JPH06157623A - 重合性組成物および重合方法 - Google Patents

重合性組成物および重合方法

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JPH06157623A
JPH06157623A JP4239019A JP23901992A JPH06157623A JP H06157623 A JPH06157623 A JP H06157623A JP 4239019 A JP4239019 A JP 4239019A JP 23901992 A JP23901992 A JP 23901992A JP H06157623 A JPH06157623 A JP H06157623A
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diphenyl
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泰正 鳥羽
Madoka Yasuike
円 安池
Takeo Yamaguchi
岳男 山口
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はある特定の構造を持ったスルホニウ
ムおよびオキソスルホニウム錯体を重合開始剤に含んだ
重合性組成物に関する。光および/または熱に対して有
効かつ高感度な重合性組成物とその重合方法を提供する
ことを目的とする。 【構成】 ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を
有する化合物と重合開始剤として一般式(1)で表され
るスルホニウムおよびオキソスルホニウム化合物を含む
重合性組成物および、上記重合性組成物にたいして、光
および/または熱エネルギーを与えることにより重合さ
せることを特徴とする重合性組成物の重合方法。 一般式(1)

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
【0001】本発明は、重合性組成物および重合方法に
関する。さらに詳しくは、この重合性組成物は、光およ
び/または熱を与えることによりにより短時間に重合さ
せることができる。高感度が必要な感光性印刷板材料、
ダイレクト刷版材料、フォトレジスト、ホログラム材料
や、インキ、封止剤、接着剤、粘着剤、粘接着剤等の分
野で、有用な重合性組成物および重合方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、さまざまなスルホニウム化合物ま
たはオキソスルホニウム化合物を、重合性組成物の重合
開始剤として用いる例が多数報告されている。これにつ
いては、ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の
応用と市場」、79頁(1989年、シーエムシー)、
市村国宏監修、「新・光機能性高分子の応用」、(19
88年、シーエムシー)やJ.V.Crivello著、「Advances
in Polymer Science 」、 第62巻、Initiators-Poly-Re
actions-Optical Activity、(1984 年、 Springer-Verla
g)等にまとめられている。
【0003】例えば、特開平2−196812号公報に
はベンジルスルホニウムを含んだ重合性組成物が、特公
昭63−2081号公報にはトリフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロホスフェートを含んだ重合性組成物が、
特開昭59−140203号公報にはトリアリールおよ
びジアリールスルホニウム化合物を含んだ重合性組成物
が、ヨーロッパ特許第35969号にはオキソスルホニ
ウム化合物等を含んだ重合性組成物が、特公平3−55
483号公報にはテトラベンゾポルフィリンを増感剤に
用いた各種スルホニウム化合物およびオキソスルホニウ
ム化合物等を含んだ重合性組成物が開示されている。
【0004】これらの成書や特許に報告されているスル
ホニウム化合物およびオキソスルホニウム化合物は、い
ずれもそのアニオン部がBF4 、PF6 、SbF6 、S
bCl6 、ClO4 等の無機系アニオンもしくはトリフ
ルオロメチル硫酸、p−トルエンスルホネート等のスル
ホン酸もしくはカルボン酸等の有機酸のアニオンから構
成されている。
【0005】これらのスルホニウム化合物およびオキソ
スルホニウム化合物は、いずれもそのスルホニウムカチ
オンの炭素−硫黄結合部分が熱および/または光エネル
ギーを与えることにより分解してラジカルおよび/また
はカチオンを発生し、この作用で該重合性組成物を重合
すると考えられている。
【0006】一方、有機ホウ素アニオン(ボレート)を
有する錯体を、重合性組成物の重合開始剤として用いる
例が開示されている。
【0007】例えば、特開平2−4804号公報ならび
に特開平2−3460号公報には金属ボレート錯体を含
む重合性組成物が、USP第4343891号にはアン
モニウムボレート錯体を含む重合性組成物が、特開昭6
2−143044号公報には陽イオン染料−ボレート錯
体を含む重合性組成物が開示されている。
【0008】これら有機ホウ素アニオンを有する錯体
は、いずれもボレートアニオン部の炭素−ほう素結合部
分が熱および/または光エネルギーを与えることにより
分解してラジカルを発生し、この作用で該重合性組成物
を重合すると考えられている。
【0009】近年、有機ホウ素アニオンを有する錯体の
対カチオンにヨードニウムカチオンを重合性組成物の重
合開始剤として用いる例として、特開平2−16645
1号公報にはジアリールヨードニウムテトラアリールボ
レートを含む重合性組成物が、特開平2−157760
号公報および特開平3−704号公報にはジアリールヨ
ードニウムアルキルトリアリールボレートを含む重合性
組成物が開示されている。
【0010】また、有機ホウ素アニオンを有する錯体の
対カチオンにスルホニウムカチオンを重合性組成物の重
合開始剤として用いる例として、USP第356745
3号記載のジチオリウムテトラフェニルボレートを含ん
だ重合性組成物が、特開平2−157760号公報には
ジアリールおよびトリフェニルスルホニウムブチルトリ
フェニルボレートを含んだ重合性組成物が開示されてい
る。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光お
よび/または熱エネルギーを与えることにより活性なラ
ジカルを生成させ、ラジカル重合可能なエチレン性不飽
和結合を有する化合物を短時間に重合させうる、高感度
な重合性組成物およびその重合方法を提供することにあ
る。高感度が必要な感光性印刷版材料、ダイレクト刷版
材料、フォトレジスト、ホログラム材料や、インキ、封
止剤、接着剤、粘着剤、粘接着剤等の分野で、有用な重
合性組成物および重合方法を提供することにある。
【0012】本発明で目的とする産業上の利用分野にお
いて、従来の技術で開示した重合性組成物の問題点を以
下に挙げる。
【0013】まず、特開平2−196812号公報、特
公昭63−2081号公報、特開昭59−140203
号公報、ヨーロッパ特許第35969号ならびに特公平
3−55483号公報に記載されている各種スルホニウ
ム化合物およびオキソスルホニウム化合物を含んだ重合
性組成物は、いずれもそのアニオン部がBF4 、PF
6 、SbF6 、SbCl6 、ClO4 等の無機系アニオ
ンもしくはトリフルオロメチル硫酸、p−トルエンスル
ホネート等のスルホン酸もしくはカルボン酸等の有機酸
のアニオンから構成されている。しかし、これらのアニ
オン自身はラジカル発生には寄与しないため、感度的に
不十分である。
【0014】また、特開平2−4804号公報、特開平
2−3460号公報、USP第4343891号、特開
昭62−143044号公報に記載されている各種有機
ホウ素アニオンを有する錯体を含んだ重合性組成物は、
いずれもそのカチオン自身はラジカル発生には寄与せ
ず、感度的に不十分である。
【0015】また、特開平2−166451号公報およ
びUSP第3567453号記載されている各種有機ホ
ウ素アニオンを有する錯体を含んだ重合性組成物は、い
ずれもアニオンの構造がテトラアリールボレートである
が、このような構造のアニオンは効率よくラジカルを発
生せず、感度的に不十分である。
【0016】さらに、特開平2−157760号公報お
よび特開平3−704号公報に記載されているジアリー
ルヨードニウムアルキルトリアリールボレートを含んだ
重合性組成物は、熱的に不安定であり保存安定性が良く
ないという問題が挙げられる。
【0017】また、特開平2−157760号公報に記
載されているジアリールおよびトリフェニルスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレートを含んだ重合性組成物
は、これらジアリールおよびトリフェニルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレートの還元電位が低いため、効
率よくラジカルを発生せず、感度的に不十分である。
【0018】そこで、これらの諸問題を解決できる重合
開始剤ならびに重合性組成物の開発が望まれていた。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
問題点を考慮し解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発
明に至った。即ち、本発明は、(A)ラジカル重合可能
なエチレン性不飽和結合を有する化合物、(B)重合開
始剤が、電気化学的測定においてその還元電位が−1.
3eV以上の値を示す一般式(1)で表されるスルホニ
ウム錯体またはオキソスルホニウム錯体、を含むことを
特徴とする重合性組成物ならびに、光および/または熱
エネルギーを与えることにより活性なラジカルを生成せ
しめ重合させることを特徴とする前記重合性組成物の重
合方法である。 一般式(1) (ただしR1 およびR2 は置換基を有してもよいアリー
ル基を、R3 は置換基を有してもよいアルキル基、置換
基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい脂
環基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有
してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコ
キシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換
基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよ
いアリールチオ基、置換基を有してもよいアミノ基より
選ばれる基を、R4 は酸素原子もしくは孤立電子対を、
5 、R6 、R7 およびR8 はそれぞれ独立に、置換基
を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリ
ール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を
有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよい脂環
基より選ばれる基を示し、R5 、R6 、R7 およびR8
全てが同時に置換基を有してもよいアリール基となるこ
とはない。)
【0020】まず初めに一般式(1)で表される重合開
始剤について説明する。一般式(1)のR1 およびR2
は置換基を有してもよいアリール基であり、例えば、フ
ェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナ
フチル基、アンスリル基、フェナントリル基等が挙げら
れ、これらの基の水素原子はさらに他の置換基で置換さ
れていても良く、そのような置換基としては、例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロ
ゲン基、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ
基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−トリルオキシ
基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基
等のエステル基、アセチル基、イソブチリル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基、フェナ
シル基等のアシル基、メチルチオ基、tert−ブチル
チオ基等のアルキルチオ基、フェニルチオ基、p−トリ
ルチオ基等のアリールチオ基、メチルアミノ基、シクロ
ヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基
等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、p−トリ
ルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル
基、tert−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、
フェニル基、p−トリル基、キシリル基、クメニル基、
ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリ
ール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル
基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、p−トルエン
スルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフ
ルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリ
ル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモ
ニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニル
フェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
【0021】また一般式(1)のR3 は、置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール
基、置換基を有してもよい脂環基、置換基を有してもよ
いアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、
置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有しても
よいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル
チオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基
を有してもよいアミノ基より選ばれる基であり、具体的
には、置換基を有してもよいアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル基、
アセトニル基、フェナシル基、サリチル基、アニシル
基、シアノメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル
基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、メンチル基、ピナニル基等が、置換基を有し
てもよいアリール基としては、例えば、フェニル基、p
−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、ア
ンスリル基、フェナントリル基等が、置換基を有しても
よい脂環基としては、例えば、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、1−シク
ロヘキセニル基等が、置換基を有してもよいアルケニル
基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、1
−ブテニル基、3,3−ジシアノ−1−プロペニル基等
が、置換基を有してもよいアルキニル基とは、例えば、
エテニル基、1−プロピニル基、2−tert−ブチル
エテニル基、2−フェニルエテニル基等が、置換基を有
してもよいアルコキシ基とは、例えば、メトキシ基、t
ert−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が、置換基を
有してもよいアリールオキシ基としては、例えば、フェ
ノキシ基、p−トリルオキシ基、p−フルオロフェノキ
シ基、p−シアノフェノキシ基等が、置換基を有しても
よいアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、
エチルチオ基、ブチルチオ基等が、置換基を有してもよ
いアリールチオ基としては、例えば、フェニルチオ基、
p−トリルチオ基、p−シアノフェニルチオ基等が、置
換基を有してもよいアミノ基としては、例えば、アミノ
基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、シクロヘキシ
ルアミノ基、アニリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基
等が挙げられ、これらの基の水素原子はさらに他の置換
基で置換されていても良く、そのような置換基として
は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ter
t−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、p−
トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基、アセトキシ基、ベンゾ
イルオキシ基等のエステル基、アセチル基、イソブチリ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリ
ル基、フェナシル基等のアシル基、メチルチオ基、te
rt−ブチルチオ基等のアルキルチオ基、フェニルチオ
基、p−トリルチオ基等のアリールチオ基、メチルアミ
ノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、
ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ
基、p−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル
基、エチル基、tert−ブチル基、ドデシル基等のア
ルキル基、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、ク
メニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル
基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ
基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、
p−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シア
ノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ト
リメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリ
メチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、
ジフェニルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシル
ホスホニウミル基、フェニルヨードニウミル基等が挙げ
られる。
【0022】また、一般式(1)のR4 は酸素原子もし
くは孤立電子対のいずれかであり、R4 が酸素原子のば
あい本発明のオキソスルホニウム錯体に該当し、R4
孤立電子対のばあい本発明のスルホニウム錯体に該当す
ることになる。
【0023】さらに、一般式(1)におけるボレートア
ニオン上の置換基R5 、R6 、R7およびR8 におい
て、置換基を有してもよいアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル
基、ベンジル基等が、置換基を有してもよいアリール基
としては、例えば、フェニル基、p−トリル基、キシリ
ル基、メシチル基、クメニル基、p−メトキシフェニル
基、ナフチル基、2,4−ビス(トリフルオロメチル)
フェニル基、p−フルオロフェニル基、p−クロロフェ
ニル基、p−ブロモフェニル基等が、置換基を有しても
よいアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プ
ロペニル基、1−ブテニル基等が、置換基を有してもよ
いアルキニル基としては、例えば、エテニル基、2−t
ert−ブチルエテニル基、2−フェニルエテニル基等
が、置換基を有してもよい脂環基としては、例えば、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、
ボルニル基、1−シクロヘキセニル基等が挙げられるが
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0024】従って、一般式(1)におけるR1 〜R8
は上に示した基をどのように組み合わせてもかまわない
が、その還元電位が、電気化学的測定において−1.3
eV以上の値を示すスルホニウム錯体またはオキソスル
ホニウム錯体であることが必要である。
【0025】尚、本明細書における「還元電位」とは、
参照電極として飽和カロメル電極(SCE)に対する値
を指す。
【0026】本発明のスルホニウム錯体またはオキソス
ルホニウム錯体が、電気化学的測定においてその還元電
位が−1.3eV以上の値を示すか否かは、ポーラログ
ラフィーやサイクリックボルタンメトリー等の電気化学
的測定方法によって容易に決定することができる。
【0027】また、いくつかのスルホニウム化合物の還
元電位はジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソ
サエティー(J.Am.Chem.Soc.)、第106巻、4121頁
(1984年)、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミ
カル・ソサエティー(J.Am.Chem.Soc.)、第111巻、1
328頁(1989年)やJ.V.Crivello著、「Advances
in Polymer Science 」、第62巻、Initiators-Poly-Re
actions-Optical Activity、(1984 年、 Springer-Verla
g)およびその引用文献等に掲載されている。
【0028】本発明の重合開始剤は、その還元電位が−
1.2eV以上の値を示すことが好ましく、その還元電
位が−1.0eV以上の値を示すことがさらに好まし
く、その還元電位が−0.8eV以上の値を示すことが
最も好ましい。この理由を以下に詳しく述べる。
【0029】まず、高感度な重合性組成物を得るために
は、重合性組成物中のラジカル重合可能なエチレン性不
飽和結合を有する化合物を、効率よく重合せしめること
が必要であり、そのためには重合性組成物中の重合開始
剤が光および/または熱エネルギーにより効率よく分解
してラジカルを発生することが要求される。
【0030】一方、スルホニウム錯体が電気化学的還元
を受けて分解する場合の還元電位と、光化学的な還元電
位とは密接な関係があると考えられており、ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー(J.Am.Ch
em.Soc.)、第106巻、4121頁(1984年)、ジ
ャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー
(J.Am.Chem.Soc.)、第111巻、1328頁(1989
年)やJ.V.Crivello著、「Advances in Polymer Scienc
e 」、第62巻、Initiators-Poly-Reactions-Optical Ac
tivity、(1984 年、 Springer-Verlag)およびその引用文
献の中で指摘されている。
【0031】そのため、重合開始剤であるスルホニウム
錯体またはオキソスルホニウム錯体を効率よく分解させ
ラジカルを発生させるには、その還元電位を−1.3e
V以上の値にする必要があった。
【0032】この目的を達成するためには、無置換のア
ルキル基や無置換のアリール基の組み合わせからなるス
ルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体では不可
能であり、したがってラジカル重合可能なエチレン性不
飽和結合を有する化合物を効率よく重合せしめることが
困難である。
【0033】実際、サイクリックボルタンメトリーによ
る実測値では、トリフェニルスルホニウム化合物では、
その還元電位は−1.44eVであるし、ジメチルフェ
ニルスルホニウム化合物では、その還元電位は−1.6
4eVであって、このようなスルホニウムカチオンは、
効率よく電子を受け取り(還元して)、分解してラジカ
ルを発生するとは考えにくい。
【0034】同様に、特開平2−157760号公報に
記載されているトリフェニルスルホニウム、p−メトキ
シフェニルジフェニルスルホニウム、ビス(p−クロロ
フェニル)メチルスルホニウム等のスルホニウム化合物
も、本発明の、還元電位が−1.3eV以上の値を示す
スルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体には含
まれない。
【0035】一方、一般式(1)のほう素上の置換基に
着目すると、R5 、R6 、R7 およびR8 全てが同時に
置換基を有してもよいアリール基となる構造は、これら
の基とほう素との間の結合が効率的に開裂せず、ラジカ
ルを発生しないので、このような構造は好ましくない。
【0036】一般式(1)において好ましい構造として
は、R3 が置換基を有してもよいアリル基、置換基を有
してもよいベンジル基もしくは置換基を有してもよいフ
ェナシル基のいずれかであり、R5 が置換基を有しても
よいアルキル基であり、R6、R7 およびR8 が置換基
を有してもよいアリール基である構造である。
【0037】さらに好ましい構造としては、R3 の置換
基を有してもよいアリル基、置換基を有してもよいベン
ジル基もしくは置換基を有してもよいフェナシル基の置
換基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン
基、トロフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、アセ
チル基、メトキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェノ
キシカルボニル基等のエステル基、メシル基、ベンゼン
スルホニル基、p−トルエンスルホニル基等のスルホニ
ル基等に代表される電子吸引性基がである構造があげら
れる。
【0038】この理由として、一般式(1)で示される
重合開始剤の光および/または熱による分解効率を高め
ることが要求されるが、R3 が置換基を有してもよいア
リル基、置換基を有してもよいベンジル基もしくは置換
基を有してもよいフェナシル基を導入することによっ
て、これらの基がスルホニウムまたはオキソスルホニウ
ムカチオンから優先的かつ効率的に分解してラジカルを
発生すると考えられ、感度の向上が認められる点があげ
られる。
【0039】また、R3 がアセトニル基、シアノメチル
基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、ブトキシカルボニルメチル基、3,3−ジシ
アノ−1−プロペニル基、スルホメチル基、メシル基、
p−トルエンスルホニルメチル基、トリメチルアンモニ
ウミルメチル基、ジメチルスルホニウミルメチル基、p
−(ジフェニルスルホニウミル)フェニル基、トリフェ
ニルフェナシルホスホニウミルメチル基、フェニルヨー
ドニウミルエチニル基等も好ましい構造としてあげられ
る。
【0040】したがって本発明の一般式(1)に該当す
る重合開始剤としては、カチオン部がジフェニルベンジ
ルスルホニウム、ジフェニル(p−クロロベンジル)ス
ルホニウム、ジフェニル(p−ブロモベンジル)スルホ
ニウム、ジフェニル(p−シアノベンジル)スルホニウ
ム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ベンジルス
ルホニウム、ビス(p−メチルフェニル)(p−クロロ
ベンジル)スルホニウム、ビス(p−メトキシフェニ
ル)(p−ブロモベンジル)スルホニウム、ビス(p−
クロロフェニル)(p−シアノベンジル)スルホニウ
ム、ジフェニルフェナシルスルホニウム、ジフェニル
(p−クロロフェナシル)スルホニウム、ジフェニル
(p−ブロモフェナシル)スルホニウム、ジフェニル
(p−メトキシフェナシル)スルホニウム、ジフェニル
(p−シアノフェナシル)スルホニウム、ビス(p−t
ert−ブチルフェニル)フェナシルスルホニウム、ビ
ス(p−メトキシフェニル)(p−クロロフェナシル)
スルホニウム、ビス(p−クロロフェニル)(p−ブロ
モフェナシル)スルホニウム、ビス(p−メチルフェニ
ル)(p−メトキシフェナシル)スルホニウム、ビス
(p−tert−ブチルフェニル)(p−シアノフェナ
シル)スルホニウム、ジフェニルアリルスルホニウム、
ジフェニル(2−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロ
ペニル)スルホニウム、ジフェニル(2−フェニル−
3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム、ジ
フェニル[2−フェニル−3,3−ビス(メトキシカル
ボニル)−2−プロペニル]スルホニウム、ビス(p−
クロロフェニル)アリルスルホニウム、ビス(p−te
rt−ブチルフェニル)(2−メチル−3,3−ジシア
ノ−2−プロペニル)スルホニウム、ビス(p−メチル
フェニル)(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プ
ロペニル)スルホニウム、ビス(p−メトキシフェニ
ル)[2−フェニル−3,3−ビス(メトキシカルボニ
ル)−2−プロペニル]スルホニウム、ジフェニルアセ
トニルスルホニウム、ジフェニルシアノメチルスルホニ
ウム、ジフェニルメトキシカルボニルメチルスルホニウ
ム、ジフェニルエトキシカルボニルメチルスルホニウ
ム、ジフェニルブトキシカルボニルメチルスルホニウ
ム、ジフェニルスルホメチルスルホニウム、ジフェニル
メシルスルホニウム、ジフェニル−p−トルエンスルホ
ニルメチルスルホニウム、ジフェニル(トリメチルアン
モニウミルメチル)スルホニウム、ジフェニル(ジメチ
ルスルホニウミルメチル)スルホニウム、ジフェニル
[p−(ジフェニルスルホニウミル)フェニル]スルホ
ニウム、ジフェニル(トリフェニルフェナシルホスホニ
ウミルメチル)スルホニウム、ジフェニル(フェニルヨ
ードニウミルエチニル)スルホニウム、ジフェニルベン
ジルオキソスルホニウム、ジフェニル(p−クロロベン
ジル)オキソスルホニウム、ジフェニル(p−シアノベ
ンジル)オキソスルホニウム、ビス(p−tert−ブ
チルフェニル)ベンジルオキソスルホニウム、ビス(p
−メトキシフェニル)(p−ブロモベンジル)オキソス
ルホニウム、ビス(p−クロロフェニル)(p−シアノ
ベンジル)オキソスルホニウム、ジフェニルフェナシル
オキソスルホニウム、ジフェニル(p−クロロフェナシ
ル)オキソスルホニウム、ジフェニル(p−ブロモフェ
ナシル)オキソスルホニウム、ジフェニル(p−メトキ
シフェナシル)オキソスルホニウム、ジフェニル(p−
シアノフェナシル)オキソスルホニウム、ビス(p−t
ert−ブチルフェニル)フェナシルオキソスルホニウ
ム、ビス(p−メトキシフェニル)(p−クロロフェナ
シル)オキソスルホニウム、ビス(p−クロロフェニ
ル)(p−ブロモフェナシル)オキソスルホニウム、ビ
ス(p−メチルフェニル)(p−メトキシフェナシル)
オキソスルホニウム、ビス(p−tert−ブチルフェ
ニル)(p−シアノフェナシル)オキソスルホニウム、
ジフェニルアリルオキソスルホニウム、ジフェニル(2
−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)オキソ
スルホニウム、ジフェニル(2−フェニル−3,3−ジ
シアノ−2−プロペニル)オキソスルホニウム、ジフェ
ニル[2−フェニル−3,3−ビス(メトキシカルボニ
ル)−2−プロペニル]オキソスルホニウム、ビス(p
−クロロフェニル)アリルオキソスルホニウム、ビス
(p−tert−ブチルフェニル)(2−メチル−3,
3−ジシアノ−2−プロペニル)オキソスルホニウム、
ビス(p−メチルフェニル)(2−フェニル−3,3−
ジシアノ−2−プロペニル)オキソスルホニウム、ビス
(p−メトキシフェニル)[2−フェニル−3,3−ビ
ス(メトキシカルボニル)−2−プロペニル]オキソス
ルホニウム、ジフェニルアセトニルオキソスルホニウ
ム、ジフェニルシアノメチルオキソスルホニウム、ジフ
ェニルメトキシカルボニルメチルオキソスルホニウム、
ジフェニルエトキシカルボニルメチルオキソスルホニウ
ム、ジフェニルブトキシカルボニルメチルオキソスルホ
ニウム、ジフェニルスルホメチルオキソスルホニウム、
ジフェニルメシルオキソスルホニウム、ジフェニル−p
−トルエンスルホニルメチルオキソスルホニウム、ジフ
ェニル(トリメチルアンモニウミルメチル)オキソスル
ホニウム、ジフェニル(ジメチルスルホニウミルメチ
ル)オキソスルホニウム、ジフェニル[p−(ジフェニ
ルスルホニウミル)フェニル]オキソスルホニウム、ジ
フェニル(トリフェニルフェナシルホスホニウミルメチ
ル)オキソスルホニウム、ジフェニル(フェニルヨード
ニウミルエチニル)オキソスルホニウム等の各スルホニ
ウムおよびオキソスルホニウムカチオンと、アニオン部
がtert−ブチルトリエチルボレート、フェニルトリ
エチルボレート、tert−ブチルトリブチルボレー
ト、フェニルトリブチルボレート、トリブチルベンジル
ボレート、ジエチルジブチルボレート、メチルトリフェ
ニルボレート、エチルトリフェニルボレート、プロピル
トリフェニルボレート、イソプロピルトリフェニルボレ
ート、ブチルトリフェニルボレート、sec−ブチルト
リフェニルボレート、tert−ブチルトリフェニルボ
レート、ネオペンチルトリフェニルボレート、アリルト
リフェニルボレート、ベンジルトリフェニルボレート、
ビニルトリフェニルボレート、エチニルトリフェニルボ
レート、ブチルトリメシチルボレート、ブチルトリ(p
−メトキシフェニル)ボレート、ブチルトリ(p−フル
オロフェニル)ボレート、ブチルトリ(p−クロロフェ
ニル)ボレート、ブチルトリ(p−ブロモフェニル)ボ
レート、ブチルトリス[3,5−ビス(トリフルオロメ
チル)フェニル]ボレート、sec−ブチルトリ(p−
メトキシフェニル)ボレート、sec−ブチルトリ(p
−フルオロフェニル)ボレート、sec−ブチルトリ
(p−クロロフェニル)ボレート、sec−ブチルトリ
(p−ブロモフェニル)ボレート、sec−ブチルトリ
ス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボ
レート、tert−ブチルトリ(p−メトキシフェニ
ル)ボレート、tert−ブチルトリ(p−フルオロフ
ェニル)ボレート、tert−ブチルトリ(p−クロロ
フェニル)ボレート、tert−ブチルトリ(p−ブロ
モフェニル)ボレート、tert−ブチルトリス[3,
5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ボレート等
の各ボレートアニオン等のボレートアニオンとの組み合
わせより構成されるスルホニウム錯体およびオキソスル
ホニウム錯体が挙げられる。
【0041】したがって本発明の化合物(1)に該当す
るスルホニウム錯体あるいはオキソスルホニウム錯体の
具体例としては、ジフェニルベンジルスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−クロロベン
ジル)スルホニウムブチルトリス(p−メトキシフェニ
ル)ボレート、ジフェニル(p−ブロモベンジル)スル
ホニウムブチルトリス(p−フルオロフェニル)ボレー
ト、ジフェニル(p−シアノベンジル)スルホニウムブ
チルトリフェニルボレート、ビス(p−tert−ブチ
ルフェニル)ベンジルスルホニウムブチルトリス(p−
ブロモフェニル)ボレート、ビス(p−クロロフェニ
ル)(p−シアノベンジル)スルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニル(p−シアノベンジル)ス
ルホニウムフェニルトリブチルボレート、ジフェニル
(p−シアノベンジル)スルホニウムジブチルジフェニ
ルボレート、ジフェニル(p−シアノベンジル)スルホ
ニウムビニルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−
シアノベンジル)スルホニウム−sec−ブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニル(p−シアノベンジル)ス
ルホニウムシクロヘキシルトリフェニルボレート、ジフ
ェニルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ジフェニル(p−クロロフェナシル)スルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−ブロ
モフェナシル)スルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル(p−メトキシフェナシル)スルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−シア
ノフェナシル)スルホニウムシクロヘキシルトリス(p
−メトキシフェニル)ボレート、ビス(p−tert−
ブチルフェニル)フェナシルスルホニウム−sec−ブ
チルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ビス
(p−メトキシフェニル)(p−クロロフェナシル)ス
ルホニウムジブチルジフェニルボレート、ビス(p−ク
ロロフェニル)(p−ブロモフェナシル)スルホニウム
ベンジルトリフェニルボレート、ビス(p−メチルフェ
ニル)(p−メトキシフェナシル)スルホニウム−te
rt−ブチルトリフェニルボレート、ビス(p−ter
t−ブチルフェニル)(p−シアノフェナシル)スルホ
ニウムベンジルトリブチルボレート、ジフェニルアリル
スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル
(2−メチル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)ス
ルホニウム−2−フェニルエチニルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2
−プロペニル)スルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル[2−フェニル−3,3−ビス(メトキ
シカルボニル)−2−プロペニル]スルホニウム−se
c−ブチルトリフェニルボレート、ビス(p−クロロフ
ェニル)アリルスルホニウムフェニルトリエチルボレー
ト、ビス(p−tert−ブチルフェニル)(2−メチ
ル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム
ジ(sec−ブチル)ジフェニルボレート、ビス(p−
メチルフェニル)(2−フェニル−3,3−ジシアノ−
2−プロペニル)スルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ジフェニルアセトニルスルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニルシアノメチルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート、ジフェニルメトキシカル
ボニルメチルスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニルスルホメチルスルホニウムメチルトリス
(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフェニル−p−
トルエンスルホニルメチルスルホニウムジシクロヘキシ
ルジフェニルボレート、ジフェニル(トリメチルアンモ
ニウミルメチル)スルホニウムビス(ブチルトリフェニ
ルボレート)、ジフェニル(トリフェニルフェナシルホ
スホニウミルメチル)スルホニウムビス(ブチルトリフ
ェニルボレート)、ジフェニル(フェニルヨードニウミ
ルエチニル)スルホニウムビス(ブチルトリフェニルボ
レート)、ジフェニルベンジルオキソスルホニウムブチ
ルトリフェニルボレート、ジフェニル(p−シアノベン
ジル)オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル(p−シアノベンジル)オキソスルホニ
ウム−sec−ブチルトリフェニルボレート、ジフェニ
ル(p−シアノベンジル)オキソスルホニウムシクロヘ
キシルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフ
ェニルフェナシルオキソスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート、ジフェニル(p−クロロフェナシル)オキ
ソスルホニウム−sec−ブチルトリス(p−フルオロ
フェニル)ボレート、ビス(p−tert−ブチルフェ
ニル)フェナシルオキソスルホニウムオクチルトリス
(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフェニルアリル
オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフ
ェニル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペ
ニル)オキソスルホニウム−tert−ブチルトリフェ
ニルボレート、ジフェニルメトキシカルボニルメチルオ
キソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル(トリメチルアンモニウミルメチル)オキソスルホ
ニウムビス(ブチルトリフェニルボレート)、ジフェニ
ル(トリフェニルフェナシルオキソホスホニウミルメチ
ル)オキソスルホニウムビス(ブチルトリフェニルボレ
ート)等が挙げられるが本発明はこれらの例に限定され
るわけではない。
【0042】これら、一般式(1)のスルホニウム錯体
あるいはオキソスルホニウム錯体の多くは、通常紫外域
より長波長に吸収を示さないため近紫外から近赤外の光
に対しては活性が乏しいが、R4 を除く置換基R1 〜R
8 にナフチル基、アントラニル基、フェナントリル基、
アンスリル基、ピレニル基等の縮合多環芳香環基やその
他適当な置換基を導入することによって可視領域にまで
吸収帯を持たせ、これら可視より長波長の領域にまで活
性を持たせることが可能である。
【0043】また紫外から近赤外の光に対して吸収を持
つ増感剤と組み合わせて組成物とすることによっても紫
外から近赤外領域にかけての光に対する活性を高め、極
めて高感度な重合性組成物とすることが可能である。
【0044】このような増感剤の具体例としては、カル
コン誘導体やジベンザルアセトン等に代表される不飽和
ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される
1,2−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレ
ン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導
体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサン
トン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、
ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘
導体、オキソノール誘導体等のポリメチン色素、アクリ
ジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジ
ン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレ
ニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘
導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリー
ルメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テ
トラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘
導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキ
サリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導
体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チ
オピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン
誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導
体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機
ルテニウム錯体等が挙げられ、その他さらに具体的には
大河原信ら編、「色素ハンドブック」(1986年、講
談社)、大河原信ら編、「機能性色素の化学」(198
1年、シーエムシー)、池森忠三朗ら編、「特殊機能材
料」(1986年、シーエムシー)に記載の色素および
増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではな
く、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸
収を示す色素や増感剤が挙げられ、これらは必要に応じ
て任意の比率で二種以上用いてもかまわない。
【0045】また、本発明の重合性組成物におけるラジ
カル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物と
は、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を少なくとも一つ以上を有する化合物であればどのよう
なものでも良く、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の
化学形態を持つものである。これらはただ一種のみ用い
ても、目的とする特性を向上するために任意の比率で二
種以上混合した系でもかまわない。
【0046】このようなラジカル重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸およびそれらの
塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニ
トリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、
不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウ
レタン等のラジカル重合性化合物が挙げられるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
【0047】具体的には、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエ
チルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロ
ヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキ
シポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジア
クリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロー
ルメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレ
ート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアク
リルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導
体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタ
クリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメ
チルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタ
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフ
ェニル)プロパン等のメタクリル酸誘導体、その他、ア
リルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリア
リルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体等が挙げ
られ、さらに具体的には、山下晋三ら編、「架橋剤ハン
ドブック」、(1981年、大成社)や加藤清視編、
「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」、(198
5年、高分子刊行会)、ラドテック研究会編、「UV・
EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、
シーエムシー)、赤松清編、「新・感光性樹脂の実際技
術」、(1987年、シーエムシー)、遠藤剛編、「熱
硬化性高分子の精密化」、(1986年、シーエムシ
ー)、滝山榮一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブッ
ク」、(1988年、日刊工業新聞社)に記載の市販品
もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性のモ
ノマー、オリゴマー、ポリマーが挙げられる。
【0048】本発明の一般式(1)で表されるスルホニ
ウムおよびオキソスルホニウム錯体は、前記ラジカル重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100重
量部に対して0.01から30重量部が好ましく、さら
に好ましくは0.1から10重量部である。
【0049】本発明の重合性組成物は有機高分子重合体
等のバインダーと混合し、ガラス板やアルミニウム板、
その他の金属板、ポリエチレンテレフタレート等のポリ
マーフィルムに塗布して使用することが可能である。
【0050】本発明の重合性組成物と混合して使用可能
なバインダーとしては、ポリアクリレート類、ポリ−α
−アルキルアクリレート類、ポリアミド類、ポリビニル
アセタール類、ポリホルムアルデヒド類、ポリウレタン
類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビニル
エステル類等の重合体、共重合体があげられ、さらに具
体的には、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリエチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセテート、ノボラック樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂その他、赤松清監
修、「新・感光性樹脂の実際技術」、(シーエムシー、
1987年)や「10188の化学商品」、657〜7
67頁(化学工業日報社、1988年)記載の業界公知
の有機高分子重合体があげられる。
【0051】また、本発明の重合性組成物はさらに感度
向上の目的で他の重合開始剤と併用することが可能であ
る。
【0052】本発明の重合性組成物と混合して併用可能
な他の重合開始剤としては、特公昭59−1281号公
報、特公昭61−9621号公報ならびに特開昭60−
60104号公報記載のトリアジン誘導体、特開昭59
−1504号公報ならびに特開昭61−243807号
公報記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号公
報、特公昭44−6413号公報、特公昭47−160
4号公報ならびにUSP第3567453号記載のジア
ゾニウム化合物、USP第2848328号、USP第
2852379号ならびにUSP第2940853号記
載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号公
報、特公昭37−13109号公報、特公昭38−18
015号公報ならびに特公昭45−9610号公報記載
のオルト−キノンジアジド類、特公昭55−39162
号公報、特開昭59−140203号公報ならびに「マ
クロモレキュルス(Macromolecules)」、第10巻、第1
307頁(1977年)記載のヨードニウム化合物をは
じめとする各種オニウム化合物、特開昭59−1422
05号公報記載のアゾ化合物、特開平1−54440号
公報、ヨーロッパ特許第109851号、ヨーロッパ特
許第126712号、「ジャーナル・オブ・イメージン
グ・サイエンス(J.Imag.Sci.) 」、 第30巻、第174
頁(1986年)記載の金属アレン錯体、特開昭61−
151197号公報記載のチタノセン類、「コーディネ
ーション・ケミストリー・レビュー(Coordination Chem
istry Review) 」、第84巻、 第85〜第277頁(1
988年)ならびに特開平2−182701号公報記載
のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特
開平3ー209477号公報記載のアルミナート錯体、
特開平2−157760号公報記載のホウ酸塩化合物、
特開昭55−127550号公報ならびに特開昭60−
202437号公報記載の2,4,5−トリアリールイ
ミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭59−1073
44号公報記載の有機ハロゲン化合物等があげられ、こ
れらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン性不飽
和結合を有する化合物100重量部に対して0.01か
ら10重量部の範囲で含有されるのが好ましい。
【0053】また、本発明の重合性組成物は保存時の重
合を防止する目的で熱重合防止剤を添加することが可能
である。
【0054】本発明の重合性組成物に添加可能な熱重合
防止剤の具体例としては、p−メトキシフェノール、ハ
イドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコー
ル、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等を
あげることができ、これらの熱重合防止剤は、ラジカル
重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物100
重量部に対して0.001から5重量部の範囲で添加さ
れるのが好ましい。
【0055】また、本発明の重合性組成物はさらに重合
を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド等
に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等を添加するこ
とが可能である。
【0056】本発明の重合性組成物に添加可能な重合促
進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、N−フ
ェニルグリシン、トリエタノールアミン、N,N−ジエ
チルアニリン等のアミン類、USP第4414312号
や特開昭64−13144号公報記載のチオール類、特
開平2−291561号公報記載のジスルフィド類、U
SP第3558322号や特開昭64−17048号公
報記載のチオン類、特開平2−291560号公報記載
のO−アシルチオヒドロキサメートやN−アルコキシピ
リジンチオン類があげられる。
【0057】本発明の重合性組成物はさらに目的に応じ
て、染料、有機および無機顔料、ホスフィン、ホスホネ
ート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、カブリ防
止剤、退色防止剤、ハレーション防止剤、蛍光増白剤、
界面活性剤、着色剤、増量剤、可塑剤、難燃剤、酸化防
止剤、紫外線吸収剤、発砲剤、防カビ剤、帯電防止剤、
磁性体やその他種々の特性を付与する添加剤、希釈溶剤
等と混合して使用しても良い。
【0058】本発明の重合性組成物は重合反応に際し
て、これら重合開始剤およびラジカル重合可能なエチレ
ン性不飽和結合を有する化合物に対して不活性な溶媒中
で紫外線や可視光、近赤外線等の光エネルギーおよび/
または加熱やサーマルヘッド等による熱エネルギーの付
与により重合し、目的とする重合物を得ることが可能で
ある。なお本明細書でいう、紫外線や近紫外線、可視
光、近赤外線、赤外線等の定義は久保亮五ら編「岩波理
化学辞典第4版」(1987年、岩波)によった。
【0059】したがって、本発明の重合性組成物は、低
圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キ
セノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドラン
プ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレー
ザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレー
ザ、クリプトンイオンレーザ、各種半導体レーザ、YA
Gレーザ、発光ダイオード、CRT光源、プラズマ光源
等の各種光源や光エネルギーおよび/または加熱やサー
マルヘッド等による熱エネルギーの付与により目的とす
る重合物や硬化物を得ることができる。
【0060】故に、バインダーその他とともに基板上に
塗布して各種インキ、各種刷版材料、フォトレジスト、
電子写真、ダイレクト刷版材料、ホログラム材料等の感
光材料やマイクロカプセル等の各種記録媒体、さらには
接着剤、粘着剤、粘接着剤、封止剤および各種塗料に応
用することが可能である。
【0061】
【作用】本発明で使用される一般式(1)で表されるス
ルホニウムおよびオキソスルホニウム錯体は、光および
/または熱エネルギーの付与により励起し、さらに分解
することにより、フリーラジカルを発生し、その結果、
前記ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する
化合物を重合するものと考えられる。
【0062】また、これらの一般式(1)で表されるス
ルホニウムおよびオキソスルホニウム錯体は、通常、可
視域より長波長に吸収を示さないため、可視から近赤外
の光に対しては活性が乏しいが、一般式(1)における
4 を除く置換基R1 〜R8にナフチル基、アントラニ
ル基、フェナントリル基、アンスリル基、ピレニル基等
の縮合多環芳香環基やクマリノ基その他適当な置換基を
導入したり、先に示した適当な増感剤と組み合わせるこ
とにより、近紫外から近赤外領域にかけての光に対して
も、極めて高感度な重合性組成物として機能する。
【0063】詳細な光反応メカニズムについては明かで
はないが、反応機構は、増感剤を用いた場合は、増感剤
と一般式(1)で表される重合開始剤との間で分子間電
子移動あるいは分子間エネルギー移動によって、また一
般式(1)で表される重合開始剤単独で用いた場合は、
分子内電子移動あるいは分子内エネルギー移動によっ
て、一般式(1)で表される重合開始剤のカチオン部と
アニオン部の双方の結合部位の開裂が生じ、その結果フ
リーラジカルを発生し、前記のラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和結合を有する化合物の重合もしくは架橋反
応を引き起こすものと考えられる。
【0064】また、スルホニウムまたはオキソスルホニ
ウムカチオン上の置換基を工夫することによって、結晶
性、安定性、種々の有機溶剤に対する溶解性の向上が得
られ、さらに、従来のスルホニウム錯体よりもエチレン
性不飽和結合を有する化合物を含んだ重合性組成物の重
合に対して感度の向上に対し良好な結果を与える。
【0065】
【実施例】以下、実施例にて本発明を詳細にするが、本
発明は下記のみに限定されるものではない。例中、部は
重量部を示す。
【0066】(実施例1〜39および比較例1〜3)ラ
ジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
としてペンタエリスリトールトリアクリレート50部と
重合開始剤として本発明のジフェニルフェナシルスルホ
ニウムブチルトリフェニルボレート1部を希釈溶剤とし
て1,1,1−トリクロロエタン100部に溶解し、こ
の混合物をガラス板上に約5ミクロンの厚さに塗布し、
これを70℃の熱風オーブン中で2分間乾燥した後、さ
らにこの上に厚さ約25ミクロンのポリエチレンテレフ
タレートフィルムを密着させたサンプルを作成した。こ
のサンプルを150℃のオーブン中で10分間保持した
ところ、このサンプルは硬化し明らかに重合生成物を与
えた。
【0067】つぎに、ジフェニルフェナシルスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレートのかわりに重合開始剤と
して、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムブチル
トリフェニルボレート、ジフェニルベンジルスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルベンジルオ
キソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル−p−クロロフェナシルスルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニル−p−クロロベンジルスル
ホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル−p
−シアノベンジルスルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ビス(tert−ブチルフェニル)フェナシルス
ルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルフ
ェナシルスルホニウムブチルトリス(p−メトキシフェ
ニル)ボレート、ジフェニルフェナシルスルホニウムブ
チルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフェ
ニルフェナシルスルホニウムビニルトリフェニルボレー
ト、ジフェニルフェナシルスルホニウムベンジルトリフ
ェニルボレート、ジフェニルフェナシルスルホニウム−
tert−ブチルトリエチルボレート、ジフェニルフェ
ナシルスルホニウムフェニルトリエチルボレート、フェ
ニル(9−アンスリル)フェナシルスルホニウムブチル
トリフェニルボレート、ジフェニルアリルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート、ジフェニルシアノメチル
スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル
エトキシカルボニルメチルスルホニウムブチルトリフェ
ニルボレート、ジフェニルビニルスルホニウムブチルト
リフェニルボレート、ジフェニルフェノキシオキソスル
ホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルエチ
ルチオスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフ
ェニル−N−フェニルアミノスルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、1−ナフチルフェニルベンジルメチル
スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル
(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペエニ
ル)スルホニウムブチルトリフェニルボレートを含む各
サンプルを調製し、同様な実験をそれぞれ行ったとこ
ろ、いずれの場合もサンプルは硬化し明らかに重合生成
物を与えたが、これらのスルホニウムあるいはオキソス
ルホニウム錯体を含まない場合では重合生成物は認めら
れなかった。
【0068】また、ラジカル重合可能なエチレン性不飽
和結合を有する化合物としてペンタエリスリトールトリ
アクリレートのかわりに、ブトキシエチルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、n−
ブチルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス
(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパ
ン、ジアリルフタレートを含む各サンプルを調製し、同
様な実験をそれぞれ行ったところ、いずれの場合もサン
プルは硬化し明らかに重合生成物を与えた。
【0069】また比較例として、ジフェニルフェナシル
スルホニウムブチルトリフェニルボレートのかわりに重
合開始剤として、公知のジフェニルフェナシルスルホニ
ウムテトラフルオロボレート、ジフェニルフェナシルオ
キソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェ
ニルベンジルスルホニウムテトラフルオロボレートを含
む各サンプルを調製し、同様な実験をそれぞれ行ったと
ころ、いずれの場合も同条件下では重合生成物を与えな
かった。
【0070】(実施例40〜78および比較例4〜6)
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物としてペンタエリスリトールトリアクリレート50部
と重合開始剤として本発明のジフェニルフェナシルスル
ホニウムブチルトリフェニルボレート1部を希釈溶剤と
して1,1,1−トリクロロエタン100部に溶解し、
この混合物をガラス板上に約5ミクロンの厚さに塗布
し、これを70℃の熱風オーブン中で2分間乾燥した
後、次いでこの上に10%ポリビニルアルコール水溶液
を約5ミクロンの厚さに塗布し、これを再び70℃の熱
風オーブン中で2分間乾燥させたサンプルを作成した。
このサンプルを500mWの高圧水銀ランプで30秒照
射したところ、このサンプルは硬化し明らかに重合生成
物を与えた。
【0071】つぎに、ジフェニルフェナシルスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレートのかわりに重合開始剤と
して、ジフェニルフェナシルオキソスルホニウムブチル
トリフェニルボレート、ジフェニルベンジルスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルベンジルオ
キソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル−p−クロロフェナシルスルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ジフェニル−p−クロロベンジルスル
ホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル−p
−シアノベンジルスルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ビス(tert−ブチルフェニル)フェナシルス
ルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルフ
ェナシルスルホニウムブチルトリス(p−メトキシフェ
ニル)ボレート、ジフェニルフェナシルスルホニウムブ
チルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフェ
ニルフェナシルスルホニウムビニルトリフェニルボレー
ト、ジフェニルフェナシルスルホニウムベンジルトリフ
ェニルボレート、ジフェニルフェナシルスルホニウム−
tert−ブチルトリエチルボレート、ジフェニルフェ
ナシルスルホニウムフェニルトリエチルボレート、フェ
ニル(9−アンスリル)フェナシルスルホニウムブチル
トリフェニルボレート、ジフェニルアリルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート、ジフェニルシアノメチル
スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル
エトキシカルボニルメチルスルホニウムブチルトリフェ
ニルボレート、ジフェニルビニルスルホニウムブチルト
リフェニルボレート、ジフェニルフェノキシオキソスル
ホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニルエチ
ルチオスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフ
ェニル−N−フェニルアミノスルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、1−ナフチルフェニルベンジルメチル
スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル
(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペエニ
ル)スルホニウムブチルトリフェニルボレートを含む各
サンプルを調製し、同様な実験をそれぞれ行ったとこ
ろ、いずれの場合もサンプルは硬化し明らかに重合生成
物を与えたが、これらのスルホニウムあるいはオキソス
ルホニウム錯体を含まない場合では重合生成物は認めら
れなかった。
【0072】また、ラジカル重合可能なエチレン性不飽
和結合を有する化合物としてペンタエリスリトールトリ
アクリレートのかわりに、ブトキシエチルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ペンタエリス
リトールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、n−
ブチルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス
(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパ
ン、ジアリルフタレートを含む各サンプルを調製し、同
様な実験をそれぞれ行ったところ、いずれの場合もサン
プルは硬化し明らかに重合生成物を与えた。
【0073】また比較例として、ジフェニルフェナシル
スルホニウムブチルトリフェニルボレートのかわりに重
合開始剤として、公知のジフェニルフェナシルスルホニ
ウムテトラフルオロボレート、ジフェニルフェナシルオ
キソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェ
ニルベンジルスルホニウムテトラフルオロボレートを含
む各サンプルを調製し、同様な実験をそれぞれ行ったと
ころ、いずれの場合も同条件下では重合生成物を与えな
かった。
【0074】(実施例79〜101および比較例7〜1
4)希釈溶剤として1,1,2,2−テトラクロロエタ
ン360部、バインダーとしてポリメチルメタクリレー
ト20部、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を
有する化合物としてペンタエリスリトールトリアクリレ
ート20部、増感剤として3,3’−カルボニルビス
(7−ジエチルアミノクマリン(化合物(a))1部か
らなる溶液2gに重合開始剤として下記第1表に示した
本発明のスルホニウムあるいはオキソスルホニウム錯体
1.2×10-5モルを加え感光液とした。この感光液を
スピンコーターにて約2μmの厚さにガラス板上に塗布
し、さらにこの上に酸素遮断層として10%ポリビニル
アルコール水溶液をスピンコーターにて約5μmの厚さ
に塗布し感光板とした。この感光板にビーム径1.5m
mのアルゴンイオンレーザ光(488nm)を照射時間
を変えて露光した後、水およびトルエンにて現像処理を
行いレーザビーム径と同等の大きさの硬化スポット径を
与える露光エネルギーを感度として第1表に示した。比
較例として重合開始剤に公知のジフェニルフェナシルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルフェナ
シルオキソスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
テトラブチルアンモニウムブチルトリフェニルボレー
ト、銅ビス(ブチルトリフェニルボレート)およびトリ
フェニルスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジ
フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートを用
いた場合の感度を併せて第1表に示した。第1表の結果
より明かなように、本発明のスルホニウムあるいはオキ
ソスルホウム錯体を重合開始剤に用いた場合、公知の重
合開始剤を用いた場合より、いずれも感度が向上してい
ることがわかる。
【0075】
【表1】
【0076】化合物(a)
【0077】
【化1】
【0078】(実施例102、103および比較例1
5、16)希釈溶剤として1,1,2,2−テトラクロ
ロエタン360部、バインダーとしてポリメチルメタク
リレート20部、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和
結合を有する化合物としてペンタエリスリトールトリア
クリレート20部、下記第2表に示した増感剤1部から
なる溶液2gに重合開始剤として本発明のジフェニルフ
ェナシルスルホニウムブチルトリフェニルボレート1.
2×10-5モルを加え感光液とした。この感光液をスピ
ンコーターにて約2μmの厚さにガラス板上に塗布し、
さらにこの上に酸素遮断層として10%ポリビニルアル
コール水溶液をスピンコーターにて約5μmの厚さに塗
布し感光板とした。この感光板にビーム径1.5mmの
アルゴンイオンレーザ光(514nm)もしくはヘリウ
ムネオンレーザ光(633nm)を照射時間を変えて露
光した後、水およびトルエンにて現像処理を行いレーザ
ビーム径と同等の大きさの硬化スポット径を与える露光
エネルギーを感度として第2表に示した。比較例として
重合開始剤に公知のトリフェニルスルホニウムブチルト
リフェニルボレートを用いた場合の感度を併せて第2表
に示した。第2表の結果より明かなように、本発明のジ
フェニルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニルボ
レートを重合開始剤に用いた場合、公知のトリフェニル
スルホニウムブチルトリフェニルボレートを用いた場合
より、いずれも感度が向上していることがわかる。
【0079】
【表2】
【0080】化合物(b)
【化2】
【0081】化合物(c)
【化3】
【0082】(実施例104〜107および比較例17
〜24)希釈溶剤として1,1,2,2−テトラクロロ
エタン360部、バインダーとしてポリメチルメタクリ
レート20部、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結
合を有する化合物としてトリメチロールプロパントリア
クリレート20部、増感剤として下記第3表に示した増
感剤1部からなる溶液2gに重合開始剤として下記第1
表に示した本発明のジフェニルフェナシルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート1.2×10-5モルを加え
感光液とした。この感光液をスピンコーターにて約2μ
mの厚さにガラス板上に塗布し、さらにこの上に酸素遮
断層として10%ポリビニルアルコール水溶液をスピン
コーターにて約5μmの厚さに塗布し感光板とした。こ
の感光板にビーム径1.5mmのアルゴンイオンレーザ
光(488nmまたは514nm)を照射時間を変えて
露光した後、水およびトルエンにて現像処理を行いレー
ザビーム径と同等の大きさの硬化スポット径を与える露
光エネルギーを感度として第3表に示した。比較例とし
て重合開始剤に公知のトリフェニルスルホニウムブチル
トリフェニルボレートを用いた場合、および重合開始剤
を含まない場合の感度を併せて第3表に示した。第3表
の結果より明かなように、本発明のジフェニルフェナシ
ルスルホニウムブチルトリフェニルボレートを重合開始
剤に用いた場合、公知の重合開始剤を用いた場合および
重合開始剤を含まない場合より、いずれも感度が向上し
ていることがわかる。
【0083】
【表3】
【0084】化合物(d)
【化4】
【0085】化合物(e)
【化5】
【0086】化合物(f)
【化6】
【0087】化合物(g)
【化7】
【0088】(実施例108〜210および比較例2
5、26)重合性組成物の保存安定性を確認するため
に、実施例1〜103の本重合性組成物を、暗所にて、
恒温室中25℃で1カ月放置したが、いずれの場合も変
化は認められなかった。比較例として、本重合開始剤の
かわりに、公知のジフェニルヨードニウムブチルトリフ
ェニルボレートおよびビス(p−tert−ブチルフェ
ニル)ヨードニウムブチルトリフェニルボレートを含む
重合性組成物で、同様に実験を行ったところ、いずれの
重合性組成物も増粘が認められた。これらのことから本
発明の重合開始剤を含む重合性組成物は、公知の重合開
始剤を用いた場合より、いずれも保存安定性が向上して
いることがわかる。
【0089】
【発明の効果】本発明の一般式(1)で表されるスルホ
ニウムおよびオキソスルホニウム錯体は、ラジカル重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の重合開始
剤として有効であり、これらを含む重合性組成物は光お
よび/または熱エネルギーの付与により短時間に重合、
硬化することが可能である。
【0090】したがって、本発明の重合性組成物は、低
圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キ
セノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドラン
プ、蛍光灯、タングステンランプ、アルゴンイオンレー
ザ、ヘリウムカドミウムレーザ、ヘリウムネオンレー
ザ、クリプトンイオンレーザ、各種半導体レーザ、YA
Gレーザ、発光ダイオード、CRT光源、プラズマ光源
等の各種光源や光エネルギー、また加熱やサーマルヘッ
ド等による熱エネルギーの付与により目的とする重合物
や硬化物を得ることができる。
【0091】故に、高感度が必要な感光性印刷板材料、
ダイレクト刷版材料、フォトレジスト、ホログラム材
料、マイクロカプセルを利用した各種記録媒体や、イン
キ、封止剤、接着剤、粘着剤、粘接着剤等の分野での利
用に極めて有用である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)ラジカル重合可能なエチレン性不飽
    和結合を有する化合物、 (B)重合開始剤が、電気化学的測定においてその還元
    電位が−1.3eV以上の値を示す一般式(1)で表さ
    れるスルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体、
    を含むことを特徴とする重合性組成物および重合方法。 一般式(1) (ただしR1 およびR2 は置換基を有してもよいアリー
    ル基を、R3 は置換基を有してもよいアルキル基、置換
    基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい脂
    環基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有
    してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコ
    キシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換
    基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよ
    いアリールチオ基、置換基を有してもよいアミノ基より
    選ばれる基を、R4 は酸素原子もしくは孤立電子対を、
    5 、R6 、R7 およびR8 はそれぞれ独立に、置換基
    を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリ
    ール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を
    有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよい脂環
    基より選ばれる基を示し、R5 、R6 、R7 およびR8
    全てが同時に置換基を有してもよいアリール基となるこ
    とはない。)
  2. 【請求項2】(C)紫外から近赤外領域にかけて任意の
    光を吸収する増感剤、を含む請求項1記載の重合性組成
    物。
  3. 【請求項3】一般式(1)において、R3 が、置換基を
    有してもよいアリル基、置換基を有してもよいベンジル
    基もしくは置換基を有してもよいフェナシル基のいずれ
    かであり、R5 が置換基を有してもよいアルキル基であ
    り、R6 、R7 およびR8 が置換基を有してもよいアリ
    ール基であることを特徴とする請求項1ないし2いずれ
    か記載の重合性組成物。
  4. 【請求項4】請求項1ないし3いずれか記載の重合性組
    成物にたいして、光および/または熱エネルギーを与え
    ることにより活性なラジカルを生成させ、重合させるこ
    とを特徴とする重合方法。
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