JPH06126605A - 研磨加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 精度良い研磨加工を行うことのできる低コス
トの研磨加工装置を提供する。 【構成】 ＸＹステージ４０は、底部台座５０上の水平
なＸＹ平面上において自由に移動させることができる。
ＸＹステージ４０上には、支持台座２１，２２により下
部平板２０が固定される。下部平板２０の上方には上部
平板１０が支持軸１１，１２により支持される。支持軸
１１，１２の下端は、下部平板２０に形成された貫通孔
内に挿通している。支柱５１によって支持されたモータ
６０には研磨用刃６１が取り付けられる。シリンダー３
０によってピストン３１を上下駆動すると、上部平板１
０上のワークＷが上下に往復運動する。同時にモータ６
０を回転させれば、研磨面６２によってワークＷの研磨
対象部が研磨される。ＸＹステージ４０をＸＹ平面上に
おいて移動させれば、研磨対象部を移動させることがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は研磨加工装置、特に研磨
用の刃を回転させながら、切断面等を研磨するための研
磨加工装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】金属やプラスチックなどに対して切断加
工を行うと、一般に切断面には切断刃の痕跡が残るた
め、この切断面は極めて粗い状態となる。したがって、
通常は、この粗い切断面に対して研磨加工を施して仕上
げを行うことになる。このような研磨加工を行う従来装
置は、研磨対象となるワークを水平方向に動かすための
ＸＹステージと、ワークの上方において研磨用の刃を回
転させるためのモータと、このモータを上下（Ｚ方向）
に駆動するための上下駆動系と、を備えている。ＸＹス
テージによってワークを水平方向に動かすことにより、
研磨用の刃を研磨対象面に接触させる。同時に、上下駆
動系によりモータを上下に往復運動させ、研磨用の刃を
研磨対象面に接触させながら上下に動かし研磨を行う。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の研磨加工装置には、モータの上下駆動系の機構
が大掛かりになるため、コストが高くなるという問題が
あった。ある程度の研磨力を確保するためには、高出力
のモータにより研磨用の刃を回転させる必要があるが、
このような高出力のモータをワークの上方において上下
運動させる機構は、かなり堅牢なものにする必要があ
る。しかも、精密な研磨加工を行う場合には、上下運動
の精度を高める必要も生じるため、モータの上下駆動系
のコストは益々高くなる。

【０００４】そこで本発明は、精度良い研磨加工を行う
ことのできる低コストの研磨加工装置を提供することを
目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

(1) 本願第１の発明は、研磨加工装置において、装置
全体を支持する底部台座と、この底部台座上の水平な二
次元平面上において自由に移動させることができるＸＹ
ステージと、このＸＹステージ上に水平に取り付けられ
た下部平板と、この下部平板の上方に設けられた上部平
板と、底部台座に対して上方へ伸びるように固定された
支柱と、上部平板の上方において支柱に取り付けられた
回転駆動体と、この回転駆動体の下方に取り付けられ回
転駆動体によって回転する研磨用刃と、を設け、上部平
板の下面から垂直下方へ伸びるように、または、下部平
板の上面から垂直上方へ伸びるように、支持軸を取り付
け、下部平板または上部平板に、支持軸に対して上下に
摺動自在となるような軸受けを設け、上部平板を下部平
板に対して上下に往復運動させるための上下運動機構を
設けたものである。

【０００６】(2) 本願第２の発明は、上述の第１の発
明に係る研磨加工装置において、上部平板の下面に複数
の支持軸を取り付け、これらの支持軸に対する軸受けと
して、下部平板に軸受け用貫通孔を形成し、この貫通孔
と支持軸との間にベアリングを設けるようにし、しか
も、複数の支持軸のうちの一部についてはボールベアリ
ングを用い、残りの一部についてはローラーリニアベア
リングを用いるようにしたものである。

【０００７】(3) 本願第３の発明は、上述の第１の発
明に係る研磨加工装置において、上部平板の下面に少な
くとも４本の支持軸を取り付け、これらの支持軸に対す
る軸受けとして、下部平板に軸受け用貫通孔を形成し、
この貫通孔と支持軸との間にベアリングを設けるように
し、しかも、４本の支持軸のうち対角位置にある２本の
支持軸についてのベアリングとしてボールベアリングを
用い、別な対角位置にある２本の支持軸についてのベア
リングとしてローラーリニアベアリングを用いるように
したものである。

【０００８】(4) 本願第４の発明は、上述の第１の発
明に係る研磨加工装置において、上下運動機構としてシ
リンダーを用い、シリンダーのピストンを最も伸ばした
最上点位置よりも低い第１の位置と、最も縮めた最下点
位置よりも高い第２の位置と、を設定し、第１の位置と
第２の位置との間でピストンを往復運動させることがで
きるようにリミッターを設けたものである。

【０００９】

【作 用】従来の研磨加工装置では、研磨用の刃が取り
付けられたモータを上下に駆動させて研磨を行ってい
た。本発明の研磨加工装置の特徴は、研磨加工中には、
モータは上下に駆動させずにワークの方を上下に駆動さ
せる点にある。ワークは上部平板の上に固定されるが、
この上部平板は下部平板に対してシリンダー等により上
下に移動させられる。また、下部平板自体はＸＹステー
ジにより水平方向に移動させられる。一般に、モータに
比べてワークは軽量であり、しかも回転によって振動が
生じることもないため、モータを上下に駆動させるより
も、ワークを上下に駆動させる方が機構は簡単になる。
上部平板は下部平板に対して支持軸による支持を受け、
しかもこの支持軸を受けるための軸受けとしてベアリン
グが用いられるため、精度良い上下運動が可能になる。
特に、ボールベアリングとローラリニアベアリングとを
組み合わせて用いるようにすると、適度の自由度をもっ
た摺動運動が可能になり、スムーズでしかも高精度な上
下運動が実現できる。また、シリンダーによる上下駆動
を行う際に、ピストンを上下のエンドまでもってゆかず
に、途中にリミッタを設けて途中の領域において往復運
動させるようにすれば、ピストンが上下のエンドに到達
したときに生じる衝撃を避けることができる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明を図示する実施例に基づいて説
明する。図１は、本発明の一実施例に係る研磨加工装置
の正面図である。研磨加工の対象となるワークＷは、上
部平板１０の上に載置される。上部平板１０の下方に
は、下部平板２０が設けられており、両平板はいずれも
ほぼ水平位置を保っている。上部平板１０の下面には、
垂直下方に伸びるように４本の支持軸１１〜１４（図１
には、手前側の支持軸１１，１２のみが示されている）
が取り付けられており、これら支持軸１１〜１４の先端
は下部平板２０に設けられたそれぞれの貫通孔を経て下
部平板２０の下面側まで挿通している。これらの貫通孔
は、各支持軸１１〜１４を上下に摺動自在となるように
保持する軸受けとして機能する。したがって、上部平板
１０は、下部平板２０に対して常に平行な位置を保ちな
がら、上下に移動させることができる。下部平板２０の
下面中央には、空気圧によって動作するシリンダー３０
が取り付けられている。このシリンダー３０のピストン
３１は、下部平板２０の中央に設けられた貫通孔を挿通
しており、その先端部は接続部材３２を介して上部平板
１０の下面に接続している。シリンダー３０に送る空気
の圧力を制御することにより、ピストン３１の伸縮具合
を調節することができ、上部平板１０を下部平板２０に
対して上下に運動させることができる（この空気圧の制
御機構については、図示を省略している）。

【００１１】下部平板２０は、４本の支持台座２１〜２
４（図１には、手前側の支持台座２１，２２のみが示さ
れている）により、ＸＹステージ４０の上面に取り付け
られている。各支持台座２１〜２４は、いずれも中空の
円筒状をしており、それぞれ支持軸１１〜１４の先端部
分を内部に収容することができる。ＸＹステージ４０
は、底部台座５０の上に設けられているが、この底部台
座５０上の水平な二次元平面において自由に移動できる
ような構造となっている。すなわち、水平面をＸＹ平
面、垂直上方をＺ軸、と定義した三次元座標系を考える
と、ＸＹステージ４０は、ＸＹ平面に沿って底部台座５
０上を自由に移動することができる。このような機構
は、ＮＣフライス盤において一般的に用いられている機
構であり、ここでは詳しい説明は省略する。

【００１２】また、底部台座５０に対して上方へ伸びる
ように支柱５１が固定されており、更に、この支柱５１
の上部から腕状部材５２が伸び、その先端に位置調節機
構５３が取り付けられている。この位置調節機構５３に
は、摺動子５４を介してモータ６０が取り付けられてい
る。そして、モータ６０の回転軸には、研磨用刃６１が
取り付けられている。研磨用刃６１の一部分には、やす
り状の研磨面６２が形成されており、この研磨面６２に
よりワークを研磨することができる。摺動子５４は位置
調節機構５３に対して上下に摺動させることができ（た
とえば、ねじによる機構により）、研磨用刃６１の位置
を調節することができる。

【００１３】この実施例の装置では、ＸＹステージ４０
をＸＹ平面上で駆動するために、ＮＣフライス盤におい
て用いられている機構を採用しており、ＸＹステージ４
０のＸ方向の移動量およびＹ方向の移動量を、パーソナ
ルコンピュータによって制御できるようにしている。ま
た、このパーソナルコンピュータにより、シリンダー３
０へ空気を供給するポンプ（図示されていない）の動作
を制御しており、結局、上部平板１０のＺ軸方向の移動
量もこのパーソナルコンピュータによって制御できるよ
うにしている。以上のような構成により、上部平板１０
上に載置されたワークＷを、ＸＹＺのいずれの方向につ
いても自由に移動させることができる。すなわち、Ｘ方
向およびＹ方向の移動は、ＸＹステージ４０によるＸＹ
平面内の移動によって行われ、Ｚ方向の移動は上部平板
１０の上下方向の移動によって行われる。

【００１４】続いて、この装置による研磨加工動作を説
明する。いま、図２に示すように、ワークＷとして、上
面に円形の切削加工が行われた金属製の箱を用い、この
円形の切削加工面を対象として研磨加工を行うものとす
る。作業者は、このワークＷを上部平板１０上に固定し
た後、研磨用刃６１の研磨面６２がワークＷの研磨対象
面の高さにくるように、位置調節機構５３を調節する。
図３は、適正な位置調節が行われた状態の位置関係を示
す断面図である。この状態で、モータ６０を駆動させ、
研磨用刃６１を回転させる。同時に、シリンダー３０に
よってピストン３１の上下往復運動を行わせ、上部平板
１０を上下（Ｚ方向）に往復運動させる。すると、ワー
クＷは上下に往復運動を繰り返し、研磨面６２と接触し
ている部分が研磨されることになる。このままでは、ワ
ークＷの同一箇所のみしか研磨されないので、所望の研
磨対象面に沿って研磨が行われるように、ＸＹステージ
４０をＸＹ平面上で順次移動させてゆく。図示する実施
例におけるワークＷに対しては、ＸＹステージ４０を円
弧（ワーク上面に形成された円形の切削加工面に対応）
に沿って動かすようにすればよい。こうすることによ
り、円形の切削加工面がすべて研磨される。

【００１５】この装置の大きな特徴は、このように、ワ
ークＷがＸＹ方向に移動するとともに、Ｚ方向にも移動
するような構成にした点にある。このため、研磨加工中
は、モータ６０を上下に移動させる必要がなくなり、モ
ータ６０の支柱５１への取り付け機構は非常に簡単なも
のになる。この実施例の装置では、研磨用刃６１の上下
位置を調節するために、位置調節機構５３および摺動子
５４を設けているが、これらの位置調節機構は必ずしも
必要なものではない。従来装置では、前述したように、
ワークＷをＸＹ方向にのみ移動し、モータ６０をＺ方向
に移動させていたため、モータ６０の上下方向への移動
機構が大掛かりなものとなり、特に、精度よくモータ６
０を上下移動させるために精密な駆動機構を必要として
いた。本発明の装置では、モータ６０を固定した状態で
研磨加工が可能であり、モータ６０の上下駆動機構は不
要になる。その結果、大幅なコストダウンを図ることが
できる。

【００１６】上述したように、この装置の特徴は、ワー
クＷを上下方向にも移動させる点にあるが、精密な研磨
加工を行うためには、この上下方向の移動を精度良く行
う必要がある。そのため、この実施例の装置では、次の
ような機構により、上部平板１０が下部平板２０に対し
て、常に平行な位置を保ちながらスムーズに上下移動で
きるようにしている。図４は、下部平板２０の下面図で
ある。前述したように、この下部平板２０は４つの円筒
状の支持台座２１〜２４によってＸＹステージ４０上に
支持されており、この円筒状の支持台座２１〜２４と同
軸位置に形成された軸受け用の貫通孔を支持軸１１〜１
４が挿通する構造となっている。しかしながら、支持軸
１１〜１４を、単なる軸受け用の貫通孔によって摺動自
在に支持した場合、上部平板１０を下部平板２０に対し
て常に平行に上下移動させることは困難である。そこ
で、この実施例の装置では、各支持軸１１〜１４と各貫
通孔との間に、ベアリングを用いるようにしている。た
とえば、支持軸１１は、図５に縦断面を示すような軸受
け構造によって摺動自在に支持されている。この軸受け
構造は、ケージ１１ａ、ブッシュ１１ｂ、バネ１１ｃに
よって構成されている。ケージ１１ａおよびブッシュ１
１ｂは、いずれも支持軸１１に対して同軸円筒状の部材
である。ブッシュ１１ｂは、下部平板２０に設けられた
貫通孔内に固着されている。ケージ１１ａ（図５では、
ハッチングを省略している）は、複数のボール７０を所
定位置に収容する構造となっており、ボール７０の一部
はケージ１１ａの内側面から突出して支持軸１１の外周
面に接触し、反対側の一部はケージ１１ａの外側面から
突出してブッシュ１１ｂの内周面に接触した状態になっ
ている。したがって、ケージ１１ａは、ボール７０の転
がり運動により、ブッシュ１１ｂと支持軸１１との間
で、自由に上下に摺動することが可能であり、しかも、
バネ１１ｃによる支持を受けているため下方に落下する
こともない。図６は、図５の構造についての切断線Ａ−
Ａに沿った横断面図である。この図６により、この支持
軸１１についての軸受け構造が更に明瞭に示されてい
る。

【００１７】上述したボールベアリングを用いた軸受け
構造を、支持軸１１〜１４のすべてについて用いること
も可能であるが、この実施例の装置では、このボールベ
アリングを用いた軸受け構造とともに、ローラーリニア
ベアリングを用いた軸受け構造を併用している。たとえ
ば、支持軸１２についての軸受け構造では、図７に横断
面図を示すようなローラーリニアベアリングを用いてい
る。ブッシュ１２ｂはブッシュ１１ｂと全く同じ円筒状
の部材であるが、ケージ１２ａはケージ１１ａと若干異
なっている。すなわち、ケージ１１ａが複数のボール７
０を所定位置に収容する構造となっているのに対し、ケ
ージ１２ａは複数のたる型ローラー８０を所定位置に収
容する構造となっている。図６に示す横断面構造をもっ
たボールベアリングも、図７に示す横断面構造をもった
ローラーリニアベアリングも、その縦断面はいずれも図
５に示すようなものになる。しかしながら、図６に示す
ボールベアリングのボール７０が球状であるのに対し、
図７に示すローラーリニアベアリングのたる型ローラー
８０はたる型の円柱状である点で機能上の差が生じる。
すなわち、たる型ローラー８０はボール７０に比べ、転
がり自由度が制限されることになる。より具体的に言え
ば、図７に示すローラーリニアベアリングを軸受けとし
て用いた支持軸１２は、上下（Ｚ軸）方向に摺動する自
由度しかもたないが、図６に示すボールベアリングを軸
受けとして用いた支持軸１１は、上下（Ｚ軸）方向に摺
動するとともに、軸について回転する方向に摺動する自
由度をもつ。

【００１８】このように自由度の異なる２種類のベアリ
ングを混在させることにより、正確でスムーズな動作が
可能になる。本願発明者が行った実験の結果では、４本
の支持軸１１〜１４のすべてについて、ボールベアリン
グを軸受けとして用いた場合は、自由度が大きすぎるた
め、スムーズな動作は可能であるが、上部平板１０を下
部平板２０に対して常に平行に動かすという精度の面で
は問題が生じる傾向がある。逆に、４本の支持軸１１〜
１４のすべてについて、ローラーリニアベアリングを軸
受けとして用いた場合は、自由度が小さくなりすぎるた
め、精度の面では問題はないが、スムーズな動作が困難
になる傾向がある。そこで、これら２種類のベアリング
を混在させて用いるのが好ましい。特に、４本の支持軸
を用いる場合には、対角位置にある２本の支持軸につい
てのベアリングとしてボールベアリングを用い、別な対
角位置にある２本の支持軸についてのベアリングとして
ローラーリニアベアリングを用いるのが好ましい。この
実施例の装置では、図４に示す４本の支持軸１１〜１４
のうち、支持軸１１および１４についてはボールベアリ
ングを軸受けとして用いており、支持軸１２および１３
についてはローラーリニアベアリングを用いている。こ
のような構成により、上部平板１０を正確にスムーズに
上下運動させることが可能になる。

【００１９】この実施例の装置では、上部平板１０を正
確に上下運動させるためにもうひとつの工夫がなされて
いる。上述したように、上部平板１０は、シリンダー３
０によって駆動される。図８に示すように、シリンダー
３０はピストン３１を伸縮運動させる機能を有するが、
いま、ピストン３１を最も伸ばした最上点を点Ａ、最も
縮めた最下点を点Ｄ、と呼ぶことにする。ここで、点Ａ
よりもやや低い位置に点Ｂを、点Ｄよりもやや高い位置
に点Ｃを、それぞれ予め設定しておき、ピストン３１が
伸びる運動をしているときに、点Ｂに到達したらそこで
縮む運動に反転させ、ピストン３１が縮む運動をしてい
るときに、点Ｃに到達したらそこで伸びる運動に反転さ
せるようにする。別言すれば、ピストン３１は、点Ｂ〜
点Ｃ間を往復駆動領域として往復運動することになる。
このような動作は、点Ｂおよび点Ｃの位置においてリミ
ッタを作動させ、運動方向を反転させる信号を発生させ
ればよい。このように、シリンダー３０を中間位置にお
いて往復運動させることは、精度良い往復運動を行う上
で極めて効果的である。一般に、点Ａ，点Ｄといったピ
ストン往復運動の端点では、好ましくない衝撃や振動が
発生する可能性が高い。リミッタを設け、このような衝
撃や振動の発生する領域での往復運動を避けることによ
り、より精度の高い往復運動が実現できる。なお、この
ように、ボールベアリングとローラーリニアベアリング
を併用させた構造は、一方の部材を他方の部材に対して
平行状態のまま往復移動させる必要がある機構に対して
広く利用しうるものであり、本実施例のような研磨加工
装置のみの利用に限定されるものではない。

【００２０】以上、本発明を図示する一実施例に基づい
て説明したが、本発明はこの実施例のみに限定されるも
のではなく、この他にも種々の態様で実施可能である。
たとえば、上述の実施例では、上部平板１０の下面から
垂直下方に伸びるように４本の支持軸１１〜１４を取り
付け、下部平板２０側にこの支持軸１１〜１４を受ける
ための軸受けを設けているが、逆に、下部平板２０の上
面から垂直上方に伸びるように４本の支持軸１１〜１４
を取り付け、上部平板１０側にこの支持軸１１〜１４を
受けるための軸受けを設けることもできる。ただし、軸
受けとしてベアリングを用いる場合には、上述の実施例
のように、下部平板２０側に軸受けを設けた方が好まし
い。上部平板１０側にベアリングを設けた場合、ベアリ
ングに塵埃が蓄積されやすくなるためである。上述の実
施例のように、下部平板２０側にベアリングを設けてお
けば、上部平板１０がいわばカバーの役目を果たすた
め、ベアリングに塵埃が蓄積されにくくなる。

【００２１】また、支持軸は４本に限定されるものでは
なく、２本、３本、あるいは５本以上設けてもかまわな
い。ただ、上部平板１０を精度良く上下移動させるため
には、少なくとも４本の支持軸を設けるのが好ましい。
更に、上部平板１０を上下移動させるための運動機構と
して、上述の実施例では空気により動作するシリンダー
３０を用いているが、油圧式のシリンダーを用いてもよ
いし、その他、モータを使った運動機構などを用いても
かまわない。

【００２２】また、上述の実施例では、底部台座５０か
ら伸びた支柱５１にモータ６０を固定しているが、設置
場所に応じては、モータ６０を壁面や天井に固定するこ
とも可能である。この場合は、設置場所の床面や壁面が
底部台座や支柱として機能することになる。

【００２３】

【発明の効果】以上のとおり本発明に係る研磨加工装置
によれば、ワークを水平方向に移動させるとともに垂直
方向にも移動させるようにしたため、研磨用刃を垂直方
向に駆動する必要がなくなり、精度良い研磨加工を低コ
ストの研磨加工装置で実現できるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る研磨加工装置の正面図
である。

【図２】図１に示す研磨加工装置の研磨用刃６１と研磨
対象となるワークＷとの位置関係を示す図である。

【図３】図１に示す研磨加工装置による研磨加工の原理
を示す縦断面図である。

【図４】図１に示す研磨加工装置の下部平板２０の下面
図である。

【図５】図１に示す研磨加工装置の支持軸１１について
の軸受け構造の詳細を示す縦断面図である。

【図６】図５に示すボールベアリング軸受けを切断線Ａ
−Ａに沿って切った横断面図である。

【図７】図１に示す研磨加工装置に用いられているロー
ラーリニアベアリング軸受けの横断面図である。

【図８】図１に示す研磨加工装置におけるシリンダー３
０の動作説明図である。

【符号の説明】

１０…上部平板 １１〜１４…支持軸 １１ａ，１２ａ…ケージ １１ｂ，１２ｂ…ブッシュ １１ｃ…バネ ２０…下部平板 ２１〜２４…支持台座 ３０…シリンダー ３１…ピストン ３２…接続部材 ４０…ＸＹステージ ５０…底部台座 ５１…支柱 ５２…腕状部材 ５３…位置調節機構 ５４…摺動子 ６０…モータ ６１…研磨用刃 ６２…研磨面 ７０…ボール ８０…たる型ローラー Ｗ…ワーク

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 装置全体を支持する底部台座と、この底
   部台座上の水平な二次元平面上において自由に移動させ
   ることができるＸＹステージと、このＸＹステージ上に
   水平に取り付けられた下部平板と、この下部平板の上方
   に設けられた上部平板と、前記底部台座に対して上方へ
   伸びるように固定された支柱と、前記上部平板の上方に
   おいて前記支柱に取り付けられた回転駆動体と、この回
   転駆動体の下方に取り付けられ前記回転駆動体によって
   回転する研磨用刃と、を備え、 前記上部平板の下面から垂直下方へ伸びるように、また
   は、前記下部平板の上面から垂直上方へ伸びるように、
   支持軸を取り付け、 前記下部平板または前記上部平板に、前記支持軸に対し
   て上下に摺動自在となるような軸受けを設け、 前記上部平板を前記下部平板に対して上下に往復運動さ
   せるための上下運動機構を設けたことを特徴とする研磨
   加工装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の研磨加工装置におい
   て、 上部平板の下面に複数の支持軸を取り付け、これらの支
   持軸に対する軸受けとして、下部平板に軸受け用貫通孔
   を形成し、この貫通孔と前記支持軸との間にベアリング
   を設けるようにし、しかも、複数の支持軸のうちの一部
   についてはボールベアリングを用い、残りの一部につい
   てはローラーリニアベアリングを用いるようにしたこと
   を特徴とする研磨加工装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の研磨加工装置におい
   て、 上部平板の下面に少なくとも４本の支持軸を取り付け、
   これらの支持軸に対する軸受けとして、下部平板に軸受
   け用貫通孔を形成し、この貫通孔と前記支持軸との間に
   ベアリングを設けるようにし、しかも、４本の支持軸の
   うち対角位置にある２本の支持軸についてのベアリング
   としてボールベアリングを用い、別な対角位置にある２
   本の支持軸についてのベアリングとしてローラーリニア
   ベアリングを用いるようにしたことを特徴とする研磨加
   工装置。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の研磨加工装置におい
   て、 上下運動機構としてシリンダーを用い、シリンダーのピ
   ストンを最も伸ばした最上点位置よりも低い第１の位置
   と、最も縮めた最下点位置よりも高い第２の位置と、を
   設定し、前記第１の位置と前記第２の位置との間でピス
   トンを往復運動させることができるようにリミッターを
   設けたことを特徴とする研磨加工装置。