JPH06157624A

JPH06157624A - ホスホニウム塩およびそれを含有する光硬化型カチオン重合性樹脂

Info

Publication number: JPH06157624A
Application number: JP29889592A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Endo; 剛遠藤; Toshikazu Takada; 十志和高田; Keiichi Takuma; 桂一宅間; Kenji Ohashi; 賢治大橋; Kenichi Mori; 健一森
Original assignee: Ajinomoto Co Inc; Hokko Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Ajinomoto Co Inc; Hokko Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1992-11-09
Filing date: 1992-11-09
Publication date: 1994-06-07

Abstract

(57)【要約】【構成】（１）新規なホスホニウム塩、（２）ホスホ
ニウム塩を重合触媒として含有する光硬化型カチオン重
合性組成物、及び（３）（２）の硬化物。【効果】（２）の重合性組成物は、保存安定性及び硬
化性ともに優れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、貯蔵安定性に優れ、か
つ光によって速やかに硬化し、良好な物性を有するエポ
キシ樹脂等のカチオン重合性組成物、およびそのような
組成物に含有せしむベき光重合触媒となり得る新規なホ
スホニウム塩に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、エポキシ樹脂は機械的、電気
的、化学的性質などが優れているため、高性能材料を必
要とする種々の用途に使われている。エポキシ樹脂は、
通常硬化剤としてポリアミン類、カルボン酸無水物等と
混合する、いわゆる２液系で使用されている。これらの
系は使用直前に各成分を計量混合する必要があるため、
使用者にとってはこれらの工程が不必要な１液性エポキ
シ樹脂が望まれている。エポキシ樹脂を１液系として硬
化させることのできる硬化剤や触媒としてジシアンジア
ミドやフッ化ホウ素モノエチルアミンのようなアミン錯
化合物があるが、１６０℃又はそれ以上の温度でも硬化
に数時間要する。この結果、これらの１液系エポキシ組
成物は、熱に敏感な電子部品の被覆には用いることがで
きない。又、硬化温度を下げるためイミダゾール化合物
のごとき促進剤を添加することが行われているが、そう
すると保存安定性が大幅に悪化する欠点がある。

【０００３】加熱を必要としない光重合触媒としては、
例えば芳香族ジアゾニウム塩が提案されている。このも
のは、エポキシ樹脂を光照射することにより急速に硬化
させることができる。しかし、ジアゾニウム塩は光分解
により窒素を放出するため、これにより得られる硬化物
が気泡を含むという問題が生じる。また、暗所において
さえ次第に重合が進行するために保存安定性が悪く、熱
的に不安定で無制限に分解する恐れがあるためにこれら
の物質の使用には危険が伴う。

【０００４】上記の課題の改良として、特開昭５０−１
５１９９６および特開昭５０−１５１９９７に係わるも
の（芳香族ヨードニウム塩および芳香族スルホニウム塩
をそれぞれ光重合触媒とする光硬化性組成物）が挙げら
れるが、未だ硬化性は充分でない。

【０００５】また、特開昭５０−１５８６９８に係わる
ものは、光照射によりルイス酸を放出してエポキシ樹脂
を硬化させることのできるホスホニウム塩であるが、こ
の光触媒を用いたエポキシ硬化物は耐アルカリ性に劣る
と言われている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光で
カチオン重合性化合物を迅速に重合硬化させることがで
きる重合触媒を提案し、かつこのような重合触媒を含有
する保存安定性に優れたカチオン重合性組成物を提供す
ることである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、下記一般式（II）で示さ
れるホスホニウム塩をカチオン重合性化合物の光重合触
媒として用いることにより光硬化性組成物を作成できる
ことを見いだし、この知見に基づき本発明を完成した。
なお、一般式（II）で示されるホスホニウム塩のうちで
一般式（Ｉ）で示されるものは新規化合物である。

【０００８】すなわち、本発明は、（ａ）下記一般式
（Ｉ）で示されるホスホニウム塩

【０００９】

【化３】

【００１０】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はフェニル
基、ハロゲン化フェニル基、シアノフェニル基、ベンゾ
イルフェニル基、アルキルフェニル基またはアルキル基
を表し、Ｒ⁴およびＲ⁵はアルキル基または水素原子を
表し、Ｒ⁶はフェニル基、ナフチル基、ピレニル基、ア
ントラセニル基またはスチリル基を表し、Ｒ⁷、Ｒ⁸お
よびＲ⁹はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、水酸基、シリル基、シリルオキシ基または水
素原子を表す。また、Ｘ^-は非求核性アニオンを表す。
但し、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³がフェニル基で、Ｒ⁴およ
びＲ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がフェニル基で、Ｒ⁷お
よびＲ⁸が水素原子で、そしてＲ⁹が水素原子、クロロ
基またはニトロ基であるものは除く。）、（ｂ）カチオ
ン重合性化合物および重合触媒として下記一般式（II）
で示されるホスホニウム塩を含有することを特徴とする
光硬化型カチオン重合性組成物

【００１１】

【化４】

【００１２】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はフェニル
基、ハロゲン化フェニル基、シアノフェニル基、ベンゾ
イルフェニル基、アルキルフェニル基またはアルキル基
を表し、Ｒ⁴およびＲ⁵はアルキル基または水素原子を
表し、Ｒ⁶はフェニル基、ナフチル基、ピレニル基、ア
ントラセニル基またはスチリル基を表し、Ｒ⁷、Ｒ⁸お
よびＲ⁹はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、
ニトロ基、水酸基、シリル基、シリルオキシ基または水
素原子を表す。また、Ｘ^-は非求核性アニオンを表
す。）、および（ｃ）請求項２記載のカチオン重合性組
成物を光硬化することにより得られた硬化物、に関す
る。

【００１３】一般式（Ｉ）および（II）における非求核
性アニオンとしては、ＳｂＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＰＦ₆
^-、ＢＦ₄ ^-等が挙げられる。また、一般式（Ｉ）およ
び（II）のホスホニウム塩は、光の輻射エネルギーによ
り開裂してベンジルカチオンを発生する。これによりエ
ポキシ樹脂等のカチオン重合反応が進行し、対応する硬
化物を生成すると考えられる。

【００１４】以下、本発明を逐次説明する。

【００１５】本発明における、一般式（Ｉ）で示される
ホスホニウム塩として好ましいものとしては、ベンジル
トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、ｐ−クロロベンジルトリフェニルホスホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、ｐ−メチルベンジルトリフ
ェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ
−メトキシベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、α−メチルベンジルトリフェニ
ルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナ
ミルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、２−ヒドロキシ−５−ニトロベンジルトリフェ
ニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−
ナフチルメチルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、３−トリメチルシリル−４−トリメ
チルシロキシベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサ
フルオロアンチモネート、ｐ−メトキシベンジルトリス
（ｐ−クロロフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、ｐ−メトキシベンジルトリス（ｐ−メチ
ルフェニル）ホスホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、シンナミルトリス（ｐ−クロロフェニル）ホスホニ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−メトキシベン
ジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、１−ピレニルメチル−トリフェニルホスホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、１−ピレニルメチル−
ブチルジフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、９−アントラセニルメチル−トリフェニルホス
ホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられ
る。上記の化合物は、方法自体は公知の常法により、相
当するフォスフィンと塩素化物とでホスホニウム塩を調
製後、塩交換することにより得られる。

【００１６】本発明のカチオン重合性組成物の主成分で
あるカチオン重合性化合物にも特別な制限はなく、たと
えばエポキシ樹脂を挙げることができる。

【００１７】エポキシ樹脂にも特別の制限はなく、平均
して１分子当り２個以上のエポキシ基を有するものであ
る。好ましいものとしては、グリセリンやポリエチレン
グリコール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンと
を反応させて得られるポリグリシジルエーテル、および
シクロヘキセンもしくはシクロペンテン環含有化合物を
過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化するこ
とによって得られるシクロヘキセンオキサイドもしくは
シクロペンテンオキサイド含有化合物等の脂環式エポキ
シを挙げることができる。上記のエポキシ樹脂の代表例
を市販商品のうちから選択して挙げると次の通りであ
る。すなわち、脂環式エポキシ樹脂としては、「セロキ
サイド２０２１、２０００および３０００」および「Ｅ
ＨＰＥ−３１５０−１」（以上、ダイセル化学工業
（株）製）；「ＥＲＬ４２０６、４２２１、４２９９お
よび４２３４」（以上、ユニオンカーバイト（株）
製）；「アラルダイトＣＹ１７７および１７９」（以
上、チバガイギー（株）製）などが挙げられる。また、
芳香族エポキシ樹脂として、ビスフェノールＡ、ビスフ
ェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、カテコール、レゾル
シノール等の多価フェノールまたはｐ−ヒドロキシ安息
香酸、β−ヒドロキシナフトエ酸のようなヒドロキシカ
ルボン酸とエピクロルヒドリンとを反応させて得られる
ポリグリシジルエーテル；フタル酸およびテレフタル酸
のようなポリカルボン酸とエピクロルヒドリンとを反応
させて得られるポリグリシジルエステル；等が挙げられ
る。さらには、エポキシ化フェノールノボラック樹脂、
エポキシ化クレゾールノボラック樹脂、エポキシ化ポリ
オレフィン、その他ウレタン変性エポキシ樹脂等が挙げ
られる。

【００１８】その他のカチオン重合性化合物としては、
スチレン、環状エーテル、ビニルエーテル、ラクトン、
環状カーボネート等が挙げられる。

【００１９】本発明のカチオン重合性組成物を調製する
際の、ホスホニウム塩のカチオン重合性化合物に対する
配合比は、この塩が光または熱により活性化されない限
り実質的に不活性状態にあるので広い範囲で変えること
ができる。ホスホニウム塩を硬化性組成物の重量を基準
として０．１〜２０重量部の割合で用いることができ
る。しかし、カチオン重合性化合物の性質、照射の強
さ、所要硬化時間、硬化物の物性およびコスト等のよう
な因子にしたがってこれよりも量を増減させることもで
きる。

【００２０】本発明のカチオン重合性組成物は、常温光
硬化、加熱光硬化、光硬化後のアフターキュアーなどの
方法により硬化することができるので、文脈から明らか
に異なる意味に解されぬ限りにおいて、これらを総称し
て本発明では単に光硬化ということがある。従って、本
発明に言う光硬化は広義に定義されていることに留意さ
れたい。そこで、例えば、加熱光硬化は加熱および光照
射の併用による光硬化を意味する。光硬化に必要な波長
は２００〜５００ｎｍである。光照射時間は、１秒〜５
分、好ましくは５秒〜２分である。加熱光硬化時の温度
は、通常２０〜１５０℃である。光硬化後のアフターキ
ュアーは、例えば２０〜１５０℃にて１０時間以内であ
る。

【００２１】本発明に係わるカチオン重合性組成物に
は、必要に応じてまたは所望により充填剤、希釈剤、溶
剤、顔料、可撓性付与剤、増感剤、酸化防止剤等の各種
添加剤を加えることができる。

【００２２】本発明における光硬化用光源としては、低
圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、キセ
ノンランプ、カーボンアーク灯などが挙げられる。

【００２３】本発明のカチオン重合性組成物をこのよう
にして光硬化させて得られる硬化物は、耐水性、耐薬品
性、電気特性等に優れたものである。

【００２４】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
する。

【００２５】実施例１（ａ）ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネートの合成撹拌装置、還流冷却器、温度計
を備え付けた１リットル容量の４首フラスコを窒素置換
した後、これにトリフェニルホスフィン５２．４ｇ
（０．２モル）およびアセトニトリル２００mlを加えて
混合溶解し、撹拌しながら加熱還流条件下で１００mlの
アセトニトリルに溶解したベンジルクロライド２５．３
ｇ（０．２モル）を１時間かけて滴下し、さらに５時間
撹拌しながら加熱還流条件下で反応を続けたところ、白
色の結晶が析出した。

【００２６】続いて室温まで冷却し、析出した結晶を濾
別し、乾燥したところ、ベンジルトリフェニルホスホニ
ウムクロライド６７．５ｇ（収率８６．７％）が得られ
た。このベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド
の融点は、２８７〜２８８℃であった。

【００２７】このようにして得られたベンジルトリフェ
ニルホスホニウムクロライド１９．４ｇ（０．０５モ
ル）をメタノール−水（１／１（容積比））２００mlに
溶解して同容量のフラスコに入れ、得られた溶液に３０
０mlの水に溶解されたソジウムヘキサフルオロアンチモ
ネート１２．９ｇ（０．０５モル）を撹拌しながら滴下
したところ、沈澱が生じて白濁しスラリー状となった。

【００２８】滴下終了後、室温で１時間撹拌を続け、次
いで結晶を濾別した後メタノールで再結晶したところ、
ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアン
チモネート２４．５ｇ（収率８３．０％）が得られた。
このベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロ
アンチモネートの融点は、１７２℃であった。

【００２９】また、上記ベンジルトリフェニルホスホニ
ウムヘキサフルオロアンチモネートの元素分析を行っ
た。結果を第１表に示す。

【００３０】

【表１】

【００３１】（ｂ）上記のベンジルトリフェニルホスホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート１．８重量部をビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂「エピコート８２８」
（油化シェルエポキシ（株）製商品名、エポキシ当量１
９０）１００重量部に溶解して均一系の重合性組成物を
得た。

【００３２】これを厚さ０．０１５ｍｍにガラスエポキ
シ基板上に塗布した。これに高圧水銀ランプ（１２０Ｗ
／ｃｍ）で１７ｃｍの距離から紫外線を照射したとこ
ろ、３６秒でタックフリーとなった（硬化時間）。さら
に、この重合性組成物の遮光下での４０℃におけるポッ
トライフは、６か月以上であり、保存安定性は良好であ
った。

【００３３】実施例２〜１１第２表に示す種々のホスホニウム塩を実施例１と同様の
方法で合成した。

【００３４】また、実施例１のエポキシ樹脂および第２
表に示すホスホニウム塩を用いてさらに別の重合性組成
物を調製し、実施例１と同様にしてそれぞれのホスホニ
ウム塩について紫外線硬化を行った。その結果も同表に
示す。また、これらの光硬化性組成物は何れも均一なも
ので、ポットライフテストの結果はその保存安定性が６
か月以上という良好なものであった。

【００３５】また、これらの組成物をこのようにして紫
外線硬化して得られた硬化物には気泡を全く生じず、ま
たこれらの硬化物からは臭気も発生しなかった。

【００３６】

【表２】

【００３７】実施例１２ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアン
チモネート２．５重量部を脂環族エポキシ樹脂「セロキ
サイド２０２１」（ダイセル化学（株）製の（３，４−
エポキシシクロヘキシル）メチル−３，４−エポキシシ
クロヘキシルカルボキシレート）１００重量部に溶解し
て均一系の重合性組成物を得た。

【００３８】これを厚さ０．０１５ｍｍにガラスエポキ
シ基板上に塗布した。これに高圧水銀ランプ（１２０Ｗ
／ｃｍ）で１７ｃｍの距離から紫外線を照射したとこ
ろ、６秒でタックフリーとなった。さらに、この重合性
組成物の遮光下での４０℃におけるポットライフは、６
か月以上であり、保存安定性は良好であった。

【００３９】実施例１３〜２２実施例１２と同様にして、第３表に示す種々のホスホニ
ウム塩について紫外線硬化を行った。その結果も同表に
示す。また、これらの光重合性組成物はいずれも均一な
もので、ポットライフテストの結果はその保存安定性が
６か月以上という良好なものであった。

【００４０】また、本発明の組成物より得られる硬化物
には、気泡を全く生じず、またこれらの硬化物からは臭
気も発生しなかった。

【００４１】

【表３】

【００４２】実施例２３ｐ−メトキシベンジルトリス（ｐ−クロロフェニル）ホ
スホニウムヘキサフルオロアンチモネート２．１重量部
をビスフェノールＡ型エポキシ樹脂「エピコート８２
８」１００重量部に溶解して均一系の光重合性組成物を
得た。

【００４３】これを厚さ０．０１５ｍｍにガラスエポキ
シ基板上に塗布した。これに高圧水銀ランプ（１２０Ｗ
／ｃｍ）で１７ｃｍの距離から紫外線を６秒照射した
後、１００℃で３０分間のアフターキュアーにより硬化
した。さらに、この光重合性組成物は遮光下での４０℃
におけるポットライフが６か月以上であり、保存安定性
の良好なものであった。

【００４４】実施例２４１−ピレニルメチル−トリフェニルホスホニウムヘキサ
フルオロアンチモネートの合成アルゴン零囲気下、オキシ塩化リン（７．０ｇ、４６ミ
リモル）をＤＭＦ（１０ｍｌ）中にゆっくり滴下した。
得られた溶液を室温まで冷却し、ピレン（９．２ｇ、４
５ミリモル）のクロロホルム（５０ｍｌ）溶液に滴下し
た。滴下終了後、さらに室温で２４時間撹拌したのち、
水（３００ｍｌ）に加え、クロロホルムで抽出した。ク
ロロホルム層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で数回洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧乾燥し
て得られた黄色の固体をカラムクロマトグラフィーによ
って精製し、１−ホルミルピレン２．５ｇ（収率２４
％）を得た。

【００４５】続いて、１−ホルミルピレン（２．３ｇ、
１０ミリモル）をＴＨＦ（２０ｍｌ）に溶解し、水素化
ホウ素ナトリウム（０．１０ｇ、２．６ミリモル）を加
えて室温で３０分間撹拌した。メタノール（２０ｍｌ）
を加えた後、さらに６時間撹拌した。反応溶液を水（１
００ｍｌ）に加え、クロロホルムで抽出した。クロロホ
ルム層を塩化ナトリウム飽和水溶液で数回洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られる
淡黄色の固体をカラムクロマトグラフィーによって精製
し、１−ヒドロキシメチルピレン２．２ｇ（収率９５
％）を得た。

【００４６】次に、塩化チオニル（５ｍｌ）に１−ヒド
ロキシメチルピレン（１．０ｇ、４．３ミリモル）を加
え、室温で３時間撹拌した後、過剰の塩化チオニルを減
圧留去した。更に、残査に乾燥トルエン（２０ｍｌ）を
加え、これを減圧留去した。得られた黄色の固体に、ト
リフェニルホスフィン（１．２ｇ、４．６ミリモル）お
よびトルエン（１０ｍｌ）を加え、６時間加熱還流し
た。冷却後、ヘキサン（５０ｍｌ）を加え、沈殿物を吸
引濾過により濾別した。得られた結晶は、ヘキサンによ
って数回洗浄し、１−ピレニルメチル−トリフェニルホ
スホニウムクロライド１．６ｇ（収率７１％）を得た。

【００４７】さらに、１−ピレニルメチル−トリフェニ
ルホスホニウムクロライド（１．５ｇ、２９ミリモル）
をメタノール（２０ｍｌ）に溶解し、撹拌下、直前に調
製した５％六フッ化アンチモン酸カリウム水溶液（２０
ｍｌ）を加えた。生成した沈殿を吸引濾過により濾別
し、水で数回洗浄した後、１００℃で減圧乾燥した。得
られた結晶を少量のアセトンに溶解し、これにエーテル
を徐々に滴下し、析出してくる褐色のタール状物質をデ
カンテーションによって除いた。さらに上澄みにエーテ
ル（１００〜２００ｍｌ）を加え、析出してきた淡黄色
の粉末を濾別し１００℃で減圧乾燥した。その沈殿操作
を５回繰り返し、純粋な１−ピレニルメチル−トリフェ
ニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート４．８
ｇ（収率６２％）を得た。この化合物の融点は２７４℃
であった。

【００４８】実施例２５１−ピレニルメチル−ブチルジフェニルホスホニウムヘ
キサフルオロアンチモネートの合成クロロジフェニルホスフィン（６．５ｇ、３０ミリモ
ル）を乾燥エーテル（５０ｍｌ）に溶解し、アルゴン零
囲気下、激しく撹拌しながら１．６２Ｍのｎ−ブチルリ
チウムヘキサン溶液（２２ｍｌ）をエーテルが還流しな
い程度にゆっくりと滴下した。滴下終了後、さらに室温
で２時間撹拌した。生成してくる沈殿を濾別した後、濾
液を水で数回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧留去して得られる淡黄色油状の生成物をさらに
減圧蒸留によって精製し、ブチルジフェニルホスフィン
４．３ｇ（収率５９％）を得た。

【００４９】次に、塩化チオニル（５ｍｌ）に１−ヒド
ロキシメチルピレン（１．０ｇ、４．３ミリモル）を加
え、室温で３時間撹拌した後、過剰の塩化チオニルを減
圧留去した。更に、残査に乾燥トルエン（２０ｍｌ）を
加え、これを減圧留去した。得られた黄色の固体に、ブ
チルジフェニルホスフィン（３．３ｇ、１４ミリモル）
およびトルエン（１０ｍｌ）を加え、６時間加熱還流し
た。冷却後、ヘキサン（５０ｍｌ）を加え、沈殿を吸引
濾過により濾別した。得られた結晶は、ヘキサンによっ
て数回洗浄し、１−ピレニルメチル−ブチルジフェニル
ホスホニウムクロライド２．０ｇ（収率３１％）を得
た。

【００５０】さらに、１−ピレニルメチル−ブチルジフ
ェニルホスホニウムクロライド（１．５ｇ、３０ミリモ
ル）をメタノール（２０ｍｌ）に溶解し、撹拌下、直前
に調製した５％六フッ化アンチモン酸カリウム水溶液
（２０ｍｌ）を加えた。生成した沈殿を吸引濾過により
濾別し、水で数回洗浄した後、１００℃で減圧乾燥し
た。得られた結晶を少量のアセトンに溶解し、これにエ
ーテルを徐々に滴下し、析出してくる褐色のタール状物
質をデカンテーションによって除いた。さらに上澄みに
エーテル（１００〜２００ｍｌ）を加え、析出してきた
淡黄色の粉末を濾別し、１００℃で減圧乾燥した。この
ような沈殿操作を５回繰り返し、純粋な１−ピレニルメ
チル−ブチルジフェニルホスホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート０．８４ｇ（収率４０％）を得た。この化
合物の融点は２１４℃であった。

【００５１】実施例２６９−アントラセニルメチル−トリフェニルホスホニウム
ヘキサフルオロアンチモネートを実施例２４と同様の方
法で合成した。この化合物の融点は、２２７℃あった。

【００５２】

【発明の効果】本発明のホスホニウム塩を重合触媒とし
て含有するカチオン重合性組成物は、長期間保存可能
で、光照射で迅速に硬化する機能を備え、吸湿性がな
く、そして耐水性、耐薬品性および電気特性に優れた硬
化物を与えるので、プラスチック保護用、装飾用および
絶縁用被覆、印刷インク、封止剤、接着剤、フォトレジ
スト、含浸注型用、ステレオリソグラフィー等の用途に
適する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者大橋賢治神奈川県厚木市酒井2171 (72)発明者森健一神奈川県川崎市川崎区鈴木町１−１味の素株式会社中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（Ｉ）で示されるホスホニウ
ム塩【化１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はフェニル基、ハロゲン
化フェニル基、シアノフェニル基、ベンゾイルフェニル
基、アルキルフェニル基またはアルキル基を表し、Ｒ⁴
およびＲ⁵はアルキル基または水素原子を表し、Ｒ⁶は
フェニル基、ナフチル基、ピレニル基、アントラセニル
基またはスチリル基を表し、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＲ⁹はア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、水
酸基、シリル基、シリルオキシ基または水素原子を表
す。また、Ｘ^-は非求核性アニオンを表す。但し、
Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³がフェニル基で、Ｒ⁴およびＲ⁵
が水素原子であり、Ｒ⁶がフェニル基で、Ｒ⁷およびＲ
⁸が水素原子で、そしてＲ⁹が水素原子、クロロ基また
はニトロ基であるものは除く。）。
【請求項２】カチオン重合性化合物および重合触媒と
して下記一般式（II）で示されるホスホニウム塩を含有
することを特徴とする光硬化型カチオン重合性組成物【化２】（式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³はフェニル基、ハロゲン
化フェニル基、シアノフェニル基、ベンゾイルフェニル
基、アルキルフェニル基またはアルキル基を表し、Ｒ⁴
およびＲ⁵はアルキル基または水素原子を表し、Ｒ⁶は
フェニル基、ナフチル基、ピレニル基、アントラセニル
基またはスチリル基を表し、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＲ⁹はア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、水
酸基、シリル基、シリルオキシ基または水素原子を表
す。また、Ｘ^-は非求核性アニオンを表す。）。
【請求項３】請求項２記載のカチオン重合性組成物を
光硬化することにより得られた硬化物。