JPH06107582A - ビスフェノールａの製造方法 - Google Patents
ビスフェノールａの製造方法Info
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- JPH06107582A JPH06107582A JP4283484A JP28348492A JPH06107582A JP H06107582 A JPH06107582 A JP H06107582A JP 4283484 A JP4283484 A JP 4283484A JP 28348492 A JP28348492 A JP 28348492A JP H06107582 A JPH06107582 A JP H06107582A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 純度が高く、特に着色原因となる不純物が少
ないほか、原料原単位に優れ、また、ビスフェノールＡ
プリルとしたときの強度が高いビスフェノールＡを製造
することができるビスフェノールＡの製造方法を提供す
る。 【構成】 アセトンとフェノールとを酸性触媒存在下に
反応させる反応工程と、得られた反応混合物から揮発性
物質を除去する工程と、冷却して４，４’−ビスフェノ
ールＡとフェノールの付加物結晶を得ると共に不純物濃
度を５０〜１，５００ｐｐｍにする晶析工程と、得られ
た付加物結晶のフェノール濃度を５重量％以下にするフ
ラッシュ蒸発工程と、得られたフェノール濃度５重量％
以下の４，４’−ビスフェノールＡを脱フェノールして
フェノール濃度１００ｐｐｍ以下にする脱フェノール工
程と、晶析工程で分離されたフェノールを反応工程に戻
す工程と、脱フェノールされた４，４’−ビスフェノー
ルＡを造粒塔に装入してビスフェノールＡプリルとする
造粒工程とを有するビスフェノールＡの製造方法であ
る。
ないほか、原料原単位に優れ、また、ビスフェノールＡ
プリルとしたときの強度が高いビスフェノールＡを製造
することができるビスフェノールＡの製造方法を提供す
る。 【構成】 アセトンとフェノールとを酸性触媒存在下に
反応させる反応工程と、得られた反応混合物から揮発性
物質を除去する工程と、冷却して４，４’−ビスフェノ
ールＡとフェノールの付加物結晶を得ると共に不純物濃
度を５０〜１，５００ｐｐｍにする晶析工程と、得られ
た付加物結晶のフェノール濃度を５重量％以下にするフ
ラッシュ蒸発工程と、得られたフェノール濃度５重量％
以下の４，４’−ビスフェノールＡを脱フェノールして
フェノール濃度１００ｐｐｍ以下にする脱フェノール工
程と、晶析工程で分離されたフェノールを反応工程に戻
す工程と、脱フェノールされた４，４’−ビスフェノー
ルＡを造粒塔に装入してビスフェノールＡプリルとする
造粒工程とを有するビスフェノールＡの製造方法であ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビスフェノールＡの製
造方法に関する。
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】４，４’−ビスフェノールＡ、すなわち
２，２−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）プロパン
は、アセトンと化学量論的過剰量のフェノールとを酸性
陽イオン交換樹脂等の酸性触媒の存在下に反応させるこ
とにより得られる。この反応工程で得られた反応混合物
は、一般的には、精製工程へ送られ、そこではアセト
ン、水等の低沸点物を除去したのち、これを冷却して
４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの付加物結晶
を析出させ、この結晶を母液と分離し、次いで脱フェノ
ール処理して精製された４，４’−ビスフェノールＡを
回収する方法により精製されている。この精製工程は、
蒸留又は蒸発、晶析等の工程を含み、これらの工程で分
離されたアセトン、フェノール等の未反応物の少なくと
も一部は反応工程に戻され、他の一部は副生物と共に系
外に排出される。また、精製された４，４’−ビスフェ
ノールＡは、その取り扱いを容易にするため、小球状の
プリルとすることが望まれている。
２，２−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）プロパン
は、アセトンと化学量論的過剰量のフェノールとを酸性
陽イオン交換樹脂等の酸性触媒の存在下に反応させるこ
とにより得られる。この反応工程で得られた反応混合物
は、一般的には、精製工程へ送られ、そこではアセト
ン、水等の低沸点物を除去したのち、これを冷却して
４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの付加物結晶
を析出させ、この結晶を母液と分離し、次いで脱フェノ
ール処理して精製された４，４’−ビスフェノールＡを
回収する方法により精製されている。この精製工程は、
蒸留又は蒸発、晶析等の工程を含み、これらの工程で分
離されたアセトン、フェノール等の未反応物の少なくと
も一部は反応工程に戻され、他の一部は副生物と共に系
外に排出される。また、精製された４，４’−ビスフェ
ノールＡは、その取り扱いを容易にするため、小球状の
プリルとすることが望まれている。
【０００３】このようなビスフェノールＡの製造方法に
おいて、ビスフェノールＡの純度が高いこと、特に着色
成分及びフェノール含量が少ないこと、ビスフェノール
Ａプリルの強度が高いこと、原料原単位が優れているこ
と等が要求され、これを満たすプロセスの開発が待たれ
ている。原料原単位を向上させる方法としては、精製工
程で分離される未反応フェノール等を反応系に戻す方法
が一般的であるが、これをそのまま戻すことは不純物を
蓄積させることにつながり、純度低下の問題が生ずる。
これを解決するため、例えば、特公昭５５−３４，７７
９号には、フェノールを含む母液を循環させるに当り、
母液に含まれる不純物による純度低下を防止し、かつ、
着色成分を除去するため、循環させる前に母液の一部を
酸性陽イオン交換樹脂からなる吸着剤と接触させること
が開示されている。また、特開昭６２−２０１，８３３
号公報は、母液の一部をパージして不純物の増加を防止
することを教えている。また、純度を向上させるために
は、母液の循環量を制御したり、事前処理したりするほ
か、晶析工程を２段階とすること（特開平２−９，８３
２号公報等）や、高温に曝されることによる変質を防止
するため、ビスフェノールＡとフェノールのアダクトか
らフェノールを除去する際に遠心薄膜蒸発器を使用する
こと（特開平３−９５，１３５号公報）等が提案されて
いる。更に、ビスフェノールＡプリルを製造するに当
り、造粒塔の上部のノズルからビスフェノールＡの溶融
液を落下させること（特公昭４７−８，０６０号）も知
られている。しかしながら、これらの方法を単純に実施
したとしても、純度、原単位、プリル強度等のいずれか
の目的は達成できたとしても、全体的にみると満足し得
る結果が得られないのが現状であった。
おいて、ビスフェノールＡの純度が高いこと、特に着色
成分及びフェノール含量が少ないこと、ビスフェノール
Ａプリルの強度が高いこと、原料原単位が優れているこ
と等が要求され、これを満たすプロセスの開発が待たれ
ている。原料原単位を向上させる方法としては、精製工
程で分離される未反応フェノール等を反応系に戻す方法
が一般的であるが、これをそのまま戻すことは不純物を
蓄積させることにつながり、純度低下の問題が生ずる。
これを解決するため、例えば、特公昭５５−３４，７７
９号には、フェノールを含む母液を循環させるに当り、
母液に含まれる不純物による純度低下を防止し、かつ、
着色成分を除去するため、循環させる前に母液の一部を
酸性陽イオン交換樹脂からなる吸着剤と接触させること
が開示されている。また、特開昭６２−２０１，８３３
号公報は、母液の一部をパージして不純物の増加を防止
することを教えている。また、純度を向上させるために
は、母液の循環量を制御したり、事前処理したりするほ
か、晶析工程を２段階とすること（特開平２−９，８３
２号公報等）や、高温に曝されることによる変質を防止
するため、ビスフェノールＡとフェノールのアダクトか
らフェノールを除去する際に遠心薄膜蒸発器を使用する
こと（特開平３−９５，１３５号公報）等が提案されて
いる。更に、ビスフェノールＡプリルを製造するに当
り、造粒塔の上部のノズルからビスフェノールＡの溶融
液を落下させること（特公昭４７−８，０６０号）も知
られている。しかしながら、これらの方法を単純に実施
したとしても、純度、原単位、プリル強度等のいずれか
の目的は達成できたとしても、全体的にみると満足し得
る結果が得られないのが現状であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、純度
が高く、特に着色原因となる不純物が少ないビスフェノ
ールＡの製造方法を提供することにある。また、本発明
の他の目的は、原料原単位が優れたビスフェノールＡの
製造方法を提供することにある。更に、本発明の他の目
的は、ビスフェノールＡプリルとしたときの強度が高い
ビスフェノールＡを製造するための方法を提供すること
にある。
が高く、特に着色原因となる不純物が少ないビスフェノ
ールＡの製造方法を提供することにある。また、本発明
の他の目的は、原料原単位が優れたビスフェノールＡの
製造方法を提供することにある。更に、本発明の他の目
的は、ビスフェノールＡプリルとしたときの強度が高い
ビスフェノールＡを製造するための方法を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、ア
セトンと化学量論的過剰量のフェノールとを酸性触媒の
存在下に反応させてビスフェノールＡを製造する反応工
程と、この反応工程で得られた反応混合物から揮発性物
質（例えば、アセトン、水及び幾らかのフェノール）を
除去する工程と、前記揮発性物質除去後の混合液を冷却
して４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの付加物
結晶を得ると共に、４，４’−ビスフェノールＡとフェ
ノール以外の不純物濃度を５０〜１，５００ｐｐｍにす
る晶析工程と、この晶析工程で得られた付加物結晶をフ
ラッシュ蒸発器に装入してフェノール濃度を５重量％以
下にするフラッシュ蒸発工程と、このフラッシュ蒸発工
程で得られたフェノール濃度５重量％以下の４，４’−
ビスフェノールＡを脱フェノールしてフェノール濃度１
００ｐｐｍ以下にする脱フェノール工程と、前記晶析工
程で分離されたフェノールを前記反応工程に戻す工程
と、前記脱フェノール工程で脱フェノールされた４，
４’−ビスフェノールＡを造粒塔に装入して目皿から液
滴として落下させ、これを冷却固化させてビスフェノー
ルＡプリルとする造粒工程とを有するビスフェノールＡ
の製造方法である。
セトンと化学量論的過剰量のフェノールとを酸性触媒の
存在下に反応させてビスフェノールＡを製造する反応工
程と、この反応工程で得られた反応混合物から揮発性物
質（例えば、アセトン、水及び幾らかのフェノール）を
除去する工程と、前記揮発性物質除去後の混合液を冷却
して４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの付加物
結晶を得ると共に、４，４’−ビスフェノールＡとフェ
ノール以外の不純物濃度を５０〜１，５００ｐｐｍにす
る晶析工程と、この晶析工程で得られた付加物結晶をフ
ラッシュ蒸発器に装入してフェノール濃度を５重量％以
下にするフラッシュ蒸発工程と、このフラッシュ蒸発工
程で得られたフェノール濃度５重量％以下の４，４’−
ビスフェノールＡを脱フェノールしてフェノール濃度１
００ｐｐｍ以下にする脱フェノール工程と、前記晶析工
程で分離されたフェノールを前記反応工程に戻す工程
と、前記脱フェノール工程で脱フェノールされた４，
４’−ビスフェノールＡを造粒塔に装入して目皿から液
滴として落下させ、これを冷却固化させてビスフェノー
ルＡプリルとする造粒工程とを有するビスフェノールＡ
の製造方法である。
【０００６】以下、実施の１例を示す図１のフローシー
トに従って、本発明を説明する。化学量論的過剰のフェ
ノール及びアセトンは酸性陽イオン交換樹脂を充填した
反応器１に供給される。反応器１は９０℃以下の温度に
維持され、４，４’−ビスフェノールＡを生成するフェ
ノールとアセトンとの反応が起こる。反応器１から流出
する反応生成物の流れはフェノール、４，４’−ビスフ
ェノールＡ、未反応のアセトン、水及び副生成不純物を
含有する。反応生成物の流れは反応器１から脱水器２に
装入され、この脱水器２で反応生成物中からアセトン、
水及び幾らかのフェノールの揮発性物質が除去される。
脱水された反応生成物の流れは、この脱水器２から抜き
出された後に晶析装置３へ装入され、そこで冷却されて
４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの付加物結晶
が析出する。このようにして析出した付加物結晶と母液
とのスラリーは、この晶析装置３から抜き出されて固液
分離器４に装入され、そこで母液と付加物結晶とが分離
される。また、その際に洗浄液としてフェノールが供給
され、付加物結晶は洗浄され、精製される。固液分離器
４で分離された付加物結晶は、フラッシュ蒸発工程５に
送られ、溶融されて必要な温度にされた後、フェノール
の一部が蒸発分離される。フェノール含有量が低減され
た４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの混合液
は、次に脱フェノール工程６に送られ、そこでは減圧蒸
留やスチームストリッピング等の公知の方法により、フ
ェノール分が１００ｐｐｍ以下となるまで脱フェノール
処理される。フェノールが除去された４，４’−ビスフ
ェノールＡは、この脱フェノール工程６より造粒工程７
に送られ、そこで冷却固化されてプリルとされ、製品と
して取り出される。
トに従って、本発明を説明する。化学量論的過剰のフェ
ノール及びアセトンは酸性陽イオン交換樹脂を充填した
反応器１に供給される。反応器１は９０℃以下の温度に
維持され、４，４’−ビスフェノールＡを生成するフェ
ノールとアセトンとの反応が起こる。反応器１から流出
する反応生成物の流れはフェノール、４，４’−ビスフ
ェノールＡ、未反応のアセトン、水及び副生成不純物を
含有する。反応生成物の流れは反応器１から脱水器２に
装入され、この脱水器２で反応生成物中からアセトン、
水及び幾らかのフェノールの揮発性物質が除去される。
脱水された反応生成物の流れは、この脱水器２から抜き
出された後に晶析装置３へ装入され、そこで冷却されて
４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの付加物結晶
が析出する。このようにして析出した付加物結晶と母液
とのスラリーは、この晶析装置３から抜き出されて固液
分離器４に装入され、そこで母液と付加物結晶とが分離
される。また、その際に洗浄液としてフェノールが供給
され、付加物結晶は洗浄され、精製される。固液分離器
４で分離された付加物結晶は、フラッシュ蒸発工程５に
送られ、溶融されて必要な温度にされた後、フェノール
の一部が蒸発分離される。フェノール含有量が低減され
た４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの混合液
は、次に脱フェノール工程６に送られ、そこでは減圧蒸
留やスチームストリッピング等の公知の方法により、フ
ェノール分が１００ｐｐｍ以下となるまで脱フェノール
処理される。フェノールが除去された４，４’−ビスフ
ェノールＡは、この脱フェノール工程６より造粒工程７
に送られ、そこで冷却固化されてプリルとされ、製品と
して取り出される。
【０００７】また、原料原単位を向上させるためには、
原料として回収された未反応原料を使用することが不可
欠であり、脱水器２で分離された揮発性物質は、反応副
生成物の水を除いた後、回収アセトンとして反応器１へ
送られる。
原料として回収された未反応原料を使用することが不可
欠であり、脱水器２で分離された揮発性物質は、反応副
生成物の水を除いた後、回収アセトンとして反応器１へ
送られる。
【０００８】脱水器２から抜き出される４，４’−ビス
フェノールＡとフェノールの混合液は、晶析装置３及び
固液分離器４を主とする晶析工程に送られ、フェノール
以外の不純物濃度を５０〜１，５００ｐｐｍにされる。
晶析工程に入る混合液を冷却することにより、４，４’
−ビスフェノールＡとフェノールの付加物結晶を析出す
る。この際、十分な純度が得られない場合は、晶析装
置、固液分離器を２段階設けることもよい。晶析装置３
から抜き出された結晶を含むスラリーは固液分離器４に
送られる。固液分離器４としては遠心分離器や真空濾過
器等が使用できる。そして、洗浄は精製フェノールによ
り行われる。このようにして得られた結晶は、ビスフェ
ノールＡ６０〜７０％と微量の不純物及び残りをフェノ
ールからなるものであり、４，４’−ビスフェノールＡ
に対し他の微量の不純物を５０〜１，５００ｐｐｍ、好
ましくは１００〜１，０００ｐｐｍ含有するようにな
る。この段階での不純物濃度が上記以上であれば、製品
中の不純物濃度が高くなるだけでなく、加熱溶融時の着
色も増大する。また、少なすぎると製品として得られる
ビスフェノールＡプリルの強度が低下し、粉化し易いも
のとなる。なお、不純物としては、４，４’−ビスフェ
ノールＡの異性体である２４’ビスフェノールＡ、ダイ
マー類、トリスフェノール類等がある。また、晶析を２
段階で行う場合、第一段階と第二段階の間に１８５〜２
２０℃程度で酸素ガスの不存在下に熱処理することによ
り、熱安定性の劣る不純物を変質させることが可能であ
り、これを第二の晶析で分離すれば製品の品質、特に熱
溶融色が著しく改善される。また、晶析工程後に同様な
操作をしても、製品の品質、特に熱溶融色が著しく改善
される。
フェノールＡとフェノールの混合液は、晶析装置３及び
固液分離器４を主とする晶析工程に送られ、フェノール
以外の不純物濃度を５０〜１，５００ｐｐｍにされる。
晶析工程に入る混合液を冷却することにより、４，４’
−ビスフェノールＡとフェノールの付加物結晶を析出す
る。この際、十分な純度が得られない場合は、晶析装
置、固液分離器を２段階設けることもよい。晶析装置３
から抜き出された結晶を含むスラリーは固液分離器４に
送られる。固液分離器４としては遠心分離器や真空濾過
器等が使用できる。そして、洗浄は精製フェノールによ
り行われる。このようにして得られた結晶は、ビスフェ
ノールＡ６０〜７０％と微量の不純物及び残りをフェノ
ールからなるものであり、４，４’−ビスフェノールＡ
に対し他の微量の不純物を５０〜１，５００ｐｐｍ、好
ましくは１００〜１，０００ｐｐｍ含有するようにな
る。この段階での不純物濃度が上記以上であれば、製品
中の不純物濃度が高くなるだけでなく、加熱溶融時の着
色も増大する。また、少なすぎると製品として得られる
ビスフェノールＡプリルの強度が低下し、粉化し易いも
のとなる。なお、不純物としては、４，４’−ビスフェ
ノールＡの異性体である２４’ビスフェノールＡ、ダイ
マー類、トリスフェノール類等がある。また、晶析を２
段階で行う場合、第一段階と第二段階の間に１８５〜２
２０℃程度で酸素ガスの不存在下に熱処理することによ
り、熱安定性の劣る不純物を変質させることが可能であ
り、これを第二の晶析で分離すれば製品の品質、特に熱
溶融色が著しく改善される。また、晶析工程後に同様な
操作をしても、製品の品質、特に熱溶融色が著しく改善
される。
【０００９】固液分離器４で分離された付加物結晶は、
フラッシュ蒸発器を主とするフラッシュ工程５へ送ら
れ、溶融され、フラッシュ蒸発させるに必要な温度、約
１４０〜１７０℃に高められ、フェノール分が約５重量
％以下、好ましくは２〜４重量％程度となるまでフェノ
ールが除去される。ここでフェノールを上記範囲になる
ように除去することにより、次の脱フェノール工程６を
安定化して運転することができる。フェノールを多量に
含む混合液を脱フェノール工程６に直接装入すると、入
口付近でのフェノールの蒸発による温度低下が激しく、
固体が析出したりして運転を不安定にする。
フラッシュ蒸発器を主とするフラッシュ工程５へ送ら
れ、溶融され、フラッシュ蒸発させるに必要な温度、約
１４０〜１７０℃に高められ、フェノール分が約５重量
％以下、好ましくは２〜４重量％程度となるまでフェノ
ールが除去される。ここでフェノールを上記範囲になる
ように除去することにより、次の脱フェノール工程６を
安定化して運転することができる。フェノールを多量に
含む混合液を脱フェノール工程６に直接装入すると、入
口付近でのフェノールの蒸発による温度低下が激しく、
固体が析出したりして運転を不安定にする。
【００１０】フラッシュ蒸発工程５から抜き出された
４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの混合液は、
脱フェノール工程６でフェノール濃度が１００ｐｐｍ以
下、好ましくは３０ｐｐｍ以下となるまで脱フェノール
される。脱フェノール器６には減圧蒸留又は減圧蒸発と
スチームストリッピングとの併用が適当である。スチー
ムストリッピングタイプとすることにより、残存する微
量のフェノールを効率的に除去することができ、これに
より高温に長時間曝されることによる４，４’−ビスフ
ェノールＡの変質を低減することができる。
４，４’−ビスフェノールＡとフェノールの混合液は、
脱フェノール工程６でフェノール濃度が１００ｐｐｍ以
下、好ましくは３０ｐｐｍ以下となるまで脱フェノール
される。脱フェノール器６には減圧蒸留又は減圧蒸発と
スチームストリッピングとの併用が適当である。スチー
ムストリッピングタイプとすることにより、残存する微
量のフェノールを効率的に除去することができ、これに
より高温に長時間曝されることによる４，４’−ビスフ
ェノールＡの変質を低減することができる。
【００１１】脱フェノール工程６でフェノールが除去さ
れた精製ビスフェノールＡは、純度９９．９５％以上と
することが可能であり、造粒塔を主とする造粒工程７に
送られ、ビスフェノールＡプリルとされ、製品とされ
る。造粒塔は、上部に目皿を有し、下部に冷却用気体の
吹き込み口を有し、底部にビスフェノールＡプリルの取
り出し口を有し、プリルは底部取り出し口から取り出さ
れる。脱フェノール工程６からの精製ビスフェノールＡ
の融液は、目皿から液滴として落下し、冷却用気体と接
触して冷却され、固化し、プリルとなる。プリルの大き
さは、用途にもよるが５００〜５０００μｍ、好ましく
は８００〜３０００μｍの範囲である。
れた精製ビスフェノールＡは、純度９９．９５％以上と
することが可能であり、造粒塔を主とする造粒工程７に
送られ、ビスフェノールＡプリルとされ、製品とされ
る。造粒塔は、上部に目皿を有し、下部に冷却用気体の
吹き込み口を有し、底部にビスフェノールＡプリルの取
り出し口を有し、プリルは底部取り出し口から取り出さ
れる。脱フェノール工程６からの精製ビスフェノールＡ
の融液は、目皿から液滴として落下し、冷却用気体と接
触して冷却され、固化し、プリルとなる。プリルの大き
さは、用途にもよるが５００〜５０００μｍ、好ましく
は８００〜３０００μｍの範囲である。
【００１２】ところで、反応器１で過剰に使用したフェ
ノールは、脱水器２の留出液、フラッシュ蒸発器５及び
脱フェノール器６での留出液として回収される他、晶析
工程の母液及び洗浄ろ液として回収される。なお、洗浄
ろ液には洗浄液として使用したフェノールを含む。
ノールは、脱水器２の留出液、フラッシュ蒸発器５及び
脱フェノール器６での留出液として回収される他、晶析
工程の母液及び洗浄ろ液として回収される。なお、洗浄
ろ液には洗浄液として使用したフェノールを含む。
【００１３】晶析工程で分離される母液、洗浄ろ液は、
２，４’−ビスフェノールＡ（異性体）、ダイマー類、
トリスフェノール類等の比較的多くの不純物を含むが、
多少の不純物を含んでいても反応には差し支えないの
で、一部は反応器１に戻される。しかし、全量を戻すと
プロセス流れ中におけるこれら不純物の濃度が受け入れ
られないレベルまで徐々に高くなる。従って、一部を分
岐し、フェノールを回収した後、重質分を系外へ抜き出
すか、パージ反応工程８で分解して、回収され得るフェ
ノールを回収する。分岐処理する割合は製品純度に関係
することになるので、純度との関係で決定される。具体
的には、ビスフェノールＡの純度、特に着色で代表され
る純度を向上させるためには、触媒として酸性陽イオン
交換樹脂を使用する場合、反応器１を出る反応混合の酸
濃度３．５ｍｇ当量／ｋｇ以下、好ましくは０．１〜１
ｍｇ当量／ｋｇとなるように分岐することがよい。パー
ジ反応工程８へ分岐する場合は、パージ反応工程８では
塩基触媒の存在下で１００〜３００℃好ましくは１５０
〜２５０℃に高められた温度で不純物はフェノールとＩ
ＰＰ（ｐ−イソプロペニルフェノール）に分解され、更
に前記分解されたフェノールとＩＰＰは酸性陽イオン交
換樹脂下で、かつ、９０℃以下の条件で再合成され４，
４’−ビスフェノールＡとフェノールとして回収され、
反応器１へ戻される。この際未回収のプリフェノールが
若干生成し、タールとして系外へ除去される。
２，４’−ビスフェノールＡ（異性体）、ダイマー類、
トリスフェノール類等の比較的多くの不純物を含むが、
多少の不純物を含んでいても反応には差し支えないの
で、一部は反応器１に戻される。しかし、全量を戻すと
プロセス流れ中におけるこれら不純物の濃度が受け入れ
られないレベルまで徐々に高くなる。従って、一部を分
岐し、フェノールを回収した後、重質分を系外へ抜き出
すか、パージ反応工程８で分解して、回収され得るフェ
ノールを回収する。分岐処理する割合は製品純度に関係
することになるので、純度との関係で決定される。具体
的には、ビスフェノールＡの純度、特に着色で代表され
る純度を向上させるためには、触媒として酸性陽イオン
交換樹脂を使用する場合、反応器１を出る反応混合の酸
濃度３．５ｍｇ当量／ｋｇ以下、好ましくは０．１〜１
ｍｇ当量／ｋｇとなるように分岐することがよい。パー
ジ反応工程８へ分岐する場合は、パージ反応工程８では
塩基触媒の存在下で１００〜３００℃好ましくは１５０
〜２５０℃に高められた温度で不純物はフェノールとＩ
ＰＰ（ｐ−イソプロペニルフェノール）に分解され、更
に前記分解されたフェノールとＩＰＰは酸性陽イオン交
換樹脂下で、かつ、９０℃以下の条件で再合成され４，
４’−ビスフェノールＡとフェノールとして回収され、
反応器１へ戻される。この際未回収のプリフェノールが
若干生成し、タールとして系外へ除去される。
【００１４】
【実施例】以下、実施例に基づいて、本発明を具体的に
説明する。なお、配合割合の「部」は重量部であり、
「％」は重量％である。スルホン酸型酸性陽イオン交換
樹脂を充填した反応器１に回収フェノール１５〜２５部
及びアセトン１部（回収アセトンを含む）を通し、この
反応器１でフェノールとアセトンとを反応させた。得ら
れた反応生成物は、脱水器２に送られ、その塔頂から低
沸点物を留出させた。脱水器２の塔底から抜き出された
液は、２０％のビスフェノールＡと、１０％以下の不純
物とを含み、残りがフェノールからなる液であった。こ
の脱水器２の塔底から抜き出された液は、次に晶析装置
３で５０℃に冷却され、結晶が析出された。これを遠心
分離器及び真空濾過器からなる分離器に送り、固液分離
と洗浄とを行った。洗浄には精製フェノールを使用し
た。分離された結晶は、フェノール以外の不純物を約４
００ｐｐｍ含むだけであった。分離された結晶は、フラ
ッシュ蒸発工程５に送られ、そこで１５０℃に加熱され
たのち、１６０℃、５０ｔｏｒｒに保持されたフラッシ
ュ塔に装入された。このフラッシュ塔から抜き出された
液中のフェノール濃度は３．８％であった。フラッシュ
塔から抜き出された液は、スチームストリッピングによ
る脱フェノール工程６に装入され、そこで脱フェノール
され、ビスフェノールＡが得られた。得られたビスフェ
ノールＡのフェノール濃度は３５ｐｐｍであった。この
ようにして精製されたビスフェノールＡは、次いで造粒
工程７の造粒塔の目皿から液滴として落下され、ビスフ
ェノールＡプリルとなって抜き出された。得られたプリ
ルの強度は良好であり、また、加熱溶融色も着色がほと
んど見られず良好であった。
説明する。なお、配合割合の「部」は重量部であり、
「％」は重量％である。スルホン酸型酸性陽イオン交換
樹脂を充填した反応器１に回収フェノール１５〜２５部
及びアセトン１部（回収アセトンを含む）を通し、この
反応器１でフェノールとアセトンとを反応させた。得ら
れた反応生成物は、脱水器２に送られ、その塔頂から低
沸点物を留出させた。脱水器２の塔底から抜き出された
液は、２０％のビスフェノールＡと、１０％以下の不純
物とを含み、残りがフェノールからなる液であった。こ
の脱水器２の塔底から抜き出された液は、次に晶析装置
３で５０℃に冷却され、結晶が析出された。これを遠心
分離器及び真空濾過器からなる分離器に送り、固液分離
と洗浄とを行った。洗浄には精製フェノールを使用し
た。分離された結晶は、フェノール以外の不純物を約４
００ｐｐｍ含むだけであった。分離された結晶は、フラ
ッシュ蒸発工程５に送られ、そこで１５０℃に加熱され
たのち、１６０℃、５０ｔｏｒｒに保持されたフラッシ
ュ塔に装入された。このフラッシュ塔から抜き出された
液中のフェノール濃度は３．８％であった。フラッシュ
塔から抜き出された液は、スチームストリッピングによ
る脱フェノール工程６に装入され、そこで脱フェノール
され、ビスフェノールＡが得られた。得られたビスフェ
ノールＡのフェノール濃度は３５ｐｐｍであった。この
ようにして精製されたビスフェノールＡは、次いで造粒
工程７の造粒塔の目皿から液滴として落下され、ビスフ
ェノールＡプリルとなって抜き出された。得られたプリ
ルの強度は良好であり、また、加熱溶融色も着色がほと
んど見られず良好であった。
【００１５】また、晶析工程で生じた母液及び洗浄ろ液
の８０％は、回収フェノールとして反応原料の一部とし
て使用した。残りの２０％は、パージ反応工程８を通過
させた後、回収フェノールとして反応原料に使用した。
の８０％は、回収フェノールとして反応原料の一部とし
て使用した。残りの２０％は、パージ反応工程８を通過
させた後、回収フェノールとして反応原料に使用した。
【００１６】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、高純度のビ
スフェノールを収率良く製造することができる。また、
このビスフェノールをプリルとしたときの強度も高い。
スフェノールを収率良く製造することができる。また、
このビスフェノールをプリルとしたときの強度も高い。
【図１】 図１は、本発明の実施の１例を示すフローシ
ートである。
ートである。
１…反応器、２…脱水器、３…晶析装置、４…固液分離
器、５…フラッシュ蒸発工程、６…脱フェノール工程、
７…造粒工程、８…パージ反応工程。
器、５…フラッシュ蒸発工程、６…脱フェノール工程、
７…造粒工程、８…パージ反応工程。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 進藤 昭夫 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号、千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 坂下 幸司 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号、千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 渋谷 効 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号、千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 古川 俊彦 福岡県北九州市小倉北区白萩町２番14− 301号 (72)発明者 松井 義昭 福岡県北九州市小倉北区中井２丁目４−６ −202号
Claims (1)
- 【請求項１】 アセトンと化学量論的過剰量のフェノー
ルとを酸性触媒の存在下に反応させてビスフェノールＡ
を製造する反応工程と、この反応工程で得られた反応混
合物から揮発性物質を除去する工程と、前記揮発性物質
除去後の混合液を冷却して４，４’−ビスフェノールＡ
とフェノールの付加物結晶を得ると共に、４，４’−ビ
スフェノールＡとフェノール以外の不純物濃度を５０〜
１，５００ｐｐｍにする晶析工程と、この晶析工程で得
られた付加物結晶をフラッシュ蒸発器に装入してフェノ
ール濃度を５重量％以下にするフラッシュ蒸発工程と、
このフラッシュ蒸発工程で得られたフェノール濃度５重
量％以下の４，４’−ビスフェノールＡを脱フェノール
してフェノール濃度１００ｐｐｍ以下にする脱フェノー
ル工程と、前記晶析工程で分離されたフェノールを前記
反応工程に戻す工程と、前記脱フェノール工程で脱フェ
ノールされた４，４’−ビスフェノールＡを造粒塔に装
入して目皿から液滴として落下させ、これを冷却固化さ
せてビスフェノールＡプリルとする造粒工程とを有する
ビスフェノールＡの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28348492A JP3686682B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | ビスフェノールａの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28348492A JP3686682B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | ビスフェノールａの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06107582A true JPH06107582A (ja) | 1994-04-19 |
| JP3686682B2 JP3686682B2 (ja) | 2005-08-24 |
Family
ID=17666153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28348492A Expired - Fee Related JP3686682B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | ビスフェノールａの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3686682B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002534402A (ja) * | 1999-01-07 | 2002-10-15 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | ビスフェノールａプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールａプリル |
| WO2003043964A1 (fr) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Procede de production de bisphenol a et appareil correspondant |
| US6653513B1 (en) * | 1998-10-22 | 2003-11-25 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Process for producing bisphenol A |
| EP1978011A1 (en) * | 2006-01-27 | 2008-10-08 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for producing bisphenol-a prill |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP28348492A patent/JP3686682B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6653513B1 (en) * | 1998-10-22 | 2003-11-25 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Process for producing bisphenol A |
| JP2002534402A (ja) * | 1999-01-07 | 2002-10-15 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | ビスフェノールａプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールａプリル |
| JP4707835B2 (ja) * | 1999-01-07 | 2011-06-22 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | ビスフェノールａプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールａプリル |
| WO2003043964A1 (fr) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Procede de production de bisphenol a et appareil correspondant |
| EP1978011A1 (en) * | 2006-01-27 | 2008-10-08 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for producing bisphenol-a prill |
| EP1978011A4 (en) * | 2006-01-27 | 2010-12-01 | Idemitsu Kosan Co | PROCESS FOR PREPARING BISPHENOL-A-PRILL |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3686682B2 (ja) | 2005-08-24 |
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