JPH0581841U - スリット走査型投影露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 スリット走査型投影露光装置における光源か
らの光の有効利用を図り、露光装置の大型化を回避する
一方で露光時間の短縮を可能にする。 【構成】 フォトマスク６とワーク７とを走査テーブル
１上に載置した上でフォトマスク６をスリット状に照明
し、このスリット状照明部分を投影光学系によりワーク
に結像させながら走査テーブルを移動させるスリット走
査型投影露光装置において、同一光源８からの光を複数
個のスリット９（９ａ，９ｂ）を用いてそれぞれフォト
マスク６の異なる部分を照明し、かつこれらスリット状
照明部分Ｓ１，Ｓ２をそれぞれ個別の投影光学系１１，
１２によりワーク７に投影露光するように構成する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案はスリット走査型投影露光装置に関し、特に露光時間の短縮を図った露 光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

この種の露光装置として、例えば本出願人が提案したものがある（平成３年特 許願第２８７４３２号）。この露光装置は、所要のパターンが形成されたフォト マスクと、パターンが露光されるワークとを同一のテーブルに載置し、フォトマ スクのスリット状の領域をミラーと投影レンズで構成された投影光学系によりワ ークに投影させる。そして、テーブルを投影光学系に対して移動させることで、 フォトマスクを走査しながらワークに対するパターン投影を可能とするものであ る。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

この先の露光装置では、投影光学系が１つの系統であるため、フォトマスクを 照明する光源からの光のうち、投影光学系で走査を行うスリット状の領域の光の みが利用され、スリット以外の領域の光は利用されないことになる。このため、 光源の全光量に対する投影光量の割合が小さく、露光を完了するまでの時間が長 くなるという問題がる。

【０００４】 或いは、露光時間を短縮するためには、光源に大光量のものを用いる必要があ り、露光装置の大型化、高価格化をまねき、実用的ではないという問題がある。 本考案の目的は、光源からの光の有効利用を図り、露光装置の大型化を回避す る一方で露光時間の短縮を可能にしたスリット走査型投影露光装置を提供するこ とにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】 本考案の露光装置は、同一光源からの光を複数個のスリットを用いてそれぞれ フォトマスクの異なる部分を照明し、かつこれらスリット状照明部分をそれぞれ 個別の投影光学系によりワークに結像するように構成する。

【０００６】

【実施例】

次に、本考案について図面を参照して説明する。図１は本考案の一実施例の概 略斜視構成図、図２はその正面構成図である。これらの図において、１は走査テ ーブルであり、一対のレール２上を往復移動できるように構成される。この走査 テーブル１上には走査テーブルと略同形状のキャリッジ３がノブ４により上下位 置が調整できるように搭載され、更にこのキャリッジ３上の一側には支持台５が 搭載されてここにフォトマスク６が支持される。この支持台はキャリッジ３上で のＸ方向、Ｙ方向の平面位置が調整可能とされているがそのための機構の図示は 省略する。又、前記キャリッジ上の他側にはフォトマスク６のパターンが投影さ れるワーク７が載置されている。

【０００７】 一方、前記走査テーブル１の下方、更に言えばフォトマスク６を支持する支持 台５の下方位置には光源８が配置され、かつ光源と走査テーブルとの間には前記 レール２と直交する方向に延びる一対のスリット９ａ，９ｂを互いに所要の間隔 で離して形成したスリット板９が配置される。又、光源８とこのスリット板９と の間にはコンデンサレンズ１０が介挿され、コンデンサレンズ１０は光源８から の光をそれぞれのスリット９ａ，９ｂに集光させる。

【０００８】 又、前記走査テーブルの上方には、一対の投影光学系１１，１２が配設される 。これら投影光学系１１，１２は、それぞれの投影レンズ１３，１４が前記レー ル２方向に向けて配置されており、各投影レンズ１３，１４と前記フォトマスク ６及びワーク７との間にはそれぞれ走査テーブル１の上面に対して４５度傾斜さ れたミラー１５〜２０を配設している。ここで、ミラー１５〜１７はスリット９ ａからの光を垂直に反射させて投影レンズ１３に入射させるように構成し、ミラ ー１８はスリット９ｂからの光を垂直に反射させて投影レンズ１４に入射させる ように構成する。又、ミラー１９，２０はそれぞれ投影レンズ１３，１４からの 光を垂直に反射させてワーク７上に投射するように構成される。尚、この実施例 においては、一方の投影光学系１１に設けたミラー１５〜１７は、他方の投影光 学系１２との光軸距離を等しくするために複数枚のミラー構成とされている。

【０００９】 この構成によれば、光源８からの光はコンデンサレンズ１０で集光された上で 対応するスリット９ａ，９ｂを通して射出され、走査テーブル１及び支持台５を 通してフォトマスク６をスリット状Ｓ１，Ｓ２に照明する。更に、フォトマスク ６を透過した光はそれぞれの投影光学系１１，１２によりワーク上に結像される 。即ち、フォトマスク６の透過光はミラー１５，１６，１７と、１８とでそれぞ れ走査テーブル１の上面と平行な方向に反射され、投影レンズ１３，１４を透過 し、ミラー１９，２０で走査テーブルの上面と垂直な方向に向けて反射されてワ ーク７上に結像される。一方、走査テーブル１はレール２上を移動されるため、 一対のスリット９ａ，９ｂによりスリット状照明部分はフォトマスク６上で走査 されることになり、この結果このスリット状照明部分はワーク７面上を移動され ながら順次投影露光されることになり、走査による投影露光が行われる。

【００１０】 そして、このとき一対のスリット９ａ，９ｂが隣接されているため、フォトマ スク６ではスリット状照明部分Ｓ１，Ｓ２が並列された状態となり、したがって フォトマスクの同一パターンが連続して２回照明され、これに対応してワーク７ では同一部分が連続して２回投影露光されることになる。このとき各スリット９ ａ，９ｂを通してフォトマスク６の照明を行い、かつワーク７に対して露光を行 うために用いられるそれぞれの光は同一光源８からの光を利用しているため、結 果として２倍の光量で露光を行うことと等価になる。これにより、従来に比較し て露光光量を増大させ、その分露光時間を短縮することが可能となる。一方、露 光光量を２倍にしても光源は従来と同一のものでよく、露光装置が大型になるこ とはない。 尚、前記実施例ではスリットを２個設けた例を示しているが、スリット及び投 影光学系を３個以上設けてもよい。

【００１１】

【考案の効果】

以上説明したように本考案は、同一光源からの光を複数個のスリットを用いて それぞれフォトマスクの異なる部分を照明し、このスリット状照明部分をそれぞ れ個別の投影光学系によりワークに結像するように構成しているので、光源の光 を有効利用して露光光量を増大させ、露光時間を短縮することができるとともに 、光源に大光量のものを用いる必要もなく、露光装置の大型化が防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例の光学系の斜視図である。

【図２】図１の断面図である。

【符号の説明】

１ 走査テーブル ６ フォトマスク ７ ワーク ８ 光源 ９ スリット板 １１，１２ 投影光学系 １３，１４ 投影レンズ １５〜２０ ミラー

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 フォトマスクとワークとを走査テーブル
   上に載置した上でフォトマスクをスリット状に照明し、
   このスリット状照明部分を投影光学系によりワークに結
   像させた状態で前記走査テーブルを移動させるようにし
   たスリット走査型投影露光装置において、同一光源から
   の光を複数個のスリットを用いてそれぞれフォトマスク
   の異なる部分を照明し、かつこれら複数のスリット状照
   明部分をそれぞれ個別の投影光学系によりワークに結像
   するように構成したことを特徴とするスリット走査型投
   影露光装置。