよい。

【００６５】図６(a)は例えば金属のような熱の良導体
を基板(金属基板11)としてその上に有機薄膜12を蒸着
し、更にその上に、膜2を形成するようにすれば、垂直
方向の熱伝導速度が向上する。ここでの有機薄膜12とし
てはポリイミド、ポリエステル、フタロシアニンなどが
例示できる。印字ドットが比較的大きくてよい場合には
この構成で十分であるが、面方向への熱拡散により液体
付着性を有する部分が拡大するため一層の高密度印字を
目的とする場合には適さない。

【００６６】図６(b)は、そのため、基板1上に熱の良導
体部分を区切って設けることにより面方向への熱拡散を
防ぎ液体付着性を有する部分2aの微小化を図ったもので
ある。図６(b)において、11aは微小された金属膜を表わ
している。

【００６７】続いて、加熱による潜像形成手段について
述べる。上記したごとく、加熱源としては、ヒーターや
サーマルヘッドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線
ランプのごとき電磁波による非接触加熱源が望ましい。
これらの具体例として、液体と接した状態で記録体(A)
表面を加熱する手段を述べる。なお、便宜上、基体1上
に膜2が形成されているタイプの記録体（Ａ）を例にと
って説明を進めることにする。まず、あらかじめ記録体
7表面に液体３を接しておき、その接した状態で基体1側
又は液体3側から加熱を行う手段(図７の(a)及び(b))
や、初めに記録体(A)表面側から加熱を行い直ちに液体3
を記録体加熱部(記録体(A)表面)に接触させる手段(図７
の（ｃ）及び（ｄ）)の採られるのが望ましい。

【００６８】液体3の供給手段としては、記録体(A)下部
に皿を設け液体３を満たし記録体7が皿中の液体3に常に
接するようにし、加熱源を皿の近傍又は皿の中に配置す
る構成が最も簡単な構成となる。皿の替わりに、液体を
含ませたスポンジ状多孔質体34を用いても良い。光や電
子線による潜像形成手段も上記構成と基本的に同様であ
る。図７において、42はレーザー光源、43はサーマルヘ
ッドである。このようにして、記録体(A)表面には潜像
(S)が形成される。

【００６９】上記手段により画像信号に応じて選択的に
付与された液体付着性領域に記録剤(例えばインク液)を
付着させる手段としては、記録剤3aを充填した皿を潜像
形成手段配置位置に対して記録体(A)の進行方向に配置
し常に記録体(A)表面に接しておく構成が最も簡単であ
る(図８及び図９)。なお、図９に示すごとく、潜像形成
に用いる液体をインク液のごとき記録剤3aと兼用すると
一つの皿で構成でき、潜像形成とその顕像化とを一体化
できるため、装置を小型化できる。

【００７０】間接記録の場合、前記のとおり、例えば剛
体円筒管が記録体基板として用いられるのが有利であ
る。図10及び図11に示したように、潜像形成及び現像
(顕像化)後、例えば記録体7上の記録剤3aは記録紙61と
直接接する手段を設けることで記録紙の毛管作用によ
り、記録紙61へ記録剤3aは転写される(転写手段)。転写
を行う位置は、現像後であれば、記録体のどの位置でも
かまわないが、現像後、直ちに転写が行われる位置が望
ましい。転写後、潜像消去を行わず現像及び転写を繰り
返えせば、この装置は印刷装置となる。一つの画像情報
の印刷が終了すれば、記録体7を交換することで又は潜
像消去を行なうことで、別の画像情報の記録・印刷が可
能となる。

【００７１】また、上記転写手段の後、液体又は蒸気の
不存在下で、即ち、空気中、真空中、又は、不活性ガス
中で潜像部（S）付近を加熱することにより、潜像を消
去すれば記録体7は繰返し使用可能な記録装置となる。
なお、潜像消去のための加熱源としては、ヒーターやサ
ーマルヘッドのごとき接触加熱源やレーザーや赤外線ラ
ンプ41のごとき電磁波による非接触加熱源が望ましい。
加熱は記録体7表面の全面に行っても良く、潜像部（S）
のみ行っても良い。ただし、全面加熱の方が装置構成を
簡単にできるため、より望ましい。なお、潜像消去手段
は、消去のための加熱を行ったのち、再び、潜像形成を
行うまでの時間の間に記録体7表面が実質的に冷却する
位置に設ける。消去に必要な加熱温度は、記録体7表面
の材料により異なるが、記録体7表面の材料の後退接触
角が低くなる開始温度以上で分解点以下の温度が望まし
い。

【００７２】記録紙(被転写体)61としては、透明樹脂フ
ィルム、普通紙、インクジェット用紙、タイプ紙などが
適当である。また、記録剤としては後述のものが使用で
きる。

【００７３】ところで、前記したように本発明の記録装
置においては記録体(A)表面に潜像を形成するために、
接触材料(B)を用いること(図7参照)及び該潜像を顕像化
させるために記録剤を使用すること(図8、図9参照)を要
件とするものであるが、これらの接触材料(B)及び/又は
記録剤はその潜像形成工程あるいは顕像化工程で記録体
(A)と接触した際、記録体(A)表面に付着した紙粉や塵灰
によって汚染され、また繰り返し使用中に接触材料(B)
の収納容器及び/又は記録剤容器中にこれらの紙粉等が
蓄積される場合も起こり得る。このため、潜像形成時に
これらの紙粉や塵灰が加熱を阻害し、得られる潜像にバ
ラツキが生じたり、更には顕像化工程にあっては記録剤
の付着量に差異が生じ高品質な顕像が得られにくくな
る。加えてこれらの紙粉や塵灰は潜像形成時、あるいは
顕像形成時潜像形成時に加熱源と記録体(A)との間に混
入し、記録体(A)表面を損傷する恐れもある。

【００７４】そこで、本発明の記録装置においては、接
触材料(B)及び/又は記録剤を清浄化する手段が採用され
ている(図10、図11)。

【００７５】接触材料(B)及び/又は記録剤の清浄化手段
としては、これらの液体中に含まれる紙粉や塵灰等の夾
残物を除去できる手段であれば、いずれの方法も利用す
ることができる。

【００７６】ここでは、メカニカルフィルターを用いる
方法(図10)及び静電フィルターを用いる手法(図11)につ
いて述べるが、もちろん本発明に係る清浄化手段はこれ
らのものに限定されるものではない。

【００７７】図10は循環式メカニカルフィルターで紙粉
や塵灰を除去するものである。図10において、52aはメ
カニカルフィルター、63はベローズポンプやチューブポ
ンプのような液体ポンプである。メカニカルフィルター
52aの材質としては、接触材料(B)や記録剤3aにより腐食
を受けない材料が好ましく、このような材料としてはた
とえばポリテトラフロロエチレンやシリコーン樹脂の合
成樹脂多孔質体やセラミックス多孔体、焼結金属などが
ある。フィルターの細孔径に特別な制約はないが0.1μ
ｍ〜10.0μｍ程度が適当である。フィルターはその使用
態様に応じ適時交換することが望ましい。

【００７８】図11は電気泳動現象を利用した静電気フィ
ルターで紙粉や塵灰を除去するものである。52bは静電
気フィルター、64は電極である。この装置によれば電極
間に電場をかけると正帯電の塵灰等は負極側に負帯電の
塵灰は正極側に付着する。

【００７９】この場合、液体をファン等により撹拌して
おくと清浄効率が高くなる。電極の形状や大きさあるい
は電場の大きさはその容量に応じて適宜定めればよい。
なお、塵灰等の付着量に応じて電極は適時清浄しておく
方が望ましい。

【００８０】図10及び図11は清浄化手段を接触材料(B)
として、“液状インクのこどき顕色剤を含有した記録
剤"が用いられた場合、すなわち潜像形成と同時に顕像
化が行なわれる記録装置に取付けた態様が示されている
が、潜像形成と顕像化が別々の液体によって行なわれる
記録装置にも同様に適用できることはもちろんである。

【００８１】次に記録剤について述べる。記録体(A)表
面上に可視画像を得るには、記録剤として筆記用イン
ク、インクジエット記録用インク、印刷インク、電子写
真用トナー等の従来の印字記録方式に用いられてきた記
録剤の中から、本発明装置に適合するものを選択し使用
することができる。

【００８２】より具体的で好ましいもの例を示せば、例
えば水性インクとしては、水、湿潤剤、染料を主体とす
る水溶性インク又は水、顔料、分散用高分子化合物、湿
潤剤を主体とした水性顔料分散インク、顔料又は染料を
界面活性剤を用いて水に分散せしめたエマルジョン・イ
ンク等が用いられる。水性インクに用いられる湿潤剤と
しては、次のような水溶性の有機液体化合物が挙げられ
る。

【００８３】エタノール、メタノール、プロパノール等
の一価アルコール類;エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、グリセリン等の多価
アルコール類;エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエ
チレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコール、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエー
テル等の多価アルコールのエーテル類;N-メチル-2-ピロ
リドン、1,3-ジメチルイミダゾリジノン、ε-カプロラ
クタム等の複素環式化合物;モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、モノエチル
アミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン等のアミン
類等。

【００８４】水溶性染料としては、カラー・インデック
スにおいて酸性染料、直接染料、塩基性染料、反応性染
料などに分類される染料が用いられる。代表的な染料の
例としては、 C.I.アシッド・イエロー17,23,42,44,79,142 C.I.アシッド・レッド1,8,13,14,18,26,27,35,37,42,52,
82,87,89,92,97,106,111,114,115,134,186,249,254,289 C.I.アシッド・ブルー9,29,45,92,249,890 C.I.アシッド・ブラック1,2,7,24,26,94 C.I.フード・イエロー3,4 C.I.フード・レッド7,9,14 C.I.フード・ブラック2 C.I.ダイレクト・イエロー1,12,24,26,33,44,50,142,14
4,865 C.I.ダイレクト・レッド1,4,9,13,17,20,28,31,39,80,8
1,83,89,225,227 C.I.ダイレクト・オレンジ26,29,62,102 C.I.ダイレクト・ブルー1,2,6,15,22,25,71,76,79,86,8
7,90,98,163,165,202 C.I.ダイレクト・ブラック19,22,32,38,51,56,71,74,75,
77,154,168 C.I.ベーシック・イエロー1,2,11,13,14,15,19,21,23,2
4,25,28,29,32,36,40,41,45,49,51,53,63,65,67,70,73,
77,87,91 C.I.ベーシック・レッド2,12,13,14,15,18,22,23,24,27,
29,35,36,38,39,46,49,51,52,54,59,68,69,70,73,78,8
2,102,104,109,112 C.I.ベーシック・ブルー1,3,5,7,9,21,22,26,35,41,45,4
7,54,62,65,66,67,69,75,77,78,89,92,93,105,117,120,
122,124,129,137,141,147,155 ベーシック・ブラック2,8 等を挙げることができる。

【００８５】顔料としては、有機顔料としてアゾ系、フ
タロシアニン系、アンスラキノン系、キナクリドン系、
ジオキサジン系、インジゴ系、チオインジゴ系、ペリノ
ン系、ペリレン系、イソインドレノン系、アニリン・ブ
ラック、アゾメチンアゾ系、カーボン・ブラック等が挙
げられ、無機顔料として酸化鉄、酸化チタン、炭酸カル
シウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、バリウム
イエロー、紺青、カドミウムレッド、クロムイエロー、
金属粉が挙げられる。

【００８６】顔料分散用化合物として、ポリアクリルア
ミド、ポリアクリル酸及びそのアルカリ金属塩、水溶性
スチレンアクリル樹脂等のアクリル系樹脂、水溶性スチ
レンマレイン酸樹脂、水溶性ビニルナフタレンアクリル
樹脂、水溶性ビニルナフタレンマレイン酸樹脂、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルアルコール、β-ナフタレ
ンスルホン酸ホルマリン縮合物のアルカリ金属塩、四級
アンモニウムやアミノ基等のカチオン性官能基の塩を含
む高分子化合物、ポリエチレンオキサイド、ゼラチン、
カゼイン等の蛋白質、アラビアゴム、トラガントゴム等
の天然ゴム類、サポニン等のグルコキシド類、カルボキ
シメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メ
チルセルロース等のセルロース誘導体、リグニンスルホ
ン酸及びその塩、セラミック等の天然高分子化合物、等
が挙げられる。

【００８７】油性の記録剤としては、水性インクと同様
に、油溶性染料を有機液体化合物に溶解したものや、顔
料を有機液体化合物に分散せしめたもの、顔料又は染料
を油性ベースに乳化させたもの、等が用いられる。

【００８８】油性染料の代表的な例としては、 C.I.ソルベント・イエロー1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,
14,16,17,26,27,29,30,39,40,46,49,50,51,56,61,80,8
6,87,89,96 C.I.ソルベント・オレンジ12,23,31,43,51,61 C.I.ソルベント・レッド1,2,3,16,17,18,19,20,22,24,2
5,26,40,52,59,60,63,67,68,121 C.I.ソルベント・バイオレット7,16,17 C.I.ソルベント・ブルー2,6,11,15,20,30,31,32,35,36,5
5,58,71,72 C.I.ソルベント・ブラウン2,10,15,21,22 C.I.ソルベント・ブラック3,10,11,12,13 等が挙げられる。

【００８９】また、染料を溶解したり、顔料を分散する
ための油性ベースとしては、n−オクタン、n−デカン、
ミネラネスピリット、リグロイン、ナフサ、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の炭化水素類；ジブチルエーテ
ル、ジヘキシルエーテル、アニソール、フェネトール、
ジベンジルエーテル等のエーテル類；メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリ
セリン等のアルコール類等を例示することができる。

【００９０】油性インクにおいても先に例示した顔料を
用いることができる。油性の顔料分散剤の例としては、
ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル-アクリル酸エステル共重合体、
ポリ酢酸ビニル、塩ビ-酢ビ共重合体、ポリビニルピロ
リドン、ポリビニルブチラール等のビニル系共重合体、
エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース系
樹脂、ポリエステル、ポリアミド、フェノール樹脂等の
縮重合樹脂、ロジン、セラミック、ゼラチン、カゼイ
ン、等の天然樹脂等がある。

【００９１】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。 実施例１ 図10に示す記録装置を用いて画像記録を行なった。記録
体(A)としては、直径30mm、厚み50μmのポリイミドシー
ムレスフィルム(商品名カプトン：東レ・デュポン社
製）上に含フッ素アクリレート材料(商品名：ビスコー
ト17Ｆ：大阪有機化学工業社）をスピンコートしたもの
を用いた。接触材料(B)及び記録剤としては水性黒色イ
ンクを、加熱源としてはサーマルヘッドを用いた。ま
た、フィルターは焼結ステンレス(孔径3μm)からなるメ
カニカルフィルターを、循環ポンプとしてはベローポン
プを用い(加圧1気圧)、また流路にはシリコーンチュー
ブを用いた。以上の条件で画像記録を行なったところ、
従来に比べ記録剤中の塵埃がなくなり画像品質が向上し
ていることが判った。

【００９２】

【発明の効果】本発明の装置によれば、連続記録におい
ても長期にわたってしかも可逆的に多数枚の良質な鮮明
画像を得ることができ、また記録体(A)の劣化が著しく
抑制される。

【図面の簡単な説明】

【図１】表面自己配向機能を有する形態の模式的な四例
の図である。

【図２】本発明装置における記録体（Ａ）の作用を基本
的に説明するための図である。

【図３】本発明装置における記録体（Ａ）の作用をさら
に説明するための図である。

【図４】本発明に係る記録体（Ａ）表面に液体を接触さ
せた状態で記録体（Ａ）表面を加熱した場合、その記録
体（Ａ）表面にみられる後退接触角θrの変化を表わし
た図である。

【図５】本発明装置を用いた場合の二つの実施態様を示
したものである。

【図６】記録体（Ａ）に加熱を施すのに有用な手段の二
例を表わした図である。

【図７】記録体（Ａ）表面に潜像を形成する手段の四例
を表わした図である。

【図８】潜像を可視像化（現像）する方法を表わした図
である。

【図９】潜像形成とともに可視像化を施す手段を示した
図である。

【図１０】本発明装置の実施の様子を表わした図であ
る。

【図１１】本発明装置の実施の様子を表わした図であ
る。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 膜 ３ 液体（３ａ…着色インク） ４ ヒーター ５ レンズ ６ シャッター ７ 記録体（Ａ） ５２ａ メカニカルフィルター ５２ｂ 静電気フィルター

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹本 武 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 岡田 康之 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 渡辺 好夫 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記記録体(A)の表面を下記接触材料(B)
   と接触させた状態で選択的に加熱することにより又は記
   録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と
   接触させることにより記録体(A)の表面に加熱温度に応
   じた後退接触角を示す潜像領域を形成せしめる接触材料
   (B)を記録体(A)表面に供給する手段と、記録体(A)の表
   面を加熱する手段と、該潜像領域を顕像化させる記録剤
   付与手段と、記録体(A)表面に付着された記録剤を記録
   紙に転写する手段と、接触材料(B)及び/又は記録剤の清
   浄化手段とを設けてなることを特徴とする記録装置。 (A)加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触角
   が低下する表面を有する記録体。 (B)液体、蒸気又は記録体(A)にいう後退接触角の低下開
   始温度以下で液体となるか液体もしくは蒸気を発生する
   固体。
2. 【請求項２】 下記記録体(A)の表面を下記接触材料(B)
   と接触させた状態で選択的に加熱することにより又は記
   録体(A)の表面を選択的に加熱した状態で接触材料(B)と
   接触させることにより記録体(A)の表面に加熱温度に応
   じた後退接触角を示す潜像領域を形成せしめる接触材料
   (B)を記録体(A)表面に供給する手段と、記録体(A)の表
   面を加熱する手段と、該潜像領域を顕像化させる記録剤
   付与手段と、記録体(A)表面に付着された記録剤を記録
   紙に転写する手段と、記録体(A)表面に形成された潜像
   領域を加熱して該潜像領域を消去する手段と、接触材料
   (B)及び/又は記録剤の清浄化手段とを設けてなることを
   特徴とする記録装置。 (A)加熱状態でかつ液体と接触させた場合に後退接触角
   が低下する表面を有する記録体。 (B)液体、蒸気又は記録体(A)にいう後退接触角の低下開
   始温度以下で液体となるか液体もしくは蒸気を発生する
   固体。