JPH06140484A - プローブカード - Google Patents
プローブカードInfo
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- JPH06140484A JPH06140484A JP4289947A JP28994792A JPH06140484A JP H06140484 A JPH06140484 A JP H06140484A JP 4289947 A JP4289947 A JP 4289947A JP 28994792 A JP28994792 A JP 28994792A JP H06140484 A JPH06140484 A JP H06140484A
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- Japan
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- pga
- input
- layer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】入出力端子がアレイ状に配置されているパッケ
ージに実装された形態のICの高速・高周波領域の検査
を可能にする検査用治具を実現する。 【構成】セラミック基板(1)と、この基板上に形成さ
れた配線層(5)とを具え、配線層(5)は、樹脂絶縁
膜(2)と、この膜内に形成されたグランド層(4)
と、特性インピーダンスがグランド層までの樹脂絶縁膜
厚により制御されて形成された引き出し信号線(3)と
で構成され、配線層(5)の表面に形成されて被検査I
Cの入出力端子と接続する接続用パッド(6)と、配線
層(5)またはセラミック基板(1)の表面に形成され
て検査用信号の入出力端子となるプローブパッド(7)
とが引き出し信号線(3)により電気的に接続されてお
り、終端用の薄膜抵抗(9)およびノイズ低減用の薄膜
バイパスコンデンサ(10)が、配線層(5)またはセ
ラミック基板(1)の表面に形成されている構成とす
る。
ージに実装された形態のICの高速・高周波領域の検査
を可能にする検査用治具を実現する。 【構成】セラミック基板(1)と、この基板上に形成さ
れた配線層(5)とを具え、配線層(5)は、樹脂絶縁
膜(2)と、この膜内に形成されたグランド層(4)
と、特性インピーダンスがグランド層までの樹脂絶縁膜
厚により制御されて形成された引き出し信号線(3)と
で構成され、配線層(5)の表面に形成されて被検査I
Cの入出力端子と接続する接続用パッド(6)と、配線
層(5)またはセラミック基板(1)の表面に形成され
て検査用信号の入出力端子となるプローブパッド(7)
とが引き出し信号線(3)により電気的に接続されてお
り、終端用の薄膜抵抗(9)およびノイズ低減用の薄膜
バイパスコンデンサ(10)が、配線層(5)またはセ
ラミック基板(1)の表面に形成されている構成とす
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、入出力端子がアレイ状
に配置されているパッケージに実装された形態のICの
検査用治具であるプローブカードに関するものである。
に配置されているパッケージに実装された形態のICの
検査用治具であるプローブカードに関するものである。
【0002】
【従来の技術】入出力端子がアレイ状に配置されている
パッケージに実装された形態のICの概略を図3,図4
を用いて説明する。図3(a)はピンをアレイ状に配置
された入出力端子11を有するピングリッドアレイ(P
GA)パッケージに実装されたIC12であり、図3
(b)は図3(a)を上下反転して示したものである。
図4はピンの替わりに、パッドを入出力端子31に用い
たパッドグリッドアレイ(PGA)パッケージに実装さ
れたIC32の形状を示す。図4(b)は図4(a)を
上下反転して示したものである。構造は図3のピンを入
出力端子11とするピングリッドアレイ(PGA)パッ
ケージに実装されたIC(以下ではPGA−ICと呼
称)12と同様であるので、以下の説明はピンを用いた
(図3)タイプで代表する。
パッケージに実装された形態のICの概略を図3,図4
を用いて説明する。図3(a)はピンをアレイ状に配置
された入出力端子11を有するピングリッドアレイ(P
GA)パッケージに実装されたIC12であり、図3
(b)は図3(a)を上下反転して示したものである。
図4はピンの替わりに、パッドを入出力端子31に用い
たパッドグリッドアレイ(PGA)パッケージに実装さ
れたIC32の形状を示す。図4(b)は図4(a)を
上下反転して示したものである。構造は図3のピンを入
出力端子11とするピングリッドアレイ(PGA)パッ
ケージに実装されたIC(以下ではPGA−ICと呼
称)12と同様であるので、以下の説明はピンを用いた
(図3)タイプで代表する。
【0003】従来のPGA−ICの電気特性検査法を図
5を用いて説明する。図5の様なプリント配線板13を
用いたプローブカードの接続用パッド22にPGA−I
C12をバンプ等を用いてプリント配線板13に搭載
し、検査用パッド15とプローブコネクタとを電気的に
接触させ、直流電源、パルス発生器、パルス波形観測装
置等を接続して、電気特性検査を行っている。クロック
が数10MHzを越える高周波領域でのPGA−IC1
2の検査では、配線の展開部の信号線14の特性インピ
ーダンスを整合させ信号の反射歪みを抑える必要があ
る。また、終端用チップ抵抗16、ノイズ低減用のバイ
パスコンデンサ17をプリント配線板上に搭載する必要
がある。
5を用いて説明する。図5の様なプリント配線板13を
用いたプローブカードの接続用パッド22にPGA−I
C12をバンプ等を用いてプリント配線板13に搭載
し、検査用パッド15とプローブコネクタとを電気的に
接触させ、直流電源、パルス発生器、パルス波形観測装
置等を接続して、電気特性検査を行っている。クロック
が数10MHzを越える高周波領域でのPGA−IC1
2の検査では、配線の展開部の信号線14の特性インピ
ーダンスを整合させ信号の反射歪みを抑える必要があ
る。また、終端用チップ抵抗16、ノイズ低減用のバイ
パスコンデンサ17をプリント配線板上に搭載する必要
がある。
【0004】実際のPGA−IC12を検査する場合の
例として、364端子のPGA−IC12の概要を図6
(a)に示す。また、図6(b)はこのPGA−IC1
2の端子をプリント配線板13に引き出し線43を形成
して展開する場合の状態を示す。プリント配線板13で
は、図6(b)に示すように1.27mm千鳥配列のス
ルーホールでピン間1本の配列がほぼ限界である。した
がって、PGA−IC12の端子ピッチを1mm以下に
さらに小さくすることは困難であり、PGA−IC12
を小形化できない。また、図6(a)に示す364端子
のPGA−IC12を検査するには、仮に図6(b)の
ように信号端子41をグランド(GND)端子42で囲
う構造とすると、信号の展開に3層必要である。特性イ
ンピーダンスを制御するためストリップライン構造にす
ると、GND層も含め7層以上必要となり、さらに信号
端子数が増大するとピッチを拡げるか、層数を増やす必
要があり、実用的でない。具体的には、引き出し線間の
ピッチに現在のプリント配線板製造技術の限界を適用
し、多層化すれば引き出し信号線の展開は可能と考えら
れるが、必要な端子数を搭載するには展開面積が極めて
大きくなり実用的でない。
例として、364端子のPGA−IC12の概要を図6
(a)に示す。また、図6(b)はこのPGA−IC1
2の端子をプリント配線板13に引き出し線43を形成
して展開する場合の状態を示す。プリント配線板13で
は、図6(b)に示すように1.27mm千鳥配列のス
ルーホールでピン間1本の配列がほぼ限界である。した
がって、PGA−IC12の端子ピッチを1mm以下に
さらに小さくすることは困難であり、PGA−IC12
を小形化できない。また、図6(a)に示す364端子
のPGA−IC12を検査するには、仮に図6(b)の
ように信号端子41をグランド(GND)端子42で囲
う構造とすると、信号の展開に3層必要である。特性イ
ンピーダンスを制御するためストリップライン構造にす
ると、GND層も含め7層以上必要となり、さらに信号
端子数が増大するとピッチを拡げるか、層数を増やす必
要があり、実用的でない。具体的には、引き出し線間の
ピッチに現在のプリント配線板製造技術の限界を適用
し、多層化すれば引き出し信号線の展開は可能と考えら
れるが、必要な端子数を搭載するには展開面積が極めて
大きくなり実用的でない。
【0005】また、プリント配線板13では微細加工が
できないため層間の厚さを薄く、また均一にできないこ
とから、その特性インピーダンスを高精度に制御できな
い欠点がある。
できないため層間の厚さを薄く、また均一にできないこ
とから、その特性インピーダンスを高精度に制御できな
い欠点がある。
【0006】加えて不都合なことに、終端用チップ抵抗
16、バイパスコンデンサ17はプリント配線板の表
面、または裏面にはんだ付けされており、それぞれ寸法
が数mm角と大きい。このため、寸法が数mm角と大き
いのでPGA−IC12の直近に置けないためPGA−
ICとチップ部品16,17とを接続する配線が必要と
なるだけでなく、ボンディングパッド18、ボンディン
グワイヤ19等が必要であり、不要なインダクタンス、
容量が付加されることになり、高周波特性の劣化をもた
らす。したがって、プリント配線板13の引き出し線1
4および43は、高速信号伝搬に影響を与える電気特性
の高精度な制御ができないため、検査に数Gb/s程度
までのパルス波形観測が可能な同軸プローブを使用した
としても、引き出し線14の伝搬時にパルス波形が大き
く歪み、直流または、高々100Mb/s程度までのパ
ルス波形観測しかできない。
16、バイパスコンデンサ17はプリント配線板の表
面、または裏面にはんだ付けされており、それぞれ寸法
が数mm角と大きい。このため、寸法が数mm角と大き
いのでPGA−IC12の直近に置けないためPGA−
ICとチップ部品16,17とを接続する配線が必要と
なるだけでなく、ボンディングパッド18、ボンディン
グワイヤ19等が必要であり、不要なインダクタンス、
容量が付加されることになり、高周波特性の劣化をもた
らす。したがって、プリント配線板13の引き出し線1
4および43は、高速信号伝搬に影響を与える電気特性
の高精度な制御ができないため、検査に数Gb/s程度
までのパルス波形観測が可能な同軸プローブを使用した
としても、引き出し線14の伝搬時にパルス波形が大き
く歪み、直流または、高々100Mb/s程度までのパ
ルス波形観測しかできない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
技術においては検査治具のパッドピッチを小さくできな
いため、展開スペースを確保するためにPGA−ICパ
ッケージを小形化できない問題があった。また、比較的
端子数の少ないPGA−ICを検査する場合にも、10
0Mb/s以上の高周波領域の検査が困難であった。
技術においては検査治具のパッドピッチを小さくできな
いため、展開スペースを確保するためにPGA−ICパ
ッケージを小形化できない問題があった。また、比較的
端子数の少ないPGA−ICを検査する場合にも、10
0Mb/s以上の高周波領域の検査が困難であった。
【0008】本発明の目的は、従来技術での上記した問
題を解決し、PGA−ICの高速・高周波領域の検査を
可能とする検査用治具を提供することにある。
題を解決し、PGA−ICの高速・高周波領域の検査を
可能とする検査用治具を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明においては、入出力端子がアレイ状に配置さ
れているパッケージに実装された形態のICの検査用治
具であるプローブカードにおいて、セラミック基板と、
この基板上に形成された配線層とを具え、上記配線層
は、樹脂絶縁膜と、この膜内に形成されたグランド層
と、特性インピーダンスがグランド層までの樹脂絶縁膜
厚により制御されて形成された引き出し信号線とで構成
され、上記配線層の表面に形成されて被検査ICの入出
力端子と接続する接続用パッドと、配線層またはセラミ
ック基板の表面に形成されて検査用信号の入出力端子と
なるプローブパッドとが上記引き出し信号線により電気
的に接続され、終端用の薄膜抵抗およびノイズ低減用の
薄膜バイパスコンデンサが、上記配線層またはセラミッ
ク基板の表面に形成されている、構成とする。
に、本発明においては、入出力端子がアレイ状に配置さ
れているパッケージに実装された形態のICの検査用治
具であるプローブカードにおいて、セラミック基板と、
この基板上に形成された配線層とを具え、上記配線層
は、樹脂絶縁膜と、この膜内に形成されたグランド層
と、特性インピーダンスがグランド層までの樹脂絶縁膜
厚により制御されて形成された引き出し信号線とで構成
され、上記配線層の表面に形成されて被検査ICの入出
力端子と接続する接続用パッドと、配線層またはセラミ
ック基板の表面に形成されて検査用信号の入出力端子と
なるプローブパッドとが上記引き出し信号線により電気
的に接続され、終端用の薄膜抵抗およびノイズ低減用の
薄膜バイパスコンデンサが、上記配線層またはセラミッ
ク基板の表面に形成されている、構成とする。
【0010】
【作用】本発明は、PGA−ICの検査用治具におい
て、信号等の入出力端子と、両者を電気的に接続する樹
脂絶縁膜を用いたストリップライン構造、あるいはマイ
クロストリップライン構造、あるいはコプレーナ構造、
あるいはこれらの混在した構造の特性インピーダンスを
制御した信号線と、PGA−ICに必要な電圧を供給す
る給電線とから構成され、また、特性インピーダンスと
整合した高周波特性の良い薄膜終端抵抗を内蔵し、さら
に、必要な部位には高周波特性の良い電源ノイズ低減用
の薄膜バイパスコンデンサを内蔵することを特徴とした
プローブカードであり、高密度、多端子PGA−ICの
高速・高周波領域の電気特性検査を容易に行うことが可
能になる。
て、信号等の入出力端子と、両者を電気的に接続する樹
脂絶縁膜を用いたストリップライン構造、あるいはマイ
クロストリップライン構造、あるいはコプレーナ構造、
あるいはこれらの混在した構造の特性インピーダンスを
制御した信号線と、PGA−ICに必要な電圧を供給す
る給電線とから構成され、また、特性インピーダンスと
整合した高周波特性の良い薄膜終端抵抗を内蔵し、さら
に、必要な部位には高周波特性の良い電源ノイズ低減用
の薄膜バイパスコンデンサを内蔵することを特徴とした
プローブカードであり、高密度、多端子PGA−ICの
高速・高周波領域の電気特性検査を容易に行うことが可
能になる。
【0011】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
【0012】図1に本発明によるプローブカードの一実
施例を示す。図1(a)は平面図であり、(b)は断面
図である。ただし、図1(b)においては図示の便宜
上、パッドおよび入出力端子等の位置を図1(a)と変
えてある。プローブカード8はセラミック基板1上に形
成した樹脂絶縁膜2、引き出し信号線3およびグランド
層4から構成されるストリップライン構造の配線層5
と、配線層5の表面に形成された接続用パッド6および
検査用信号等の入出力端子となるプローブパッド7を有
し、接続用パッド6とプローブパッド7とがストリップ
ライン構造の信号線3により電気的に接続されている。
このプローブカード8を用い、PGA−ICの入出力端
子11を接続用パッド6にバンプ等を用いて直接接続
し、プローブパッド7に同軸プローブピンを電気的に接
触させて検査を行う。この時、押さえ治具でPGA−I
Cとプローブカード8とを固定してもよい。
施例を示す。図1(a)は平面図であり、(b)は断面
図である。ただし、図1(b)においては図示の便宜
上、パッドおよび入出力端子等の位置を図1(a)と変
えてある。プローブカード8はセラミック基板1上に形
成した樹脂絶縁膜2、引き出し信号線3およびグランド
層4から構成されるストリップライン構造の配線層5
と、配線層5の表面に形成された接続用パッド6および
検査用信号等の入出力端子となるプローブパッド7を有
し、接続用パッド6とプローブパッド7とがストリップ
ライン構造の信号線3により電気的に接続されている。
このプローブカード8を用い、PGA−ICの入出力端
子11を接続用パッド6にバンプ等を用いて直接接続
し、プローブパッド7に同軸プローブピンを電気的に接
触させて検査を行う。この時、押さえ治具でPGA−I
Cとプローブカード8とを固定してもよい。
【0013】本実施例では、配線層5の樹脂絶縁膜とし
て低誘電率なポリイミド樹脂、信号線導体として低抵抗
率な銅を用いている。銅ポリイミド配線、薄膜抵抗、薄
膜コンデンサはフォトリソグラフィにより形成する。例
えば、ポリイミド樹脂絶縁膜を用いた配線層は、信号線
幅25μm、信号線間隙75μm、程度の高密度配線が
形成できるため、高密度多端子PGA−ICの検査が可
能である。また、信号線3の特性インピーダンスを任意
の値に容易に、かつ、高精度に制御することが可能であ
る。図2に信号線の幅を30μm、厚さを5μmとした
時の、ポリイミド樹脂絶縁膜厚(信号線とグランド層間
の間隙)と特性インピーダンスとの関係を示す。従来技
術に比べ樹脂絶縁膜2の膜厚を制御することにより、材
質、引き出し信号線3の幅等に依存することなく所望の
特性インピーダンスが高精度に得られる。さらに、プロ
ーブパッド7も上記配線層5と同様にフォトリソグラフ
ィで形成するため、狭間隔ピッチで高精度に配置するこ
とができる。また、PGA−ICの形状に依存すること
なく任意の大きさにプローブカード8を形成でき、か
つ、プローブカード8のPGA−IC搭載領域を除く全
面にプローブパッド7を配置できる。また、セラミック
基板1上には信号線の特性インピーダンスと整合した薄
膜終端抵抗9が形成されており、信号の反射歪みを低減
する目的で終端抵抗が必要なPGA−ICの端子(ピン
またはパッド)と接続する接続用パッド6と、薄膜終端
抵抗9とを信号線3で接続してある。本発明では薄膜終
端抵抗9も上記配線層5と同様にフォトリソグラフィで
形成するため、薄膜終端抵抗9がセラミック基板上に形
成でき、小形、かつ最短距離で接続用パッド6とグラン
ド層4との間に挿入できることから不要なインダクタン
ス、容量を無視できる程度に小さくでき、高精度に信号
線とインピーダンス整合をとることが可能である。ま
た、数100μm角で50Ω程度の抵抗を形成できるこ
とから高密度に薄膜終端抵抗9を形成できる。高速・高
周波領域の測定を妨害していた信号の反射歪みを低減で
きることから、PGA−IC動作時の信号線のより高精
度な特性インピーダンス制御が可能である。
て低誘電率なポリイミド樹脂、信号線導体として低抵抗
率な銅を用いている。銅ポリイミド配線、薄膜抵抗、薄
膜コンデンサはフォトリソグラフィにより形成する。例
えば、ポリイミド樹脂絶縁膜を用いた配線層は、信号線
幅25μm、信号線間隙75μm、程度の高密度配線が
形成できるため、高密度多端子PGA−ICの検査が可
能である。また、信号線3の特性インピーダンスを任意
の値に容易に、かつ、高精度に制御することが可能であ
る。図2に信号線の幅を30μm、厚さを5μmとした
時の、ポリイミド樹脂絶縁膜厚(信号線とグランド層間
の間隙)と特性インピーダンスとの関係を示す。従来技
術に比べ樹脂絶縁膜2の膜厚を制御することにより、材
質、引き出し信号線3の幅等に依存することなく所望の
特性インピーダンスが高精度に得られる。さらに、プロ
ーブパッド7も上記配線層5と同様にフォトリソグラフ
ィで形成するため、狭間隔ピッチで高精度に配置するこ
とができる。また、PGA−ICの形状に依存すること
なく任意の大きさにプローブカード8を形成でき、か
つ、プローブカード8のPGA−IC搭載領域を除く全
面にプローブパッド7を配置できる。また、セラミック
基板1上には信号線の特性インピーダンスと整合した薄
膜終端抵抗9が形成されており、信号の反射歪みを低減
する目的で終端抵抗が必要なPGA−ICの端子(ピン
またはパッド)と接続する接続用パッド6と、薄膜終端
抵抗9とを信号線3で接続してある。本発明では薄膜終
端抵抗9も上記配線層5と同様にフォトリソグラフィで
形成するため、薄膜終端抵抗9がセラミック基板上に形
成でき、小形、かつ最短距離で接続用パッド6とグラン
ド層4との間に挿入できることから不要なインダクタン
ス、容量を無視できる程度に小さくでき、高精度に信号
線とインピーダンス整合をとることが可能である。ま
た、数100μm角で50Ω程度の抵抗を形成できるこ
とから高密度に薄膜終端抵抗9を形成できる。高速・高
周波領域の測定を妨害していた信号の反射歪みを低減で
きることから、PGA−IC動作時の信号線のより高精
度な特性インピーダンス制御が可能である。
【0014】また、セラミック基板1は電源用配線を有
しており、配線層5に形成されている不図示の給電線を
介してPGA−ICに必要な電圧を供給している。この
給電線には、電源ノイズ低減用の薄膜バイパスコンデン
サ10が配線層上、あるいはセラミック基板上に形成さ
れている。ここで、バイパスコンデンサ10はPGA−
ICの接続用パッド6の直近に挿入することが重要であ
るが、本発明ではバイパスコンデンサ10も上記配線層
5と同様にフォトリソグラフィで形成でき、かつ1mm
角で数100pFの容量が可能なことから、薄膜バイパ
スコンデンサ10を配線層上、あるいはセラミック基板
上に高密度に形成でき、最短距離で接続用パッド6とグ
ランド層4との間に挿入できる。したがって、小形、高
密度、かつ大容量のバイパスコンデンサが容易に形成で
き、高速・高周波領域の測定を妨害していた電源ノイズ
を低減できる。
しており、配線層5に形成されている不図示の給電線を
介してPGA−ICに必要な電圧を供給している。この
給電線には、電源ノイズ低減用の薄膜バイパスコンデン
サ10が配線層上、あるいはセラミック基板上に形成さ
れている。ここで、バイパスコンデンサ10はPGA−
ICの接続用パッド6の直近に挿入することが重要であ
るが、本発明ではバイパスコンデンサ10も上記配線層
5と同様にフォトリソグラフィで形成でき、かつ1mm
角で数100pFの容量が可能なことから、薄膜バイパ
スコンデンサ10を配線層上、あるいはセラミック基板
上に高密度に形成でき、最短距離で接続用パッド6とグ
ランド層4との間に挿入できる。したがって、小形、高
密度、かつ大容量のバイパスコンデンサが容易に形成で
き、高速・高周波領域の測定を妨害していた電源ノイズ
を低減できる。
【0015】以上述べた、銅ポリイミド配線、薄膜抵
抗、薄膜コンデンサ等をフォトリソグラフィにより形成
する技術により、小形・多端子PGA−ICの高速・高
周波領域の検査が可能である。
抗、薄膜コンデンサ等をフォトリソグラフィにより形成
する技術により、小形・多端子PGA−ICの高速・高
周波領域の検査が可能である。
【0016】上記図1の実施例では、特性インピーダン
スの制御が容易なストリップライン構造の1層の信号線
3を用いて接続用パッド6とプローブパッド7とを電気
的に接続しているが、多層のストリップライン構造の信
号線を用いてもよく、また、特性インピーダンス制御が
可能な他の構造であるマイクロストリップライン構造、
あるいは、コプレーナ構造等の信号線を用いても良い、
さらに、上記ストリップライン構造とマイクロストリッ
プライン構造との混在、あるいは、ストリップライン構
造とコプレーナ構造との混在した構成の信号線で接続し
ても良い。
スの制御が容易なストリップライン構造の1層の信号線
3を用いて接続用パッド6とプローブパッド7とを電気
的に接続しているが、多層のストリップライン構造の信
号線を用いてもよく、また、特性インピーダンス制御が
可能な他の構造であるマイクロストリップライン構造、
あるいは、コプレーナ構造等の信号線を用いても良い、
さらに、上記ストリップライン構造とマイクロストリッ
プライン構造との混在、あるいは、ストリップライン構
造とコプレーナ構造との混在した構成の信号線で接続し
ても良い。
【0017】また、本実施例ではプローブパッド7をプ
ローブカード表面に配置したが、セラミック基板1内の
配線(およびヴィア)を介してセラミック基板1の裏面
に配置しても良い。さらに、セラミック基板の縁部、あ
るいは裏面にプローブパッド7の代わりに同軸コネクタ
を配置し、同軸ケーブルを直接接続して検査系装置と接
続しても良い。また、樹脂絶縁膜2として低誘電率なテ
フロン等を用いてもよく、信号線3等の導体材料として
金、Ni等の金属を用いても良い。なお、上記実施例は
PGA−IC検査用の場合を説明したが、本発明はQF
P−IC等の実装形態のICの検査用にも適用できる。
ローブカード表面に配置したが、セラミック基板1内の
配線(およびヴィア)を介してセラミック基板1の裏面
に配置しても良い。さらに、セラミック基板の縁部、あ
るいは裏面にプローブパッド7の代わりに同軸コネクタ
を配置し、同軸ケーブルを直接接続して検査系装置と接
続しても良い。また、樹脂絶縁膜2として低誘電率なテ
フロン等を用いてもよく、信号線3等の導体材料として
金、Ni等の金属を用いても良い。なお、上記実施例は
PGA−IC検査用の場合を説明したが、本発明はQF
P−IC等の実装形態のICの検査用にも適用できる。
【0018】
【発明の効果】PGA−ICの検査用治具において、配
線板に搭載する形態のPGA−ICの端子と接続する接
続用パッドと、信号等の入出力端子と、両者を電気的に
接続する樹脂絶縁膜を用いたストリップライン構造、あ
るいはマイクロストリップライン構造、あるいはコプレ
ーナ構造、あるいはこれらの混在した構造の特性インピ
ーダンスを制御した信号線とから構成されるプローブカ
ードを用いることにより、PGA−ICの端子形状、配
置等に依存することなく多端子のPGA−ICの高速・
高周波領域の電気特性検査が容易に行うことが可能とな
る。また、PGA−ICを配線板に搭載する形態で検査
できるため、実用時に近い検査が可能である。
線板に搭載する形態のPGA−ICの端子と接続する接
続用パッドと、信号等の入出力端子と、両者を電気的に
接続する樹脂絶縁膜を用いたストリップライン構造、あ
るいはマイクロストリップライン構造、あるいはコプレ
ーナ構造、あるいはこれらの混在した構造の特性インピ
ーダンスを制御した信号線とから構成されるプローブカ
ードを用いることにより、PGA−ICの端子形状、配
置等に依存することなく多端子のPGA−ICの高速・
高周波領域の電気特性検査が容易に行うことが可能とな
る。また、PGA−ICを配線板に搭載する形態で検査
できるため、実用時に近い検査が可能である。
【図1】本発明の一実施例を示す図で(a)は平面図、
(b)は断面図である。
(b)は断面図である。
【図2】樹脂絶縁膜厚と引き出し信号線の特性インピー
ダンスとの関係を示す図である。
ダンスとの関係を示す図である。
【図3】ピンを入出力端子とするPGA−ICの(a)
は斜視図、(b)は(a)を上下反転して示した斜視図
である。
は斜視図、(b)は(a)を上下反転して示した斜視図
である。
【図4】パッドを入出力端子とするPGA−ICの
(a)は斜視図、(b)は(a)を上下反転して示した
斜視図である。
(a)は斜視図、(b)は(a)を上下反転して示した
斜視図である。
【図5】従来のプローブカードを示す図で(a)は平面
図、(b)は断面図である。
図、(b)は断面図である。
【図6】364端子のPGA−ICの端子配置例を示す
図で、(a)は平面図、(b)は端子を引き出し線に展
開する場合の状態を拡大して示す図である。
図で、(a)は平面図、(b)は端子を引き出し線に展
開する場合の状態を拡大して示す図である。
1…セラミック基板 2…樹脂絶縁膜 3…引き出し信号線 4…グランド層 5…配線層 6…接続用パッド 7…プローブパッド 8…プローブカード 9…薄膜終端抵抗 10…薄膜バイパスコンデンサ 11…入出力端子 12…PGA−IC 13…プリント配線板 14…引き出し信号線 15…検査用パッド 16…終端用チップ抵抗 17…バイパスコンデンサ 18…ボンディングパッド 19…ボンディングワイヤ 20…グランド端子 21…グランド線 22…接続用パッド 31…入出力端子 32…PGA−IC 41…信号端子 42…グランド端子 43…展開引き出し線
Claims (1)
- 【請求項1】入出力端子がアレイ状に配置されているパ
ッケージに実装された形態のICの検査用治具であるプ
ローブカードにおいて、 セラミック基板と、この基板上に形成された配線層とを
具え、 上記配線層は、樹脂絶縁膜と、この膜内に形成されたグ
ランド層と、特性インピーダンスがグランド層までの樹
脂絶縁膜厚により制御されて形成された引き出し信号線
とで構成され、 上記配線層の表面に形成されて被検査ICの入出力端子
と接続する接続用パッドと、配線層またはセラミック基
板の表面に形成されて検査用信号の入出力端子となるプ
ローブパッドとが上記引き出し信号線により電気的に接
続され、 終端用の薄膜抵抗およびノイズ低減用の薄膜バイパスコ
ンデンサが、上記配線層またはセラミック基板の表面に
形成されている、 ことを特徴とするプローブカード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4289947A JPH06140484A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | プローブカード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4289947A JPH06140484A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | プローブカード |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06140484A true JPH06140484A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=17749801
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4289947A Pending JPH06140484A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | プローブカード |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06140484A (ja) |
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