JPH06140862A - モノシリックに実現可能な無線周波数バイアス・チョーク - Google Patents
モノシリックに実現可能な無線周波数バイアス・チョークInfo
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- JPH06140862A JPH06140862A JP3220218A JP22021891A JPH06140862A JP H06140862 A JPH06140862 A JP H06140862A JP 3220218 A JP3220218 A JP 3220218A JP 22021891 A JP22021891 A JP 22021891A JP H06140862 A JPH06140862 A JP H06140862A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B15/00—Suppression or limitation of noise or interference
- H04B15/02—Reducing interference from electric apparatus by means located at or near the interfering apparatus
-
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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-
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-
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- Microwave Amplifiers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 モノシリックに実現可能な無線周波数(R
F)バイアス・チョークによって別々なオフ・チップ構
成部品を最小にし、コスト、空間および信頼性の各利点
を高める。 【構成】 モノシリックに実現可能な無線周波数(R
F)バイアス・チョークは、半導体基板上に直流供給ノ
ード(32)とRF回路バイアス点(12)との間に接
続されたインダクタ(20)およびコンデンサ(30)
を並列に配置して実現される。
F)バイアス・チョークによって別々なオフ・チップ構
成部品を最小にし、コスト、空間および信頼性の各利点
を高める。 【構成】 モノシリックに実現可能な無線周波数(R
F)バイアス・チョークは、半導体基板上に直流供給ノ
ード(32)とRF回路バイアス点(12)との間に接
続されたインダクタ(20)およびコンデンサ(30)
を並列に配置して実現される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はRFバイアス分離回路、
特に半導体基板上にモノシリックに実現可能なRFバイ
アス分離回路に関する。
特に半導体基板上にモノシリックに実現可能なRFバイ
アス分離回路に関する。
【0002】
【従来の技術】無線周波数(RF)およびそれ以上の周
波数で作動する電子回路の設計において、回路に供給さ
れたRF信号から直流電源ノードを選択式に電気絶縁す
る装置を提供することが必要である。当該装置はわずか
であったり無制限に直流を流させるべきだが、同時にR
F電流の流れを妨害する。この問題に対する従来の解決
法は「バイアス・ティー」として知られ、図1にその概
略を示す。この手段では、直流供給電圧VDCはノード1
0に印加され、また直流電流IDCはインダクタ20を経
てノード12に流れ、回路をバイアスさせるために使用
される(能動回路が例で示されているが、バイアスはP
INダイオード・スイッチのような受動回路にも加えら
れてよい)。電流IDCはブロッキング・コンデンサ22
によってノード14に流れると共にバイパス・コンデン
サ24によって接地に流れることを防止される。RF電
流IRFに対して、インダクタ20が高インピーダンス・
チョークであり、ブロッキング・コンデンサ22が短絡
回路なので、IRFはノード14に自由に流れるがノード
10に流れることが防止される。
波数で作動する電子回路の設計において、回路に供給さ
れたRF信号から直流電源ノードを選択式に電気絶縁す
る装置を提供することが必要である。当該装置はわずか
であったり無制限に直流を流させるべきだが、同時にR
F電流の流れを妨害する。この問題に対する従来の解決
法は「バイアス・ティー」として知られ、図1にその概
略を示す。この手段では、直流供給電圧VDCはノード1
0に印加され、また直流電流IDCはインダクタ20を経
てノード12に流れ、回路をバイアスさせるために使用
される(能動回路が例で示されているが、バイアスはP
INダイオード・スイッチのような受動回路にも加えら
れてよい)。電流IDCはブロッキング・コンデンサ22
によってノード14に流れると共にバイパス・コンデン
サ24によって接地に流れることを防止される。RF電
流IRFに対して、インダクタ20が高インピーダンス・
チョークであり、ブロッキング・コンデンサ22が短絡
回路なので、IRFはノード14に自由に流れるがノード
10に流れることが防止される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】インダクタ20および
バイパス・コンデンサ24は下式によって定められる共
振周波数で直列共振回路を形成する。
バイパス・コンデンサ24は下式によって定められる共
振周波数で直列共振回路を形成する。
【数1】 実際には、所望のRF周波数におけるその帯域消去を伴
うローパス・フィルタとなる。UHF帯域(例えば、電
話通信領域内で必要な815〜925MHz )でFoを伴
うそのような回路を実行するように下式が要求される。
うローパス・フィルタとなる。UHF帯域(例えば、電
話通信領域内で必要な815〜925MHz )でFoを伴
うそのような回路を実行するように下式が要求される。
【数2】 LRFC >30nH CBP >1000pF 要求された高い値のLRFC によって図1の回路を低コス
トでモノシリック集積回路を製品化させることは重要で
ある。10nHより大きいな値のインダクタンスは、イン
ダクタによって広域に要求されるために、その電流処理
能力を得ることは極めて困難であり、著しいロスを招
く。従来、そのようなインダクタに対して、巻線コイル
またはフェライト材料で被覆されたプリント式スパイラ
ル回路が使用されてきた。そのような解決法は集積回路
の技術を以てしても明らかに両立できない。
トでモノシリック集積回路を製品化させることは重要で
ある。10nHより大きいな値のインダクタンスは、イン
ダクタによって広域に要求されるために、その電流処理
能力を得ることは極めて困難であり、著しいロスを招
く。従来、そのようなインダクタに対して、巻線コイル
またはフェライト材料で被覆されたプリント式スパイラ
ル回路が使用されてきた。そのような解決法は集積回路
の技術を以てしても明らかに両立できない。
【0004】図2に概略例示したもう1つの代法は、回
路をマッチするRF出力の部分としてインダクタンスL
RFC のより小さな値を使用しかつインダクタ20を含む
ことであるが、LRFC のより小さな値はRFに対しても
はや「存在しない」に等しい。
路をマッチするRF出力の部分としてインダクタンスL
RFC のより小さな値を使用しかつインダクタ20を含む
ことであるが、LRFC のより小さな値はRFに対しても
はや「存在しない」に等しい。
【0005】この方法による問題は、ホスト回路の周波
数帯域で作動するRFがインダクタ20とコンデンサ2
4のチョークの共振周波数に対して一段と閉鎖的にな
る。これらの周波数では、チョークはもはやRF電流に
よるインピーダンスとしては見られないが、代わりに導
電性が現れる。このインダクタ20とコンデンサ24の
チョークの短絡通路のQ値は下式による。
数帯域で作動するRFがインダクタ20とコンデンサ2
4のチョークの共振周波数に対して一段と閉鎖的にな
る。これらの周波数では、チョークはもはやRF電流に
よるインピーダンスとしては見られないが、代わりに導
電性が現れる。このインダクタ20とコンデンサ24の
チョークの短絡通路のQ値は下式による。
【数3】 但し、Rs=インダクタ20とコンデンサ24の直列抵
抗 ω=ラジアンにおけるRF周波数 従って、LRFC の望ましい値はインダクタ20とコンデ
ンサ24のチョークの短絡通路のQ値を低くすることで
ある。外部バイパス・コンデンサ24が常に低いので、
RF信号の事実上のロスは、インダクタ20とコンデン
サ24の通路を流れる比較的大きなRF電流によって生
じる。
抗 ω=ラジアンにおけるRF周波数 従って、LRFC の望ましい値はインダクタ20とコンデ
ンサ24のチョークの短絡通路のQ値を低くすることで
ある。外部バイパス・コンデンサ24が常に低いので、
RF信号の事実上のロスは、インダクタ20とコンデン
サ24の通路を流れる比較的大きなRF電流によって生
じる。
【0006】図3は、下記の値(800−1000MHz
のRF帯域に対応した)を想定する図2における電流の
RF信号のコンピュータ分析(EEsofタッチストー
ン分析ソフトウェアを使用して)を示す。
のRF帯域に対応した)を想定する図2における電流の
RF信号のコンピュータ分析(EEsofタッチストー
ン分析ソフトウェアを使用して)を示す。
【数4】 CBP=10660 pF RS =1 Ohm LM =5.5 nH CM =5.0 pF CB =24 pF LRFC =図3に示す通りパラメタリックに変化される
【0007】RF信号ロスがインダクタンスLRFC に直
接比例することは容易に明白となる。0.1dB(例え
ば、高性能増幅器に要求される)未満のロスは9nHより
も大きなインダクタンスLを要求する。従って図2の回
路配置では、モノシリック集積に適合しないインダクタ
ンス値が要求される所望されない外部バイパス・コンデ
ンサ24のQ値に極めて敏感なRF信号ロスも作られ
る。
接比例することは容易に明白となる。0.1dB(例え
ば、高性能増幅器に要求される)未満のロスは9nHより
も大きなインダクタンスLを要求する。従って図2の回
路配置では、モノシリック集積に適合しないインダクタ
ンス値が要求される所望されない外部バイパス・コンデ
ンサ24のQ値に極めて敏感なRF信号ロスも作られ
る。
【0008】従って、モノシリック形式で実行可能で、
RF信号ロスを最小にさせる(すなわち、高性能)RF
バイアス・チョークが必要になる。
RF信号ロスを最小にさせる(すなわち、高性能)RF
バイアス・チョークが必要になる。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、狭帯域のRF
の外部(オフ・チップ)インダクタに対してアナログ集
積回路を必要としないRFバイアス・チョークのモノシ
リックに実現可能な回路の実施を提供する。
の外部(オフ・チップ)インダクタに対してアナログ集
積回路を必要としないRFバイアス・チョークのモノシ
リックに実現可能な回路の実施を提供する。
【0010】好適な実施例では、モノシリックRFバイ
アス・チョークは、直流供給ノードとRF回路バイパス
点との間に接続されたインダクタとコンデンサを並列に
配列して実行される。インダクタとコンデンサの値は、
ホスト回路の作動用周波数帯域のRF電流をブロックし
ている間に、回路が直流を通過させるように選択され
る。
アス・チョークは、直流供給ノードとRF回路バイパス
点との間に接続されたインダクタとコンデンサを並列に
配列して実行される。インダクタとコンデンサの値は、
ホスト回路の作動用周波数帯域のRF電流をブロックし
ている間に、回路が直流を通過させるように選択され
る。
【0011】この回路で、使用すべきインダクタンスの
値を比較的少なくさせ、主回路と同じチップ上に分離回
路をモノシリック集積を可能にすることによって既知の
バイアス分離回路の問題を解決される。これは、オフ・
チップ(別々な)に対するバイアス構成物を必要としな
い。
値を比較的少なくさせ、主回路と同じチップ上に分離回
路をモノシリック集積を可能にすることによって既知の
バイアス分離回路の問題を解決される。これは、オフ・
チップ(別々な)に対するバイアス構成物を必要としな
い。
【0012】
【実施例】第1好適実施例で、ホスト回路内に含まれる
モノシリックに実現可能なRFチョーク用回路を示す
(能動ホスト回路は例により示されるが、RFチョーク
は、PINダイオード・スイッチのような受動回路の中
に直ちに含まれる。
モノシリックに実現可能なRFチョーク用回路を示す
(能動ホスト回路は例により示されるが、RFチョーク
は、PINダイオード・スイッチのような受動回路の中
に直ちに含まれる。
【0013】ホスト回路は、直流バイアス電流を受信し
かつRF信号電流を出力する端子12を含み、インダク
タ26の一方は端子12に接続され、他方はノード16
に接続される。コンデンサ28はノード16と接地との
間に接続される。インダクタ26とコンデンサ28はい
ずれもホスト回路の回路網60にマッチする出力を形成
する。ブロック用コンデンサ22はノード16と回路出
力端子14との間に接続される。インダクタ20は端子
12とノード18との間に接続される。コンデンサ30
も端子12とノード18との間にインダクタ20と並列
に接続される。インダクタ20とンコデンサ30は共に
モノシリックに実現可能なRFチョーク50を構築す
る。インダクタ20の寄生直列抵抗はRL と表示され
る。外部直流バイアス電圧を受信する入力端子32は具
備されると共に、ノード10に直結される。ノード10
は次にボンドワイヤを介してノード18に直結される。
ボンドワイヤの寄生インダクタンスはLB と表示され
る。バイパス・コンデンサ24はノード10と接地との
間に接続される。コンデンサ24の寄生直列抵抗はRS
と表示される。
かつRF信号電流を出力する端子12を含み、インダク
タ26の一方は端子12に接続され、他方はノード16
に接続される。コンデンサ28はノード16と接地との
間に接続される。インダクタ26とコンデンサ28はい
ずれもホスト回路の回路網60にマッチする出力を形成
する。ブロック用コンデンサ22はノード16と回路出
力端子14との間に接続される。インダクタ20は端子
12とノード18との間に接続される。コンデンサ30
も端子12とノード18との間にインダクタ20と並列
に接続される。インダクタ20とンコデンサ30は共に
モノシリックに実現可能なRFチョーク50を構築す
る。インダクタ20の寄生直列抵抗はRL と表示され
る。外部直流バイアス電圧を受信する入力端子32は具
備されると共に、ノード10に直結される。ノード10
は次にボンドワイヤを介してノード18に直結される。
ボンドワイヤの寄生インダクタンスはLB と表示され
る。バイパス・コンデンサ24はノード10と接地との
間に接続される。コンデンサ24の寄生直列抵抗はRS
と表示される。
【0014】作動の際、直流電圧は、直流電流IDCをイ
ンダクタ20からホスト回路端子12まで流させる端子
32に印加される。電流は、直流電流に対するオープン
回路のように全てが現れるコンデンサ22,24,28
および30によって回路の任意の他のブランチへの流れ
を防止される。同時に、RF電流IRFは、端子12から
(矢印の方向に)直列短絡マッチング回路60を経て、
ブロッキング・コンデンサ22から出力端子14まで流
れている。IRF は、RFチョーク50への流れを防止
されるが、それはチョークの共振周波数fO が、下記の
関係式を用いてホスト回路の作動周波数fと等しくなる
ように指定される。
ンダクタ20からホスト回路端子12まで流させる端子
32に印加される。電流は、直流電流に対するオープン
回路のように全てが現れるコンデンサ22,24,28
および30によって回路の任意の他のブランチへの流れ
を防止される。同時に、RF電流IRFは、端子12から
(矢印の方向に)直列短絡マッチング回路60を経て、
ブロッキング・コンデンサ22から出力端子14まで流
れている。IRF は、RFチョーク50への流れを防止
されるが、それはチョークの共振周波数fO が、下記の
関係式を用いてホスト回路の作動周波数fと等しくなる
ように指定される。
【数5】 共振周波数に対して、RFチョーク50はオープン回路
であるので、RF電流はその中に流れない。しかし、同
時に短絡回路には、直流バイアス電流IDC(インダクタ
20を経て)が残される。これは、極めて少ないRF電
流がバイパスコンデンサ24を経て接地に流れるにつれ
て、外部バイパス・コンデンサ24と直列する抵抗のた
めに事実上ロスを減少する。これはまた、ホスト回路の
性能を、ノード18での負荷インピーダンスに対して不
感にする。
であるので、RF電流はその中に流れない。しかし、同
時に短絡回路には、直流バイアス電流IDC(インダクタ
20を経て)が残される。これは、極めて少ないRF電
流がバイパスコンデンサ24を経て接地に流れるにつれ
て、外部バイパス・コンデンサ24と直列する抵抗のた
めに事実上ロスを減少する。これはまた、ホスト回路の
性能を、ノード18での負荷インピーダンスに対して不
感にする。
【0015】図5は、下記の815〜925MHz 帯域で
作動を指定された場合、計算済みのRF信号は、図4の
短絡モノシリックに実現可能なRFチョークからロスを
回復させる。
作動を指定された場合、計算済みのRF信号は、図4の
短絡モノシリックに実現可能なRFチョークからロスを
回復させる。
【数6】 fO =870 MHz LRFC =4.5 nH RL =0.5 Ohm CRFC =7.5 pF RS =1 Ohm CBP =1000 pF 図示の通り、その反射は、815〜925MHz 帯域で極
めて少なく(−20dBよりも良好)なる。すなわち、R
F信号に対してチョークは微小なものである。また、図
5は、ノード18での負荷インピーダンスにおける変化
に対する種々の反射を(パラメタリックに)示す。これ
は、ボンドワイヤ接続されたインダクタンスLB を変化
させることによって0.001nHから5nHまでロスを回
復させずに済む程度に実行される。
めて少なく(−20dBよりも良好)なる。すなわち、R
F信号に対してチョークは微小なものである。また、図
5は、ノード18での負荷インピーダンスにおける変化
に対する種々の反射を(パラメタリックに)示す。これ
は、ボンドワイヤ接続されたインダクタンスLB を変化
させることによって0.001nHから5nHまでロスを回
復させずに済む程度に実行される。
【0016】図6は、外部バイパス・コンデンサ24の
直列抵抗RS によるRFチョーク50の計算された種々
のRF信号の挿入ロスを示す。これは、直列抵抗を1Ω
から7Ωまで1Ωずつ変化させ、下記の値を用いること
によって実行される。
直列抵抗RS によるRFチョーク50の計算された種々
のRF信号の挿入ロスを示す。これは、直列抵抗を1Ω
から7Ωまで1Ωずつ変化させ、下記の値を用いること
によって実行される。
【数7】 fO =870 MHz LRFC =4.5 nH RL =0 Ohm CRFC =7.5 pF LB =0.01 nH CBP =1000 pF その結果は、共振(fo=f)ではほとんど0dBのロス
を表し、また外部バイパス・コンデンサ24(RS )の
ロスに対しては全く反応しない。
を表し、また外部バイパス・コンデンサ24(RS )の
ロスに対しては全く反応しない。
【0017】図7は、下記の値を用いて、インダクタ2
0の寄生直列抵抗RL のRF信号の挿入ロスの計算結果
を示す。
0の寄生直列抵抗RL のRF信号の挿入ロスの計算結果
を示す。
【数8】 fO =870 MHz LRFC =4.5 nH CRFC =7.5 pF RS =1 Ohm CBP =1000 pF インダクタ寄生抵抗RL を0.1Ωから1Ωまで変化さ
せる。モノシリック・インダクタに対する0.55Ωの
真値で、ロスを0.25dB未満に最小化することができ
る。
せる。モノシリック・インダクタに対する0.55Ωの
真値で、ロスを0.25dB未満に最小化することができ
る。
【0018】モノシリックに実現可能なRFバイアス・
チョークの実験測定は図8の回路ハイブリッド・テスト
で行われた。インダクタンスLRFC およびLB は直径1
ミルで200ミル長さのボンドワイヤで行われた。キャ
パシタンスCRFC およびCBPは、10ミルのアルミナ基
板上に50Ωのマイクロストリップ送信ラインまで銀エ
ポキシ化合物で作られた並列プレート・チップ・コンデ
ンサによって行われた。この組合せは905MHz の共振
周波数を生じる。
チョークの実験測定は図8の回路ハイブリッド・テスト
で行われた。インダクタンスLRFC およびLB は直径1
ミルで200ミル長さのボンドワイヤで行われた。キャ
パシタンスCRFC およびCBPは、10ミルのアルミナ基
板上に50Ωのマイクロストリップ送信ラインまで銀エ
ポキシ化合物で作られた並列プレート・チップ・コンデ
ンサによって行われた。この組合せは905MHz の共振
周波数を生じる。
【0019】図9は、45〜2000MHz 減少した図8
の回路のロス回復を測定した値を示す。共振(905MH
z )でのロス回復は26dB825〜915MHz の領域通
信帯域全体を横切る18dBより良好である。こうしてチ
ョークの正しい作動が実証される。すなわち、所望の帯
域内のRFエネルギーは外部バイパス・コンデンサ24
から分離される。
の回路のロス回復を測定した値を示す。共振(905MH
z )でのロス回復は26dB825〜915MHz の領域通
信帯域全体を横切る18dBより良好である。こうしてチ
ョークの正しい作動が実証される。すなわち、所望の帯
域内のRFエネルギーは外部バイパス・コンデンサ24
から分離される。
【0020】図8の回路の測定された挿入ロスは図10
の45〜2000MHz からプロットされる。左側の縦軸
に対応する上部軌跡は、RFバイアス・チョークおよび
テスト固定設備双方の挿入ロスを示す。テスト固定設備
だけ(回路に接続されないRFバイアス・チョークを伴
う)のロスは、右側の縦軸に対応する下部軌跡で示され
る。これら2つの代数差は、テスト固定設備からのいか
なる影響も受けずにチョークの挿入ロスを供給する。9
05MHz の共振周波数において、挿入ロスは0.9dBと
測定される。このロスは、主にキャパシタンスCRFC の
寄生直列抵抗によるものであり、コンデンサを作る銀エ
ポキシ化合物によって組み合わされた若干の抵抗による
こともある。
の45〜2000MHz からプロットされる。左側の縦軸
に対応する上部軌跡は、RFバイアス・チョークおよび
テスト固定設備双方の挿入ロスを示す。テスト固定設備
だけ(回路に接続されないRFバイアス・チョークを伴
う)のロスは、右側の縦軸に対応する下部軌跡で示され
る。これら2つの代数差は、テスト固定設備からのいか
なる影響も受けずにチョークの挿入ロスを供給する。9
05MHz の共振周波数において、挿入ロスは0.9dBと
測定される。このロスは、主にキャパシタンスCRFC の
寄生直列抵抗によるものであり、コンデンサを作る銀エ
ポキシ化合物によって組み合わされた若干の抵抗による
こともある。
【0021】図8のテスト回路におけるモノシリック実
行の作動は、モノシリックMIM(金属間絶縁)コンデ
ンサの低い寄生コンデンサおよび銀エポキシ製造の欠如
によって著しく小さな挿入ロス値を生じる。
行の作動は、モノシリックMIM(金属間絶縁)コンデ
ンサの低い寄生コンデンサおよび銀エポキシ製造の欠如
によって著しく小さな挿入ロス値を生じる。
【0022】全ての上記結果は、容易にモノシリック形
式で実現可能なLRFC およびCRFCの値によって得られ
る。図11は、ガリウムヒ素(GaAs)ような適合基
板上のモノシリック形成に際して図4のRFバイアス・
チョーク50が可能な構造を例示する。インダクタ20
は従来の処理方法によって半導体基板上にパターン化さ
れたスパイラル・インダクタとして実行され、一方コン
デンサ30はMIMコンデンサとして実行される。
式で実現可能なLRFC およびCRFCの値によって得られ
る。図11は、ガリウムヒ素(GaAs)ような適合基
板上のモノシリック形成に際して図4のRFバイアス・
チョーク50が可能な構造を例示する。インダクタ20
は従来の処理方法によって半導体基板上にパターン化さ
れたスパイラル・インダクタとして実行され、一方コン
デンサ30はMIMコンデンサとして実行される。
【0023】
【発明の効果】好適な実施例は様々に変更されるであろ
うがモノシリック製造可能なRFバイアス・チョークの
バイアス特性は保持される。
うがモノシリック製造可能なRFバイアス・チョークの
バイアス特性は保持される。
【0024】例えば、第1の変更は、図11のガリウム
ヒ素基板に対して高い抵抗性(10 3 Ω・cmを越える)
のシリコン基板を代用することができる。
ヒ素基板に対して高い抵抗性(10 3 Ω・cmを越える)
のシリコン基板を代用することができる。
【0025】第2の変更においては、図11のモノシリ
ック回路のスパイラル・インダクタ20は、図12の通
り、マイクロストリップ部門、すなわちストリップライ
ンである伝送ラインを代用することができる。
ック回路のスパイラル・インダクタ20は、図12の通
り、マイクロストリップ部門、すなわちストリップライ
ンである伝送ラインを代用することができる。
【0026】第1の好適な実施例の利点は、その容易
性、その要求される比較的小さなインダクタンス値およ
びMMICの部分として実行すべき性能を含み、それに
よって要求された別々なオフ・チップ構成部品の数を最
小にする(コスト、空間および信頼性の各利点を提供す
る)。
性、その要求される比較的小さなインダクタンス値およ
びMMICの部分として実行すべき性能を含み、それに
よって要求された別々なオフ・チップ構成部品の数を最
小にする(コスト、空間および信頼性の各利点を提供す
る)。
【0027】以上の説明に関して更に以下の項を開示す
る。 (1) 直流バイアス電流受信用入力端子と、前記直流バ
イアス電流を無線周波数(RF)信号の導電通路に伝送
する出力端子と、前記入力端子と前記出力端子との間に
接続されてその間の直流電流を導電させる誘電装置と、
前記入力端子と前記出力端子との間に接続され、前記容
量装置は前記誘電装置と並列に接続されて並列共振回路
を形成する前記容量装置と、前記誘電装置と前記容量装
置を前記RF信号の周波数と同じ周波数を有するように
並列接続させて所定値にし、それによって前記出力端子
と前記入力端子との間に前記RF信号の伝送を防止する
前記誘電装置のイクダクタンスおよび前記容量装置のキ
ャパシタンスとを備えることを特徴とするモノシリック
に実現可能な無線周波数(RF)バイアス・チョーク。
る。 (1) 直流バイアス電流受信用入力端子と、前記直流バ
イアス電流を無線周波数(RF)信号の導電通路に伝送
する出力端子と、前記入力端子と前記出力端子との間に
接続されてその間の直流電流を導電させる誘電装置と、
前記入力端子と前記出力端子との間に接続され、前記容
量装置は前記誘電装置と並列に接続されて並列共振回路
を形成する前記容量装置と、前記誘電装置と前記容量装
置を前記RF信号の周波数と同じ周波数を有するように
並列接続させて所定値にし、それによって前記出力端子
と前記入力端子との間に前記RF信号の伝送を防止する
前記誘電装置のイクダクタンスおよび前記容量装置のキ
ャパシタンスとを備えることを特徴とするモノシリック
に実現可能な無線周波数(RF)バイアス・チョーク。
【0028】(2) 前記誘電装置は半導体基板または前
記基板上に形成された第1半導体層の上に形成され、ま
た前記容量装置は前記半導体基板または前記基板上に形
成された前記第1あるいは第2半導体層の上に形成され
ることを特徴とする第1項記載のモノシリックに実現可
能なRFバイアス・チョーク。
記基板上に形成された第1半導体層の上に形成され、ま
た前記容量装置は前記半導体基板または前記基板上に形
成された前記第1あるいは第2半導体層の上に形成され
ることを特徴とする第1項記載のモノシリックに実現可
能なRFバイアス・チョーク。
【0029】(3) 前記半導体基板はヒ化ガリウム製で
あり、前記第1半導体層はガリウムヒ素であり、また前
記第2半導体層はガリウムヒ素であることを特徴とする
第2項記載のモノシリックに実現可能なRFバイアス・
チョーク。
あり、前記第1半導体層はガリウムヒ素であり、また前
記第2半導体層はガリウムヒ素であることを特徴とする
第2項記載のモノシリックに実現可能なRFバイアス・
チョーク。
【0030】(4) 前記誘電装置は平面状のスパイラル
・インダクタであることを特徴とする第2項記載のモノ
シリックに実現可能なRFバイアス・チョーク。
・インダクタであることを特徴とする第2項記載のモノ
シリックに実現可能なRFバイアス・チョーク。
【0031】(5) 前記RF信号周波数は時間と共に変
化し、前記周波数は有限周波数帯域に限られ、また前記
共振周波数は前記有限周波数帯域内にあることを特徴と
する第1項記載のモノシリックに実現可能なRFバイア
ス・チョーク。
化し、前記周波数は有限周波数帯域に限られ、また前記
共振周波数は前記有限周波数帯域内にあることを特徴と
する第1項記載のモノシリックに実現可能なRFバイア
ス・チョーク。
【0032】(6) 前記共振周波数は前記有限周波数帯
域の中央にあることを特徴とする第5項記載のモノシリ
ックに実現可能なRFバイアス・チョーク。
域の中央にあることを特徴とする第5項記載のモノシリ
ックに実現可能なRFバイアス・チョーク。
【0033】(7) 無線周波数(RF)信号の伝導から
2つの端子を分離させる一方直流信号の流れを妨害させ
ない方法であり、それらの間に、誘電装置によって入力
端子と出力端子を接続する段階と、前記誘電装置と並列
な容量装置によって前記入力端子と前記出力端子とを接
続する段階と、前記入力端子に直流バイアス電流を入力
する段階と、前記直流バイアス電流を前記誘電装置を経
て前記出力端子まで流す段階と、前記誘電装置にインダ
クタンスを持たせかつ前記容量装置にキャパシタンスを
持たせ、その結果前記誘導装置と前記容量装置との並列
接続は一定のRF周波数で共振し、それによって前記出
力端子と前記入力端子との間の前記一定のRF周波数の
いかなる信号も伝導させない段階とを含むことを特徴と
する方法。
2つの端子を分離させる一方直流信号の流れを妨害させ
ない方法であり、それらの間に、誘電装置によって入力
端子と出力端子を接続する段階と、前記誘電装置と並列
な容量装置によって前記入力端子と前記出力端子とを接
続する段階と、前記入力端子に直流バイアス電流を入力
する段階と、前記直流バイアス電流を前記誘電装置を経
て前記出力端子まで流す段階と、前記誘電装置にインダ
クタンスを持たせかつ前記容量装置にキャパシタンスを
持たせ、その結果前記誘導装置と前記容量装置との並列
接続は一定のRF周波数で共振し、それによって前記出
力端子と前記入力端子との間の前記一定のRF周波数の
いかなる信号も伝導させない段階とを含むことを特徴と
する方法。
【0034】(8) モノシリック製造可能な無線周波数
(RF)バイアス・チョークは、直流供給ノード32と
RF回路バイアス点12との間に接続されたインダクタ
20およびコンデンサ30を並列に配置して実施され
る。
(RF)バイアス・チョークは、直流供給ノード32と
RF回路バイアス点12との間に接続されたインダクタ
20およびコンデンサ30を並列に配置して実施され
る。
【図1】従来技術による「バイアス・ティー」回路の概
略図。
略図。
【図2】出力マッチング回路の部分としてチョーク・イ
ンダクタを用いる、従来技術による図1の変形回路の概
略図。
ンダクタを用いる、従来技術による図1の変形回路の概
略図。
【図3】図2の回路の周波数(パラメタリックに変化さ
れたLRFC を伴う)に対するRF信号ロスのプロットを
示す図。
れたLRFC を伴う)に対するRF信号ロスのプロットを
示す図。
【図4】主回路内に含まれたモノシリックに実現可能な
RFチョークの概略図。
RFチョークの概略図。
【図5】図4の回路の周波数(パラメタリックに変化さ
れたLB を伴う)に対するRF回線ロスのプロットを示
す図。
れたLB を伴う)に対するRF回線ロスのプロットを示
す図。
【図6】図4の回路の周波数(パラメタリックに変化さ
れたRS を伴う)に対するRF挿入ロスのプロットを示
す図。
れたRS を伴う)に対するRF挿入ロスのプロットを示
す図。
【図7】図4の回路の周波数(パラメタリックに変化さ
れたRL を伴う)に対するRF挿入ロスのプロットを示
す図。
れたRL を伴う)に対するRF挿入ロスのプロットを示
す図。
【図8】モノシリック製造可能なRFバイアス・チョー
クの実験測定に用いられたテスト回路の概略図。
クの実験測定に用いられたテスト回路の概略図。
【図9】図8の回路の周波数に対するRF回復ロスのプ
ロットを示す図。
ロットを示す図。
【図10】図8の回路1および図8だけのテスト用固定
設備2の周波数に対するRF信号挿入ロスのプロットを
示す図。
設備2の周波数に対するRF信号挿入ロスのプロットを
示す図。
【図11】図4のRFバイアス・チョーク50のモノシ
リック実施の平面図。
リック実施の平面図。
【図12】図4のRFバイアス・チョーク50のモノシ
リック実施の平面図。
リック実施の平面図。
10 ノード 12 ノード 14 出力端子 16 ノード 18 ノード 20 インダクタ 22 ブロッキング・コンデンサ 24 バイパス・コンデンサ 26 インダクタ 28 コンデンサ 30 MIMコンデンサ 32 入力端子 50 RFチョーク 60 出力マッチング回路網
Claims (2)
- 【請求項1】 直流バイアス電流受信用入力端子と、前
記直流バイアス電流を無線周波数(RF)信号の導電通
路に伝送する出力端子と、前記入力端子と前記出力端子
との間に接続されてその間の直流電流を導電させる誘電
装置と、前記入力端子と前記出力端子との間に接続さ
れ、前記容量装置は前記誘電装置と並列に接続されて並
列共振回路を形成する前記容量装置と、前記誘電装置と
前記容量装置を前記RF信号の周波数と同じ共振周波数
を有するように並列接続させて所定値にし、それによっ
て前記出力端子と前記入力端子との間に前記RF信号の
伝送を防止する前記誘電装置のイクダクタンスおよび前
記容量装置のキャパシタンスとを備えることを特徴とす
るモノシリックに実現可能な無線周波数(RF)バイア
ス・チョーク。 - 【請求項2】 無線周波数(RF)信号の伝導から2つ
の端子を分離させる、一方直流信号の流れを妨害させな
い方法であり、それらの間に、誘電装置によって入力端
子と出力端子を接続する段階と、前記誘電装置と並列な
容量装置によって前記入力端子と前記出力端子を接続す
る段階と、前記入力端子に直流バイアス電流を入力する
段階と、前記直流バイアス電流を前記誘電装置を経て前
記出力端子まで流す段階と、前記誘電装置にインダクタ
ンスを持たせかつ前記容量装置にキャパシタンスを持た
せ、その結果前記誘導装置と前記容量装置との並列接続
は一定のRF周波数で共振し、それによって前記出力端
子と前記入力端子との間の前記一定のRF周波数のいか
なる信号も伝導させない段階とを含むことを特徴とする
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/576,637 US5105172A (en) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | Monolithically realizable radio frequency bias choke |
US576637 | 1990-08-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06140862A true JPH06140862A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=24305296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3220218A Pending JPH06140862A (ja) | 1990-08-31 | 1991-08-30 | モノシリックに実現可能な無線周波数バイアス・チョーク |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5105172A (ja) |
EP (1) | EP0475116A3 (ja) |
JP (1) | JPH06140862A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4588699B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2010-12-01 | 三菱電機株式会社 | バイアス回路 |
US11398800B2 (en) | 2018-08-29 | 2022-07-26 | Sumitomo Electric Device Innovations, Inc. | High frequency amplifier |
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-
1991
- 1991-08-16 EP EP19910113776 patent/EP0475116A3/en not_active Withdrawn
- 1991-08-30 JP JP3220218A patent/JPH06140862A/ja active Pending
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US5105172A (en) | 1992-04-14 |
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